DE947339C - Widerstandsfaehiges Interferenzlichtfilter - Google Patents

Widerstandsfaehiges Interferenzlichtfilter

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DE947339C
DE947339C DEH4151D DEH0004151D DE947339C DE 947339 C DE947339 C DE 947339C DE H4151 D DEH4151 D DE H4151D DE H0004151 D DEH0004151 D DE H0004151D DE 947339 C DE947339 C DE 947339C
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light
interference light
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light filter
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Application number
DEH4151D
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English (en)
Inventor
Dr Max Auwaerter
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WC Heraus GmbH and Co KG
Original Assignee
WC Heraus GmbH and Co KG
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/285Interference filters comprising deposited thin solid films

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

  • Widerstandsfähiges Interferenzlichtfilter Gegenüber den Absorptians- und Dispersnonsfiltern haben die Interferenzlichtfilber einige Fortschritte gebracht. Diese. Filter bestehen bei einer bekannten Ausführung aus einer Vereinigung von nichtleitenden Schichten mit verschiedener Brechzahl und Schichtstärken in, der Größenordnung der Wellenlänge des durchzulassenden Lichtes; hierbei wird durch Interferenz der an den Grenzflächen der verschiedenen Schichten reflektierten Lichtanteile eine, Verstärkung oder Schwächung der reflektierten oder durchgelassenen Lichtanteile j e nach der Wellenlänge erreicht. Es ist weiterhin schon vorgeschlagen worden, zwei oder mehrere dünne teildurchlässige reflektierende metallische Schichten. mit nichtmetallischen Zwischenschichten. auf einean Träger aufzubringen, wobei die Stärke dieser Zwischenschichten in der Größenordnung derWellenlänge des durchzulassen.-den, Lichtes liegt. Hierbei treten, Interferenzen. der an den metallischen Schichten zum Teil mehrfach reflektierten. Lichtanteile auf, die Verstärkungen und Schwächungen gewisser Wellenlängenbereiche bewirken. Ebenso- wurde vorgeschlagen, zur Re flexionsverminderung eine Schicht aus einem festen Metallfluor-id aufzubringen, die durch einte weitere Schicht, z. B. Quarz, mechanisch. geschützt wird, wobei beide: Schichten etwa eine Viertelwellenlänge dick sind. Oder es wurden dünne Glimmerplättchen rückseitig spiegelnd und vorderseitig halbdurchlässig versilbert, um schöne »Farbeffekte« zu erzielen.
  • Der Hauptnachteil dieser Interferenzlichtfiltex besteht in dem zu, geringen Unterschied der Intenr sitäi dieser beiden. Lichtanteile oder in großen Lichtverlusten im durchzulassenden Wellenlängen, gebiet oder, wenn die Lichtausbeute) in diesem Gebiet groß ist, in der ungenügenden Unterdrückung der zurückzuhaltenden Lichtanteile. Ein, weiterer Nachteil dieser Schichten besteht darin, daß sie zur Erzielung genügender Haltbarkeit auf eine Unterlage aufgebracht werden. müssen, die in den durchzulassenden Wellenlängengebieten nicht absorhieren darf, also nicht beliebig gewählt werden kann. So, muß beispielsweise für das langwellige Ultrarot Steinsalz als Unterlage verwandet werden; hierdurch wird die Handhabung des Filters erschwert. Es wäre ein großer Fortschritt, wenn es gelänge, vom: solchen empfindlichen, teils hygro,-skopischen Substanzen frei zu werden.
  • Wo, aber diese Schichten wie Glimmer einseitig voll spiegelnd, einsaitig halbdurchlässig spiegelnd waren, ergaben sie zufällige Abschwächung oder Verstärkung.
  • Die vorliegende: Erfindung hat sich nun die Aufgabe gestellt, ein haltbares und handliches In.terferenzlichtfilter zu schaffen, das. trotz starker Schwächung der unerwünschten Wellenlängenbereiche eine hohe Lichtausbeute in dem gewünschten Bereich ergibt.
