DE2616171C2 - Dreischichtiger Antireflexbelag für optisches Glas - Google Patents
Dreischichtiger Antireflexbelag für optisches GlasInfo
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Description
Die Erfindung betrifft einen dreischichtigen Antireflexbelag für optisches Glas, mit einer auf dem Glas
angeordneten Schicht mit einer Dicke von A/4 und einem mittleren Brechungsindex von etwa 1,58 bis 1,70,
mit einer darauf angeordneten Schicht mit einer Dicke von A/2 und einem hohen Brechungsindex von etwa 1,85
bis 2,40 und mit einer darüber angeordneten Schicht mit einer Dicke von A/4 und einem niedrigen Brechungsindex
von etwa 1,30 bis 1,45, wobei A eine Bezugswellenlänge
ist.
Ein Antireflexbelag dieser Art ist bekannt (US-PS 3185 020) und in der beigefügten Fig. 1 dargestellt.
Dieser Antireflexbelag besteht aus der λ/4-Schicht 2 mit mittlerem Brechungsindex, z. B. aus CeFj oder Al2Oj,
der A/2-Schicht 3 mit hohem Brechungsindex, z. B. aus ZrO2, und der äußeren A/4-Schicht 4 mit niedrigem
Brechungsindex, z. B. aus MgF2. Solche Antireflexbeläge
werden normalerweise durch Aufdampfen im Vakuum aufgebracht. Das Reliexionsverhältnis eines optischen
Glases mit einem Brechungsindex von 1,52, welches mit einem solchen Antireflexbelag versehen ist, ist in der
beigefügten F i g. 3 bei a gezeigt. Das Reflexionsverhältnis bei der Bezugswellenlänge A von 500 nm beträgt
ungefähr 1 %. Das ist ein unerwünchst hoher Wert. Das Reflexionsverhältnis ist abhängig von der Einheitlichkeit
der Schicht mit hohem Brechungsindex. Bei abnehmender Einheitlichkeit steigt das Reflexionsverhältnis
bei der Bczugswellcnlänge A.
Bevorzugt wird in den mehrschichtigen Antireflexbelägen
auf optischen Gläsern ZrO2 als Material mil
hohem Brechungsindex wegen der guten Absorption, der guten Haftung auf dem Glas und den anderen
Schichten und der Stabilität des Brechungsindex bevorzugt. Wenn jedoch ZrO2 auf Glas aufgedampft
wird, nimmt die molekulare Dichte mit zunehmender Schichtdicke ab. Somit werden uneinheitliche Schichten
erhalten, die eine Verringerung des Brechungsindex und
somit des Reflexionsverhältnisses bewirken.
Durch die Erfindung soll die Aufgabe gelöst werden,
einen Antireflexbelag zu schaffen, bei welchem das Reflexionsverhältnis durch eine zunehmende Dicke der
Schicht mit hohem Brechungsindex nicht nachteilig beeinflußt wird.
Diese Aufgabe wird bei einem dreischichtigen Antireflexbelag der eingangs genannten Art gemäß der
Erfindung dadurch gelöst, daß die A/2-Schicht aus ίο Einzelschichten mit einer Dicke von jeweils A/8 besteht,
zwischen denen Zwischenschichten mit einer Dicke von 1 bis 10 nm mit dem niedrigen Brechungsindex
angeordnet sind.
Dadurch, daß das Material der Einzelschichten nur bis zu einer Schichtdicke von A/8 aufgebracht und
dazwischen Zwischenschichten aus einem Material mit dem niedrigen Brechungsindex aufgebracht werden,
wird vermieden, daß die A/2-Schicht uneinheitlich wird.
Das Aufbringen der A/8-Einzelschichten und der Zwischenschichten wird wiederholt, bis die gewünschte
Gesamtschichtdicke erreicht ist.
In zweckmäßiger Ausgestaltung der Erfindung wird
als Schicht mit niedrigem Brechungsindex MgF2, als
Schicht mit mittlerem Brechungsindex CeFj oder AI2Oj
2S und als Schicht mit hohem Brechungsindex CeO2 oder
ZrO2 eingesetzt.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung beträgt die Dicke der Zwischenschichten jeweils 5 nm.
Zuir. besseren Verständnis der Erfindung wird auf die
nachfolgende Beschreibung von mehreren Ausführungsbeispielen und auf die Zeichnung Bezug genommen.
Es zeigt
F i g. 1 einen vergrößerten Schnitt durch einen bekannten dreischichtigen Antireflexbelag,
Fig.2 einen vergrößerten Schnitt durch einen dreischichtigen Antireflexbelag nach der Erfindung,
Fig.2 einen vergrößerten Schnitt durch einen dreischichtigen Antireflexbelag nach der Erfindung,
F i g. 3 für optische Gläser nach F i g. 1 bzw. 2 in einem Diagramm jeweils das Reflexionsverhältnis in Abhängigkeit
von der Wellenlänge, und
Fig.4 in einem Diagramm die Beziehung zwischen
der Dicke einer ZrO2-Schicht und dem Brechungsindex.
Antireflexbeläge der im folgenden beschriebenen Art eignen sich zur Aufdampfung auf photographische
Filter, Fernrohrlinsen, optische Filter usw. und auf die so behandelten Gläser und Linsen.
Für die dreischichtigen Antireflexbeläge werden zweckmäßig folgende Materialien eingesetzt:
als Materialien mit hohem Brechungsindex: CeO2 und ZrO2, als Materialien mit mittlerem Brechungsindex: CeFj und AI2Oj, und als Materialien mit niedrigem Brechungsindex: MgF2.
als Materialien mit hohem Brechungsindex: CeO2 und ZrO2, als Materialien mit mittlerem Brechungsindex: CeFj und AI2Oj, und als Materialien mit niedrigem Brechungsindex: MgF2.
Als geeignetes Material mit hohem Brechungsindex
ist ZrO2 bekannt. Wenn dieses Material auf erwärmtes
Glas aufgedampft wird, nimmt mit zunehmender Schichtdicke der Brechungsindex des Antireflexbelages
von 2,08 auf 1,92 ab. Bei einer Messung der Dicke der ZrOrSchicht und des Brechungsindex mit einem
Polarimeter bei einer Glastemperatur von 2800C und einer Wellenlänge A von 500 nm konnte festgestellt
werden, daß bei Schichtdicken von A/16, A/8, A/4 und A/2 Brechungsindexwerte von 2,08 bzw. 2,08 bzw. 2,05 bzw.
1,92 erhalten wurden. Bei einer Schicht aus CeO2 und
einer Schichtdicke von A/16, A/8, A/4 und und A/2 wurden Brechungsindizes von 2,28 bzw. 2,26 bzw. 2,02 bzw. 1,88
erhalten.
Aus diesen Versuchsreihen geht hervor, daß die Schicht bei einer Schichtdicke oberhalb von ungefähr
A/8 uneinheitlich wird, wodurch sich starke Abweichun-
gen der Brechungsindizes ergeben.
Gemäß dem hier beschriebenen Ausführungsbeispiel wird als Schicht 2 mit mittlerem Brechungsindex CeFi in
einer Dicke von A/4 im Vakuum auf ein Glas mit einem Brechungsindex von 1,52 aufgedampft. Auf diese
Schicht 2 wird gem: J F i g. 2 eine Schicht 3 aus Ζ1Ό2 mit
hohem Brechungsindex aufgedampft Um die gewünschten Eigenschaften zu gewährleisten, sollte diese
ZrO2-Shicht eine Dicke von A/2 aufweisen. Um den Nachteil einer Uneinheitlichkeit der ZrO/-Schicht zu
vermeiden, werden ZrOvEinzeischichten 3' mit einer Dicke von A/8 auf die CeFj-Schicht aufgedampft
Zwischen einer jeden Aufdampfung einer ZrO2-Einzelschicht
der Dicke A/3 wird eine sehr dünne Zwischenschicht 5 aus einem Material mit niedrigem Brechungsindex,
z. B. aus MgF2, aufgedampft. Die Zwischenschichten
5 haben eine Dicke von ungefähr 5 nm. Die Aufdampfung einer ZrO>-Schicht der Dicke A/8 und
einer MgF2-Zwischensehicht wird wiederholt, bis die gewünschte ZrOrSchichtdicke von A/2 erreicht ist.
Über die ZrCb-Schicht wird ein Material mit niedrigem
Brechungsindex, z. B. MgF2, als Schicht 4 in einer Dicke
von ungefähr A/4 aufgebracht. Die Kurve eines solchen Glases, die das Reflexionsverhältnis in Abhängigkeit
von der Bezugswellenlänge A zeigt, ist in F i g. 3 bei b angegeben. Diese Figur zeigt, daß das Reflexionsverhältnis
bei einer Wellenlänge von 500 nm ungefähr 0,5% beträgt. Durch das vorstehend beschriebene Verfahren
kann somit ein wesentlich reflexärmeres Glas hergestellt werden.
Mit CeO2 als Material mit hohem Brechungsindex und
Al2O) als Material mit mittlerem Brechungsindex
wurden ähnliche Resultate erzielt. Die sehr dünnen Zwischenschichten, die in diesem Fall eine Dicke
zwischen 1 und 10 nm haben, stören hierbei nicht. Vorstehend ist zwar als bevorzugte Ausführungsform
ein dreischichtiger Antireflexbelag beschrieben worden, in der Praxis werden jedoch Antireflexbeläge mit mehr
als drei Schichten bevorzugt.
Unter den Materialien mit hohem Brechungsindex wird ZrO2 wegen der hohen Absorption und der
Brechungsindexstabilität bevorzugt. ZrO2 hat nur den
'S Nachteil, daß bei Vakuumaufdampfung die molekulare
Dichte bei zunehmender Schichtdicke abnimmt, wodurch der Brechungsindex erniedrigt wird. Hierdurch
geht ein wesentlicher Prozentsatz des Reflexionsverhältnisses verloren. Gemäß der vorstehenden Beschreibung
können diese Nachteile dadurch vermieden werden, daß in dem Material mit hohem Brechungsindex,
wie z. B. ZrO2, abwechselnd dünne Zwischenschichten mit niedrigem Brechungsindex angebracht werden,
bis die gewünschte Schichtdicke erreicht ist, wobei das Material mit hohem Brechungsindex in Schichtdicken
vis zu A/8 und die Zwischenschichten in einer Dicke zwischen 1 bis 10 nm aufgebracht werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Dreischichtiger Antireflexbelag für optisches Glas, mit einer auf dem Glas angeordneten Schicht
mit einer Dicke von A/4 und einem mittleren Brechungsindex von etwa 148 bis 1,70, mit einer
darauf angeordneten Schicht mit einer Dicke von A/2 und einem hohen Brechungsindex von 1,85 bis
2,40 und mit einer darüber angeordneten Schicht mit einer Dicke von λ/4 und einem niedrigen Brechungsindex
von etwa 130 bis 1,45, wobei A eine Bezugswellenlänge ist, dadurch gekennzeichnet,
daß die A/2-Schicht (3) aus Einzelschichten (3') mit einer Dicke von jeweils A/8
besteht, zwischen denen Zwischenschichten (5) mit einer Dicke von 1 bis 10 nm und dun niedrigen
Brechungsindex angeordnet sind.
2. Antireflexbelag nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß als Schicht (4,5) mit niedrigem
Brechungsindex MgF2, als Schicht (2) mit mittlerem Brechungsindex CeFj oder AbOj und als Schicht (3,
3') mit hohem Brechungsindex CeO2 oder ZrO2
eingesetzt wird.
3. Antireflexbelag nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Zwischenschichten
(5) jeweils 5 nm beträgt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762616171 DE2616171C2 (de) | 1976-04-13 | 1976-04-13 | Dreischichtiger Antireflexbelag für optisches Glas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762616171 DE2616171C2 (de) | 1976-04-13 | 1976-04-13 | Dreischichtiger Antireflexbelag für optisches Glas |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2616171B1 DE2616171B1 (de) | 1977-06-02 |
DE2616171C2 true DE2616171C2 (de) | 1978-01-19 |
Family
ID=5975251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762616171 Expired DE2616171C2 (de) | 1976-04-13 | 1976-04-13 | Dreischichtiger Antireflexbelag für optisches Glas |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2616171C2 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60252301A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | Asahi Glass Co Ltd | 耐熱性の向上された光学体 |
CN102096136A (zh) * | 2010-12-17 | 2011-06-15 | 北京控制工程研究所 | 空间用光学石英玻璃耐辐照滤紫外薄膜及制备方法 |
-
1976
- 1976-04-13 DE DE19762616171 patent/DE2616171C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2616171B1 (de) | 1977-06-02 |
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