DE7228091U - Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator - Google Patents

Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator

Info

Publication number
DE7228091U
DE7228091U DE19727228091U DE7228091U DE7228091U DE 7228091 U DE7228091 U DE 7228091U DE 19727228091 U DE19727228091 U DE 19727228091U DE 7228091 U DE7228091 U DE 7228091U DE 7228091 U DE7228091 U DE 7228091U
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
cavity
ion source
magnetic field
expansion shell
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19727228091U
Other languages
German (de)
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Original Assignee
Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Commissariat a lEnergie Atomique CEA filed Critical Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Publication of DE7228091U publication Critical patent/DE7228091U/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/16Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation
    • H01J27/18Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation with an applied axial magnetic field

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
DE19727228091U 1971-07-29 1972-07-28 Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator Expired DE7228091U (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7127812A FR2147497A5 (zh) 1971-07-29 1971-07-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE7228091U true DE7228091U (de) 1973-09-20

Family

ID=9081130

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2237252A Pending DE2237252A1 (de) 1971-07-29 1972-07-28 Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator
DE19727228091U Expired DE7228091U (de) 1971-07-29 1972-07-28 Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2237252A Pending DE2237252A1 (de) 1971-07-29 1972-07-28 Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3778656A (zh)
DE (2) DE2237252A1 (zh)
FR (1) FR2147497A5 (zh)
GB (1) GB1352654A (zh)

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2621824C2 (de) * 1976-05-17 1982-04-29 Hitachi, Ltd., Tokyo Mikrowellen-Entladungs-Ionenquelle
US4185213A (en) * 1977-08-31 1980-01-22 Reynolds Metals Company Gaseous electrode for MHD generator
JPS55131175A (en) * 1979-03-30 1980-10-11 Toshiba Corp Surface treatment apparatus with microwave plasma
US4240007A (en) * 1979-06-29 1980-12-16 International Business Machines Corporation Microchannel ion gun
US4393333A (en) * 1979-12-10 1983-07-12 Hitachi, Ltd. Microwave plasma ion source
FR2475798A1 (fr) * 1980-02-13 1981-08-14 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de production d'ions lourds fortement charges et une application mettant en oeuvre le procede
JPS5947421B2 (ja) * 1980-03-24 1984-11-19 株式会社日立製作所 マイクロ波イオン源
CA1159012A (en) * 1980-05-02 1983-12-20 Seitaro Matsuo Plasma deposition apparatus
JPS5779621A (en) * 1980-11-05 1982-05-18 Mitsubishi Electric Corp Plasma processing device
JPS6043620B2 (ja) * 1982-11-25 1985-09-28 日新ハイボルテージ株式会社 マイクロ波イオン源
US4507588A (en) * 1983-02-28 1985-03-26 Board Of Trustees Operating Michigan State University Ion generating apparatus and method for the use thereof
FR2546358B1 (fr) * 1983-05-20 1985-07-05 Commissariat Energie Atomique Source d'ions a resonance cyclotronique des electrons
FR2572847B1 (fr) * 1984-11-06 1986-12-26 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif d'allumage d'une source d'ions hyperfrequence
US4649278A (en) * 1985-05-02 1987-03-10 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Generation of intense negative ion beams
DE3703207A1 (de) * 1987-02-04 1988-08-18 Loet Und Schweissgeraete Gmbh Hochfrequenzionenquelle
DE3712971A1 (de) * 1987-04-16 1988-11-03 Plasonic Oberflaechentechnik G Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines plasmas
US4778561A (en) * 1987-10-30 1988-10-18 Veeco Instruments, Inc. Electron cyclotron resonance plasma source
DE3738352A1 (de) * 1987-11-11 1989-05-24 Technics Plasma Gmbh Filamentloses magnetron-ionenstrahlsystem
DE3803355A1 (de) * 1988-02-05 1989-08-17 Leybold Ag Teilchenquelle fuer eine reaktive ionenstrahlaetz- oder plasmadepositionsanlage
US5053678A (en) * 1988-03-16 1991-10-01 Hitachi, Ltd. Microwave ion source
DE3834984A1 (de) * 1988-10-14 1990-04-19 Leybold Ag Einrichtung zur erzeugung von elektrisch geladenen und/oder ungeladenen teilchen
GB9224745D0 (en) * 1992-11-26 1993-01-13 Atomic Energy Authority Uk Microwave plasma generator
DE19513345C2 (de) * 1995-04-08 2000-08-03 Ehret Hans P ECR-Ionenquelle
DE19600223A1 (de) * 1996-01-05 1997-07-17 Ralf Dr Dipl Phys Spitzl Vorrichtung zur Erzeugung von Plasmen mittels Mikrowellen
DE19608949A1 (de) * 1996-03-08 1997-09-11 Ralf Dr Spitzl Vorrichtung zur Erzeugung von leistungsfähigen Mikrowellenplasmen
DE19757852C2 (de) * 1997-12-24 2001-06-28 Karlsruhe Forschzent Vorrichtung und Verfahren zur Dotierung von Gefäßstützen mit radiaktiven und nicht radioaktiven Atomen
DE19900437B4 (de) * 1999-01-11 2009-04-23 Ehret, Hans-P. Verfahren und Vorrichtung zur Ionenimplantation in Festkörpern und/oder zur Beschichtung von Festkörperoberflächen sowie die Verwendung von Verfahren und Vorrichtung
US7461502B2 (en) * 2003-03-20 2008-12-09 Elwing Llc Spacecraft thruster
ES2272909T3 (es) * 2003-03-20 2007-05-01 Elwing Llc Propulsor para vehiculo espacial.
EP1995458B1 (en) * 2004-09-22 2013-01-23 Elwing LLC Spacecraft thruster
JP2011511929A (ja) 2007-10-10 2011-04-14 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド 四重極または飛行時間型質量分光計を用いた化学イオン化反応または陽子移動反応質量分光分析
NL2014415B1 (en) * 2015-03-06 2016-10-13 Jiaco Instr Holding B V System and method for decapsulation of plastic integrated circuit packages.
CN106102301B (zh) * 2016-07-29 2019-01-29 中国原子能科学研究院 紧凑型超导质子回旋加速器中可耐高压的静电偏转板
ES2696227B2 (es) * 2018-07-10 2019-06-12 Centro De Investig Energeticas Medioambientales Y Tecnologicas Ciemat Fuente de iones interna para ciclotrones de baja erosion

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3418206A (en) * 1963-04-29 1968-12-24 Boeing Co Particle accelerator

Also Published As

Publication number Publication date
GB1352654A (en) 1974-05-08
US3778656A (en) 1973-12-11
DE2237252A1 (de) 1973-02-01
FR2147497A5 (zh) 1973-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE7228091U (de) Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator
DE69421033T2 (de) RF induktive Plasmaquelle zur Plasmabehandlung
DE69019741T2 (de) Ionenstrahlkanone.
DE3803355C2 (zh)
DE69207212T2 (de) Hochfrequenz-ionenquelle
DE3111305C2 (de) Mikrowellen-Entladungs-Ionenquelle
DE4340224C2 (de) Einrichtung zum Erzeugen von Plasma mittels Mikrowellenstrahlung
DE69622463T2 (de) Ionenstrahl-Bearbeitungsapparat
DE4319717A1 (de) Vorrichtung zum Erzeugen planaren Niedrigdruckplasmas unter Verwendung einer Spule mit deren Achse parallel zu der Oberfläche eines Koppelfensters
DE69123528T2 (de) Gerät und Verfahren unter Verwendung eines durch Mikrowellen erzeugten Plasmas
EP0593924A1 (de) Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas mittels Kathodenzerstäubung
DE3708716A1 (de) Hochfrequenz-ionenquelle
DE112012004749T5 (de) Ringplasmakanal mit variierenden Querschnittsflächen entlang des Kanals
DE69405546T2 (de) Lineare mikrowellenquelle zur plasmabehandlung von flächen.
DE19847848C1 (de) Vorrichtung und Erzeugung angeregter/ionisierter Teilchen in einem Plasma
EP0462377B1 (de) Ionenquelle
DE3424449A1 (de) Quelle fuer negative ionen
DE69838823T2 (de) Induktiv-Typ Plasmabehandlungskammer
DE2441767A1 (de) Plasmaquelle grossen querschnittes und ionenbeschleuniger
DE4301188C2 (de) Vorrichtung zum Beschichten oder Ätzen von Substraten
DE69206543T2 (de) Elektronzyklotronresonanz-Ionenquelle mit koaxialer Zuführung elektromagnetischer Wellen.
EP0563609B1 (de) Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas mittels Kathodenzerstäubung und Mikrowelleneinstrahlung
DE10243406A1 (de) Plasmaquelle
DE69210501T2 (de) Elektroncyclotionresonanz-Ionenquelle vom Wellenleiter-Typ zur Erzeugung mehrfachgeladenen Ionen
DE1233955B (de) Ionenquelle