DE4116392C2 - Halterung zur einseitigen Naßätzung von Halbleiterscheiben - Google Patents
Halterung zur einseitigen Naßätzung von HalbleiterscheibenInfo
- Publication number
- DE4116392C2 DE4116392C2 DE19914116392 DE4116392A DE4116392C2 DE 4116392 C2 DE4116392 C2 DE 4116392C2 DE 19914116392 DE19914116392 DE 19914116392 DE 4116392 A DE4116392 A DE 4116392A DE 4116392 C2 DE4116392 C2 DE 4116392C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- pressure contact
- contact plate
- holder according
- disc
- bayonet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
Description
Die Erfindung betrifft eine Halterung zur Verwendung bei
der einseitigen Naßätzung von Halbleiterscheiben.
Bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen werden die
dazu verwendeten Halbleiterscheiben aus unterschiedlichen
Gründen einer Ätzung unterworfen, z. B. um die Scheiben zu
reinigen, um Strukturen herzustellen oder die dabei
verwendeten Photolacke zu entfernen. Bei der Trockenätzung
(Gasätzung) ist dabei eine einseitige Ätzung leicht zu
bewirken. Sieht man von der sogenannten Tunnelätzung ab, so
wird die einzelne zu ätzende Halbleiterscheibe jeweils auf
einem Träger gehaltert, der Angriff erfolgt somit
zwangsläufig nur einseitig. Bei der Naßätzung hingegen wird
die zu ätzende Scheibe in das Ätzbad eingetaucht. Will man
sie gegen einen beidseitigen Angriff schützen, so muß
zwangsläufig eine Seite abgedeckt werden. Die Abdeckung ist
nach dem Ätzvorgang wieder zu entfernen, was einen
zusätzlichen Prozeßschritt erfordert. Noch aufwendiger
gestaltet sich die Problematik, die Scheiben einseitig, d.
h. auf der Rückseite auszudünnen, wenn auf der Oberseite
bereits Bauelemente erstellt sind.
Aus der DE-AS 12 49 051 ist eine Halterung zur Verwendung bei einer einseitigen
Naßätzung von Halbleiterscheiben bekannt, bei der Teile der Oberfläche der
Halbleiterscheibe geätzt werden sollen. Die Vorrichtung besteht aus zwei Körpern, die
jeweils ein Gewinde aufweisen, über welche sie miteinander verschraubbar sind. Einer
der Körper enthält eine kegelstumpfförmige Öffnung. Die Halbleiterscheibe kann
zwischen den beiden Körpern fixiert werden, wobei ein Teil einer ihrem Oberflächen
durch die kegelstumpfförmige Öffnung einer Ätzflüssigkeit zugänglich ist. Die Fixierung
des Halbleiterkörpers erfolgt durch das Verschrauben der beiden Körper miteinander.
Aus der US 4 788 994 ist eine Haltevorrichtung für Halbleiterscheiben bekannt, deren
Oberfläche behandelt werden soll. Die Halbleiterscheibe wird in Spannelemente
eingespannt, welche an einem rotierbaren Schaft befestigt sind. Die Haltevorrichtung ist
von einem Gehäuse umgeben. Ferner sind Flüssigkeitszuleitungen vorgesehen, mit denen
eine Flüssigkeit zur Behandlung der rotierenden Halbleiterscheibe auf deren Oberseite
und Unterseite gelenkt werden kann.
Nachteilig an den bekannten Vorrichtungen ist, daß sie mechanisch aufwendig und teuer
sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Halterung zur einseitigen Naßätzung
von Halbleiterscheiben zu schaffen, mit der das einseitige Abätzen einfach, billig und auf
zuverlässige Weise erfolgt.
Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1
gelöst. Mit dieser Vorrichtung kann eine Halbleiterscheibe einfach und schnell auf
zuverlässige Weise in der Vorrichtung justiert werden. Die Vorrichtung ist einfach und
vielseitig und einfach verwendbar.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Unteransprüchen offenbart.
Im folgenden wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert.
Fig. 1 zeigt einen Querschnitt durch die Gesamtansicht
einer Halterung nach der Erfindung (Linie A-B in 2),
bestehend aus einem Trägerkörper, einer Druckkontaktplatte
und einer Bajonettscheibe.
Fig. 2 zeigt die Draufsicht auf den Trägerkörper,
Fig. 2a zeigt den Schnitt längs der Linie A-B in Fig. 2,
Fig. 3 zeigt die Draufsicht auf die Unterseite der
Druckkontaktplatte, teilweise im Schnitt, mit aufgesetztem
Kontaktstern,
Fig. 3a zeigt den Längsschnitt A-B in Fig. 3,
Fig. 4 zeigt die Draufsicht auf die Unterseite der
Bajonettscheibe,
Fig. 5 zeigt die Draufsicht auf den Kontaktstern, und
Fig. 5a zeigt den Schnitt längs der Linie A-B in Fig. 5.
Die Halterung für Halbleiterscheiben besteht aus drei
ineinandergreifenden Bauteilen, die in zusammengesteckter
Form in Fig. 1 im Querschnitt gezeigt sind, nämlich dem
Trägerkörper 1, der darin eingepaßten Druckkontaktplatte 2
und der abschließenden Bajonettscheibe 3.
Der Trägerkörper 1 ist kreisschalenförmig ausgebildet und
besitzt einen planen Boden 101, in dessen Zentrum ein
vorzugsweise kreisförmiges Fenster 8 ausgespart ist. Von
seinem Rand erstreckt sich im Boden 101 in Richtung auf die
Seitenwand 4 des Trägerkörpers 1 eine Einsenkung 91, an
deren Außenumfang eine an zwei gegenüberliegenden Stellen
abgeflachte Ringnut 62 eingelassen ist, in der ein O-Ring
72 sitzt. Die Tiefe der Einsenkung ist dabei entsprechend
der Stärke der aufzunehmenden Halbleiterscheibe bemessen.
Entsprechendes gilt natürlich auch für den
Gesamtdurchmesser des Fensters, der Einsenkung sowie des
ganzen Trägerkörpers, die der Größe der aufzunehmenden
Scheiben angepaßt sein müssen. In die Seitenwand 4 sind
Verriegelungsnuten 5 mit entsprechenden Einschuböffnungen
51 eingelassen, die bei vorzugsweise zwei
gegenüberliegenden Nuten als Schlitze 17, 171 bis auf den
Boden 101 geführt sind (Fig. 2).
In der Fig. 2a ist der Schnitt längs der Linie A-A in der
zuvor beschriebenen Fig. 2 dargestellt. Man erkennt den
Boden 101 und die Seitenwand 4 des Grundkörpers 1, in der
die Verriegelungsnuten 5 und die entsprechenden
Einschuböffnungen 51 ausgespart sind. Im Boden sieht man
die Einsenkung 91 sowie an deren Rand die in den Boden
eingelassene Ringnut 62 mit dem in ihr sitzenden O-Ring 72.
Ferner ist das Fenster 8 erkennbar, dessen Wand sich in
einer Abschrägung 81 nach unten konisch verbreitert.
Die in Fig. 3 gezeigte Druckkontaktplatte 2 besteht aus
einer kreisförmigen Scheibe 21, die an einer Stelle ihrer
Umrandung eine Nase 16 und an der gegenüberliegenden Seite
einen Schaft 10 aufweist. In der Scheibe 21 sind zu ihrem
Rande hin Ringnuten 60, 61 eingelassen, in denen O-Ringe
70, 71 liegen. Die äußere Ringnut 60 ist dabei kreisförmig
ausgebildet, die innere Ringnut 61 weist hingegen zwei
gegenüberliegende Abflachungen auf. Der Durchmesser der
inneren Ringnut und ihre Anordnung auf der Scheibe 21 sowie
die der Abflachungen ist dabei so gewählt, daß der in ihr
liegende O-Ring 71 und der O-Ring 72 in dem Trägerkörper
beim Zusammenbau der Vorrichtung übereinander zu liegen
kommen und die zu halternde Halbleiterscheibe zwischen
ihnen eingeklemmt wird. Im Inneren des Schaftes 10 verläuft
eine Druckleitung 11 sowie ein Entlüftungskanal 12. Die
Druckleitung 11 mündet in den Durchlässen 110, 111 der
Ringnuten 60, 61. Der Entlüftungskanal 12 mündet in
Anschlußöffnungen 120, 121, die zu Ausnehmungen 130, 131
führen, welche in Richtung zum Scheibenzentrum jeweils nach
den Ringnuten 60, 61 angeordnet sind. Die Ausnehmung 131
weist dabei entsprechend ihrer Lage nach der Ringnut 61 an
den entsprechenden Stellen wie diese Abflachungen auf. Der
in Fig. 3 gezeigt Schaft 10 enthält noch eine dritte
Bohrung 13, durch die elektrische Anschlüsse zu einem auf
der Druckkontaktplatte 2 angebrachten Kontaktstern 14
(Fig. 5) führen, der aus dem kreisförmigen Zentralteil 140
besteht und im Winkel von 120°C radial nach außen geführte
Stege 141 enthält, deren Außenenden jeweils einen
Druckkontakt 15 tragen.
Fig. 3a zeigt den Schnitt entlang der Linie C-D in Fig. 3
und macht deutlich, daß die radial nach außen geführten
Stege 141 des Kontaktsterns 14 gebogen sind, so daß die an
deren Enden angeordneten Druckkontakte 15 auf der
Halbleiterscheibe 9 aufliegen. Man erkennt ferner die
Ringnuten 60, 61 mit den darin angeordneten O-Ringen 70, 71
und deren Lage am Rande der Kreisscheibe 21.
Die den dritten Teil der Gesamtvorrichtung darstellende
Bajonettscheibe 3 ist in Fig. 4 gezeigt und zwar in der
Draufsicht ihrer Unterseite. Man sieht eine Vielzahl von
Kanälen 33, die sich vom Scheibenzentrum 32 unter
Ausbildung einer Vielzahl von Segmenten 133 radial zum
Scheibenrand hin erstrecken. Durch diese Aufteilung soll nach
dem Zusammenbau eine zu starke Adhäsion der Bajonettscheibe
3 an der Druckkontaktplatte 2 vermieden werden. An
mindestens zwei gegenüberliegenden Segmenten 133 sind am
Rande der Bajonettscheibe 3 Nocken 31 ausgebildet,
allgemein entspricht die Zahl der Nocken 31 derjenigen der
Zahl der Verriegelungsnuten 5. Zur Handhabung der
Bajonettscheibe sind im gleichen Abstand zu deren Mittelpunkt
zwei axial ausgerichtete Grifflöcher 19 eingelassen.
Der in den Fig. 5 und 5a gezeigte Kontaktstern wurde zum
Teil bereits in Verbindung mit der Fig. 2 beschrieben.
Nicht erwähnt wurde dabei der in Fig. 5 erkennbare Schnitt
A-B, der in Fig. 5b dargestellt ist. Dabei stellt der von M
nach links gerichtete Arm den nichtgeschnittenen Steg 141
dar, der in Fig. 5 nach links unten zeigt. Am rechten Teil,
der die Schnittansicht verkörpert, erkennt man, daß der
Steg 142, wie dies auch bei den beiden anderen Stegen 141,
143 der Fall ist, vom Ansatz am Zentralteil 140 zu seinem
den Druckkontakt 15 tragenden Ende hin nach unten abgebogen
ist.
Die Anwendung der Ätzhalterung erfolgt wie nachstehend:
Die Halbleiterscheibe 9 wird mit der zu ätzenden Fläche
nach unten in die hierfür vorgesehene Einsenkung 91 des
Trägerkörpers 1 eingelegt. Die Druckkontaktplatte 2 wird
aufgesetzt, wobei durch den Schaft 10 und die Nase 16, die
in die entsprechenden Schlitze einrasten, eine
Lagefestlegung der Druckkontaktplatte 2 bewirkt wird. Wie
schon oben erwähnt, wird dabei die Halbleiterscheibe 9
zwischen den beiden O-Ringen 71 und 72 fixiert, wenn zum
Abschluß die Bajonettscheibe mit ihren Nocken 31 in die
Einschuböffnungen 5 eingesetzt und durch eine Drehbewegung
in den Verriegelungsnuten 5 verklemmt wird. Zur
Unterstützung der Fixierung bzw. der spannungsfreien
Abdichtung zwischen den genannten O-Ringen werden diese
mittels der Druckleitung 11 über den Anschlußnippel 112 mit
Druckluft beaufschlagt.
Der Entlüftungskanal 12 wiederum dient zur Ableitung von
Luft, um zu verhindern, daß bei einer undichten Stelle
zwischen den O-Ringen sich ein Druck hinter der
Halbleiterscheibe 9 aufbaut, was zu deren Zerstörung führen
könnte.
Im vorliegenden Ausführungsbeispiel ist noch ein dritter
Kanal 22 gezeigt, durch den elektrische Anschlüsse zum
Kontaktstern 14 führen. Diese Einrichtung ist nur dann
erforderlich, wenn auf elektrochemischem Wege geätzt wird.
Bei normaler Naßätzung können der Kontaktstern sowie der
damit erforderliche Kanal 22 und die Anschlüsse darin
entfallen.
Claims (8)
1. Halterung zum einseitigen Naßätzen von Halbleiterscheiben
- - mit einem Trägerkörper (1), der in seinem mittleren Bereich eine Einsenkung (91) mit kleinerem Durchmesser als der Durchmesser der Halbleiterscheibe (9) und in seinem Randbereich wenigstens einen Schlitz (17, 171) sowie Einschuböffnungen (5) aufweist,
- - mit einer Druckkontaktplatte (2), die wenigstens einen zu diesem jeweiligen Schlitz (17, 171) korrespondierenden, in diesen einrastbaren Schaft (10) zur Lagefestlegung der Druckkontaktplatte (2) aufweist und
- - mit einer Bajonettscheibe (3) mit zu den Einschuböffnungen korrespondierenden, in diesen verklemmbaren Nocken (5) zum Fixieren einer zwischen dem Trägerkörper (1) und der Druckkontaktplatte (2) angeordneten Halbleiterscheibe (9).
2. Halterung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in dem Trägerkörper (1)
auf der der Druckkontaktplatte (2) zugewandten Seite eine ringförmige Einsenkung
(91) ausgebildet ist, in welcher ein Dichtring angeordnet ist.
3. Halterung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der
Druckkontaktplatte (2) auf der dem Trägerkörper (1) zugewandten Seite eine
Ringnut (61) vorgesehen ist, in welcher ein Dichtring angeordnet ist.
4. Halterung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch folgende
Merkmale:
- - der Trägerkörper (1) ist kreisschalenförmig ausgebildet,
- - im Zentrum seines planen Bodens (101) ist ein Fenster (8) ausgespart, von dessen Rand in Richtung auf die Seitenwand (4) des Trägerkörpers (1) sich die Einsenkung (91) erstreckt, an deren Außenumfang eine an zwei gegenüberliegenden Stellen abgeflachte Ringnut (62) eingelassen ist, in der ein O-Ring (72) sitzt,
- - die Seitenwand (4) enthält Verriegelungsnuten (5) mit jeweils Einschuböffnungen (51), die bei zwei gegenüberliegenden Nuten als Schlitze (17, 171) bis auf den Boden (101) geführt sind.
5. Halterung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet,
- - daß die Druckkontaktplatte (2) aus einer Kreisscheibe (21) besteht, die an einer Stelle ihrer Umrandung eine Nase (16) und an der gegenüberliegenden Seite einen Schaft (10) aufweist, in dessen Innerem eine Druckleitung (11) sowie ein Entlüftungskanal (12) verlaufen,
- - daß die Druckleitung (11) in den Durchlässen (110, 111) von Ringnuten (60, 61) mündet, in denen O-Ringe (70, 71) liegen, die konzentrisch in der Scheibe (21) zu deren Rand hin angeordnet sind, wobei die innere Ringnut (61) im Bereich der Nase (16) und des Schaftes (10) abgeflacht ist,
- - daß der Entlüftungskanal (12) über Anschlußöffnungen (120, 121) zu Ausnehmungen (130, 131) führt, welche in Richtung zum Scheibenzentrum jeweils nach den Ringnuten (60, 61) angeordnet sind.
6. Halterung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
- - daß der Schaft (10) eine dritte Bohrung (22) enthält, durch die elektrische Anschlüsse zu einem auf der Druckkontaktplatte (2) angebrachten Kontaktstern (14) führen, der aus einem kreisförmigen Zentralteil (140) mit im Winkel von 120° radial nach außen geführten Stegen (141, 142, 143) besteht, an deren Außenende jeweils ein Druckkontakt (15) angeordnet ist.
7. Halterung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Bajonettscheibe (3) folgende
Merkmale aufweist:
- - eine Vielzahl von Kanälen (33) erstrecken sich vom Scheibenzentrum (32) radial nach außen, so daß eine Vielzahl von Segmenten (133) entstehen, wobei an mindestens zwei gegenüberliegenden Segmenten am Rand der Bajonettscheibe (3) Nocken (31) ausgebildet sind,
- - an der Bajonettscheibe (3) ist eine Handhabungsvorrichtung angeordnet.
8. Halterung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
die Handhabungsvorrichtung aus zwei in die Bajonettscheibe
(3) eingelassenen, im gleichen Abstand zu deren Mittelpunkt
axial ausgerichteten Grifflöchern (19) besteht.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914116392 DE4116392C2 (de) | 1991-05-18 | 1991-05-18 | Halterung zur einseitigen Naßätzung von Halbleiterscheiben |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914116392 DE4116392C2 (de) | 1991-05-18 | 1991-05-18 | Halterung zur einseitigen Naßätzung von Halbleiterscheiben |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4116392A1 DE4116392A1 (de) | 1992-11-19 |
DE4116392C2 true DE4116392C2 (de) | 2001-05-03 |
Family
ID=6432003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19914116392 Expired - Fee Related DE4116392C2 (de) | 1991-05-18 | 1991-05-18 | Halterung zur einseitigen Naßätzung von Halbleiterscheiben |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4116392C2 (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4202194C2 (de) * | 1992-01-28 | 1996-09-19 | Fairchild Convac Gmbh Geraete | Verfahren und Vorrichtung zum partiellen Entfernen von dünnen Schichten von einem Substrat |
DE19548115C2 (de) * | 1994-12-27 | 2002-08-29 | Nissan Motor | Elektrochemisches Ätzverfahren für ein Halbleitersubstrat sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
US6328876B1 (en) | 1997-07-28 | 2001-12-11 | Nft Nanofiltertechnik Gesellschaft Mit Beschankter Haftung | Method for producting a filter |
DE19838612A1 (de) * | 1998-08-25 | 2000-03-09 | Gore W L & Ass Gmbh | Ätzdose |
DE19923871C2 (de) * | 1999-05-25 | 2003-11-13 | Rossendorf Forschzent | Einrichtung zur abgedichteten Halterung dünner Scheiben |
JP6726473B2 (ja) * | 2016-02-15 | 2020-07-22 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル機構 |
JP7358222B2 (ja) * | 2019-12-06 | 2023-10-10 | 株式会社ディスコ | 板状物保持具 |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1249051B (de) * | 1957-09-05 | 1967-08-31 | Licentia Patent Verwaltungs G m b H , Frankfurt/M | Vorrichtung zum Atzen einer aus einem Halbleiter bestehenden Oberflache |
CH458011A (de) * | 1964-06-02 | 1968-06-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Atzvorrichtung |
US3489608A (en) * | 1965-10-26 | 1970-01-13 | Kulicke & Soffa Ind Inc | Method and apparatus for treating semiconductor wafers |
DE1803406A1 (de) * | 1968-10-16 | 1970-05-21 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum AEtzen von Halbleiterscheiben |
DE2737397A1 (de) * | 1976-09-07 | 1978-03-09 | Ibm | Halterung fuer werkstuecke |
DE2748101A1 (de) * | 1976-11-01 | 1978-05-03 | Ibm | Einrichtung zum koplanaren ausrichten eines werkstuecks, insbesondere eines flachen, z.b. scheibenfoermigen werkstuecks |
US4182265A (en) * | 1977-03-14 | 1980-01-08 | Balzers Aktiengesellschaft Fur Hochvakuumtechnik Und Dunne Schichten | Wafer support |
DE2848684A1 (de) * | 1978-11-09 | 1980-05-14 | Censor Patent Versuch | Einrichtung zum festspannen eines flaechigen werkstueckes |
US4344383A (en) * | 1980-12-10 | 1982-08-17 | Rca Corporation | Retainer ring for securing substrates in a vacuum deposition system |
DE3505178A1 (de) * | 1984-02-17 | 1985-08-22 | GCA Corp., Bedford, Mass. | Verfahren und vorrichtung zum festhalten einer halbleiterscheibe |
SU1257730A1 (ru) * | 1984-08-10 | 1986-09-15 | Московский Институт Радиотехники,Электроники И Автоматики | Устройство дл жидкостной обработки полупроводниковых пластин |
DE8812212U1 (de) * | 1988-09-27 | 1988-11-24 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen, De | |
US4788994A (en) * | 1986-08-13 | 1988-12-06 | Dainippon Screen Mfg. Co. | Wafer holding mechanism |
EP0316296A2 (de) * | 1987-11-09 | 1989-05-17 | SEZ Semiconductor-Equipment Zubehör für die Halbleiterfertigung Gesellschaft m.b.H. | Träger für scheibenförmige Gegenstände und Vorrichtung zum Ätzen von Siliziumscheiben mit einem solchen Träger |
EP0350752A2 (de) * | 1988-07-15 | 1990-01-17 | Balzers Aktiengesellschaft | Haltevorrichtung für eine Scheibe sowie Anwendung derselben |
EP0357424A2 (de) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Plättchentragvorrichtung |
-
1991
- 1991-05-18 DE DE19914116392 patent/DE4116392C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1249051B (de) * | 1957-09-05 | 1967-08-31 | Licentia Patent Verwaltungs G m b H , Frankfurt/M | Vorrichtung zum Atzen einer aus einem Halbleiter bestehenden Oberflache |
CH458011A (de) * | 1964-06-02 | 1968-06-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Atzvorrichtung |
US3489608A (en) * | 1965-10-26 | 1970-01-13 | Kulicke & Soffa Ind Inc | Method and apparatus for treating semiconductor wafers |
DE1803406A1 (de) * | 1968-10-16 | 1970-05-21 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum AEtzen von Halbleiterscheiben |
DE2737397A1 (de) * | 1976-09-07 | 1978-03-09 | Ibm | Halterung fuer werkstuecke |
DE2748101A1 (de) * | 1976-11-01 | 1978-05-03 | Ibm | Einrichtung zum koplanaren ausrichten eines werkstuecks, insbesondere eines flachen, z.b. scheibenfoermigen werkstuecks |
US4182265A (en) * | 1977-03-14 | 1980-01-08 | Balzers Aktiengesellschaft Fur Hochvakuumtechnik Und Dunne Schichten | Wafer support |
DE2848684A1 (de) * | 1978-11-09 | 1980-05-14 | Censor Patent Versuch | Einrichtung zum festspannen eines flaechigen werkstueckes |
US4344383A (en) * | 1980-12-10 | 1982-08-17 | Rca Corporation | Retainer ring for securing substrates in a vacuum deposition system |
DE3505178A1 (de) * | 1984-02-17 | 1985-08-22 | GCA Corp., Bedford, Mass. | Verfahren und vorrichtung zum festhalten einer halbleiterscheibe |
SU1257730A1 (ru) * | 1984-08-10 | 1986-09-15 | Московский Институт Радиотехники,Электроники И Автоматики | Устройство дл жидкостной обработки полупроводниковых пластин |
US4788994A (en) * | 1986-08-13 | 1988-12-06 | Dainippon Screen Mfg. Co. | Wafer holding mechanism |
EP0316296A2 (de) * | 1987-11-09 | 1989-05-17 | SEZ Semiconductor-Equipment Zubehör für die Halbleiterfertigung Gesellschaft m.b.H. | Träger für scheibenförmige Gegenstände und Vorrichtung zum Ätzen von Siliziumscheiben mit einem solchen Träger |
EP0350752A2 (de) * | 1988-07-15 | 1990-01-17 | Balzers Aktiengesellschaft | Haltevorrichtung für eine Scheibe sowie Anwendung derselben |
EP0357424A2 (de) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Plättchentragvorrichtung |
DE8812212U1 (de) * | 1988-09-27 | 1988-11-24 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen, De |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4116392A1 (de) | 1992-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69909893T2 (de) | Werkzeug für eine kontaktfreie Halterung von plattenförmigen Substraten | |
DE69912437T2 (de) | Indexierbare dichtung für dampfdruckkocher, und dampfdruckkocher mit einer solchen dichtung | |
EP1020894B1 (de) | Vorrichtung zur Ätzbehandlung eines scheibenförmigen Gegenstandes | |
CH687985A5 (de) | Vorrichtung zum Halten von flachen, kreisscheibenformigen Substraten in der Vakuumkammer einer Beschichtungs- oder Aetzanlage. | |
WO1999052810A1 (de) | Vorrichtung zum einbringen und/oder ausbringen von behältern in bzw. aus einem behandlungsraum | |
DE10033101A1 (de) | Scheibenförmiges Trennwerkzeug | |
DE2717243C2 (de) | Halter zum Auf- und Abbewegen eines Lippenstiftes | |
DE4116392C2 (de) | Halterung zur einseitigen Naßätzung von Halbleiterscheiben | |
DE1600470A1 (de) | Austauschbares und umwandelbares Mehrzweckverbindungssystem fuer Rohrleitungen | |
DE3040038C2 (de) | Mehrscheiben-Isolierglaseinheit mit in den Eckwinkeln des Distanzrahmens befindlichen Gaseinfüllbohrungen | |
DE3234432A1 (de) | Beleuchtungseinrichtung | |
AT393008B (de) | Fluidventil | |
DE7712650U1 (de) | Schutzkappe fuer lackspruehdosen | |
DE3906366C2 (de) | Lampenfassung, die in den Reflektorhals einer Kraftfahrzeugleuchte eingesetzt wird | |
EP0111292B1 (de) | Deckelknopf mit steuerbarem Dampfauslass | |
CH621403A5 (en) | Air-conditioning equipment with a housing | |
EP2998634A1 (de) | Schlauchanschlussvorrichtung | |
DE3528965C2 (de) | ||
DE10012067C1 (de) | Mehrwegeventil (hygienische Dichtungsplatte) | |
DE8203649U1 (de) | Düsenhalter für landwirtschaftliche Spritzgeräte, insbesondere Feldspritzen | |
DE102005019443B4 (de) | Trommel zum Beschichten von körnigen Substraten | |
DE3333163C1 (de) | Vorrichtung zum Dichten einer in einem Lagerkoerper befindlichen,nach aussen offenen Lagerstelle | |
DE19922498A1 (de) | Vorrichtung zum einseitigen Ätzen einer Halbleiterscheibe | |
EP1323970B1 (de) | Rosette zum Abdecken eines Rohrdurchtrittes | |
DE3311164A1 (de) | Feuchtigkeitsgeschuetzte fassung fuer leuchtstoffroehrenlampen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: MICRONAS INTERMETALL GMBH, 79108 FREIBURG, DE |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: MICRONAS GMBH, 79108 FREIBURG, DE |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |