DE69934863T2 - Akustisches Oberfächenwellenfilter zur Verbesserung der Flachheit des Durchlassbereichs und Verfahrung zur Herstellung desselben - Google Patents

Akustisches Oberfächenwellenfilter zur Verbesserung der Flachheit des Durchlassbereichs und Verfahrung zur Herstellung desselben Download PDF

Info

Publication number
DE69934863T2
DE69934863T2 DE69934863T DE69934863T DE69934863T2 DE 69934863 T2 DE69934863 T2 DE 69934863T2 DE 69934863 T DE69934863 T DE 69934863T DE 69934863 T DE69934863 T DE 69934863T DE 69934863 T2 DE69934863 T2 DE 69934863T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
piezoelectric substrate
interdigital transducer
comb
port saw
wave filter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69934863T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69934863D1 (de
Inventor
c/o I.P.D.Murata Manuf. CO.Ltd. Norio Nagaokakyo-shi Taniguchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of DE69934863D1 publication Critical patent/DE69934863D1/de
Publication of DE69934863T2 publication Critical patent/DE69934863T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/64Filters using surface acoustic waves
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/64Filters using surface acoustic waves
    • H03H9/6423Means for obtaining a particular transfer characteristic
    • H03H9/6433Coupled resonator filters
    • H03H9/6483Ladder SAW filters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Oberflächenwellenfilter, das beispielsweise ein Bandpassfilter definiert. Insbesondere bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine Struktur eines Oberflächenwellenfilters (SAW-Filters; SAW = Surface Acoustic Wave), bei dem eine Mehrzahl von Ein-Tor-Oberflächenwellenresonatoren (Ein-Tor-SAW-Resonatoren) verbunden sind, um eine Leiterschaltung zu definieren, und ein Verfahren zum Herstellen desselben.
  • Beschreibung der verwandten Technik
  • Herkömmlicherweise wurde ein SAW-Filter häufig als ein Bandpassfilter verwendet. In der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 56-19765 beispielsweise ist ein SAW-Filter vorgesehen, das eine Anordnung aufweist, derart, dass eine Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren eine Leiterschaltung bilden.
  • Mit Bezug auf 13 und 14 wird eine Beschreibung des oben erwähnten SAW-Filters mit einer Leiterschaltungsstruktur geliefert. Bei dem SAW-Filter von 13 und 14 sind ein Reihenarm zum Verbinden eines Eingangsendes und eines Ausgangsendes und ein Parallelarm zum Verbinden des Reihenarms und eines Referenzpotentials vorgesehen. Ein Ein-Tor-SAW-Resonator S1, der einen Reihenarmresonator definiert, ist mit dem Reihenarm verbunden und ein Ein-Tor-SAW-Resonator P1, der einen Parallelarmresonator definiert, ist mit dem Parallelarm verbunden. In 13 sind lediglich ein Reihenarmresonator und ein Parallelarmresonator gezeigt. Die Anzahl von Reihenarmresonatoren und Parallelarmresonatoren, die in dem Filter enthalten sind, ist jedoch durch die erwünschten Filtercharakteristika bestimmt.
  • Mit Bezug auf 14 weist der herkömmliche Ein-Tor-SAW-Resonator eine Elektrodenstruktur auf, derart, dass ein Interdigitalwandler (IDT = Interdigital Transducer) 51 einen Reflektor 52 an einer ersten Seite desselben und einen Reflektor 53 an einer zweiten Seite desselben aufweist, die alle an einem piezoelektrischen Substrat (nicht gezeigt) angeordnet sind.
  • Der IDT 51 weist ein Paar von Sammelschienen 54 und 55 auf, die sich entlang einer Richtung erstrecken, in die sich eine Oberflächenwelle ausbreitet. Die Sammelschiene 54 ist mit einem Ende von jedem einer Mehrzahl von Elektrodenfingern 56 verbunden. Die Elektrodenfinger 56 erstrecken sich in eine Richtung, die senkrecht zu der Richtung ist, in die sich eine Oberflächenwelle ausbreitet, mit anderen Worten in eine Richtung zu der Sammelschiene 55 an der gegenüberliegenden Seite der Sammelschiene 54 hin. Gleichermaßen ist die Sammelschiene 55 mit einem Ende von jedem einer Mehrzahl von Elektrodenfingern 57 verbunden. Die Mehrzahl von Elektrodenfingern 57 erstrecken sich zu der Sammelschiene 54 hin. Die Elektrodenfinger 56 und 57 sind angeordnet, um ineinander zu greifen.
  • Eine Mehrzahl der obigen Ein-Tor-SAW-Resonatoren sind angeordnet, um die Leiterschaltung zu bilden, wie es in 13 gezeigt ist, um ein SAW-Filter zu definieren. 15 zeigt die Dämpfung-Frequenz-Charakteristika des SAW-Filters.
  • Da das SAW-Filter, das die Leiterschaltungsstruktur aufweist, einen geringen Einfügungsverlust liefert und ein breites Durchlassband aufweist, wurden SAW-Filter häufig als Bandpassfilter bei zellulären Telefonen oder anderen ähnlichen Geräten verwendet.
  • Es ist zu beachten, dass in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 6-232682 ein Ein-Tor-SAW-Resonator vorgesehen ist, bei dem ein LiTaO3-Substrat als das piezoelektrische Substrat verwendet wird. In dieser ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung ist offenbart, dass, falls das Verhältnis zwischen der Elektrodenfinger-Querlänge (Apertur) eines IDT und der Zwischenraumbreite zwischen einer Sammelschiene und dem oberen Ende des Elektrodenfingers, der mit der anderen Sammelschiene verbunden ist, auf größere Werte gesetzt ist, die Wirkung einer Welligkeit, die zwischen der Resonanzfrequenz und der Antiresonanzfrequenz auftritt, unterdrückt werden kann.
  • Obwohl das herkömmliche SAW-Filter, das eine Leiterschaltungsstruktur mit einer Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren (wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 56-19765 offenbart) aufweist, einen geringen Einfügungsverlust und ein breites Durchlassband aufweist, ist die Flachheit der Filtercharakteristika innerhalb des Durchlassbands unangemessen. Genauer gesagt ist der Einfügungsverlust in der Mitte des Durchlassbands geringer als an den Schulterenden des Durchlassbands.
  • Ferner bewirkt bei dem oben erwähnten SAW-Filter aufgrund des LiTaO3-Substrats die Welligkeit, die zwischen der Resonanzfrequenz und der Antiresonanzfrequenz auftritt, unerwünschte Filtercharakteristika. Mit Bezug auf 16 zeigt der Graph die Impedanz-Frequenz-Charakteristika eines herkömmlichen Ein-Tor-SAW-Resonators, wenn derselbe an dem LiTaO3-Substrat angeordnet ist. Wie es durch den Pfeil A angegeben ist, tritt die Welligkeit zwischen der Resonanzfrequenz und der Antiresonanzfrequenz auf. Weil ferner das herkömmliche SAW-Filter eine Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren kombiniert, um Filtercharakteristika zu liefern, tritt, wenn die Welligkeit in einem der Ein-Tor-SAW-Resonatoren auftritt, eine Welligkeit ferner bei den Filtercharakteristika des SAW-Filters auf, das der Frequenz der Welligkeiten bei den Ein-Tor-SAW-Resonatoren entspricht. Mit Bezug auf 17, die die Dämpfung-Frequenz-Charakteristika des oben erwähnten SAW-Filters zeigt, erscheint somit die Welligkeit an der niederfrequenten Schulter des Durchlassbands des SAW-Filters, wie es durch den Pfeil B angegeben ist. Das Erscheinen der Welligkeit ist erheblich, weil die Wirkung der Welligkeit den Einfügungsverlust an der niederfrequenten Seite des Durchlassbands erhöht, so dass die Flachheit des Durchlassbands noch schlechter wird.
  • Es ist zu beachten, dass gemäß dem SAW-Filter der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 56-19765 ein Einfügungsverlust bei der Mitte des Durchlassbands geringer als bei den Schultern des Durchlassbands ist, so dass die Flachheit des Durchlassbands einer erheblichen Verbesserung bedarf. Wenn ein LiTaO3-Substrat als das piezoelektrische Substrat verwendet wird, ist die Flachheit des Durchlassbands aufgrund der Welligkeiten, die durch die SAW-Resonatoren erzeugt werden, noch schlechter.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Um die oben beschriebenen Probleme zu überwinden, schaffen bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung ein SAW-Filter, das die Flachheit der Filtercharakteristika innerhalb des Durchlassbands stark verbessert.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst ein SAW-Filter eine Mehrzahl von Interdigitalwandlern, die an einem piezoelektrischen Substrat angeordnet sind, um eine Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren zu definieren, wobei die Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren verbunden sind, um eine Leiterschaltung zu bilden, die einen Reihenarm und zumindest zwei Parallelarme aufweist. Jeder der Mehrzahl der Ein-Tor-SAW-Resonatoren umfasst eine erste und eine zweite kammförmige Elektrode. Die erste und die zweite kammförmige Elektrode, von denen jede eine Mehrzahl von Elektrodenfingern und eine Sammelschiene aufweist, die mit ersten Enden der Mehrzahl von Elektrodenfingern verbunden ist, greifen ineinander, so dass zweite Enden der Mehrzahl von Elektrodenfingern der ersten kammförmigen Elektrode sich zu der Sammelschiene der zweiten kammförmigen Elektrode hin erstrecken, um einen Interdigitalwandler zu definieren. Ein Zwischenraum zwischen der Sammelschiene der ersten kammförmigen Elektrode und den zweiten Enden der Elektrodenfinger, die mit der Sammelschiene der zweiten kammförmigen Elektrode des Ein-Tor-SAW-Resonators verbunden sind, der an einem der zumindest zwei Parallelarme verbunden ist, unterscheidet sich von dem entsprechenden Zwischenraum bei dem anderen Ein-Tor-SAW-Resonator, der mit dem anderen der zumindest zwei Parallelarme verbunden ist.
  • Als eine Folge dieser einzigartigen Struktur ist bei der Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren, die die Parallelarmresonatoren definieren, die Frequenz der Welligkeiten, die zwischen der Resonanzfrequenz und der Antiresonanzfrequenz auftreten, gleichmäßig verteilt. Folglich ist die Frequenz der Welligkeit in dem Durchlassband des SAW-Filters selbst verteilt und somit ist die Flachheit des Durchlassbands stark verbessert.
  • Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel beträgt der Zwischenraum bei dem IDT des Ein-Tor-SAW-Resonators, der an einem der zumindest zwei Parallelarme verbunden ist, vorzugsweise etwa 0,5λ oder mehr, wobei λ die Wellenlänge einer Oberflächenwelle ist, die an dem piezoelektrischen Substrat angeregt wird. In diesem Fall ist es unwahrscheinlich, dass der Verlust an der Schulter der niederfrequenten Seite des Durchlassbands des SAW-Filters auftritt, so dass die Steilheit der Filtercharakteristika an der niederfrequenten Seite des Durchlassbands erhöht ist. Wenn ferner der Zwischenraum vorzugsweise innerhalb des Bereichs von etwa 1,0λ bis etwa 5,0λ gesetzt ist, ist die Frequenz der Welligkeit bei dem Ein-Tor-SAW-Resonator noch höher, so dass die Welligkeitsfrequenz um die Mitte des Durchlassbands herum gesetzt ist.
  • Deshalb ist bei dem SAW-Filter von bevorzugten Ausführungsbeispielen der Einfügungsverlust bei der Mitte und bei beiden Schultern des Durchlassbands in etwa der gleiche. Somit ist die Flachheit der Filtercharakteristika in dem Durchlassband stark verbessert. Wenn ein LiTaO3-Substrat als das piezoelektrische Substrat verwendet wird, erscheint zusätzlich die Welligkeit zwischen der Resonanzfrequenz und der Antiresonanzfrequenz. Bei bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung ist es folglich bevorzugt, ein LiTaO3-Substrat als das Substrat zu verwenden, weil die vorliegende Erfindung positiven Gebrauch von der Welligkeit macht, um die Flachheit der Filtercharakteristika in dem Durchlassband zu verbessern.
  • Andere Merkmale, Elemente und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden unten mit Bezug auf bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung und die beigefügten Zeichnungen detailliert beschrieben.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Die vorliegende Erfindung wird aus der detaillierten Beschreibung, die hierin unten abgegeben wird, und den zugehörigen Zeichnungen klarer, die lediglich durch eine Veranschaulichung gegeben sind und somit die vorliegende Erfindung nicht einschränken und bei denen:
  • 1A ein Schaltungsdiagramm eines SAW-Filters gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigt;
  • 1B eine Draufsicht ist, die die Elektrodenstruktur eines Ein-Tor-SAW-Resonators darstellt, der bei dem SAW-Filter des in 1A gezeigten bevorzugten Ausführungsbeispiels verwendet wird;
  • 2 ein Graph ist, der die Beziehung zwischen der Zwischenraumbreite W2 zwischen einer Sammelschiene und einem Ende der Elektrodenfinger bei einem Ein-Tor-SAW-Resonator und der Frequenz einer Welligkeit zwischen einer Resonanzfrequenz und einer Antiresonanzfrequenz bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigt;
  • 3 ein Graph ist, der die Impedanz-Frequenz-Charakteristika eines Ein-Tor-SAW-Resonators P1 bei dem in 1A gezeigten bevorzugten Ausführungsbeispiel zeigt;
  • 4 ein Graph ist, der die Impedanz-Frequenz-Charakteristika eines Ein-Tor-SAW-Resonators P2 bei dem in 1A gezeigten bevorzugten Ausführungsbeispiel zeigt;
  • 5 ein Graph ist, der die Dämpfung-Frequenz-Charakteristika des SAW-Filters des ersten experimentellen Beispiels von bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung und diese eines SAW-Filters zeigt, das für einen Vergleich mit bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung vorbereitet wurde;
  • 6 ein Schaltungsdiagramm eines SAW-Filters gemäß einem zweiten experimentellen Beispiel von bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung zeigt;
  • 7 ein Graph ist, der die Impedanz-Frequenz-Charakteristika eines Ein-Tor-SAW-Resonators P1 des zweiten experimentellen Beispiels zeigt, das in 6 gezeigt ist;
  • 8 ein Graph ist, der die Impedanz-Frequenz-Charakteristika eines Ein-Tor-SAW-Resonators P2 des zweiten experimentellen Beispiels zeigt, das in 6 gezeigt ist;
  • 9 ein Graph ist, der die Impedanz-Frequenz-Charakteristika eines Ein-Tor-SAW-Resonators P3 des zweiten experimentellen Beispiels zeigt, das in 6 gezeigt ist;
  • 10 ein Graph ist, der die Dämpfung-Frequenz-Charakteristika des SAW-Filters des zweiten experimentellen Beispiels von bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung und diese eines SAW-Filters zeigt, das für einen Vergleich mit bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung vorbereitet wurde;
  • 11 ein Schaltungsdiagramm ist, das einen Duplexer gemäß einem anderen bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigt;
  • 12 ein Blockdiagramm ist, das eine Kommunikationsvorrichtung gemäß noch einem anderen bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigt;
  • 13 ein Schaltungsdiagramm eines herkömmlichen SAW-Filters ist, das eine Leiterschaltungsstruktur aufweist;
  • 14 eine Draufsicht ist, die die Elektrodenstruktur eines Ein-Tor-SAW-Resonators zeigt, der bei dem herkömmlichen SAW-Filter verwendet wird;
  • 15 ein Graph ist, der die Dämpfung-Frequenz-Charakteristika des herkömmlichen SAW-Filters zeigt;
  • 16 ein Graph ist, der die Impedanz-Frequenz-Charakteristika des herkömmlichen Ein-Tor-SAW-Resonators zeigt;
  • 17 ein Graph ist, der die Dämpfung-Frequenz-Charakteristika des herkömmlichen SAW-Filters zeigt; und
  • 18 eine Draufsicht zum Darstellen der Beziehung zwischen der Zwischenraumbreite und der Ineinandergriffbreite der Elektrodenfinger bei dem herkömmlichen Ein-Tor-SAW-Resonator ist.
  • Detaillierte Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele
  • 1A zeigt eine Schaltungsstruktur eines SAW-Filters gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. 1B ist eine Draufsicht, die die Elektrodenstruktur eines Ein-Tor-SAW-Resonators zeigt, der bei dem vorliegenden bevorzugten Ausführungsbeispiel enthalten ist.
  • Mit Bezug auf 1A weist das SAW-Filter des bevorzugten Ausführungsbeispiels eine Leiterschaltungsstruktur auf. Das heißt, ein Reihenarm ist vorzugsweise zwischen einem Eingangsende EIN und einem Ausgangsende AUS positioniert und eine Mehrzahl von Parallelarmen sind vorzugsweise zwischen dem Reihenarm und Referenzpotentialen positioniert.
  • Ein-Tor-SAW-Resonatoren S1 und S2 sind Reihenarmresonatoren, die mit dem Reihenarm verbunden sind. Die Ein-Tor-SAW-Resonatoren P1 und P2 sind jeweils Parallelarmresonatoren, die mit jedem der Parallelarme verbunden sind. Wie es in 1A gezeigt ist, sind zusätzlich die Parallelarmresonatoren und die Reihenarmresonatoren von dem Eingangsende EIN zu dem Ausgangsende AUS hin abwechselnd angeordnet. Die Anzahl von Reihenarmresonatoren und Parallelarmresonatoren bei der vorliegenden Erfindung sollte jedoch nicht auf diese des bevorzugten Ausführungsbeispiels begrenzt sein, das in 1A und 1B gezeigt ist, und es kann irgendeine Anzahl oder Kombination von Reihenarmresonatoren und Parallelarmresonatoren verwendet werden. Es ist beispielsweise möglich, eine Struktur zu verwenden, die lediglich einen Reihenarmresonator oder drei oder mehr Reihenarmresonatoren aufweist. Gleichermaßen sollte die Anzahl von Parallelarmresonatoren nicht begrenzt sein, solange es zumindest zwei Parallelarme in der Struktur gibt.
  • Mit Bezug auf 1B wird eine Beschreibung der Elektrodenstruktur der Ein-Tor-SAW-Resonatoren S1, S2, P1 und P2 geliefert. Bei dem Ein-Tor-SAW-Resonator sind Reflektoren 2 und 3 vorzugsweise jeweils auf jeder Seite des IDT 1 vorzugsweise in eine Richtung, in die sich eine Oberflächenwelle in dem IDT 1 ausbreitet, positioniert.
  • Der IDT 1 umfasst vorzugsweise ein Paar von kammförmigen Elektroden 10 und 11. Die kammförmige Elektrode 10 umfasst eine Mehrzahl von Elektrodenfingern 6 und eine Sammelschiene 4, die mit ersten Enden der Elektrodenfinger 6 verbunden ist. Die kammförmige Elektrode 11 umfasst eine Mehrzahl von Elektrodenfingern 7 und eine Sammelschiene 5, die mit ersten Enden der Elektrodenfinger 7 verbunden ist. Die kammförmigen Elektroden 10 und 11 greifen vorzugsweise ineinander, so dass zweite Enden der Elektrodenfinger 6 bzw. 7 der kammförmigen Elektrode 10 bzw. 11 sich zu der Sammelschiene 5 bzw. 4 der kammförmigen Elektrode 11 bzw. 10 erstrecken.
  • Zusätzlich sind die Reflektoren 2 und 3 vorzugsweise aus Gitterreflektoren hergestellt, bei denen beide Enden einer Mehrzahl von Elektrodenfingern, die in den Reflektoren 2 und 3 vorgesehen sind, vorzugsweise kurzgeschlossen sind.
  • Bei dem Ein-Tor-SAW-Resonator wird, wenn eine Wechselsignalspannung zwischen die Elektrodenfinger 6 und 7 angelegt ist, der IDT 1 angeregt und wird eine Oberflächenwelle erzeugt. Die Oberflächenwelle ist zwischen den Reflektoren 2 und 3 eingegrenzt, so dass die Resonanzcharakteristika basierend auf der Oberflächenwelle extrahiert werden können.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung unterscheidet sich bei einem IDT 1 der Ein-Tor-SAW-Resonatoren, der das SAW-Filter bildet, das die Leiterschaltung definiert, der Zwischenraum W2 zwischen der Sammelschiene 4 oder 5 der kammförmigen Elektrode 10 oder 11 und den zweiten Enden der Elektrodenfinger 7 oder 6, die mit der Sammelschiene 5 oder 4 der kammförmigen Elektrode 11 oder 10 eines parallelen Ein-Tor-SAW-Resonators verbunden sind, von dem entsprechenden Zwischenraum W2 bei dem anderen Ein-Tor-SAW-Resonator, der mit dem anderen Parallelarm verbunden ist. Der Unterschied bei den Zwischenraumbreiten W2 ermöglicht, dass die Flachheit der Filtercharakteristika in dem Durchlassband stark verbessert ist. Wie dies geschieht, wird unten erläutert.
  • In der oben erwähnten ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 6-232682 ist ein Verfahren zum Reduzieren einer Welligkeit, die zwischen einer Resonanzfrequenz und einer Antiresonanzfrequenz bei dem Ein-Tor-SAW-Resonator existiert, unter Verwendung eines piezoelektrischen Substrats, das aus LiTaO3 hergestellt ist, offenbart. 18 zeigt die Elektrodenstruktur des Ein-Tor-SAW-Resonators, der im Stand der Technik beschrieben ist. Es ist darauf hinzuweisen, dass in 18 ein Reflektor 52, der an einer Seite eines IDT 51 angeordnet ist, gezeigt ist, aber ein Reflektor, der an der anderen Seite des IDT 51 angeordnet ist, nicht gezeigt ist.
  • Im Stand der Technik ist bekannt, dass der Einfluss einer Welligkeit, die zwischen einer Resonanzfrequenz und einer Antiresonanzfrequenz existiert, verringert werden kann, wenn das Verhältnis W1/W2 erhöht wird. Mit anderen Worten besteht das herkömmliche Verfahren darin, die Zwischenraumbreite W2 kleiner als die Ineinandergreifbreite W1 zu machen, weil dies das Auftreten einer oberflächengeführten Volumenwelle (SSBW = Surface Skimming Bulk Wave) reduziert, so dass der Einfluss der oben erwähnten Welligkeit stark verringert ist.
  • Wie es in dem obigen Stand der Technik beschrieben ist, wird das Auftreten einer SSBW als unerwünscht betrachtet, weil dieselbe die Charakteristika eines SAW-Resonators verschlechtert, so dass es deshalb im Stand der Technik erwünscht ist, die Zwischenraumbreite W2 so klein wie möglich zu machen.
  • Im Gegensatz dazu verwenden bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung die Welligkeit so viel wie möglich, so dass erhebliche Verbesserungen bei den Filtercharakteristika erreicht werden. Mit anderen Worten verwenden bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung die Welligkeit auf positive Weise im Gegensatz zu herkömmlicher Weisheit und herkömmlichen Vorrichtungen, die versuchen, die Welligkeit an einem Auftreten zu hindern. Die vorliegende Erfindung macht von der Welligkeit, die durch einen SAW-Resonator erzeugt wird, durch ein Erzeugen einer Mehrzahl von Welligkeiten unter Verwendung einer Mehrzahl von SAW-Resonatoren Gebrauch, um die Welligkeiten in dem Durchlassband eines SAW-Filters zu verteilen. Auf diese Weise verbessern bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung die Flachheit des Durchlassbands bei dem SAW-Filter stark.
  • Die bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung liefern einen empirischen Beweis, dass bei dem Ein-Tor-SAW-Resonator ein Festmachen der Ineinandergreifbreite W1 und Verändern lediglich der Zwischenraumbreite W2 ermöglicht, dass die Frequenz der Welligkeit ohne weiteres gesteuert werden kann.
  • Mit Bezug auf 2 zeigt der Graph die Beziehung zwischen der Zwischenraumbreite W2 bei dem Ein-Tor-SAW-Resonator und der Frequenz der Welligkeit, die zwischen der Resonanzfrequenz und der Antiresonanzfrequenz auftritt. Die Frequenzen Δf/f0, die durch die vertikale Achse angegeben sind, sind standardisierte Werte, wobei Δf die Differenz zwischen der Frequenz, bei der eine Welligkeit auftritt, und der Resonanzfrequenz f0 des SAW-Resonators angibt. Wie es in 2 gezeigt ist, verändert ein Verändern der Zwischenraumbreite W2 die Frequenz, bei der die Welligkeit auftritt.
  • Somit werden bei dem SAW-Filter, das eine Leiterschaltungsstruktur aufweist, erwünschte hervorragende Filtercharakteristika durch ein Kombinieren der Resonanzcharakteristika einer Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren erreicht. Durch ein Unterschiedlichmachen der Zwischenraumbreite W2 bei den Resonatoren in dem SAW-Filter untereinander ist folglich ermöglicht, dass die Frequenzen, bei denen die Welligkeiten auftreten, innerhalb des Durchlassbands verteilt werden. Falls beispielsweise die Zwischenraumbreite W2 bei einem Ein-Tor-SAW-Resonator, der mit einem Parallelarm verbunden ist, sich von der entsprechenden Zwischenraumbreite bei dem Ein-Tor-SAW-Resonator unterscheidet, der mit dem anderen Parallelarm verbunden ist, ist die Frequenz der oben erwähnten Welligkeit, die in dem Durchlassband des SAW-Filters auftritt, verteilt, so dass die Flachheit des Durchlassbands stark verbessert ist.
  • Wenn zusätzlich die Zwischenraumbreite W2 etwa 0,5λ oder mehr beträgt, ist die Frequenz der Welligkeit höher, so dass der Verlust an der Schulter der niederfrequenten Seite des Durchlassbands unterdrückt ist, was die Steilheit an der niederfrequenten Seite des Durchlassbands erhöht.
  • Wenn ferner die Zwischenraumbreite W2 etwa 1,0λ oder mehr beträgt, ist die Frequenz der Welligkeit noch höher, so dass die Welligkeit um die Mitte des Durchlassbands herum erscheint. Bei dem herkömmlichen SAW-Filter jedoch, das die Leiterschaltung aufweist, ist ein Einfügungsverlust bei der Mitte des Durchlassbands geringer als an den Schultern des Durchlassbands. Durch ein Bewegen der Welligkeit zu ungefähr der Mitte des Durchlassbands wird deshalb der Einfügungsverlust um die Mitte des Durchlassbands herum erhöht, so dass bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung die Flachheit der Filtercharakteristika in dem Durchlassband stark verbessern.
  • Es ist zu beachten, dass, falls die Zwischenraumbreite W2 des Ein-Tor-SAW-Resonators, der mit einem Parallelarm verbunden ist, übermäßig ist, ein Einfügungsverlust bei Frequenzen, die von der Welligkeitsfrequenz beabstandet sind, manchmal verschlechtert ist. Um somit eine Erhöhung des Einfügungsverlusts zu verhindern, ist es bevorzugt, die Zwischenraumbreite W2 auf etwa 5,0λ oder weniger zu setzen. Somit ist vorzugsweise die Zwischenraumbreite W2 innerhalb des Bereichs von etwa 0,5λ bis etwa 5,0λ und bevorzugter in dem Bereich von etwa 1,0λ bis etwa 5,0λ gesetzt.
  • Als Nächstes wird eine Beschreibung der detaillierten experimentellen Beispiele des SAW-Filters von bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung geliefert.
  • 1. Erstes experimentelles Beispiel
  • Ein LiTaO3-Substrat, das eine 36°Y-Schnitt-X-Ausbreitung aufweist, wird als ein piezoelektrisches Substrat verwendet. Einzelne Ein-Tor-SAW-Resonatoren und Elektroden, die mit denselben verbunden sind, sind an dem Substrat vorgesehen. Al wird verwendet, um die Ein-Tor-SAW-Resonatoren zu definieren, sowie zum Verbinden der Elektroden.
  • Die Ein-Tor-SAW-Resonatoren S1 und S2, die Reihenarmresonatoren definieren, und die Ein-Tor-SAW-Resonatoren P1 und P2, die Parallelarmresonatoren definieren, sind jeweils wie folgt gebildet.
  • (1) Der Ein-Tor-SAW-Resonator P1 (ein Parallelarmresonator)
  • Die Anzahl von Paaren von Elektrodenfingern ist gleich 40, die Ineinandergreifbreite der Elektrodenfinger beträgt etwa 80 μm (20λ), die Zwischenraumbreite W2 bei dem IDT beträgt etwa 0,25λ und die Anzahl von Elektrodenfingern in einem Reflektor ist gleich 100.
  • (2) Der Ein-Tor-SAW-Resonator P2 (ein Parallelarmresonator)
  • Die Anzahl von Paaren von Elektrodenfingern ist gleich 40, die Ineinandergreifbreite der Elektrodenfinger beträgt etwa 160 μm (40λ), die Zwischenraumbreite W2 beträgt etwa 1,5λ und die Anzahl der Elektrodenfinger in einem Reflektor ist gleich 100.
  • (3) Der Ein-Tor-SAW-Resonator S1 (ein Reihenarmresonator)
  • Die Anzahl von Paaren der Elektrodenfinger beträgt 80, die Ineinandergreifbreite der Elektrodenfinger beträgt etwa 40 μm (10,5λ) und de Anzahl der Elektrodenfinger in einem Reflektor beträgt 100.
  • (4) Der Ein-Tor-SAW-Resonator S2 (ein Reihenarmresonator)
  • Die Anzahl von Paaren der Elektrodenfinger beträgt 80, die Ineinandergreifbreite der Elektrodenfinger beträgt etwa 80 μm (21λ) und die Anzahl der Elektrodenfinger in einem Reflektor beträgt 100.
  • Mit Bezug auf 3 zeigt der Graph die Impedanz-Frequenz-Charakteristika des Ein-Tor-SAW-Resonators P1, der wie oben beschrieben gebildet ist. Gleichermaßen ist 4 ein Graph, der die Impedanz-Frequenz-Charakteristika des Ein-Tor-SAW-Resonators P2 zeigt, der wie oben beschrieben gebildet ist. Es ist zu beachten, dass die Frequenz der Welligkeit A1 (3) des Ein-Tor-SAW-Resonators P1 sich von der Frequenz der Welligkeit A2 (4) des Ein-Tor- SAW-Resonators P2 unterscheidet. Somit kann das Auftreten der Welligkeit bei den SAW-Resonatoren manipuliert werden, so dass dieselbe vorteilhaft überall in dem Durchsatzband des SAW-Filters verteilt ist. Auf diese Weise verbessern bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung die Flachheit in dem Durchlassband des SAW-Filters stark.
  • Mit Bezug auf 5 zeigt die durchgezogene Linie in dem Graphen die Dämpfung-Frequenz-Charakteristika des SAW-Filters des ersten experimentellen Beispiels. Zum Vergleich zeigt die gestrichelte Linie die Filtercharakteristika eines SAW-Filters, das in der gleichen Weise wie das oben beschriebene erste experimentelle Beispiel gebildet ist, außer dass die Zwischenraumbreiten W2 bei den Ein-Tor-SAW-Resonatoren P1 und P2 beide auf etwa 1,0λ gesetzt sind.
  • Aus 5 ist deutlich, dass, wenn die Zwischenraumbreiten W2 bei den Ein-Tor-SAW-Resonatoren P1 und P2 unterschiedlich sind und falls ferner die Zwischenraumbreite W2 des Ein-Tor-SAW-Resonators P2 zumindest auf etwa 1,0λ gesetzt ist, die Flachheit innerhalb des Durchlassbands stark verbessert ist und auch die Steilheit der Filtercharakteristika bei der niederfrequenten Schulter des Durchlassbands stark verbessert ist. Es ist zu beachten, dass, selbst wenn ein LiTaO3-Substrat einen anderen Schnittwinkel als einen 36°Y-Schnitt aufweist, die gleichen Vorteile erhalten werden können.
  • 2. Zweites experimentelles Beispiel
  • Mit Bezug auf 6 ist ein SAW-Filter vorgesehen; das eine Leiterschaltung aufweist, wobei die Ein-Tor-SAW-Resonatoren S1 und S2 Reihenarmresonatoren definieren und die Ein-Tor-SAW-Resonatoren P1 bis P3 Parallelarmresonatoren definieren. Es ist zu beachten, dass das SAW-Filter bei dem zweiten experimentellen Beispiel in der gleichen Weise wie das erste experimentelle Beispiel hergestellt ist, jeweils unter Verwendung eines 36°Y-Schnitt-X-Ausbreitung-LiTaO3-Substrats. Die Struktur der SAW-Resonatoren bei dem zweiten experimentellen Beispiel ist jedoch wie folgt.
  • (1) Der Ein-Tor-SAW-Resonator P1 (ein Parallelarmresonator)
  • Die Anzahl von Paaren der Elektrodenfinger beträgt 40, die Ineinandergreifbreite der Elektrodenfinger beträgt etwa 80 μm (20λ), die Zwischenraumbreite W2 beträgt etwa 1,0λ und die Anzahl der Elektrodenfinger in einem Reflektor beträgt 100.
  • (2) Der Ein-Tor-SAW-Resonator P2 (ein Parallelarmresonator)
  • Die Anzahl von Paaren der Elektrodenfinger beträgt 80, die Ineinandergreifbreite der Elektrodenfinger beträgt etwa 200 μm (50λ), die Zwischenraumbreite W2 beträgt etwa 1,5λ und die Anzahl der Elektrodenfinger in einem Reflektor beträgt 100.
  • (3) Der Ein-Tor-SAW-Resonator P3 (ein Parallelarmresonator)
  • Die Anzahl von Paaren der Elektrodenfinger beträgt 40, die Ineinandergreifbreite der Elektrodenfinger beträgt etwa 80 μm (20λ), die Zwischenraumbreite W2 beträgt etwa 2,0λ und die Anzahl der Elektrodenfinger in einem Reflektor beträgt 100.
  • (4) Die Ein-Tor-SAW-Resonatoren S1 und S2 (Reihenarmresonatoren)
  • Die Anzahl von Paaren der Elektrodenfinger beträgt 80, die Ineinandergreifbreite der Elektrodenfinger beträgt etwa 40 μm (10,5λ) und die Anzahl der Elektrodenfinger in einem Reflektor beträgt 100.
  • Mit Bezug auf 7 bis 9 zeigen die Graphen die Impedanz-Frequenz-Charakteristika der jeweiligen Ein-Tor-SAW- Resonatoren P1 bis P3 gemäß dem zweiten experimentellen Beispiel. Wie es aus 7 bis 9 deutlich ist, sind die Frequenzen der Welligkeiten A3 bis A5, die zwischen der Resonanzfrequenz und der Antiresonanzfrequenz der Ein-Tor-SAW-Resonatoren P1 bis P3 auftreten, alle unterschiedlich. Somit sind die Positionen, bei denen die Welligkeiten auftreten, durch das ganze Durchlassband des SAW-Filters verteilt.
  • Mit Bezug auf 10 gibt die durchgezogene Linie die Impedanz-Frequenz-Charakteristika des SAW-Filters gemäß dem zweiten experimentellen Beispiel an. Die gestrichelte Linie zeigt die Impedanz-Frequenz-Charakteristika des SAW-Filters, das zum Vergleich bei dem ersten experimentellen Beispiel vorbereitet ist. Aus 10 weisen die Filtercharakteristika des SAW-Filters des zweiten experimentellen Beispiels eine stark verbesserte Flachheit in der Durchlassbandregion auf. Es gibt eine verbesserte Flachheit, weil die Zwischenraumbreiten W2 der Ein-Tor-SAW-Resonatoren P1 bis P3 sich alle voneinander unterscheiden, so dass die Welligkeiten, die durch die SAW-Resonatoren P1 bis P3 erzeugt werden, in dem Durchlassband des SAW-Filters verteilt sind. Ferner ist bei dem zweiten experimentellen Beispiel die Zwischenraumbreite W2 größer als bei dem ersten experimentellen Beispiel, so das die Flachheit der Filtercharakteristika in dem Durchlassband sogar noch weiter verbessert ist.
  • Es ist zu beachten, dass, selbst falls ein LiTaO3-Substrat mit einem anderen Schnitt als einem 36°Y-Schnitt verwendet wird, die gleichen Vorzüge wie bei den experimentellen Beispielen erhalten werden können. Bei anderen bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung kann zusätzlich ein Substrat verwendet werden, das aus anderen piezoelektrischen Materialien hergestellt ist. Genauer gesagt können andere bevorzugte Ausführungsbeispiele ein piezoelektrisches Substrat verwenden, das aus einem piezoelektrischen Einkristallsubstrat hergestellt ist, wie beispielsweise einem LiNbO3-Substrat, oder ein piezoelektrisches Substrat, das aus einem piezoelektrischen Keramikmaterial hergestellt ist, wie beispielsweise Bleizirkonat oder Bleititanat. Ferner kann ein piezoelektrisches Substrat verwendet werden, das durch ein Aufbringen eines piezoelektrischen Dünnfilms auf ein isoliertes Substrat hergestellt ist. Es ist jedoch bevorzugt, dass ein LiTaO3-Substrat als das piezoelektrische Substrat verwendet wird, weil dasselbe eine Verschlechterung der Flachheit bei den Filtercharakteristika aufgrund der Welligkeiten besser verhindern kann.
  • Die vorliegende Erfindung kann geeignet auf verschiedene elektronische Teile oder Vorrichtungen angewandt werden, die ein Oberflächenwellenfilter verwenden, und ein Duplexer und eine Kommunikationsvorrichtung, die einen Duplexer aufweisen, können eine der Anwendungen sein, bei denen die einzigartigen Merkmale der vorliegenden Erfindung erfolgreich eingesetzt werden.
  • Wie es in 11 gezeigt ist, weist ein Duplexer 40 ein SAW-Filter 41 und ein SAW-Filter 42 auf, die unterschiedliche Mittenfrequenzen eines Durchlassbands zueinander aufweisen. Die SAW-Filter 41 und 42, die in 11 gezeigt sind, sind identisch mit dem SAW-Filter, das in 6 gezeigt ist, aber es können andere SAW-Filter gemäß der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden. Bei dem Duplexer 40 sind ein Eingangsanschluss 43 des SAW-Filters 41 und ein Eingangsanschluss 44 des SAW-Filters 42 elektrisch mit einem ersten Eingang/Ausgang-Anschluss 45 des Duplexers 40 verbunden. Die Masseanschlüsse der SAW-Filter 41 und 42 sind gemeinsam verbunden, um geerdet zu sein. Der Ausgangsanschluss 46 des SAW-Filters 41 und der Ausgangsanschluss 47 des SAW-Filters 42 sind mit einem zweiten Eingang/Ausgang-Anschluss 48 bzw. einem dritten Eingang/Ausgang-Anschluss 49 des Duplexers 40 verbunden.
  • Der Duplexer 40 weist eine hervorragende Signalselektivität auf, weil die SAW-Filter 41 und 42 die Steilheit an dem hohen Ende des Durchlassbands derselben aufweisen. Da zusätzlich andere Komponenten, wie beispielsweise Kondensatoren, nicht erforderlich sind, kann der Duplexer 40 einen kleinen Körper aufweisen.
  • 12 ist ein Blockdiagramm einer Kommunikationsvorrichtung 50, die den Duplexer 40 aufweist. Die Kommunikationsvorrichtung 50 kann z. B. ein zelluläres Telefon sein, da ein zelluläres Telefon, das gewöhnlich ein schmales Kommunikationsband und einen kleinen handlichen Körper erfordert, geeignet ist, um die zuvor erwähnten Vorzüge des Duplexers 40 zu genießen. Die Kommunikationsvorrichtung 50 weist eine Antenne 51, einen Empfänger 52 und einen Sender 53 auf, die mit dem ersten, dem zweiten und dem dritten Eingang/Ausgang-Anschluss des Duplexers 40 verbunden sind. Die Durchlassbänder der SAW-Filter 41 und 42 des Duplexers 40 sind ausgewählt, derart, dass die Signale, die durch die Antenne 51 empfangen werden, das SAW-Filter 41 durchlaufen und durch das SAW-Filter 42 blockiert werden, und dass die Signale, die von dem Sender 53 gesendet werden sollen, das SAW-Filter 42 durchlaufen.
  • Während die Erfindung mit Bezug auf bevorzugte Ausführungsbeispiele derselben speziell gezeigt und beschrieben wurde, ist Fachleuten auf dem Gebiet ersichtlich, dass die vorhergehenden und andere Veränderungen an Form und Details an derselben vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzbereich der Erfindung abzuweichen, der in den beigefügten Ansprüchen definiert ist.

Claims (22)

  1. Ein Oberflächenwellenfilter, das folgende Merkmale aufweist: ein piezoelektrisches Substrat; eine Mehrzahl von Interdigitalwandlern, die an dem piezoelektrischen Substrat angeordnet sind, um eine Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren zu definieren, wobei die Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren verbunden sind, um eine Leiterschaltung zu bilden, die einen Reihenarm und zumindest einen ersten Parallelarm und einen zweiten Parallelarm aufweist, wobei jeder der Mehrzahl von Interdigitalwandlern (1) eine erste und eine zweite kammförmige Elektrode (10, 11) umfasst, von denen jede eine Mehrzahl von Elektrodenfingern (6, 7) und eine Sammelschiene (4, 5) aufweist, die mit ersten Enden der Mehrzahl von Elektrodenfingern (6, 7) verbunden ist, wobei die erste und die zweite kammförmige Elektrode (10, 11) ineinander greifen, so dass zweite Enden der Mehrzahl von Elektrodenfingern (6) der ersten kammförmigen Elektrode (10) sich zu der Sammelschiene (5) der zweiten kammförmigen Elektrode (11) hin erstrecken, um den jeweiligen Interdigitalwandler zu definieren; dadurch gekennzeichnet, dass der Interdigitalwandler (1) des Ein-Tor-SAW-Resonators (P1), der an dem ersten Parallelarm verbunden ist, angeordnet ist, derart, dass ein Zwischenraum zwischen der Sammelschiene (4) der ersten kammförmigen Elektrode (10) und den zweiten Enden der Elektrodenfinger (7), die mit der Sammelschiene (5) der zweiten kammförmigen Elektrode (11) verbunden sind, sich von einem entsprechenden Zwi schenraum bei dem Interdigitalwandler (1) des Ein-Tor-SAW-Resonators (P2) unterscheidet, der mit dem zweiten Parallelarm verbunden ist.
  2. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem der Zwischenraum bei dem Interdigitalwandler, der mit dem Parallelarm verbunden ist, in etwa 0,5λ oder mehr beträgt, wobei λ die Wellenlänge einer Oberflächenwelle ist, die an dem piezoelektrischen Substrat angeregt wird.
  3. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem der Zwischenraum bei dem Interdigitalwandler des Ein-Tor-SAW-Resonators, der an dem Parallelarm verbunden ist, in dem Bereich von etwa 1,0λ bis etwa 5,0λ liegt, wobei λ die Wellenlänge einer Oberflächenwelle ist, die an dem piezoelektrischen Substrat angeregt wird.
  4. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem die Zwischenräume bei dem Interdigitalwandler von jedem der Ein-Tor-SAW-Resonatoren (P1, P2, P3), die an jedem der Parallelarme verbunden sind, alle unterschiedlich sind und bei dem der Zwischenraum von jedem der Ein-Tor-SAW-Resonatoren (P1, P2, P3), die an jedem der Parallelarme verbunden sind, in dem Bereich von etwa 1,0λ bis etwa 5,0λ liegt, wobei λ die Wellenlänge einer Oberflächenwelle ist, die an dem piezoelektrischen Substrat angeregt wird.
  5. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem die Zwischenräume bei dem Interdigitalwandler von jedem der Ein-Tor-SAW-Resonatoren (P1, P2, P3), die an jedem der Parallelarme verbunden sind, alle unterschiedlich sind und bei dem der Zwischenraum von jedem der Ein-Tor-SAW-Resonatoren (P1, P2, P3), die an jedem der Parallelarme verbunden sind, größer als etwa 0,5λ ist, wobei λ die Wellenlänge einer Oberflächenwelle ist, die an dem piezoelektrischen Substrat angeregt wird.
  6. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem das piezoelektrische Substrat ein LiTaO3-Substrat ist.
  7. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem das piezoelektrische Substrat ein LiNbO3-Substrat ist.
  8. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem das piezoelektrische Substrat aus einem piezoelektrischen Keramikmaterial hergestellt ist.
  9. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem das piezoelektrische Substrat einen piezoelektrischen Dünnfilm an einem isolierenden Substrat umfasst.
  10. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem zumindest einer der Ein-Tor-SAW-Resonatoren ferner einen ersten und einen zweiten Reflektor (2, 3) aufweist, die an dem piezoelektrischen Substrat angeordnet sind, derart, dass der erste Reflektor (2) sich benachbart zu dem Interdigitalwandler (1) an einer Seite des Interdigitalwandlers (1) befindet und sich der zweite Reflektor (3) benachbart zu dem Interdigitalwandler (1) an der anderen Seite des Interdigitalwandlers (1) befindet.
  11. Ein Oberflächenwellenfilter gemäß Anspruch 1, bei dem die Leiterschaltung eine Mehrzahl von Reihenarmen (S1, S2) und Parallelarmen (P1, P2, P3) aufweist, derart, dass die Reihenarme (S1, S2) und die Parallelarme (P1, P2, P3) abwechselnd positioniert sind.
  12. Ein Verfahren zum Herstellen eines Oberflächenwellenfilters, das folgende Schritte aufweist: Bereitstellen eines piezoelektrischen Substrats; Bilden einer Mehrzahl von Interdigitalwandlern, die an dem piezoelektrischen Substrat angeordnet sind, um eine Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren zu definieren, wobei die Mehrzahl von Ein-Tor-SAW-Resonatoren verbunden sind, um eine Leiterschaltung zu bilden, die einen Reihenarm und zumindest einen ersten Parallelarm und einen zweiten Parallelarm aufweist, wobei jeder der Mehrzahl von Interdigitalwandlern (1) eine erste und eine zweite kammförmige Elektrode (10, 11) umfasst, von denen jede eine Mehrzahl von Elektrodenfingern (6, 7) und eine Sammelschiene (4, 5) aufweist, die mit ersten Enden der Mehrzahl von Elektrodenfingern (6, 7) verbunden ist, wobei die erste und die zweite kammförmige Elektrode (10, 11) ineinander greifen, so dass zweite Enden der Mehrzahl von Elektrodenfingern (6) der ersten kammförmigen Elektrode (10) sich zu der Sammelschiene (5) der zweiten kammförmigen Elektrode (11) hin erstrecken, um den jeweiligen Interdigitalwandler zu definieren; und gekennzeichnet durch den weiteren Schritt eines Erzeugens eines Zwischenraums in zumindest einem der Mehrzahl von Interdigitalwandlern, derart, dass der Zwischenraum zwischen der Sammelschiene (4) der ersten kammförmigen Elektrode (10) und den zweiten Enden der Elektrodenfinger (7) existiert, die mit der Sammelschiene (5) der zweiten kammförmigen Elektrode (11) verbunden sind, und wobei der Zwischenraum in dem Interdigitalwandler des SAW-Resonators (P1), der mit dem ersten Parallelarm verbunden ist, unterschiedlich zu einem entsprechenden Zwischenraum des Interdigitalwandlers des SAW-Resonators (P2) ist, der mit dem zweiten Parallelarm verbunden ist.
  13. Das Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem das piezoelektrische Substrat ein LiTaO3-Substrat ist.
  14. Das Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem der Zwischenraum in dem Interdigitalwandler, der mit dem Parallelarm verbunden ist, in dem Bereich von etwa 1,0λ bis etwa 5,0λ liegt, wobei λ die Wellenlänge einer Oberflächenwelle ist, die an dem piezoelektrischen Substrat angeregt wird.
  15. Das Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem der Zwischenraum in dem Interdigitalwandler, der mit dem Parallelarm verbunden ist, größer als etwa 5,0λ ist, wobei λ die Wellenlänge einer Oberflächenwelle ist, die an dem piezoelektrischen Substrat angeregt wird.
  16. Das Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem das piezoelektrische Substrat ein LiNbO3-Substrat ist.
  17. Das Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem das piezoelektrische Substrat ein piezoelektrisches Keramikmaterial ist.
  18. Das Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem jeder der Mehrzahl der SAW-Resonatoren (P1, P2, P3), die mit jedem der Parallelarme verbunden sind, eine Welligkeit erzeugt, die in einem Durchlassband des SAW-Filters verteilt ist.
  19. Das Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem zumindest einer der Ein-Tor-SAW-Resonatoren ferner einen ersten und einen zweiten Reflektor (2, 3) aufweist, die an dem piezoelektrischen Substrat angeordnet sind, derart, dass der erste Reflektor (2) sich benachbart zu dem Interdigitalwandler (1) an einer Seite des Interdigitalwandlers (1) befindet und sich der zweite Reflektor (3) benachbart zu dem Interdigitalwandler (1) an der anderen Seite des Interdigitalwandlers (1) befindet.
  20. Das Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem die Leiterschaltung eine Mehrzahl von Reihenarmen (S1, S2) und Parallelarmen (P1, P2, P3) aufweist, derart, dass die Reihenarme (S1, S2) und die Parallelarme (P1, P2, P3) abwechselnd positioniert sind.
  21. Ein Duplexer (40), der ein Paar von Oberflächenwellenfiltern (41, 42) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 11 aufweist.
  22. Eine Kommunikationsvorrichtung (50), die einen Duplexer (40) gemäß Anspruch 21 aufweist.
DE69934863T 1998-11-25 1999-11-25 Akustisches Oberfächenwellenfilter zur Verbesserung der Flachheit des Durchlassbereichs und Verfahrung zur Herstellung desselben Expired - Lifetime DE69934863T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33426798A JP3161439B2 (ja) 1998-11-25 1998-11-25 弾性表面波フィルタ
JP33426798 1998-11-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69934863D1 DE69934863D1 (de) 2007-03-08
DE69934863T2 true DE69934863T2 (de) 2007-05-03

Family

ID=18275439

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69934863T Expired - Lifetime DE69934863T2 (de) 1998-11-25 1999-11-25 Akustisches Oberfächenwellenfilter zur Verbesserung der Flachheit des Durchlassbereichs und Verfahrung zur Herstellung desselben

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6292071B1 (de)
EP (1) EP1005154B1 (de)
JP (1) JP3161439B2 (de)
KR (1) KR100379601B1 (de)
CN (1) CN1122365C (de)
DE (1) DE69934863T2 (de)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3255128B2 (ja) * 1998-11-24 2002-02-12 株式会社村田製作所 弾性表面波フィルタ
JP3449352B2 (ja) * 2000-02-07 2003-09-22 株式会社村田製作所 弾性表面波フィルタ
JP3963253B2 (ja) * 2001-12-14 2007-08-22 富士通メディアデバイス株式会社 弾性表面波素子及びこれを用いた分波器
JP2005045475A (ja) * 2003-07-28 2005-02-17 Murata Mfg Co Ltd 弾性表面波装置、通信機
EP1533897A3 (de) * 2003-11-20 2010-06-30 Panasonic Corporation Filter mit piezoelektrischem Resonator
EP1739789B1 (de) * 2005-06-30 2007-10-31 Institut Scientifique de Service Public Abstrahlendes Koaxialkabel
US7939989B2 (en) * 2009-09-22 2011-05-10 Triquint Semiconductor, Inc. Piston mode acoustic wave device and method providing a high coupling factor
JP2011205625A (ja) * 2010-03-02 2011-10-13 Panasonic Corp ラダー型フィルタ
CN102684639B (zh) * 2011-03-07 2016-08-17 特里奎恩特半导体公司 使微调影响和活塞波型不稳定性最小化的声波导器件和方法
WO2014192755A1 (ja) * 2013-05-29 2014-12-04 株式会社村田製作所 弾性波フィルタ装置
JP6103146B2 (ja) * 2014-06-27 2017-03-29 株式会社村田製作所 ラダー型フィルタ
DE102016106185A1 (de) * 2016-04-05 2017-10-05 Snaptrack, Inc. Breitbandiges SAW-Filter
CN117652097A (zh) * 2021-07-21 2024-03-05 株式会社村田制作所 弹性波装置及滤波器装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5619765A (en) 1979-07-25 1981-02-24 Ricoh Co Ltd Ink viscosity detecting and controlling device
JPS60185416A (ja) * 1984-03-05 1985-09-20 Hitachi Ltd 弾性表面波素子
JPH06232682A (ja) 1993-02-08 1994-08-19 Hitachi Ltd 弾性表面波共振子及び弾性表面波フィルタ
DE69608997T2 (de) * 1995-04-12 2000-11-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Resonateur-Kettenfilter mit akustischen Oberflächenwellen
US5654680A (en) 1996-01-30 1997-08-05 Motorola, Inc. Saw-based ladder filter including multiple coUpling coefficients (K2), Method therefor and radio incorporating same
GB9622654D0 (en) 1996-10-31 1997-01-08 Flowers James E Filters
JPH10242799A (ja) * 1997-02-26 1998-09-11 Kyocera Corp 弾性表面波フィルタ
JPH11251871A (ja) * 1998-03-06 1999-09-17 Oki Electric Ind Co Ltd 弾性表面波分波器の受信用フィルタ
JPH11340774A (ja) 1998-05-26 1999-12-10 Murata Mfg Co Ltd 弾性表面波フィルタ

Also Published As

Publication number Publication date
EP1005154A3 (de) 2001-01-17
US6292071B1 (en) 2001-09-18
KR20000047665A (ko) 2000-07-25
DE69934863D1 (de) 2007-03-08
CN1259797A (zh) 2000-07-12
JP2000165197A (ja) 2000-06-16
EP1005154B1 (de) 2007-01-17
JP3161439B2 (ja) 2001-04-25
CN1122365C (zh) 2003-09-24
EP1005154A2 (de) 2000-05-31
KR100379601B1 (ko) 2003-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69835987T2 (de) Akustische Oberflächenwellenfilter
DE112010001174B4 (de) Abzweigfilter für elastische Wellen
DE19849782B4 (de) Oberflächenwellenanordnung mit zumindest zwei Oberflächenwellen-Strukturen
DE69735746T2 (de) Akustische Oberflächenwellenanordnung
DE69934765T2 (de) Akustisches Oberflächenwellenfilter
DE19714085C2 (de) Akustisches Multimode-Oberflächenwellenfilter
DE69632929T2 (de) Akustische Oberflächenwellenvorrichtung mit zwei Moden
DE10102153B4 (de) Oberflächenwellenbauelement, sowie dessen Verwendung und Verfahren zu dessen Herstellung
DE10142641B4 (de) Oberflächenwellenfilter
DE69838694T2 (de) SAW-Filter mit SAW-Zwischenstufenanpassungsresonator
DE112009002361B4 (de) Filtervorrichtung für elastische Wellen
DE69636897T2 (de) Akustischer Oberflächenwellenfilter
DE4408989C2 (de) Oberflächenakustikwellenfilter des Resonatortyps zum Reduzieren der Signalstärke einer Störspitze
DE4447740B4 (de) Akustisches Oberflächenwellenfilter
DE112016000289B4 (de) Zusammengesetze Filtervorrichtung
DE10212174B4 (de) Kantenreflexionsoberflächenwellenfilter mit spezieller Elektrodenanordnung sowie Duplexer und Kommunikationsvorrichtung, die dieses verwenden
DE69934863T2 (de) Akustisches Oberfächenwellenfilter zur Verbesserung der Flachheit des Durchlassbereichs und Verfahrung zur Herstellung desselben
DE19922124A1 (de) Oberflächenwellenfilter, Duplexer und Kommunikationsvorrichtung
DE102016120337A1 (de) Bandpassfilter und Duplexer
DE60013667T2 (de) Akustisches Oberflächenwellenfilter, Duplexer, und Kommunikationsanordnung
DE19923963B4 (de) Oberflächenwellenfilter
WO2017050474A1 (de) Saw-filter mit zusätzlichem pol
DE60127351T2 (de) Akustischer Oberflächenwellenfilter mit Longitudinaler Koppelung
DE102017108105B4 (de) Filtervorrichtung für elastische Wellen
DE10113607A1 (de) Akustikoberflächenwellenresonator und Akustikoberflächenwellenfilter, das denselben verwendet

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition