DE2735299A1 - Elektrisch angeregter gaslaser - Google Patents

Elektrisch angeregter gaslaser

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Nikolaus Skribanowitz
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01S3/02Constructional details
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Description

  • Elektrisch angeregter Gaslaser
  • Die Erfindung befaßt sich mit speziellen Anregungsoethoden fur elektrisch angeregte Gaslaser, vorzugsweise CO2-Laser nach Patent (Anm. AZ P 26 08 830.2-33).
  • Die Erzeugung einer Besetzungsinversion bei Molekulschwingungszu stunden in elektrischen Entladungen ist nur möglich, wenn das aus Elektronen, Ionen, neutralen Molekülen und Atomen bestehende Plasma eine zwar hohe Elektronentexperatur, aber niedrige Gasteeperotur besitzt, d.h. ein thermodynamisches Ungleichgewicht zwischen dem Elektronengas einerseits und dem Molekulgas andererseits aufweist. Diese Voraussetzung ist im Bereich der sogenannten Glimmentladung erfullt. Bei Ubergang zu hohen Gasdichten und hohen Entladungsstromstörken treten Instabilitäten auf, die zu seitlichen Einschnürungen it den Charakter von Bogenentladungen fUhren, in denen eine Besetzungsinversion wegen der hohen Molekulgastemperatur nicht oehr zustande konvt. Die Stabilisierung einer Gli.mentladung kann durch Wechselwirkung mit den Wänden des Entladungsrau.es erfolgen und auch durch eine rasche Gasströmung, die lokale Erhitzung unterbindet. In einem ausgedehnten Volumen ist bei hoher Gasdichte eine Gleichfeldentladung nur in besonders durchdachten Anordnungen zu stabilisieren. Im Hauptpatent ist eine solche Gleichfeldentlodung in axialer oder radialer Richtung oder eine externe Anregung vorgesehen.
  • Aufgobe der Erfindung ist es, daruberhinour Entladungsformen und die dazu erforderlichen konstruktiven Einrichtungen zu schaffen, die höhere spezifische Leistungen ermöglichen.
  • Zum einen wird diese Aufgabe gelöst durch die Maßnahmen, die Gegenstand des Anspruchs 1 sind.
  • Eine hochfrequente Wechselfeldentladung bringt erhebliche Vorteile mit sich, da hierbei immer ein homogenes Plasma entsteht, sofern die elektrische Feldstörke homogen ist.
  • FUr die koaxialen Laserwellenleiter nach dem Hauptpatent ist gerade dieses von besonderem Nutzen, weil sich auf einfache Weise rotationssymmetrische HF-Felder erzeugen lassen, die den Laserbereich gleichmößig beaufschlogon.
  • In den Unteransprüchen sind die zwei grundsätzlichen Anordnungen, nämlich: die Verwendung einer Hochfrequenz-Koaxialleitung mit Frequenzen von MHz bis in den Gigahertzbereich und die Verwendung eines Mikrowellen Hohlraumresonators, der bevorzugt mit Wellen im Gigahertzbereich betrieben wird (Anspruch 5) aufgeführt.
  • Die Anordnung nach den Ansprüchen 6 und 7 arbeiten mit Gleichfeldentladungen, bevorzugt für leistungsstarke Wellenleiterlaser. Die Entladungen sind tangential gerichtet und werden von der axialen Gasströmung so stark aufgefächert, daß eine hohe elektrische Leistungsdichte erzielt wrd. Im Falle zweier gegenuberliegender itauptelektroden (Anspruch 7) muß Sorge getragen werden, daß die Entladung in beiden Rohrhälften gleichmäßig brennt; dies wird unter Abstimmung von Gasdruck und elektrischem Strom durch zwei Seitenelektroden erreicht, die zur Potentialsteuerung dienen.
  • Elektradengruppen dieser Art können zur Erhöhung dei Laser leistung in beliebiger Anzahl in axialer Richtung hintereinander ongeordnet werden.

Claims (8)

  1. Patentonspruche S Elektrisch angeregter Gaslaser, dessen Entladungsrau. von eng benachbarten Wänden so begrenzt ist, daß er fUr die sich darin aufbauende Loserstrohlung als Wellenleiter mit zwei äquidistonten Wellenleiterfldchen wirkt, deren Ausdehnung senkrecht zur Strahlrichtung groß gegen ihren Abstand ist und dessen Resonotorbegrenzung in Strahl richtung entweder durch unmittelbar an den Entlodungsroum sich anschließende ebene Spiegel oder durch konkav gekrümmte Spiegel in einige. Abstond vom Entladungsraum gebildet wird und wobei die Wellenleiterflöchen die Mantelflächen zweier konzentrischer Zylinder sind, nach Patent (ada. AZ P 26 08 830.2-33), dadurch gekennzeichnet, daß fUr die Anregung des Lasergoses hochfrequente elektro.ag netische Felder in den Wellenleiterraum eingekoppelt sind.
  2. 2. Laser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Wellenleiter fUr die Laserstrahlung konzentrisch innerhalb eines HF-Koaxialleiters angeordnet ist, der von einem HF-Sender gespeist ist.
  3. 3. Laser nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Wellenleiter fUr die Laserstrahlung und der HF-Koaxialleiter dieselben metallischen Innenleiter haben und der Außenleiter fUr die Laserstrahlung aus einem nichtleitenden dielektrischen Material besteht, dos innerhalb des Mikrowellenoußenleiters angeordnet ist.
  4. 4. Laser nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Begrenzungen des Wellenleiters fUr die Laserstrahlung aus einem nichtleitenden Dielektrikum bestehen.
  5. 5. Laser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der aus einem dielektrischen Material bestehende Wellenleiter fUr die Laserstrahlung innerhalb eines Mikrowellen-Hohlroumresonators angeordnet ist.
  6. 6. Laser nach Anspruch 1 und 3 der Hauptanmeldung (P 26 08 830 2-33), dadurch gekennzeichnet, daß das Gas durch elektrische Entladungen angeregt wird, die zwischen rodial angeordneten Elektroden brennen.
  7. 7. Laser nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, da13 die don Hauptstrom fUhrenden Elektroden sich gegenuberliegen und symmetrisch zur Verbindungslinie der beiden Elektroden zwei weitere Elektroden angebracht sind, die Uber cinen Widerstand elektrisch mit der negativen Hauptelektrode verbunden sind.
  8. 8. Laser nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere radiale Elektrodengruppen in axialer Kichtung getrennt voneinander angeordnet sind.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3316778C1 (de) * 1983-05-07 1984-10-18 W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau Gaslaser
EP0207455A2 (de) * 1985-07-01 1987-01-07 Siemens Aktiengesellschaft Gaslaseranordnung
DE3536770A1 (de) * 1985-10-16 1987-04-16 Heraeus Gmbh W C Gaslaser
US4939738A (en) * 1987-08-31 1990-07-03 Deutsche Forschung -Und Versuchsanstalt High-power waveguide laser
US4955035A (en) * 1987-03-14 1990-09-04 Deutsche Forschungs -Und Versuchsanstalt Fuer Luft- Und Raumfanrt Ev. Microwave-pumped, high-pressure, gas-discharge laser
US4961201A (en) * 1988-08-26 1990-10-02 Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft- Und Raumfahrt Waveguide configuration

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
D.Röss: Laser, 1966, S. 64 - 65 *
In Betracht gezogenes älteres Patent: DE-PS 26 08 830 *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3316778C1 (de) * 1983-05-07 1984-10-18 W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau Gaslaser
EP0207455A2 (de) * 1985-07-01 1987-01-07 Siemens Aktiengesellschaft Gaslaseranordnung
EP0207455A3 (de) * 1985-07-01 1988-12-07 Siemens Aktiengesellschaft Gaslaseranordnung
DE3536770A1 (de) * 1985-10-16 1987-04-16 Heraeus Gmbh W C Gaslaser
US4955035A (en) * 1987-03-14 1990-09-04 Deutsche Forschungs -Und Versuchsanstalt Fuer Luft- Und Raumfanrt Ev. Microwave-pumped, high-pressure, gas-discharge laser
US4939738A (en) * 1987-08-31 1990-07-03 Deutsche Forschung -Und Versuchsanstalt High-power waveguide laser
US4961201A (en) * 1988-08-26 1990-10-02 Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft- Und Raumfahrt Waveguide configuration

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