  • Erfindungsgemäß wird dsiese Aufgabe grundsätzlich in folgender Weise gelöst: Auf eine voll reflektierende Schicht z. B. aus Aluminium wird eine Schicht aus einem niederen Siliziumoxyd aufgebracht und darauuuf eine teilweise reflektierende, teilweise durchlässige Schicht. Beide Schichten reflektieren also das einfallende Licht. Wählt man. nun diie Dicke der Zwischen, schiebt so, daß die an den beiden Schichten reflektierten Amplituden einen Gangunterschied von, einer- halben Wellenlänge für eine bestimmte, vorher gewählte Wellenlänge ergeben, so@ wird diese Wellenlänge weitgehend ausgelöscht. Dabei kann man, die teilweise Durchlässigkeit der oberen reflelctierenden Schicht so wählen,, daß die gewünschte Wellenlänge vollständig ausgelöscht wird. Alle anderen Wellenlängen werden. also. reflektiert. Das Filter ist aJso@ ein Reflexionsfilter, kann, also aus beliebigem Material hinter der reflektierenden Schicht bestehen.. Die Erfindung bedeutet, daß das Trägermaterial nicht mehr eingeht in dliie Eigenscha,ften des Filters, daß seine Eigenschaften ausschließlich durch die aufgebrachten, Schichten bestimmt ward. Damit gelingt es z. B. bei Filtern. (Reflexionsfiltern,) für das langwellige! Infrarot, vom unbequemen Steünsadz als Trägermateu-ial frei zu werden.
  • Diese allgemeine Lösung ergibt in der, praktischen Ausführung beispielsweise folgenden Sohichtenaufbau: Auf einem poliertem, Träger beliebiger Art, beispielsweise Glas, ist ein, Metall aufgebracht,. das in dem gewünschtem: Wellenlängengehiet ein möglichst hohes Reflexionsvermögen besitzt; außerdem hat dieses Metall eine Schichtstärke, diie praktisch kein Licht dieser Wellenlängen. durchläßt, um unnötige Lichtverluste zu vermeiden. Hierauf ist eine in denn; gewünschten Wellenlängenbereich durchsichtige nichtine!tallische Schicht aus einem niederem. Siliznumoxyd aufgebracht. Um die breitasemöglichaAus.löschung des unerwünschten Lichtes durch Interferenz zu erzielen, wird die Stärke dieser Schicht so gewählt, daß die beiden Amplituden., deren; Interferenz gewünscht ist, einen Gangunterschied von einer halben Wellenlängei oder eines, ungeraden Vielfachen davon besitzen,. Dann ist hierauf noch eine teildurchlässige reflektierende Schicht aufgebracht. Diese reflektierende Schicht kann entweder eine teildurchlässige dünne Matallsahncht sein, und zwar vorzugsweise aus dem gleichen Metall, aus dem die vollkommen reflektierende metallische Unterlage besteht, oder aber ein lichtdurchlässiger Stoff -mit höherer Brechzahl. Die reflektierende Schicht muß, wie schon gesagt, so, gewählt werden, daß die an den beiden reflektierenden Flächen reflektierten Strahlen; etwa, gleich großeAmpliitudlen besitzen, wobei natürlich noch die Mehrfachreflexionen zu berücksichtigen sind!. Diese: Ab, stimmung der Amphtudengröße kann. man im vorliegenden Fall durch eine dünne metallische teildurchlässige Schicht erreichen, bei einer durchlässigen. Schicht höherer Brechzahl dadurch, daß man die Brechzahl und Dicke der Schicht entsprechend wählt. ' Für die reflektierenden Scbichtent lassen sich im ultraroten Spektralgeb!i@et praktisch alle Metalle verwenden, da hier das Reflexionsvermögen fast durchweg sehr hoch liegt. Im ultravioletten und sichtbaren Gebiet werden Aluminium und seine Legierungen benutzt. Will man im sichtbaren. Gebiet das Äußerste erreichen., dann verwendet man Silber.
  • Wenn für die äußere reflektierende teildurchlässige Schicht Stoffe verwendet werden., d.ie gegen ,,korrodierende Einwirkungen der Umgebung, beispielsweise atmosphärische Einflüsse, und gegen mechanische Beschädigungen empfindlich sind, ist es zweckmäßig, eine nichtmetallische Schutzschicht aufzubringen, die ausreichende Ko,rro,sio@nsfes.tigkeit und mechanische Beständigkeit aufweist. Die dadurch bedingte Veränderung der reflektiertem. Amplitude kann. im gesamten Reflexionsvermögen leicht berücksichtigt werden.. Das, Aufbringen einer solchen Schutzschicht, die z. B. aus eineue niederen Oxyd des Siliziums bestehen kann, ist eine an sich bekannte: Maßnahme, die hier, nur in Verbindung mit dem anderen Filterscbnchten behandelt werden soll, weil sie hier neues Gewicht und. Bedeutung erhält.
  • Die metallischen und nichtmetallischen Schichten werden nach an sich bekannten chemischen oder physikalischem. Verfahren aufgebracht. Das Aufdampfen , im Vakuum besitzt den. Vorteil, daß die Herstellung der Filter in einem Arbeitsgang erfolgen kann, indem nacheinander die verschiedenen Schichten. im gleichen Vakuumkessel aufgedampft werden.. Für die Herstellung der Metallschichten läßt sich aber auch die Ka,thodenzerstäubung und für die Herstellung dar vollständig reflektierenden Unterlage auch die galvanische Abscheidung auf einer metallischen Unterlage anwenden..
  • Da die- Berechnung der zur Erzeugung maximaler Auslöschung günstigsten Schichtstärken der nichtmetallischen Zwischenschicht und: der teiildurchlässigen metallischen Schicht ziemlich umständlich ist und außerdem die genaue Kenntnis der optischen Konstanten der beteiligten. Stoffe voraussetzt, verschafft man seich einen: restlosen Überblick über alle Möglichkeiten der Interferenz durch folgenden Versuch: Man. dampft auf eine vollkommen reflektierende Unterlage zuerst einen Keil aus einem Stoff auf, aus dem die, nichtmetallische Zwischenschicht bestehen soll, und dann quer zu diesem einen, Keil aus dem Metall, das die teildurchlässige Schicht ergeben soll. Man erhält auf diese Weise unter allen Umständen. sämtliche Kombinationen, von Schichtstärken: der nichtmetallischen Zwischenschicht und der teildurchlässigen metallischen Schicht und kann leicht den Punkt ermitteln, bei dem die gewünschte Filterwirkung erreicht wird. Die Bestimmung der Dicke der einzelnen Schichten in lern übereinander gedampften Verband ist nur schwer möglich. Es. ist deshalb zweckmäßig nach dem Aufdämpfen der ersten Schicht an passenden: Stellen, die Dicke des aufgedampften Keiles zu ermitteln und einige Stellen durch neu eingelegte kleinere Probekörper abzudecken und. an diesen Stellen dann die Schichtstärkenverteilung der zweiten Aufd;ampfung zu bestimmen. Durch dieses Verfahren erhält man einen Überblick über alle Möglichkeiten der Interferenz für die verschiedenen: Filterwirkungen. Man erhält also durch diesen Versuch Hinweise auf die günstigste Kombination für das; ultraviolette, das sichtbare und das ultrarote Spektralgebiet. Bei: der Fabrikation selbst ist es zweckmäßig, diel Aufdampfung durch Licht der auszulöschendenWellenlänge optisch zu kontrollieren.
  • Die Abbildung zeigt die Abhängigkeit des Reflexionsvermögens von der Wellenlänge bei einem Filter der Erfindung. Bei diesem ist auf eine Glasplatte als Träger Reinaluminium in einer Dicke aufgedampft, die praktisch kein Licht mehr durchläßt, und hierauf als nichtmetallische Zwischenr schicht ein niederes. Oxyd des Silii,ziums (»Siliziummo@noxyd«). Als dritte, teildurchlässige Schicht ist Aluminium aufgedampft. Der Gangunterschied zwischen. der ersten und zweiten reflektierten Amplitude beträgt hierbei etwa zweimal i77(> A.. Die Dicke der teildurchlässigen Aluminiumschicht bewegt sich nur in, der Größenordnung. von ioo A. Das Maximum der Reflexion Biegt bei 2750-A. (A in der Abbildung) ; das Minimum der Reflexion befindet sich bei 5500A. (C in der Abbildung) und liegt dort unter i °/o. In diesem Wellenlängengebiet wird also praktisch vollkommene Auslöschung erreicht. Die Breite des. unterdrückten Spektralbereiches ist überraschend groß, die innerhalb einer Oktave reflektierte Intensität beträgt rund 6,5 0/0 des eingestrahlten Lichtes. Trotz seines hohen: Reflexionsvermögens im UV ist also der Spiegel im Sichtbaren nahezu vollkommen schwarz. Durch Veränderung der Schichtdicke der nichtmetallischen Zwischenschicht läßt seich das Maximum beliebig verschieben,. Während nach dem langwelligeren Gebiet zu das Licht fast völlig zurückgehalten wird, treten nach dem kurzwelligeren Gebiet bei einem Einzelfilter in bestimmten.Abständen neue Maxima und Minima auf, die aber immer schmäler werden. Wünscht man nun. für eine bestimmte Wellenlänge ein besonders schmales Minimum, dann läßt sich dies jederzeit durch geeignete Wahl der Schichtstärke auch für diese Wellenlänge erreichen, indem man die zu untersuchende Stelle auf ein zweites (D in der Abbildung) oder drittes Minimum legt. Bemerkenswert ist, daß das nach dem ersten Mniinurn nach kürzeren Wellenlängen zu liegende erste MaximumA auf halber Wellenlänge liegt, während das nach längeren Wellenlängen zu: benachbarte Maximum Bim Unendlichen, ist.
  • Um besonders steile Flanken in der Filterwirkung zu erreichen, kann, miau: auf das. Verfahren zurückgreifen, das. man bei den Reststrahlen; anwendet. Man läßt also das auszufilternde Licht in Mehrfachreflexion an; den Reflexionsfiltern reflektieren. Andererseits ist es möglich, durchÄnderung der einzelnen Auslöschungsstellen sehr breite Gebiete vollkommen zur Aus.löschung zu bringen, während von einer bestimmten Grenze an nach dem langwelligen Gebiet zu Reflexionsvermögen voirhanden ist. Eine Verschiebung des Maximums ist außerdem auch durch Veränderung des Einfallwinkels, des zu filternden Lichtes möglich. Eine wesentlich geringere Abhängigkeit vom Einfallswinkel läßt sich erzielen., wenn: das Dielektrikum eine höhere Brechzahl besitzt. Die Brechungszahl der dielektrischen Schicht, die für, die Interferenz verantwortlich ist und aus einem niederen Oxyd des Siliziums besteht, ist in gewissem Grade dadurch beeinflußbar, daß man, das, Herstellungsverfahren entsprechend wählt. Dadurch hat man, es in der Hand, die Winkelabhängigkeit des Filters in gewissem Grade zu beeinflussen. Die obe nr genannten, Werte, die in der Zeichnung wiedergegeben sind, wurden mit einem Einfallswinkel von 85° beobachtet. Die theoretischen Werte liegen etwas über der in der Abbildung als praktisches Beispiel gezeigten Kurve, weil das benutzte, niedrere Siliziumoxyd und die darauf befindlichen beeiden Schichten, immer eine gewisse, geringe Absorption aufweisen. Da die zwischengeschalteten nichtrnetallischen Schichten dünn sind, fällt es nicht besonders ins. Gewicht, wenn: sie noch, eines geringeAbsorption für das. durchzulassende Licht aufweisen. Besonders, günstig ist der Fall, daß der auszulöschende Wellenbereich mit einem Absorptionsbereich der Zwischenschicht aus einem niederem, Siliziumoxyd zusammenfällt.
  • Die neuen Filter bringen den bedeutenden Fortschritt, d.aß mit einer beschränkten Anzahl von Stoffen, d. h. einer Zwischenschicht aus niederem Siliziumoxyd, einer to@tälreflektxereniden und einer halbdurchlässigen Metadlsah;ieht und einer dünnen., durchlässigen Schutzschicht eine Filterwirkung in beliebigen. Spektrasberenchen erzielt wird. Und eine solche Filterwirkung kann erzielt werden selbst in Bereichen, wo,' diie beteiligtem Stoffe optisch inaktiv, d. h. praktisch durchlässig sind. Die Intensität des das Filter verlassenden. reflektierten Lichtes liegt dabei vergleichsweise hoch. Von nach größerer Bedeutung ist aber der Umstand, daß das zurückzuhaltende Licht völlig ausgelöscht werden, kann, eine Erscheinung, die mit anderen Filterarten bereits aus theoretischen Gründen nicht zu eirreichen ist. Der stabile Aufbau deis Filters ermöglicht in der Praxis eine einfache und betriebssichere Handhabung und gestattet technische Anwendungen, bei denen. z. B. auch. hohe Lichtintensitäten eines bestimmten Spektralbereiches ausgestrahlt werden sollen, beispielsweise bei Reflektoren - z. B. auch für das ultrarote Gebiet - oder Beleuchtungsgeräten. Da der unterdrückte Wellenlängenhereich überraschend groß ist, wird beispielsweise bei. der Anwendung als UV-Filter das ganze sichtbare und ultrarote Gebiet weitgehend reflektiert, während die im UV- auszulöschende Wellenlänge quantitativ vernichtet wird, wodurch eine vorteilhafte Anwendung in Strahlungsgeräten, wie UV-Strahlern, ermöglicht ist.

Claims (3)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Widerstandsfähiges. Interferenzlichtfilter, dadurch gekennzeichnet, daß eine -teildurchlässige, reflektierende Schicht auf einer möglichst. hochreflektierenden Schicht unter Zwischenschaltung einer Schicht aus, einem niederen Siliziumoxyd, vorzugsweise Siliziummonoxyd, einer solchem. Dicke aufgebracht ist, daß die an den beiden Schichten rofiektierten Amplituden einen Gangunterschied von einer haJbenWellenr länge des zu vernichtenden Lichtes oder eines ungeraden Vielfachen davon besitzen, und durch Wahl des Reflexionsvermögens, der teildurchr lässigen Schicht die Amplituden diel- beiden. reflektierten Wellenzüge gleich groß gemacht werden.
  2. 2., Widerstandsfähiges InteTferenzlichtfilter nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die teildurchlässige reflektierende Schlicht, beispielsweise: eine teildurchlässige metallische Schicht, gegen mechanische und chemische Angriffe durch eine widerstandsfähige lichtdurchlässige Deckschicht geschützt ist.
  3. 3. Widerstandsfähiges Interferenzlichtfilter nach Anspruch, 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtdurchlässige Deckschicht aus einem niederen Oxyd des -Siliziums besteht. In Betracht gezogene Druckschriften,: Deutsche Patentschrift Nr. 716 153; USA-=Patentschrift Nr. 2:207 656; Philoso@phllcal Magazine and Journal of Science, VI, Bd. 7, 1904, S. 376, 378, 379.
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