DE4340224C2 - Einrichtung zum Erzeugen von Plasma mittels Mikrowellenstrahlung - Google Patents
Einrichtung zum Erzeugen von Plasma mittels MikrowellenstrahlungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Erzeugen von Plasma mittels Mikrowellenbe
strahlung.
Die Verwendung von Plasmen zur Materialienbehandlung wird zunehmend wichtiger; eine
Begrenzung ihrer Anwendung stellt jedoch die relativ hohe Energiezufuhr, die zum Erzeu
gen des Plasmas erforderlich ist, und ebenso die hohe Temperatur der erzeugten aktivierten
Gase dar.
Bei vorhandenen Einrichtungen zum Erzeugen von Plasma mittels Mikrowellen wird Mi
krowellenbestrahlung gleichmäßig in einer Kammer benutzt, durch die ein Prozeßgas
strömt, das in einen Plasmazustand anzuregen ist. Die Energiedichte ist daher niedrig, wenn
nicht eine hohe elektrische Energiezufuhr angewendet wird, und hat daher einen geringen,
elektrischen Wirkungsgrad zur Folge.
Aus DE 39 12 569 A1 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Erzeugung eines elektri
schen Hochfrequenzfeldes in einem Nutzraum bekannt. In der größten Längsausdehnung des
Nutzraumes wird eine Phasenwellenlänge erzwungen, die in der Nähe der Längsausdehnung
des Nutzraumes oder darüber liegt, oder in dieser Richtung eine aperiodisch gedämpfte Welle
erzwungen, wobei die Hochfrequenzleistung dem gewünschten Feldverlauf entsprechend
weitgehend senkrecht zur Richtung der Längsausdehnung in den Nutzraum eingekoppelt ist.
Der Nutzraum befindet sich innerhalb eines Ankoppelraumes, der über seine gesamte Längs
ausdehnung wenigstens eine Koppelwand für Hf-Leistung aufweist und der mit einem Ver
teilerraum in Verbindung steht.
Aus US 3,778,656 ist eine Ionenquelle bekannt, die eine Mikrowellenresonanzkavität ver
wendet. Die Mikrowellenkavität wird in einem ihrer Resonanzmodi erregt und ein statisches
Magnetfeld wird auf die Elektronzyklotronresonanz eingestellt. Die Dichte des Plasmas ist in
der Nähe einer Öffnung zum Extrahieren von Ionen am größten und das statische Magnetfeld
ist im Wesentlichen null in der Nähe der Extraktionselektroden.
Aus DE 692 10 501 T2 ist eine Elektronzyklotronresonanz-Ionenquelle vom Wellenleitertyp
zur Erzeugung mehrfach geladener Ionen bekannt. Diese umfasst einen dichten Behälter, der
ein gasförmiges Medium einschließt, um ein Plasma zu bilden, das durch Elektronzyklotron
resonanz beschleunigte Elektronen enthält. Ein elektromagnetisches Feld höher oder gleich 6 GHz
wird in den Behälter eingebracht. Ein Magnetfeld axialer Ausrichtung wird in dem Be
hälter erzeugt. Permanentmagnete werden verwendet, um ein Magnetfeld in radialer Richtung
zu erzeugen.
Es ist Aufgabe der Erfindung, eine effizientere Einrichtung zum Erzeugen von Plasma mittels
Mikrowellenbestrahlung als bisher zu schaffen.
Gemäß der Erfindung ist diese Aufgabe bei einer Einrichtung zum Erzeugen von Plasma
mittels Mikrowellenbestrahlung nach dem Gegenstand des Anspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte
Weiterbildungen sind Gegenstand der auf den Anspruch 1 unmittelbar oder mittelbar rück
bezogenen Ansprüche.
Vorzugsweise sind die Elektroden im Querschnitt rund und der Durchgang ist eine axiale
Bohrung in der entsprechenden Elektrode.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform sind die Elektroden konisch, wobei eine von ihnen
in einem scharfkantigen Rand endet, und die andere eine axiale Bohrung mit einem solchen
Durchmesser ist, dass sie auch einen scharfkantigen Rand aufweist. Die Elektrode ohne die
axiale Bohrung kann mit einem spitzen mittleren Vorsprung versehen sein.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsformen unter Bezugnahme
auf die anliegenden Zeichnungen erläutert werden. Es zeigen
Fig. 1 einen Längsschnitt einer Ausführungsform gemäß der Erfindung, und
Fig. 2 einen Längsschnitt einer weiteren Ausführungsform gemäß der Erfindung ist.
