DE4431785A1 - Plasmagerät - Google Patents
PlasmagerätInfo
- Publication number
- DE4431785A1 DE4431785A1 DE4431785A DE4431785A DE4431785A1 DE 4431785 A1 DE4431785 A1 DE 4431785A1 DE 4431785 A DE4431785 A DE 4431785A DE 4431785 A DE4431785 A DE 4431785A DE 4431785 A1 DE4431785 A1 DE 4431785A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- plasma
- plasma device
- partition
- wall
- window
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32458—Vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32211—Means for coupling power to the plasma
- H01J37/32229—Waveguides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32211—Means for coupling power to the plasma
- H01J37/32238—Windows
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32357—Generation remote from the workpiece, e.g. down-stream
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32623—Mechanical discharge control means
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Plasmagerät mit einer Plasmakammer,
in der durch Einleitung elektromagnetischer Energie ein Plasma
erzeugbar ist. Plasmageräte dienen beispielsweise zur Bearbei
tung von Gegenständen und Materialien, als Ionenstrahlquelle
o. ä.. Im industriellen Maßstab ist es bekannt, Acetylen aus
Kohlenwasserstoffen im Plasma herzustellen. Bekannt ist ferner
die Herstellung von Reduktionsgasen, beispielsweise zur Reduk
tion von Eisenerzen. Mit Plasmen werden ferner metallische und
keramische Puder hergestellt, die dann ferner zur Plasmabe
schichtung von Gegenständen geeignet sind. Die Oberflächenbe
arbeitung von Gegenständen im Plasma kann ferner in Form einer
thermischen Härtung durchgeführt werden.
Bekannte Plasmageneratoren benutzen die Ausbildung eines
Lichtbogens zwischen zwei Elektroden zur Herstellung des Plas
mas, wobei mit Magnetfeldspulen die Plasmaausbildung beein
flußt werden kann. Bekannt ist ferner die elektrodenlose Aus
bildung eines Plasmas induktiv mit hochfrequenten elektro
magnetischen Wellen. Mit dieser Methode ist eine halbwegs
gleichmäßige Ausbildung des Plasmas in einem kleinen Raum,
beispielsweise in einer Entladungsröhre, erreichbar.
Die bekannten Plasmageneratoren erfordern einen erheblichen
Aufwand, was einer Bearbeitung von Gegenständen und Materia
lien mit dem Plasma in vielen Fällen aus Kostengründen ent
gegensteht. Ferner gelingt es mit den bekannten Plasmagenera
toren nicht, in größeren Plasmakammern eine einigermaßen
gleichmäßige Ausbildung des Plasmas zu erreichen.
Das Problem, in einer Plasmakammer mit einem einfachen Aufbau
ein leistungsfähiges und relativ gleichmäßiges Plasma zu er
zeugen, wird erfindungsgemäß mit einem Plasmagerät der ein
gangs erwähnten Art gelöst, das gekennzeichnet ist durch
- - einen rechteckigen Hohlleiter mit einem Hochfrequenzgene rator zur Erzeugung von Hochfrequenzenergie in dem Hohl leiter und mit einem seitlichen Fenster zur Auskopplung von Hochfrequenzenergie,
- - einen seitlich an den Hohlleiter anschließenden und mit diesem über das Fenster verbundenen Übertragungsraum, der sich parallel zur Plasmakammer erstreckt und
- - eine Trennwand zwischen dem Übertragungsraum und der Plasmakammer,
- - wobei die Verteilung der durch die Trennwand in die Plas makammer übertragenen Hochfrequenzenergie durch ein mit Durchgangsöffnungen versehenes metallisches Blech in der Trennwand und/oder eine angepaßte Geometrie des Übertra gungsraumes beeinflußbar ist.
Erfindungsgemäß wird die Anregungsenergie für das Plasma durch
einen Hochfrequenzgenerator in einem rechteckigen Hohlleiter
erzeugt. Bezüglich der Länge des Hohlleiters wird die Hochfre
quenzenergie, vorzugsweise Mikrowellenenergie, seitlich über
ein Fenster aus gekoppelt und gelangt in einen Über
tragungsraum, der vorzugsweise als mit metallischen Wänden
begrenzter Hohlraum ausgebildet ist. Der Übertragungsraum er
streckt sich parallel zur Plasmakammer, so daß die Trennwand
zwischen Plasmakammer und Übertragungsraum für beide eine
große Seitenwand bildet. Plasmakammer und Übertragungsraum
sind vorzugsweise etwa gleich lang und gleich breit ausgebil
det.
Die durch die Durchgangsöffnungen des metallischen Blechs der
Trennwand hindurchtretende, in die Plasmakammer gelangende
Hochfrequenzenergie kann in ihrer Verteilung über die Breite
und Länge der Plasmakammer durch eine geeignete Verteilung der
Durchgangsöffnungen gesteuert werden, so daß eine ungleich
mäßige Energieverteilung kompensiert werden kann.
Dieser Effekt kann ferner dadurch erreicht werden, daß der
Übertragungsraum eine angepaßte Geometrie aufweist. Diese Geo
metrie kann fest vorgegeben sein. Zweckmäßigerweise ist die
Geometrie des Übertragungsraumes einstellbar, vorzugsweise
dadurch, daß die der Trennwand gegenüberliegende Wand des
Übertragungsraums verschiebbar und/oder bezüglich ihrer Nei
gung relativ zur Trennwand einstellbar ist. Beispielsweise
wird die Neigung dieser Wand über die Breite der Übertragungs
kammer so ausgebildet, daß mit zunehmendem Abstand vom Fenster
der Abstand der verstellbaren Wand zur Trennwand geringer
wird, um somit eine ungleichmäßige Energieverteilung aufgrund
der verschieden langen Ausbreitungswege auszugleichen.
Die Plasmakammer und der Übertragungsraum sind im wesentlichen
als rechteckige Räume ausgebildet, wenn man von der möglichen
Schrägstellung der verstellbaren Wand des Übertragungsraums
gegenüber der Trennwand absieht.
Die Trennwand weist vorzugsweise zusätzlich zu dem metal
lischen Blech eine dielektrische Wand auf, die die Plasmakam
mer begrenzt, so daß das Plasma keinen unmittelbaren Kontakt
mit dem metallischen Blech aufweist. Ein direkter Kontakt des
Plasmas mit dem metallischen Blech würde Metallmoleküle frei
setzen, die das Plasma verunreinigen würden.
Das Fenster zwischen dem Hohlleiter und dem Übertragungsraum
kann mit einer mit zunehmendem Abstand vom Hochfrequenzgenera
tor über die Länge des Hohlleiters zunehmenden wirksamen Öff
nungsfläche ausgebildet sein, um so eine gleichmäßige seit
liche Energieauskopplung unabhängig vom Abstand vom Hochfre
quenzgenerator zu ermöglichen. Dabei kann sich das Fenster
stetig keilförmig oder unstetig treppenförmig vergrößern oder
auch mehrere aneinandergereihte Durchgangsöffnungen mit zuneh
mender Öffnungsfläche aufweisen.
Die Plasmakammer kann mit wenigstens einer bewegbaren, elek
trisch leitenden Wand in seiner Größe veränderbar sein, was
sich insbesondere für die Bearbeitung unterschiedlich großer
Gegenstände anbietet. Die bewegbare Wand liegt dabei vorzugs
weise der Trennwand gegenüber und kann als Hubtisch ausgebil
det sein.
Zur Erhöhung der Ionendichte kann die der Trennwand gegenüber
liegende Wand in an sich bekannter Weise mit einer Vielzahl
von Permanentmagneten bestückt sein.
Die Wand kann alternativ aus wenigstens einem Gitter gebildet
sein, so daß die Plasmakammer als Ionenquelle fungiert.
In allen Fällen kann es zweckmäßig sein, den Hochfrequenzgene
rator im Pulsbetrieb arbeiten zu lassen, wobei die Puls
frequenz des Hochfrequenzgenerators einstellbar ist, um so
eine einfache Leistungseinstellung für die Anregungsenergie
des Plasmas zu ermöglichen.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von in der Zeichnung
dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zei
gen:
Fig. 1 einen Schnitt durch eine erste Ausführungsform
eines erfindungsgemäßen Plasmageräts
Fig. 2 eine schematische perspektivische Ansicht des
Geräts gemäß Fig. 1
Fig. 3 eine Seitenansicht des Geräts gemäß Fig. 2 mit
einer anderen Ausführungsart des Fensters
Fig. 4 eine Seitenansicht gemäß Fig. 3 mit einer wei
teren Modifikation des Fensters
Fig. 5 eine Draufsicht auf ein Ausführungsbeispiel
eines metallischen Blechs zwischen Übertra
gungsraum und Plasmakammer
Fig. 6 eine Draufsicht auf eine andere Ausführungsform
des metallischen Bleches
Fig. 7 eine Darstellung gemäß Fig. 1 mit einer Anord
nung von Permanentmagneten an einer Wand der
Plasmakammer
Fig. 8 eine schematische Darstellung der Anordnung der
Permanentmagneten gemäß Fig. 7
Fig. 9 eine Darstellung gemäß Fig. 1 mit einer Aus
bildung einer Wand der Plasmakammer als Sieb
zur Bildung einer Ionenquelle.
Fig. 1 läßt einen rechteckigen Hohlleiter 1 erkennen, der
durch metallische Wände begrenzt ist. In einer bezüglich der
Längsrichtung des Hohlleiters kleinen Seitenwand befindet sich
ein Fenster 2, durch den eine Verbindung des Innenraums des
Hohlleiters 1 mit dem Innenraum eines kubischen metallischen
Gehäuses 3 hergestellt wird. In dem metallischen Gehäuse 3 ist
ein sich an den Innenraum des Hohlleiters 1 über das Fenster 2
anschließender Übertragungsraum 4 ausgebildet, der durch eine
um 90° zur Ebene des Fensters 2 gedrehte Trennwand 5 von einer
Plasmakammer 6 getrennt ist. Die Trennwand 5 besteht aus einem
metallischen Blech 7 und einer dielektrischen Wand 8, die bei
spielsweise durch eine Al₂O₃-Keramik oder eine Quarzplatte ge
bildet sein kann.
Gegenüberliegend von der Trennwand 5 und jenseits des Fensters
2 ist die Übertragungskammer 4 durch eine verschiebbare und
verstellbare metallische Wand 9 begrenzt. Die metallische Wand
9 ist in dem dargestellten Ausführungsbeispiel mit vier Ver
stellstäben 10 verbunden, mit denen die metallische Wand 9
sowohl in ihrem Abstand als auch in ihrer Neigung zur Trenn
wand 5 einstellbar ist.
Die Plasmakammer 6 ist auf der der Trennwand gegenüberliegen
den Seite durch eine metallische Wand 11 begrenzt, die paral
lel zur Trennwand 5 verschiebbar ausgebildet ist und so einen
Hubtisch 11a bildet.
Der Übertragungsraum 4 ist abgesehen von der Trennwand 5 und
der metallischen Wand 9 durch die Wände des kubischen Gehäuses
3 begrenzt. In gleicher Weise ist die Plasmakammer 6, abgese
hen von der Trennwand 5 und der metallischen Wand 11 ebenfalls
durch die metallischen Wände des kubischen metallischen Gehäu
ses 3 begrenzt.
Fig. 2 verdeutlicht, daß in dem Rechteckhohlleiter 1 ein
Hochfrequenzgenerator 12 angeordnet ist, dessen abgegebene
Hochfrequenzenergie aus dem Hohlleiter 1 über das Fenster 2
seitlich ausgekoppelt wird. Da die Hochfrequenzenergie des
Hochfrequenzgenerators 12 mit Abstand vom Hochfrequenzgenera
tor 12 abnimmt, ist in dem in Fig. 2 dargestellten Ausfüh
rungsbeispiel das Fenster 2 mit zunehmendem Abstand vom Hoch
frequenzgenerator 12 keilförmig verbreitert ausgebildet, um
mit zunehmendem Abstand eine stärkere Auskopplung der Hochfre
quenzenergie in den Übertragungsraum 4 zu gewährleisten.
Bei der in Fig. 3 dargestellten Ausführungsform des Fensters
2′ wird der gleiche Effekt durch eine stufenförmige Verbreite
rung des Fensters 2′ mit zunehmendem Abstand von dem Hochfre
quenzgenerator 12 erreicht.
Bei dem in Fig. 4 dargestellten Ausführungsbeispiel dient das
Fenster 2′′ dazu, eine bewußt ungleichmäßige Auskopplung von
Hochfrequenzenergie in den Übertragungsraum 4 vorzunehmen,
wodurch beispielsweise eine gezielte Abschwächung des Plasmas
über die Länge der Anordnung vorgenommen werden kann. Das Fen
ster 2′′ verbreitert sich mit zunehmendem Abstand von dem
Hochfrequenzgenerator 12 treppenförmig bis zur Mitte der Länge
des Gehäuses 3, um sich dann symmetrisch wieder zu verschmä
lern.
Die in den Übertragungsraum 4 (Fig. 1) ausgekoppelte Hochfre
quenzenergie tritt durch die Trennwand 5 in die Plasmakammer 6
ein, um dort das Plasma zu zünden. Die Anregungsenergie wird
bezüglich der Energieverteilung vergleichmäßigt durch eine
geeignete Einstellung der Neigung der einstellbaren metal
lischen Wand 9 mit Hilfe der Verstellstäbe 10. Durch eine Ver
stellung der Wand 9 kann ferner die Intensität der in die
Plasmakammer 6 eingeleiteten Energie beeinflußt werden.
Eine weitere Beeinflussung der räumlichen Verteilung der in
die Plasmakammer 6 eingeleiteten Hochfrequenzenergie erfolgt
durch das metallische Blech 7, das zu diesem Zweck mit syste
matisch verteilten Durchgangsöffnungen 13 versehen sein kann.
Bei dem in Fig. 5 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die
Durchgangsöffnungen 13 als kreisförmige Öffnungen 14 ausgebil
det, wobei die näher zum Fenster 2 liegenden Öffnungen 14
einen kleineren Durchmesser aufweisen als die jeweils entfern
ter liegenden Öffnungen 14. Auf diese Weise dann ebenfalls
eine ungleichmäßige Energieverteilung aufgrund der verschieden
langen Ausbreitungswege ausgeglichen werden.
Bei dem in Fig. 6 dargestellten Ausführungsbeispiel wird der
gleiche Effekt durch unterschiedlich breite Längsschlitze 15
in dem metallischen Blech erreicht.
Die in die Plasmakammer eingeleitete Anregungsenergie für das
Plasma läßt sich daher in ihrer räumlichen Verteilung bei dem
erfindungsgemäßen Plasmagerät in mehrfacher Weise beeinflus
sen, nämlich
- - durch eine entsprechende Formgebung des Fensters 2, 2′, 2′′,
- - durch die Einstellung des Abstandes und gegebenenfalls der Neigung der verstellbaren Wand 9 relativ zur Trenn wand 5 und
- - durch räumlich ungleichmäßige Beeinflussung der Kopplung zwischen Übertragungsraum 4 und Plasmakammer 6 mit Hilfe der Durchgangsöffnungen 13 im metallischen Blech 7 der Trennwand 5.
Hinzu kommt die Möglichkeit, die Intensität der Anregungsener
gie dadurch zu variieren, daß der Hochfrequenzgenerator 12 im
Pulsbetrieb betrieben wird und seine Pulsfrequenz variierbar
ist. Auf diese Weise ist es beispielsweise möglich, für einen
durch den Hubtisch 11 a verkleinerte Plasmakammer 6 auch nur
die benötigte geringere Anregungsenergie zur Verfügung zu
stellen.
Fig. 7 und 8 zeigen, daß die verstellbare Wand 11 der
Plasmakammer mit einer Vielzahl von Permanentmagneten 16 ver
sehen sein kann, durch die die Ionendichte in der Plasmakammer
6 erhöht und insbesondere bei niedrigem Druck in der Plasma
kammer 6 der Zündvorgang erleichtert werden kann. Fig. 8
zeigt eine geeignete Verteilung der Permanentmagneten 16 an
der Unterseite der Wand 11.
Bei dem in Fig. 9 dargestellten Ausführungsbeispiel besteht
die Wand 11′ der Plasmakammer 6 aus Gitterwänden und erlaubt
den Durchtritt von Ionen, so daß die Plasmakammer 6 als groß
flächige Ionenquelle fungiert.
Claims (18)
1. Plasmagerät mit einer Plasmakammer (6), in der durch Ein
leitung elektromagnetischer Energie ein Plasma erzeugbar
ist, gekennzeichnet durch
- - einen rechteckigen Hohlleiter (1) mit einem Hochfre quenzgenerator (12) zur Erzeugung von Hochfrequenz energie in dem Hohlleiter und mit einem seitlichen Fenster (2, 2′, 2′′) zur Auskopplung von Hochfre quenzenergie,
- - einen seitlich an den Hohlleiter (1) anschließenden und mit diesem über das Fenster (2, 2′, 2′′) verbun denen Übertragungsraum (4), der sich parallel zur Plasmakammer (6) erstreckt und
- - eine Trennwand (5) zwischen dem Übertragungsraum (4) und der Plasmakammer (6),
- - wobei die Verteilung der durch die Trennwand (5) in die Plasmakammer (6) übertragenen Hochfrequenzener gie durch ein mit Durchgangsöffnungen (13) versehe nes metallisches Blech (7) in der Trennwand (5) und/oder eine angepaßte Geometrie des Übertragungs raumes (4) beeinflußbar ist.
2. Plasmagerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der Übertragungsraum (4) ein Hohlraum mit metallischen
Wänden ist.
3. Plasmagerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die der Trennwand gegenüberliegende Wand (9) bezüglich
ihrer Neigung und/oder ihrem Abstand relativ zur Trennwand
(5) einstellbar ist.
4. Plasmagerät nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß die mit dem Fenster (2, 2′, 2′′) verse
hene Wand und die ihr gegenüberliegende Wand kleiner als
die Trennwand (5) und die ihr gegenüberliegende Wand (9)
sind.
5. Plasmagerät nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Trennwand (5) aus dem metallischen
Blech (7) und einer dielektrischen Wand (8) gebildet ist.
6. Plasmagerät nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Plasmakammer (6) durch die dielektrische Wand (8) be
grenzt ist, an die sich zum Übertragungsraum (4) hin das
metallische Blech (7) anschließt.
7. Plasmagerät nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Fläche der Durchgangsöffnungen (13)
pro Flächeneinheit des metallischen Bleches (7) mit zuneh
mendem Abstand vom Fenster (2, 2′, 2′′) zunehmend ausge
bildet ist.
8. Plasmagerät nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Fenster (2, 2′, 2′′) des Hohlleiters
(1) mit einer mit zunehmendem Abstand vom Hochfrequenzge
nerator (12) über die Länge des Hohlleiters (1) zunehmen
den wirksamen Öffnungsfläche ausgebildet ist.
9. Plasmagerät nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
sich das Fenster (2) stetig keilförmig vergrößert.
10. Plasmagerät nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
sich das Fenster (2′) unstetig treppenförmig vergrößert.
11. Plasmagerät nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
das Fenster mehrere aneinandergereihte Durchgangsöffnungen
mit zunehmender Öffnungsfläche aufweist.
12. Plasmagerät nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Plasmakammer (6) mit wenigstens
einer bewegbaren, elektrisch leitenden Wand (11) in seiner
Größe veränderbar ist.
13. Plasmagerät nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
die bewegbare Wand (11) der Trennwand (5) gegenüber liegt.
14. Plasmagerät nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeich
net, daß die bewegbare Wand (11) als Hubtisch ausgebildet
ist.
15. Plasmagerät nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die der Trennwand (5) gegenüberlie
gende Wand (11) mit einer Vielzahl von Permanentmagneten
(16) bestückt ist.
16. Plasmagerät nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die der Trennwand (5) gegenüberlie
gende Wand (11′) wenigstens eine Gitterwand aufweist, so
daß die Plasmakammer (6) als Ionenquelle fungiert.
17. Plasmagerät nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß der Hochfrequenzgenerator (12) im
Pulsbetrieb arbeitet und daß die Pulsfrequenz einstellbar
ist.
