DE748945C - Verfahren zum Aufdampfen von duennen Schichten - Google Patents
Verfahren zum Aufdampfen von duennen SchichtenInfo
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- DE748945C DE748945C DEZ26170D DEZ0026170D DE748945C DE 748945 C DE748945 C DE 748945C DE Z26170 D DEZ26170 D DE Z26170D DE Z0026170 D DEZ0026170 D DE Z0026170D DE 748945 C DE748945 C DE 748945C
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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Description
- Verfahren zum Aufdampfen von dünnen Schichten Es ist bereits bekannt, metallische Schickten auf Glas, z. B. metallische Spiegelbelegungen, durch Aufdampfen herzustellen. Das zu @-erdampfende Metall ist hierbei in einem von einer Seite offenen, mit einer elektrischen Heizwicklung versehenen Gefäß untergebracht.
- Die erhaltenen Schichten sind bei Verwendung einer solchen Anordnung im allgemeinen nicht über die gesamte Fläche gleichmäßig dick. Es ist deshalb notwendig, die aufgedampfte Schicht nachzuarbeiten, z. B. zu polieren, wenn größere Anforderungen an die Gleichmäßigkeit der Schicht gestellt werden.
- Neuerdings ist es nun in vielen Fällen, z. B. bei reflexmindernden Schichten auf optischen Teilen, deren Herstellung'an sich ebenfalls bekannt ist, erforderlich, eine, über die gesamte Fläche, atif welche aufgedampft werden soll, gleichmäßig verteilte Schichtdicke oder eine Schicht mit bestimmter Verteilung der Dicke zu erhalten. Es ist zwar bereits bekannt, zur Erlangung eines Keils mit verlaufender Schichtdicke zwischen der Verdampfungsquelle und dein zu verdampfenden Träger rotierende Scheiben mit verhältnismäßig einfachen Aussparungen anzuwenden. Ferner ist eine Verdampfungsquelle bekannt, die einen gerichteten Dampfstrahl erzeugt. Durch die bekannten Einrichtungen erzielt man jedoch nicht die im Rahmen der vorliegenden Aufgabe erforderliche Genauigkeit der Schichtdicke, die insbesondere bei der Herstellung von reflexmindernden Schichten verlangt wird.
- Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt erst durch die Erfindung. Diese besteht in einem Verfahren zum Aufdampfen von dünnen Schichten, z. h. reflexmindernden Schichten mit vorbestimmter bzw. gleichmäßiger Verteilung der Schichtdicke und ist dadurch gekennzeichnet, daß. eine Verdanipfungsquelle mit diffuser Verteilung des zu verdampfenden Stoffes, bestehend aus einem bis auf eine kleine i_)ffnung geschlossenen heizbaren Hohlkörper, in Verbindung mit einer vor der Verclampfungsquelle angeordneten, mit geeigneten Aussparungen versehenen, rotierenden Scheibe angebracht ist. Unter dem Ausdruck diffus wird eine Verdampfungsquelle verstanden, deren Streucharakteristik dem cos 7 proportional ist.
- Ein Ausführungsheispiel nach der Erfindung ist in der Abb. i dargestellt. In dieser bedeuten i der Heizofen, der zweckmäßig mit einer Kühlfalle zum Entfernen des beim Verdampfen entstehenden Kristallwassers kombiniert ist, :2 die Offnung des Heizofens, 3 die Heizwicklung, .I eine bewegliche, z. B. rotierende Scheibe und 3 die zu be;darnpfende Fhiche. Die Abb. 2 zeigt eine Scheibe -, die mit einer Aussparung (, versehen ist, um auf einer planen. Aufdampfungsfläche eine gleichinäf@ige Schichtdicke zu erhalten. Die die Vertc ilung des aufzudampfenden Stoffes beeinflussende Fläche; wird durch eine Verstrel.ung 8 am Rand der Scheibe .1 gehalten.
- In einzelnen Füllen kann auf die Anwendung einer--bcwegliclien Scheibe unter Umständen verzichtet werden, z. B. dann, wenn eine konkave Kugelfläche, beispielsweise eine Linsenfläche, mit einer dünnen Schicht gleichmäßiger Schichtdicke überzogen werden soll. In diesem Fall wird die Verdampfungsquelle zweckm<ililig int Abstand des doppelten Kriiniinuiigsradiuc der Kugelfläche angebracht.
- Das erfindungsgem:iße -erfahren ist nicht nur zur Herstellung reflexmindernder Schichteil geeignet, sondern kann auch beispielsweise bei Spiegelbelegungen, beim Aufbringen voll lichtelektrischen Schichten usw. angewendet werden.
Claims (1)
- PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zum Aufdampfen von diinnen Schichten, z. B. reflezinindernden Schichten, mit vorbestimmter, insbesondere gleichmäßiger Verteilung der Schichtdicke, dadurch gekennzeichnet, daß eine Verdarnpfungquelle mit diffuser Verteilung des zu verdampfenden Stoffes, bestehend aus einem bis auf eine kleine U)ffnung geschlossenen heizbaren Hohlkörper, in Kombination mit einer vor der Verdampfungsquelle angebrachten, mit geeigneten Aussparungen versehenen, rotierenden Scheibe angebracht ist. z. Abänderung des Verfahrens nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß in den Fällen, wo der zu bedampfende Körper eine kugelsymmetrische, gegenüber der Verdampfungsquelle konkave 0berfliiclie hat, die diffuse Verdampfungsquelle im Abstand des doppelten Krümmungsraditis der Kugelfläche angebracht ist. Zur Abgrenzung des Anmeldungsgegenstandes vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren folgende Druckschriften in Betracht gezogen «-orden: USA.-Patentschrift ...... Nr. a 16o 981; britische - ...... - -1S3029.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEZ26170D DE748945C (de) | 1940-12-24 | 1940-12-24 | Verfahren zum Aufdampfen von duennen Schichten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEZ26170D DE748945C (de) | 1940-12-24 | 1940-12-24 | Verfahren zum Aufdampfen von duennen Schichten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE748945C true DE748945C (de) | 1944-12-02 |
Family
ID=7626512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEZ26170D Expired DE748945C (de) | 1940-12-24 | 1940-12-24 | Verfahren zum Aufdampfen von duennen Schichten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE748945C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2815704A1 (de) * | 1978-04-12 | 1979-10-18 | Heraeus Gmbh W C | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von rotationssymmetrischen verlauffiltern |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB483029A (en) * | 1935-10-12 | 1938-04-11 | Paul Alexander | Improvements in and relating to the deposition of metallic films from metal vaporised in vacuo |
US2160981A (en) * | 1935-10-19 | 1939-06-06 | O'brien Brian | Method and apparatus for producing thin wedges |
-
1940
- 1940-12-24 DE DEZ26170D patent/DE748945C/de not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB483029A (en) * | 1935-10-12 | 1938-04-11 | Paul Alexander | Improvements in and relating to the deposition of metallic films from metal vaporised in vacuo |
US2160981A (en) * | 1935-10-19 | 1939-06-06 | O'brien Brian | Method and apparatus for producing thin wedges |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2815704A1 (de) * | 1978-04-12 | 1979-10-18 | Heraeus Gmbh W C | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von rotationssymmetrischen verlauffiltern |
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