In Fig. 1 weist eine Einrichtung zum Erzeugen von Plasma mittels Mikrowellenbestrahlung
eine Kammer 1 auf, die aus einem Glaszylinder 2 und zwei Endstücken 3 bzw. 4 besteht. Der
Glaszylinder 2 passt bzw. sitzt in ringförmigen Nuten 5, die in die Endstücke 3 und 4 der
Kammer 1 eingearbeitet sind; die Kammer 1 ist mittels O-Ringen 6 gasdicht gemacht. Der
Aufbau ist durch Klammern, die in Fig. 1 nicht dargestellt sind, zusammengehalten.
Die Endstücke 3 und 4 der Kammer 1 sind angepasst, um einen Teil
von Hohlleiter-Abschnitten 7 bzw. 8 zu bilden, die entsprechend
bemessen sind, um Mikrowellenenergie zu übertragen.
Der Hohlleiter-Abschnitt 7 ist mit einem nicht dargestellten
Mikrowellenerzeuger verbunden und der Hohlleiter-Abschnitt 8
weist einen abschließenden Kurzschluß 8' auf, der fest sein
kann, oder innerhalb des Hohlleitersabschnitts 8 zur Abstimmung
verschoben werden kann.
In den Endstücken 3 und 4 der Kammer 1 ist ein Paar feldver
stärkender Elektroden 9 bzw. 10 gehaltert.
Die Elektroden 9 und 10 haben eine konische Form und enden in
scharfen ringförmigen Spitzen. Die Elektrode 9 ist einstellbar,
so daß der Abstand 11 zwischen den Elektroden 9 und 10 verän
dert werden kann. Geeignete Abstände liegen im Bereich von 0,1
bis 0,5 mm. Die Elektrode 9 hat einen in ihr ausgebildeten Kanal
12, durch den ein Kühlmittel geleitet werden kann. Die Elektro
de 10, die mit dem Endstück 4 der Kammer 1 eine Einheit bildet,
hat einen in ihr ausgebildeten, axial verlauf enden Durchgang
13, durch den ein Prozeßgas, das in dem Zwischenraum 11 zwichen
den Elektroden 9 und 10 in einen Plasmazustand erregt worden
ist, aus der Kammer 1 entnommen werden kann. Eine Einlaßaöff
nung 14 für das Prozeßgas geht durch das Endstück 3 der Kammer
1 hindurch.
Das Endstück 4 der Kammer 1 ist hohl, so daß ein Kühlmittel
durch dies geleitet werden kann. Die Endstücke 3 und 4 der Kam
mer 1 und die Elektroden 9 und 10 sind aus rostfreiem Stahl
hergestellt. Sie können aus anderen Materialien, wie einer Alu
miniumlegierung hergestellt sein, wobei die scharfen Enden aus
Molybdän oder anderem feuerfesten Metall, wie Wolfram, beste
hen.
Die ringförmige Form der spitzen Enden der Elektroden 9 und 10
hat eine Anzahl Wirkungen. Erstens die normale elektrische
Feldverstärkung, zu der es kommt, wenn scharfe Spitzen einander
gegenüberliegen. Zweitens gibt es in der dargestellten Geome
trie, einen beträchtlichen Druckabfall in dem Prozeßgas, wenn
es durch den schmalen Zwischenraum 11 zwischen den Elektroden 9
und 10 strömt, bevor es in den Durchgang 13 in der Elektrode 10
eintritt. Dies macht es nicht nur leichter, das Prozeßgas in
dem Plasmazustand in dem Zwischenraum 11 und nicht irgendwo in
der Kammer 1 zu erregen, wo der Druck des Prozeßgases höher
ist, sondern der radiale Druckgradient im Bereich der Spitzen
begrenzt auch das Plasma auf den Bereich zwischen den Elektro
den 9 und 10. Ebenso bewirkt die dargestellte Geometrie, daß
das gesamte Prozeßgas während seines Durchgangs durch den Zwi
schenraum 11 zwischen den Elektroden 9 und 10 unter rechtem
Winkel zu dem maximalen elektrischen Feldbereich strömt; somit
ist die Effizienz zur Erregung des Prozeßgases in den Plasmazu
stand maximiert und so die zugeführte Energie verringert, die
zum Erzeugen von Plasma notwendig ist. Das kleine Entlade-Vo
lumen das von gut gekühlten Wänden umgeben ist,
bedeutet, daß die Plasmatemperatur relativ niedrig gehalten
wird, obwohl sie durch Elektronen, die in den hochelektrischen
Feldern beschleunigt worden sind, angeregt wurde. Ferner kann,
da sich die elektrische Feldverteilung im Betrieb der Vorrich
tung nicht sehr von der Feldverteilung unterscheidet, die exi
stiert, wenn kein Plasma vorhanden ist, die Vorrichtung selbst
umlaufend ausgeführt sein.
In Fig. 2 ist eine zweite Ausführungsform der Erfindung darge
stellt, deren Komponenten, die gleich den entsprechenden Kompo
nenten der ersten Ausführungsform sind, dieselben Bezugszeichen
haben.
In der in Fig. 2 dargestellten Ausführungsform der Erfindung ist
der Glaszylinder 5 durch einen Block 21 aus glasfaserverstärk
tem Polytetrafluorethylen ersetzt, obwohl auch andere inerte,
nicht-leitende Materialien verwendet werden können. Der Block
21 hat eine zylindrische Innenfläche 22 und einen Durchlaß 23,
der an einem Ende mit dem Gaseinlaß 14 verbunden ist und an dem
anderen Ende tangential zu der Innenfläche 22 des Blocks 21
verläuft. Somit strömt Gas tangential in die Kammer 1, die
durch den Block 21 und die Endstücke 3 und 4 gebildet ist, und
spiralförmig um die Elektroden 9 und 10, bevor es in dem Zwi
schenraum 11 zwischen den Elektroden 9 und 10 gelangt. Dieses
spiralförmige Strömungsmuster erhöht die Stabilität der elek
trischen Entladung zwischen den Elektroden 9 und 10, so daß bei
einer konsequenten Zunahme des Durchsatzes an aktiviertem Gas
Elektrodenspitzen mit größerem Durchmesser verwendet werden
können. Beispielsweise ermöglicht ein Durchmesser von 0,8 mm an
der Spitze und der Öffnung 24 des Durchgangs 13 in der Elektro
de 10 und ein Zwischenraum 11 von 0,2 mm von 100 shpm an akti
viertem Gas. Die Entladungsstabilität wird ferner mittels eines
mittleren Vorsprungs 25 am Ende der Elektrode 9 erhöht, und der
Gasstrom in die Öffnung 24 des Durchgangs 13 in der Elektrode
10 wird dadurch gesteigert, daß die Innenfläche 26 der Öffnung
24 trompetenförmig ausgebildet ist.
Die Elektrode 10 ist mit einer austauschbaren Spitze 27 verse
hen, und ein O-Ring 28 ist vorgesehen, um sicherzustellen, daß
keine Gasundichtigkeit entlang des Schraubengewindes 29 auf
tritt; dadurch wird die Lage der Elektrode 9 geändert, so daß
der Zwischenraum 11 zwischen den Elektroden 9 und 10 auf einen
gewünschten Wert eingestellt werden kann.
Claims (9)
1. Vorrichtung zum Erzeugen von Plasma mittels Mikrowellenbestrahlung, mit einer Kam
mer, die mit einem Hohlleitersystem verbunden ist, um elektromagnetische Strahlung im Mi
krowellenbereich des elektromagnetischen Spektrums zu übertragen, und mit einer Einlaßöff
nung, über welche ein in einen Plasmazustand anzuregendes Prozeßgas zugeführt werden
kann, wobei mindestens ein Paar feldverstärkender Elektroden (9, 10) vorgesehen ist, die
senkrecht zu der Ausbreitungsrichtung der Mikrowellenstrahlung durch die Kammer (1) an
geordnet sind, und wobei mindestens eine der Elektroden (10) des Elektrodenpaares (9, 10)
einen Durchgang (13) hat, der so ausgebildet ist, daß das angeregte Prozeßgas aus dem Be
reich der Kammer (1) zwischen den feldverstärkenden Elektroden (9, 10) extrahiert werden
kann.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden (9, 10) in
scharfkantigen Spitzen enden.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden (9, 10)
eine konische Form haben.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Spitzen ringförmig
sind.
5. Vorrichtung nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der
Durchgang (13) eine axiale Bohrung in der entsprechenden Elektrode (10) ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Spitze der Elektrode (9)
eines Elektrodenpaares (9, 10), die keine axiale Bohrung (13) aufweist, einen axialen spitz
zulaufenden Vorsprung (25) hat, der von einem scharfkantigen Ring umgeben ist.
7. Vorrichtung nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der
axiale Abstand (11) zwischen den Elektroden (9, 10) veränderlich ist.
8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die
Einlaßöffnung (14) so angeordnet ist, daß das Prozeßgas in die Kammer (1) des Generators
mit einer tangentialen Geschwindigkeitskomponente zugeführt wird.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der
Abstand zwischen den Elektroden (9, 10) in dem Bereich von 0,1 bis 0,5 mm liegt.
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8127 | New person/name/address of the applicant |
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|
8304 | Grant after examination procedure | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: QINETIQ LTD., LONDON, GB |
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8328 | Change in the person/name/address of the agent |
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R071 | Expiry of right | ||
R071 | Expiry of right |