18. Plasmagerät nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß der Hochfrequenzgenerator (12) ein
Mikrowellengenerator ist.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4431785A DE4431785A1 (de) | 1994-04-11 | 1994-09-07 | Plasmagerät |
PCT/DE1995/000487 WO1995027998A1 (de) | 1994-04-11 | 1995-04-08 | Plasmagerät |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19949405808 DE9405808U1 (de) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | Plasma-Bearbeitungsgerät |
DE4431785A DE4431785A1 (de) | 1994-04-11 | 1994-09-07 | Plasmagerät |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4431785A1 true DE4431785A1 (de) | 1995-10-12 |
Family
ID=6907040
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19949405808 Expired - Lifetime DE9405808U1 (de) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | Plasma-Bearbeitungsgerät |
DE4431785A Withdrawn DE4431785A1 (de) | 1994-04-11 | 1994-09-07 | Plasmagerät |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19949405808 Expired - Lifetime DE9405808U1 (de) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | Plasma-Bearbeitungsgerät |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (2) | DE9405808U1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0777257A1 (de) * | 1995-10-30 | 1997-06-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Bearbeitungsgerät mittels Mikrowellen-angeregtes Plasma |
WO1997028555A1 (de) * | 1996-02-02 | 1997-08-07 | Wu Jeng Ming | Elektromagnetisches hochfrequenz- oder mikrowellengerät |
CN115831702A (zh) * | 2023-02-06 | 2023-03-21 | 江苏邑文微电子科技有限公司 | 一种多功能高温反应装置及其在SiCMOFSET制备中的应用 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995027998A1 (de) * | 1994-04-11 | 1995-10-19 | Wu Jeng Ming | Plasmagerät |
EP0702393A3 (de) * | 1994-09-16 | 1997-03-26 | Daihen Corp | Plasmabearbeitungsgerät zur Mikrowellen-Einstrahlung aus einem rechteckigen Wellenleiter durch einem langgestrekten Schlitz in der Plasmakammer |
DE19600223A1 (de) * | 1996-01-05 | 1997-07-17 | Ralf Dr Dipl Phys Spitzl | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasmen mittels Mikrowellen |
JP2002280196A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-27 | Micro Denshi Kk | マイクロ波を利用したプラズマ発生装置 |
-
1994
- 1994-04-11 DE DE19949405808 patent/DE9405808U1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-09-07 DE DE4431785A patent/DE4431785A1/de not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0777257A1 (de) * | 1995-10-30 | 1997-06-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Bearbeitungsgerät mittels Mikrowellen-angeregtes Plasma |
WO1997028555A1 (de) * | 1996-02-02 | 1997-08-07 | Wu Jeng Ming | Elektromagnetisches hochfrequenz- oder mikrowellengerät |
CN115831702A (zh) * | 2023-02-06 | 2023-03-21 | 江苏邑文微电子科技有限公司 | 一种多功能高温反应装置及其在SiCMOFSET制备中的应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE9405808U1 (de) | 1994-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0878020B1 (de) | Elektromagnetisches hochfrequenz- oder mikrowellengerät | |
EP0511492B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung oder Beschichtung von Substraten | |
EP1287548B1 (de) | Plasmaätzanlage | |
DE19503205C1 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma | |
EP2849204B1 (de) | Plasmaerzeugungsvorrichtung | |
DE4136297A1 (de) | Vorrichtung zur lokalen erzeugung eines plasmas in einer behandlungskammer mittels mikrowellenanregung | |
EP0839928A1 (de) | Remote-Plasma-CVD-Verfahren | |
WO2000035256A1 (de) | Vorrichtung zur erzeugung eines freien kalten plasmastrahles | |
DE7228091U (de) | Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator | |
EP1290926B1 (de) | Hochfrequenz-plasmaquelle | |
DE2837594A1 (de) | Vorrichtung zur mikro-bearbeitung mittels ionenerosion | |
DE4431785A1 (de) | Plasmagerät | |
DE102011111884B3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von thermodynamisch kaltem Mikrowellenplasma | |
DE10120405B4 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung eines Niedertemperatur-Plasmas | |
DD263648B5 (de) | Einrichtung zur erzeugungs eines Mikrowellenplasmas mit grosser Ausdehnung und Homogenitaet | |
DE102018113444B3 (de) | Lineare Mikrowellen-Plasmaquelle mit getrennten Plasmaräumen | |
DE69907687T2 (de) | Plasmabearbeitungsvorrichtung mit elektrisch leitender Wand | |
EP1252647B1 (de) | Einkoppelanordnung für mikrowellenenergie mit impedanzanpassung | |
DE19955671B4 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma | |
DE2735299C2 (de) | Elektrisch angeregter Gaslaser | |
WO1995027998A1 (de) | Plasmagerät | |
DE29800950U1 (de) | Plasmarektor mit Prallströmung zur Oberflächenbehandlung | |
DE10008482A1 (de) | Hochfrequenz-Plasmaquelle | |
EP1401249A2 (de) | Plasmaquelle | |
DE2450131C3 (de) | Stehwellen-Linear-Beschleuniger |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |