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HINTERGRUND
DER ERFINDUNG
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1. Gebiet
der Erfindung
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Die
Erfindung betrifft eine Wärmebehandlungsvorrichtung
nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1, sie betrifft außerdem eine
Wärmeentwicklungsvorrichtung
zur Verwendung bei einem Aufzeichnungsvorgang, der in einem Trockensystem
ausgeführt
wird, beispielsweise einem Bildaufzeichnungsvorgang unter Verwendung eines
Trockenmaterials, wodurch sich ein Naßprozeß erübrigt.
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2. Beschreibung des Standes
der Technik
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Eine
Bildaufzeichnungsvorrichtung zum Aufzeichnen eines medizinischen
Bilds zur Verwendung im Rahmen eines digitalen Radiographiesystems,
eines CTs, eines MRs oder dergleichen, wobei von einem Wärmeansammlungs-Fluoreszenzflachstück Gebrauch
gemacht wird, ist bereits bekannt. Diese Vorrichtung verwendet ein
Naßsystem
zum Erzeugen eines reproduzierten Bildes, indem ein Naßprozeß ausgeführt wird, nachdem
ein Bild photographisch aufgenommen oder auf einem Silbersalz-Photomaterial
aufgezeichnet wurde.
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In
den vergangenen Jahren hat eine Aufzeichnungsvorrichtung an Aufmerksamkeit
gewonnen, die von einem Trockensystem Gebrauch macht, und die eine
Naßverarbeitung
erübrigt.
Diese Aufzeichnungsvorrichtung ist zur Verwendung eines photoempfindlichen
und/oder wärmeempfindlichen
Aufzeichnungsmaterials oder Films aus einem Wärmeentwicklungs-Photomaterial
(im folgenden als „Aufzeichnungsmaterialien" bezeichnet) ausgebildet.
Bei einer Aufzeichnungsvorrichtung unter Verwendung des Trockensystems
wird ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Laserstrahl in einem Belichtungsbereich bestrahlt
(abgetastet), so daß ein latentes
Bild entsteht. Anschließend
wird das Aufzeichnungsmaterial in einem Wärmeentwicklungsabschnitt in Berührung mit
einer Heizvorrichtung gebracht, so daß eine Wärmeentwicklung erfolgt. Dann
wird das mit einem darauf ausgebildeten Bild versehene Aufzeichnungsmaterial
aus der Vorrichtung ausgetragen.
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Das
Trockensystem des oben erläuterten
Typs ist in der Lage, ein Bild innerhalb kürzerer Zeit zu erstellen als
ein Naßprozeß. Darüber hinaus
wird das Problem überwunden,
Abfallflüssigkeit
zu entsorgen, die im Verlauf des Naßprozesses anfällt. Deshalb
steht eine zunehmende Nachfrage nach dem Trockensystem zu erwarten.
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Das
oben beschriebene Trockensystem ist üblicherweise so aufgebaut,
daß es
einen Wärmeentwicklungsbereich
mit einer Heizvorrichtung in Form einer Heiztrommel enthält. Ein
um die Oberfläche
der Heiztrommel über
einen vorbestimmten Winkel geschlungenes Endlosband hält das Aufzeichnungsmaterial,
das von der Heiztrommel und dem Endlosband gehalten und transportiert
wird. Auf diese Weise erfolgt eine Wärmeentwicklung. Wenn die Spannung
des Endlosbands aufgrund einer Wärmebeeinträchtigung
oder dergleichen ungleichmäßig wird,
läßt sich
ein gleichmäßiger Kontakt
zwischen dem Aufzeichnungsmaterial und der Heiztrommel nicht erreichen.
Dadurch kommt es zu einer unregelmäßigen Entwicklung.
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Da
Bilder zur Verwendung auf dem medizinischen Gebiet eine hohe Qualität erfordern,
besitzen die Aufzeichnungsmaterialien eine beträchtlich hohe Empfindlichkeit.
Wenn der Berührzustand
mit der Heiztrommel etwas ungleichförmig wird, verschlechtert sich
die Bildqualität
extrem.
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In
der Heizvorrichtung bewirkt eine Abnahme der Temperatur in einem
Kantenbereich, dem nicht besonders viel Wärme zugeleitet wird, insbesondere
bei der Berührung
zwischen der Oberfläche
des Heizelements und dem eine geringe Temperatur aufweisenden Flachstück, einen
Temperaturgradienten des Heizelements in der Richtung, in der das
Flachstück
transferiert wird. Da der erwähnte
Temperaturgradient nicht rasch beseitigt werden kann, kommt es zu
Temperaturdifferenzen in der Oberfläche des Flachstücks oder
zwischen verschiedenen Flachstücken,
wenn ein sequentieller Prozeß abläuft. Hierdurch
ergibt sich das Problem, daß die
Qualität
aufgrund der Wärmebehandlung
beeinträchtigt
wird.
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Wird
das Aufzeichnungsmaterial zwischen der Heiztrommel und dem Endlosband
gehalten, so ergibt sich das Problem, daß ein Endabschnitt aufgewölbt wird,
was zu einer unerwünschten
Faltenbildung und Kräuselung
führt.
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Gemäß Oberbegriff
des Anspruchs 1 offenbart die
JP
62 003 255 eine Wärmebehandlungsvorrichtung,
in der das Flachstück über die
Oberfläche
von jeder von zwei Heizelementen mit Hilfe eines Riemens geführt wird.
Der Riemen wird über
zwei den Heizelementen benachbart angebrachte Rollen geführt. In
die Heizelemente sind Thermopaare eingebaut, deren Temperaturen
unabhängig
voneinander gesteuert werden.
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Die
US 4 485 294 zeigt eine
Entwicklungsvorrichtung, in der ein zu behandelndes Flachstück zwischen einem
U-förmigen
Heizblech und einem U-förmigen
Gehäuse
ohne Aufbringung von Druck auf das Flachstück bei dessen Durchlauf an
dem U-förmigen
Heizelement vorbei transportiert wird. Stromaufwärts bezüglich dem Eingangsbereich des
Heizelements befindet sich ein Thermistor.
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Die
US 5 774 204 zeigt eine
Wärmeentwicklungsvorrichtung,
in der zu behandelnde Flachstücke
mit Hilfe eines Paares von Transport- und Heizrollen geleitet werden.
Beim Verlassen der Transport- und Heizrollen wird jedes Flachstück zu einem
flachen Heizelement transportiert und von diesem erhitzt, während es
mit Hilfe mehrerer flexibler Andrückflachstücke gegen die Oberseite des
Heizelements gedrückt
wird.
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Die
US 4 322 158 zeigt eine
Entwicklungsvorrichtung, in der ein zu entwickelndes Bahnmaterial
zwischen einer ersten Gruppe aus einer Rolle und einem Heizandrückschuh
und einer zweiten Gruppe aus einer Rolle und einem aufgeheizten
Andrückschuh
geleitet wird.
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Die
WO 97/28488 zeigt eine Wärmebehandlungsvorrichtung,
in der ein zu behandelndes Flachmaterial durch eine Gruppe von versetzt
angeordneten Walzen geleitet wird. Diese Vorrichtung enthält keine
flachen Heizelemente, wie sie in der oben angesprochenen
JP 62 003 255 gezeigt sind.
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Im
Hinblick auf das oben Gesagte ist es Ziel der vorliegenden Erfindung,
eine Wärmebehandlungsvorrichtung
anzugeben, die in der Lage ist, die Berührung zwischen dem Heizelement
und dem Aufzeichnungsmaterial noch weiter zu vergleichmäßigen, welche
frei ist vom Auftreten des Haftenbleibens von Staub, von einer unerwünschten
Faltenbildung und Kräuselung,
und die im Stande ist, eine noch gleichmäßigere Erhitzung zu erreichen
und damit ein hochqualitatives Bild, welches frei von unregelmäßiger Entwicklung
ist.
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Das
Ziel läßt sich
erreichen durch die Merkmale des Anspruchs 1.
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Bevorzugte
Ausführungsformen
sind in den abhängigen
Ansprüchen
angegeben.
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Die
Wärmebehandlungsvorrichtung
mit dem oben beschriebenen Aufbau und die Wärmeentwicklungsvorrichtung,
die von der Behandlungsvorrichtung Gebrauch macht, sind so ausgebildet,
daß sie
die entsprechenden Temperaturen der Heizelemente, die in Transferrichtung
des Wärmeentwicklungs-Photomaterialflachstücks oder
des photoempfindlichen und wärmeempfindlichen
Aufzeichnungsmaterialflachstücks
aufgeteilt sind, unabhängig
voneinander einstellt und steuert. Auf diese Weise läßt sich
die Differenz in der Flachstücktemperatur
verringern. Darüber
hinaus läßt sich
eine unregelmäßige Entwicklung,
die aufgrund der ungünstigen
Wärmebedingungen
im Fall des Endlosbands erfolgt, verhindern, wodurch sich eine gleichmäßigere Erhitzung
realisieren läßt. Im Ergebnis
kann ein hochqualitatives Bild erstellt werden, welches frei ist
von einer unregelmäßigen Entwicklung.
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KURZE BESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNGEN
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1 ist
eine schematische Ansicht des Aufbaus einer Wärmebehandlungsvorrichtung gemäß einer ersten
Ausführungsform
der Erfindung.
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2 zeigt
eine teilweise vergrößerte Ansicht
der in 1 gezeigten Plattenheizvorrichtung.
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3 zeigt
eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach
einer zweiten Ausführungsform
der Erfindung.
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4 zeigt
eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach
einer dritten Ausführungsform
der Erfindung.
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5 zeigt
eine teilweise vergrößerte Ansicht
der in 1 gezeigten Plattenheizvorrichtung.
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6 zeigt
eine schematische Ansicht einer Wärmeentwicklungsvorrichtung
unter Verwendung der Wärmebehandlungsvorrichtung
nach der fünften
Ausführungsform
der Erfindung.
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7 zeigt
eine vergrößerte Ansicht
einer Plattenheizvorrichtung 240a.
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8(a) zeigt eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung
mit einem Beispiel für die
Drehungen der Andrückwalzen, 8(b) zeigt eine perspektivische Ansicht der Gestalt
der Plattenheizvorrichtung, und 8(c) zeigt
eine auseinandergezogene perspektivische Ansicht der in 8(a) dargestellten Wärmebehandlungsvorrichtung.
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9 zeigt
eine perspektivische Ansicht einer weiteren Ausführungsform einer Plattenheizvorrichtung der
in 8(c) dargestellten Wärmebehandlungsvorrichtung.
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10 zeigt
eine schematische Ansicht eines Treiberzustands einer Andrückwalze
der Wärmebehandlungsvorrichtung
nach der siebten Ausführungsform
der Erfindung.
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11 zeigt
eine schematische Ansicht einer Wärmeentwicklungsvorrichtung
unter Verwendung der Wärmebehandlungsvorrichtung
nach der achten Ausführungsform
der Erfindung, die in 8 gezeigt ist.
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12 zeigt
eine perspektivische Ansicht der Gestalt einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach
einer neunten Ausführungsform,
vorgesehen zur Verwendung in der Wärmeentwicklungsvorrichtung.
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13 zeigt
eine schematische Ansicht des inneren Aufbaus der in 12 dargestellten
Wärmebehandlungsvorrichtung
sowie einer Transferpassage.
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14 zeigt
eine perspektivische Ansicht des Aufbaus einer Heizeinheit 420B der
in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung.
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15 zeigt
ein Diagramm, welches die in 13 dargestellte
Wärmebehandlungsvorrichtung
entlang der Linie X-X geschnitten darstellt.
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16 zeigt
eine Horizontalschnittansicht, die einen Bereich einschließlich der
Heizeinheit der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung
veranschaulicht.
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17 zeigt
eine Teilperspektivansicht der Wärmebehandlungsvorrichtung
nach 12 in einen Zustand, in welchem der äußere Deckel
und der Heizelementdeckel beseitigt wurden.
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18 zeigt
eine vergrößerte Ansicht,
die einen Blick auf den Kühlteil
der in 13 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung
erlaubt.
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19 zeigt
eine schematische Ansicht des inneren Aufbaus der in 12 gezeigten
Wärmebehandlungsvorrichtung
sowie einer Transferpassage. (19 zeigt
ein weiteres Beispiel der Ausführungsform
nach 13).
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20 zeigt
eine schematische Ansicht einer Wärmeentwicklungsvorrichtung,
die von der Wärmebehandlungsvorrichtung
nach der zehnten Ausführungsform
der Erfindung gemäß 12 Gebrauch
macht.
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BESCHREIBUNG
DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
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Unter
Bezugnahme auf die Zeichnungen soll die Erfindung nun beschrieben
werden.
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1 ist
ein Diagramm, welches den schematischen Aufbau einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach
einer ersten Ausführungsform
der Erfindung zeigt.
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Die
Wärmebehandlungsvorrichtung
dieser Ausführungsform
erwärmt
ein Flachstück
A, welches einer Wärmebehandlung
zu unterziehen ist. Die Wärmebehandlungsvorrichtung
nach dieser Ausführungsform
beinhaltet drei Plattenheizer 120a, 120b und 120c,
die als Heizelemente fungieren, und deren Temperaturen auf Werte
angehoben werden, die zur Verarbeitung des Flachstücks A benötigt werden.
Darüber
hinaus ist eine Transfereinrichtung 126 vorgesehen, welche
das Flachstück
A gegenüber
jedem der Plattenheizer 120a, 120b und 120c relativ
bewegt (gleiten läßt), während das
Flachstück
A in Berührung
mit der Oberfläche
jedes Plattenheizer 120a, 120b und 120c steht.
Darüber
hinaus gibt es Andrückwalzen 122a, 122b und 122c als
Einrichtung zum Andrücken
der Rückseite
des Flachstücks
A, die von der Oberfläche
des Flachstücks
A in Berührung
mit den Plattenheizern 120a, 120b und 120c abgewandt
ist, um Wärme
von den Plattenheizern 120a, 120b und 120c auf
das Flachstück
A zu übertragen.
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Jeder
der Plattenheizer 120a, 120b und 120c dieser
Ausführungsform
hat die Form einer flachen Platte. Jeder der Plattenheizer 120a, 120b und 120c beinhaltet
ein plattenähnliches
Heizelement, welches mindestens eine Heizeinrichtung (beispielsweise
einen Nichrom- Draht)
enthält,
flach ausgebildet, so daß ihre Temperaturen
bei der Entwicklungstemperatur für
das Flachstück
A gehalten werden. Das Material der Oberfläche, die mit dem Flachstück A in
Berührung
steht, kann einfach ein wärmeleitendes
Material sein. Eine Struktur mit einer Gummiheizvorrichtung auf
der Rückseite
ist möglich.
Eine andere Struktur ist ebenfalls möglich, die von Warmluft Gebrauch
macht, oder die eine Lampe zum Erhitzen des Flachstücks A beinhaltet.
Die Temperatur jeder Heizeinrichtung wird unabhängig gesteuert.
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Die
Plattenheizer 120a, 120b und 120c brauchen
nicht gleiche Länge
zu haben. Die Länge
läßt sich beliebig
wählen,
um den Bedingungen für
die Wärmebehandlung
zu entsprechen. Was die Intervalle zwischen den Heizvorrichtungen
angeht, so verschlechtern übermäßig lange
Intervalle den Wirkungsgrad bei der Wärmezufuhr zu dem Flachstück. Deshalb
wird bevorzugt, daß die
Intervalle 50 mm oder weniger groß sind.
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Es
ist bevorzugt, wenn die Oberfläche
jedes der Plattenheizer 120a, 120b und 120c so
aufgebracht wird, daß ein
verarbeitetes Flachstück
mit einer Berührungsfläche des
Flachstückmaterials
A aus Fluorharz oder der Berührungsfläche mit
einer Beschichtung versehen ist, um zu verhindern, daß es beim
Transfer des Flachstücks
A zu einer Kerbenbildung kommt.
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Weiterhin
kann die Seite jedes Plattenheizers 120a, 120b und 120c,
die in Berührung
mit dem Flachstückmaterial
A kommt, aus wärmeleitendem
Gummi an einer Fläche
bestehen, an der eine Fluorharzschicht ausgebildet ist. Mit dem
oben beschriebenen Aufbau kann selbst dann, wenn Staub oder Schmutz
in den Bereich zwischen dem Flachstück A und jedem der Plattenheizer 120a, 120b und 120c gelangt,
die Elastizität des
Gummis ein Weißwerden
eines Teils bei der Entwicklung oder eine Beschädigung der Oberfläche des Flachstücks A verhindert
werden. Darüber
hinaus ist die Fluorharz-Schicht wirksam bei der Gewährleistung der
Glätte
des Flachstücks
A. 2 ist eine teilweise vergrößerte Ansicht, die den Plattenheizer 120a zeigt. Wie
in 2 gezeigt ist, ist ein Ende eines Einlaßbereichs
des Flachstücks
A mit einer geneigten Fläche 121 ausgestattet,
um das vordere Ende des Flachstücks
A unter Vermeidung eines Staus gleitend zu führen. Auch die anderen Plattenheizer 120b und 120c können ähnliche
Strukturen besitzen.
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Erneut
auf 1 bezugnehmend, erfordert die erste Hälfte des
Wärmebehandlungsteils 18 eine
größere Menge
Wärme,
um die Temperatur des Flachstücks
A anzuheben. Daher ist es bevorzugt, wenn dem im Einlaßbereich
des Wärmebehandlungsteils 18 befindlichen
Plattenheizer 120a größere Wärme zugeleitet
wird. Um das Ausmaß der
lokalen Temperaturänderung
einzuschränken,
ist die Wärmemenge
größer als
jene der Plattenheizer 120b und 120c, die sich
stromabwärts
befinden.
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Was
die Positionen der Temperatursensoren zum Steuern der Temperaturen
angeht, so muß der
Sensor für
jeden Plattenheizer 120a, 120b und 120c vorgesehen
sein. Was die Lage angeht, befindet sich der Sensor am hinteren
Ende jedes Plattenheizers, um die Temperatur des Flachstücks auf
die Solltemperatur zu bringen, weil die Temperatur im stromabwärtigen Bereich
höher und
eher stabil ist als die Temperatur im stromaufwärtigen Bereich.
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Das
Flachstück
A wird von einem Sammelfach 202 mit Hilfe einer Saugeinheit 201 angesaugt,
anschließend
wird das Flachstück
A über
paarweise Walzen 126, die von einer (nicht gezeigten) Dreheinheit
gedreht werden, zu dem Wärmebehandlungsteil 18 geleitet.
Da die paarweisen Rollen 126 das Flachstück A transferieren,
läuft (gleitet)
das Flachstück
A durch die Räume
zwischen den Andrückwalzen 122a, 122b und 122c und
die entsprechenden Plattenheizer 120a, 120b und 120c,
so daß eine
Wärmebehandlung
stattfindet.
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Das
der Wärmebehandlung
unterzogene Flachstück
A wird über
eine Führungswalze 128 ausgetragen.
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Um
eine Kerbenbildung zu vermeiden, ist es bevorzugt, wenn die Berührung zwischen
der Oberfläche des
Flachstücks
A, die Berührung
mit den Plattenheizern 120a, 120b und 120c hat,
mit einer Oberfläche,
deren Funktion eine Wärmebehandlung
erfordert, verhin dert wird. Wenn das Flachstück sorgfältig beobachtet werden muß, so muß ein Kontakt
der zu beobachtenden Oberfläche
mit jedem der Plattenheizer 120a, 120b und 120c verhindert
werden.
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Die
mehreren Andrückwalzen 122a, 122b und 122c sind
für die
entsprechenden Plattenheizer 120a, 120b bzw. 120c vorgesehen.
Die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c sind
so angeordnet, daß sie
in Berührung
mit der jeweiligen Oberfläche
jedes Plattenheizers oder mit Zwischenintervallen stehen, die kürzer sind als
die Dicke des Flachstücks
A entlang der Gesamtlänge
der Plattenheizer 120a, 120b und 120c in
Transportrichtung des Flachstücks
A. Die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c sind
in vorbestimmten Mittenabständen für jeden
der Plattenheizer vorgesehen.
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Das
bedeutet: das Flachstück
A wird derart angedrückt,
daß die
Anzahl von Andrückstellen
im Einlaßbereich
des Wärmebehandlungsteils 18 vergrößert ist.
Darüber
hinaus werden die Intervalle der Andrückstellen im Einlaßbereich
des Wärmebehandlungsteils 18 verkürzt. Im
Ergebnis wird derjenige Bereich des Flachstücks, dessen Temperatur angehoben
werden soll, stark angedrückt,
so daß ein
Wölben
des Flachstücks
verhindert wird. Darüber
hinaus kann eine unregelmäßige Temperaturverteilung
verhindert werden. Wenn die Einrichtung zum Andrücken des Flachstücks aus
den Andrückwalzen 122a, 122b und 122c besteht,
wie sie bei dieser Ausführungsform
eingesetzt werden, so ist es bevorzugt, wenn die Anzahl von Walzen
für den
Plattenheizer 120a im Einlaßbereich vergrößert ist,
um die Mittenabstände
der Walzen zu verkürzen.
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Das
Drehsystem für
die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c kann
für jede
der Walzen 122 vorgesehen sein. Im Hinblick auf die Kosten
und den Platzbedarf der Vorrichtung ist es bevorzugt, wenn ein einziges Drehsystem
verwendet wird. Was die Umfangsgeschwindigkeit jeder der Walzen 122 angeht,
wird bevorzugt, wenn die Geschwindigkeiten zum stabilen Flachstücktransfer
die gleichen sind. Die Geschwindigkeit bestimmt sich durch die Wärmebehandlungsleistung.
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Die
Andrückwalzen 122a, 122b und 122c und
die Plattenheizer 120a, 120b und 120c bilden
eine Flachstücktransferpassage 124.
Der Abstand zwischen den Andrückwalzen 122a, 122b und 122c einerseits und
den Plattenheizern 120a, 120b und 120c andererseits
ist innerhalb der Flachstücktransferpassage 124 kürzer als
es der Dicke des Flachstücks
A entspricht. Damit läßt sich
ein Zustand realisieren, in welchem das Flachstück A glatt gehalten und ein
Wölben
des Flachstücks
A verhindert wird. Die paarweisen Transferwalzen 126 und
die Führungswalzen 128,
die die Flachstücktransfereinrichtung
bilden, befinden sich an den beiden Enden der Flachstücktransferpassage 124.
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Als
Andrückwalzen
können
Metallwalzen, Harzwalzen, Gummiwalzen oder dergleichen verwendet werden.
Bevorzugt beträgt
die Wärmeleitfähigkeit
der Andrückwalzen 122 0,1
W/m/1°C
bis 200 W/m/°C.
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Vorzugsweise
sind Wärmeisolierabdeckungen 125a, 125b und 125c zur
Wärmeisolierung
an Stellen gegenüber
den Plattenheizern 120a, 120b und 120c vorgesehen,
betrachtet aus der Sicht, in der die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c als
Mittelpunkte angeordnet sind.
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Wenn
das vordere Ende des Flachstücks
A in Berührung
mit den Andrückwalzen 122a, 122b und 122c tritt,
während
der Transfer des Flachstücks
A abläuft,
so wird die Bewegung des Flachstücks
A vorübergehend unterbrochen.
Wenn die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c mit
gleichen Mittenabständen
voneinander beabstandet sind, wird der gleiche Teil des Flachstücks A bei
jeder der Andrückwalzen 122a, 122b und 122c angehalten.
Somit wird der vorauslaufende Teil lange Zeit gegen die Plattenheizer 120a, 120b und 120c gedrückt. Im
Ergebnis erleidet das Flachstück
A manchmal die Entstehung einer unregelmäßigen streifenähnlichen
Entwicklung, die sich in Breitenrichtung des Flachstücks A erstreckt.
Aus diesem Grund ist es bevorzugt, wenn die Mittenabstände der
Andrückwalzen 122a, 122b und 122c ungleichmäßig sind.
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Als
die Einrichtung zum Transferieren des Flachstücks A werden die paarweisen
Transfereinrichtungen 126 verwendet, die benachbart zu
der am weitesten stromaufwärts
be findlichen Andrückwalze 122a direkt vor
den Plattenheizern 120a, 120b und 120c angeordnet
sind. Als die erwähnte
Transfereinrichtung kann auch die Führungswalze 128 die
Transferkraft aufbringen.
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3 ist
eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung gemäß einer
zweiten Ausführungsform
der Erfindung. Nach 3 sind im Bereich der Plattenheizer 120a, 120b und 120c Zwischenrollen 127 vorgesehen,
um den Flachstücktransfer
zu unterstützen.
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4 ist
eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach
einer dritten Ausführungsform
der Erfindung, die von einem weiteren Aspekt der Einrichtung zum
Transportieren des Flachstücks A
Gebrauch macht. Die Transporteinheit 150 beinhaltet Plattenheizer 120a, 120b und 120c ähnlich denjenigen der
vorhergehenden Ausführungsform.
Daher ist nur ein Plattenheizer 120a dargestellt. Die anderen
Plattenheizer 120b und 120c haben einen ähnlichen
Aufbau.
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Ein
Transportriemen 156 läuft
entlang der Oberfläche
einer Antriebswalze 158 und läuft anschließend entlang
der Oberfläche
einer Trennwalze 154. An der Stelle der Andrückwalze 152 wird
das Flachstück
A zwischen dem Plattenheizer 120a und dem Transportriemen 156 gehalten.
Dabei dient die Transportkraft des Transportriemens 156 zum
Transportieren des Flachstücks
A. Der Transportriemen 156 besitzt einen Reibungskoeffizienten
gegenüber
dem Flachstück
A, der höher
ist als derjenige der Oberfläche
des Plattenheizers 120a bezüglich des Flachstücks A. Deshalb
kann das Flachstück
A zuverlässig
transportiert werden, während das
Flachstück
A auf dem Plattenheizer 120a gleitet. Bei dem obigen Aufbau
sind paarweise Zuführwalzen 126 und
paarweise Austragwalzen 128 ähnlich angeordnet wie bei der
in 1 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung 18.
Die Trennwalze 154 veranlaßt den Transportriemen 156,
in Berührung
mit der Gesamtfläche
des Flachstücks
A zu treten, um eine ungleichmäßige Verteilung
des Drucks auf das Flachstück
A zu vermeiden. Damit läßt sich
eine ungleichmäßige Erhitzung
verhindern.
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Die
Oberfläche
des Transportriemens 156 gegenüber dem Flachstück läßt sich
zu einer bürstenähnlichen
Form ausbilden. In diesem Fall läßt sich
die Transportleistung zusätzlich
verbessern. Wenn der Transportriemen 156 eine Permeabilität für Gas besitzt,
kann das aufgrund der chemischen Änderung in der Wärmebehandlungsschicht
der Oberfläche
des Flachstücks
A entstehende Gas abgeleitet werden. Hierdurch läßt sich das Haften zwischen
dem Flachstück
A und dem Plattenheizer verbessern.
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Der
Grund dafür,
daß die
Trennwalze 154 vorgesehen ist, besteht darin, vorab den
Transportriemen 156 zu lösen und so zu verhindern, daß es zu
einem ungleichmäßigen Kontakt
zwischen dem Flachstück
A und dem Plattenheizer 120a in einem Bereich zwischen
den Andrückwalzen 152 kommt.
Wenn der Transportriemen 156 für Gas durchlässig ist,
kann man die Trennwalze 154 weglassen.
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5 ist
eine schematische Ansicht des Aufbaus einer Wärmeentwicklungsvorrichtung
gemäß der fünften Ausführungsform
der Erfindung unter Einsatz der in 1 gezeigten
Wärmebehandlungsvorrichtung. Wie
in 5 zu sehen ist, besteht die Wärmeentwicklungsvorrichtung 10 vornehmlich
aus einem Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 12, einem Breiten-Ausrichtungsteil 14,
einem Bildbelichtungsteil 16 und einem Wärmebehandlungsteil 18,
die in dieser Reihenfolge des Transfers des Wärmeentwicklungs-Photomaterials
oder eines photoempfindlichen und wärmeempfindlichen Aufzeichnungsmaterials
(im folgenden als „Flachstück A" bezeichnet) angeordnet
sind.
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Obschon
die Wärmeentwicklungsvorrichtung 10 von
der in 1 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung
Gebrauch macht, kann irgendeine der Wärmebehandlungsvorrichtungen
eingesetzt werden, die in den 1 bis 4 dargestellt
sind.
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Der
Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 12 nimmt
jeweils ein einzelnes Flachstück
A und führt
es dem Breiten-Ausrichtungsteil 14 zu, der sich stromabwärts in Transferrichtung
des Flachstücks
A befindet. Der Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 12 beinhaltet
eine Aufzeichnungsmaterial-Zuführeinrichtung,
die Ladeteile 22 und 24 sowie Saugbecher 26 und 28 für die Ladeteile
aufweist, außerdem
paarweise Zuführwalzen 30 und 32, paarweise
Transferwalzen 34 und 36 sowie Transferführungen 38, 40 und 42.
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Die
Ladeteile 20 und 22 sind Teile zum Laden eines
Flachstücke
A aufnehmenden Magazins 100 an einer vorbestimmten Stelle.
Im dargestellten Beispiel sind die beiden Ladeteile 22 und 24 vorhanden.
Zur Aufnahme von Flachstücken
A, die üblicherweise
unterschiedliche Größen aufweisen
(beispielsweise Halbschnittgröße für CT oder
MRI und Größe B4 für FCR (Fuji
Computed Radiography)) dienende Magazine werden in die beiden Ladeteile
geladen.
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Die
Aufzeichnungsmaterialzuführeinrichtung,
die für
jeden der Ladeteile 22 und 24 vorhanden ist, enthält Saugbecher 26 und 28 zum
Ansaugen und Halten des Flachstücks
A. Außerdem
werden die Saugbecher 26 und 28 von einer bekannten
Bewegungseinrichtung, beispielsweise einem Gestängemechanismus, derart bewegt,
daß das
Flachstück
A transferiert wird. Auf diese Weise gelangt das Flachstück A zu
den paarweisen Zuführwalzen 30 und 32,
die für
die Ladeteile 22 und 24 vorhanden sind.
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Das
Flachstück
A enthält
das Wärmeentwicklungs-Photomaterial
und das photoempfindliche und wärmeempfindliche
Aufzeichnungsmaterial.
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Das
Wärmeentwicklungs-Photomaterial
ist ein Aufzeichnungsmaterial, mit dem ein Bild aufgezeichnet (belichtet)
wird durch mindestens einen optischen Strahl, zum Beispiel einen
Laserstrahl, woraufhin eine Wärmeentwicklung
zur Entwicklung von Farbe erfolgt.
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Das
photoempfindliche und wärmeempfindliche
Aufzeichnungsmaterial ist ein Aufzeichnungsmaterial, mit welchem
ein Bild mit mindestens einem optischen Strahl, zum Beispiel einem
Laserstrahl, aufgezeichnet (belichtet) wird, woraufhin eine Entwicklung
erfolgt, damit die Farbe entwickelt wird. Als Alternative dazu wird von
einem Wärmemodus
(Wärme)
oder einem Thermomodus eines Laserstrahls Gebrauch gemacht, um ein Bild
aufzuzeichnen und gleichzeitig eine Farbentwicklung durchzuführen, woraufhin
zur Fixierung des Bilds eine Ausleuchtung erfolgt.
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Das
Flachstück
A wird in eine Blattform gebracht. Darüber hinaus wird ein Laminat
(ein Bündel)
in einer Einheit mit 100 Blättern
oder dergleichen hergestellt und anschließend mit einem Beutel oder
einem Band verpackt, so daß eine
Packung 80 erhalten wird.
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Das
Wärmeentwicklungs-Photomaterial
und das photoempfindliche und wärmeempfindliche
Aufzeichnungsmaterial werden weiter unten noch beschrieben.
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Das
Flachstück
A im Ladeteil 22, das den paarweisen Zuführwalzen 30 zugeleitet
wird, wird von den paarweisen Transferwalzen 34 und 36 dem
stromabwärts
gelegenen Breiten-Ausrichtungsteil 14 zugeleitet, während das
Flachstück
A von den Transferführungen 38 und 40 geführt wird.
Andererseits wird das im Ladeteil 24 den paarweisen Walzen 32 zugeleitete
Flachstück
A von paarweisen Walzen 36 dem stromabwärts gelegenen Breiten-Ausrichtungsteil 14 zugeleitet,
während
das Flachstück
A von den Transferführungen 40 und 42 geführt wird.
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Der
Breiten-Ausrichtungsteil 14 richtet den Bogen A in einer
Richtung (im folgenden als „Breitenrichtung" bezeichnet) rechtwinklig
zur Transportrichtung aus. Damit führt der Breiten-Ausrichtungsteil 14 eine
Ausrichtung des Flachstücks
A in den stromabwärts
gelegenen Bildbelichtungsteil 16 in der Hauptabtastrichtung durch,
das heißt
eine sogenannte Seitenbegrenzung. Damit werden die paarweisen Transferwalzen 44 gedreht,
um das Flachstück
A zu dem stromabwärts
gelegenen Bildbelichtungsteil 16 zu transportieren.
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Das
Verfahren zum Durchführen
der seitlichen Begrenzung im Breiten-Ausrichtungsteil 14 ist
nicht beschränkt.
Beispielsweise kann man von einem Verfahren Gebrauch machen, welches
eine Resistplatte in Berührung
mit dem einen in Breitenrichtung gelegenen Ende des Flachstücks A und
eine Drückeinrichtung
zum Drücken
des Flachstücks
A in Breitenrichtung aufweist, damit das Blatt mit der Endseite
an der Begrenzungsplatte anliegt. Ein weiteres Verfahren sieht die
Verwendung einer Regis-Platte und einer Führungsplatte oder dergleichen
vor, wodurch das breitseitige Ende des Flachstücks A in Transferrichtung eingeschränkt wird,
damit das Flachstück
A mit der Platte in Berührung
tritt, wobei die Platte in Breitenrichtung bewegbar ist entsprechend
der Größe des Flachstücks A in Breitenrichtung.
Somit läßt sich
irgendeines von verschiedenen bekannten Verfahren einsetzen.
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Das
zu dem Breiten-Ausrichtungsteil 14 geleitete Flachstück A wird
in einer Richtung rechtwinklig zur Transportrichtung ausgerichtet,
wie es oben beschrieben wurde, anschließend wird es von den paarweisen Transferwalzen 44 zu
dem stromabwärts
gelegenen Bildbelichtungsteil 16 transportiert.
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Der
Bildbelichtungsteil 16 ist ein Teil zum Durchführen einer
Abtastung und Belichtung mit Hilfe eines Lichtstrahls zum Belichten
des Flachstücks
entsprechend dem Bild. Der Bildbelichtungsteil 16 beinhaltet
eine Belichtungseinheit 46 und eine Nebenabtasttransfereinrichtung 48.
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Die
Belichtungseinheit 46 ist eine bekannte Lichtstrahl-Abtasteinheit,
die einen Lichtstrahl L ablenkt, der entsprechend einem aufzuzeichnenden
Bild moduliert wurde, wobei die Abtastung in einer Hauptabtastrichtung
(in Breitenrichtung des Flachstücks
A) erfolgt, so daß der
Lichtstrahl L auf eine vorbestimmte Aufzeichnungsstelle X auftrifft.
Die Belichtungseinheit ist je nach Bedarf mit verschiedenen Elementen
wie zum Beispiel einer Kollimatorlinse, eines Strahlaufweiters,
einer Bildkorrekturoptik und einem Optikweg-Einstellspiegel ausgestattet, wodurch
der Lichtstrahl L aus der Lichtquelle geformt wird. Diese Elemente
entsprechen einer bekannten Lichtstrahlabtasteinheit.
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Der
Lichtstrahl L, dessen Impulsbreite nach Maßgabe eines aufzuzeichnenden
Bilds moduliert wurde, wird in der Hauptabtastrichtung abgelenkt.
Aus diesem Grund wird das Flachstück A von dem Lichtstrahl zweidimensional
abgetastet und belichtet, wodurch ein latentes Bild aufgezeichnet
wird.
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Die
vorliegende Erfindung ist so aufgebaut, daß die Pulsbreitenmodulation
durch direktes Modulieren der Lichtquelle erfolgt. Die Erfindung
kann auf eine andere Einheit angewendet werden, die eine Pulszahlmodulation
durchführt.
Die vorliegende Erfindung kann Anwendung finden in Verbindung mit
einer indirekten Modulationseinheit, die einen ex ternen Modulator
aufweist, beispielsweise einen AOM (Akustisch-Optischer Modulator),
wenn die Einheit eine Pulsmodulation durchführt.
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Das
Verfahren zum Aufzeichnen eines Bilds läßt sich durch analoge Intensitätsmodulation
bewerkstelligen.
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Nachdem
auf dem Flachstück
A durch den Bildbelichtungsteil 16 ein latentes Bild erzeugt
wurde, transferieren die Transferwalzen 64 und 66 das
Flachstück
A zu dem Wärmebehandlungsteil 18.
Zu diesem Zeitpunkt wird Staub an der oberen und unteren Seite des
Flachstücks
A von einer Staubbeseitigungswalze 136 entfernt.
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Wie
oben ausgeführt,
verwendet der Wärmebehandlungsteil 18 die
Wärmebehandlungsvorrichtung nach
der ersten Ausführungsform.
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Der
Wärmebehandlungsteil 18 ist
in der oben beschriebenen Weise aufgebaut. Außerdem ist bevorzugt, wenn
das Flachstück
A vorab auf eine Temperatur nicht oberhalb der Entwicklungstemperatur
vor dem Transfer des Flachstücks
A in den Wärmebehandlungsteil 18 erwärmt wird.
Als Folge davon läßt sich
eine unregelmäßige Entwicklung
noch sicherer verhindern.
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Das
aus dem Wärmebehandlungsteil 18 ausgetragene
Flachstück
A wird durch paarweise Transferwalzen 140 zu einer Führungsplatte 142 geleitet
und dann von paarweisen Walzen 144 in ein Fach 146 befördert.
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Ein
elektrischer Teil 55 zum Treiben jedes der oben beschriebenen
Elemente ist in Verbindung mit einem Steuerteil 50 vorgesehen.
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Da
der Wärmebehandlungsteil 18 von
einer hohen Erwärmungstemperatur
Gebrauch macht, muß der Leistungsverbrauch
im Normalbetrieb minimiert werden. Aus diesem Grund ist es bevorzugt,
wenn die Steuerung in der Weise durchgeführt wird, daß ein Vergleich
stattfindet zwischen der Soll-Temperatur und der Ist-Temperatur,
um eine oder mehrere Heizeinrichtungen innerhalb der zulässigen elektrischen
Leistung in absteigender Reihenfolge der Temperaturdifferenz zu
speisen.
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Um
die Verarbeitungsgeschwindigkeit zu steigern, muß der Wärmebehandlungsteil 18 auch
die Startzeit oder Anlaufzeit verkürzen. Um dies zu erreichen,
ist es bevorzugt, wenn das Verhältnis
der elektrischen Kapazität
jeder Einrichtung zum Erhitzen jedes Plattenheizers 120a, 120b und 120c und
die Wärmekapazität der entsprechenden
Plattenheizer 120a, 120b und 120c konstant
ist.
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6 ist
eine schematische Ansicht, die eine Wärmebehandlungsvorrichtung nach
einer fünften
Ausführungsform
der Erfindung zeigt. Gemäß 6 besitzt
diese Ausführungsform
einen Aufbau, bei dem Plattenheizer 240a, 240b und 240c gebogen
ausgebildet sind. Die Plattenheizer 240a, 240b und 240c sowie
Walzen 242a, 242b und 242c sind so angeordnet,
daß eine
durchgehende Kreisbogenform gebildet wird.
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Insbesondere
beinhaltet eine Wärmebehandlungsvorrichtung 258 die
Plattenheizer 240a, 240b und 240c. Darüber hinaus
besitzt gemäß Zeichnung
die Wärmebehandlungsvorrichtung 258 einen
solchen Aufbau, daß die
Plattenheizer 240a, 240b und 240c nach
oben weisen. Darüber
hinaus ist eine Walze 246 vorhanden, die als Transfereinrichtung
zum relativen Bewegen (Gleiten) des Flachstücks A dient, während das Flachstück A in
Berührung
mit den Oberflächen
der Plattenheizer 240a, 240b und 240c ist.
Darüber
hinaus gibt es Andrückwalzen 242a, 242b und 242e,
die sich an ausgenommenen Unterseiten der Andrückwalzen 240 befinden,
um Wärme
von den Plattenheizern 240a, 240b und 240c auf
das Flachstück
A zu übertragen. Damit
erfolgt der Transfer in der Weise, daß das vordere Ende des zu transferierenden
Flachstücks
A gegen die Andrückwalzen 240 gedrückt wird.
Als Folge davon kann ein Aufwölben
des Flachstücks
A verhindert werden.
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Die
Andrückwalzen 242a, 242b und 242c und
die Plattenheizer 240a, 240b und 240c bilden
eine Flachstücktransferpassage 244,
deren Intervalle kürzer
sind, als es der Dicke des Flachstücks A entspricht, so daß sich ein
Zustand realisieren läßt, in welchem
das Flachstück
A glatt gehalten werden kann. Damit wird ein Aufwölben des
Flachstücks
A ver hindert. Paarweise Zuführwalzen 246 sowie
paarweise Austragwalzen 248 sind als Flachstücktransfereinrichtung
an den beiden Enden der Flachstücktransferpassage 244 angeordnet.
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Bei
dieser Ausführungsform
befindet sich eine Zwischenwalze 247 zum Unterstützen des
Flachstücktransfers
zwischen den Plattenheizern 240a, 240 und 240c, ähnlich wie
bei dem Aufbau nach 3. Die Zwischenwalze kann weggelassen
werden.
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Bevorzugt
sind Wärmeisolierabdeckungen 245a, 245 und 245c zur
Wärmeisolierung
benachbart zu den Andrückwalzen 242a, 242 und 242c gegenüber den
Plattenheizern 240a, 240 und 240c vorgesehen.
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7 ist
eine teilweise vergrößerte Ansicht,
die den Plattenheizer 240a zeigt. Wie in 7 zu
sehen ist, kann die geneigte Oberfläche 241 zum gleitenden
Führen
des vorderen Endes des Flachstücks
A am Ende des Teils des Plattenheizers 240a angeordnet
sein, der zur Aufnahme des Flachstücks A dient, um einen Stau des
Blatts zu vermeiden. Die anderen Plattenheizer 240 und 240c können einen ähnlichen
Aufbau haben.
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8(a) bis 8(c) zeigen
eine Wärmebehandlungsvorrichtung
der sechsten Ausführungsform
der Erfindung. 8(a) ist eine schematische Ansicht,
die eine Wärmebehandlungsvorrichtung
zeigt, die ein Beispiel für
einen Drehzustand der Andrückwalzen
aufweist. Die Drehwalze 230, die mit ihrer Außenfläche eine Hüllkurve
für sämtliche
Andrückwalzen 322a, 322 und 322c definiert,
befindet sich in Berührung
mit jeder dieser Andrückwalzen.
Wenn die Drehwalze 230 gedreht wird, können sämtliche Andrückwalzen 322 drehen.
Die Außenseiten
der Andrückwalzen 322a, 322b und 322c bilden
eine bogenförmige
Fläche
als Passage für
das Flachstück
A, wobei sich auf der gegenüberliegenden
Seite des Flachstücks
A in bezug auf die Passage die Plattenheizer 320a, 320 und 320c befinden.
Wenn diese ausschließlich
aus einem wärmeleitenden
Material bestehen, können
die Heizwalzen 210a, 210 und 210c auf
der Rückseite
abgewandt von den Andrückwalzen 322a, 322b und 322c angeordnet
sein. Die Plattenheizer 320a, 320, 320c können Heizelemente
sein oder können
so aufgebaut sein, daß sie
Plattenelemente bein halten, die ihrerseits aus wärmeleitendem Material bestehen
und Wärmequellen
zugeordnet sind, die zur Erhitzung des Flachstücks A entgegen den Oberflächen der Plattenelemente
angeordnet sind.
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8(b) ist eine auseinandergezogene perspektivische
Ansicht, die die in 8(a) dargestellte
Wärmebehandlungsvorrichtung
zeigt. Wie in der Zeichnung zu sehen ist, befinden sich die Plattenheizer 320a, 320 und 320c an
einer Stelle, in der sie die Drehwalze 230 und die Andrückwalzen 322a, 322 und 322c bedecken. Jeder
der Plattenheizer 320a, 320 und 320c bedeckt
jede der Andrückwalzen 322a, 322b und 322c,
und jeder der Plattenheizer 320a, 320 und 320c ist
unabhängig
voneinander angeordnet.
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8(c) ist eine perspektivische Ansicht von Zuständen der
Plattenheizer. Die Oberfläche
des Plattenheizers 320a, die mit dem Flachstück in Berührung steht,
ist mit einer Vernickelung ausgestattet. Der Plattenheizer 320a,
der mit elektrischer Leistung von einem Anschluß 220 gespeist wird,
besitzt einen Flachstückeinleitbereich
mit großer
Dicke. Um das Heizgerät
einfach vernickeln zu können,
hat die Oberfläche
des Plattenheizers 320a, die mit dem Flachstück in Berührung kommt,
eine flache Oberfläche.
Die anderen Plattenheizer 320 und 320c haben einen ähnlichen
Aufbau.
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9 ist
eine perspektivische Ansicht eines weiteren Beispiels des Plattenheizers
der in 8(c) gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung.
Der erste Plattenheizer 320a am Einlaßbereich für das Flachstück A ist
mit mindestens drei Gummiheizern 211, 212 und 213 ausgestattet,
die erhalten werden durch Aufteilen in Breitenrichtung in bezug
auf die Transportrichtung des Flachstücks A. Auf diese Weise kann
die Temperatur unabhängig
für jeden
der Gummiheizer 211, 212 und 213 eingestellt
werden. Die elektrische Leistungsdichte kann gleichmäßig gemacht
werden. Temperatursensoren 221, 222 und 223,
die den Heizern 211, 212 und 213 entsprechen,
befinden sich auf der stromabwärtigen
Seite des Plattenheizers 320a, die mit den Gummiheizern 211, 212 und 213 ausgestattet
sind. Um zu verhindern, daß es
an den Grenzen der Heizgeräte
zu unregelmäßigen Temperaturen
kommt, sind die Widerstandsleitungen der benachbarten Heizgeräte in Breitenrichtung
in Zickzack-Art verdrahtet.
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Im
Ergebnis kann die Verteilung der Heizbereiche der Plattenheizer
derart gestaltet werden, daß der Temperaturgradient
so ausfällt,
daß die
Temperaturen an den beiden Endbereichen höher sind als die Temperatur
in anderen Bereichen, um eine Temperaturabsenkung zu kompensieren,
die ihre Ursache hat in der Abstrahlung an den beiden Endbereichen.
Wenn daher Flachstücke
mit unterschiedlichen Breiten mit Hilfe von Wärme in derselben Vorrichtung
entwickelt werden, läßt sich
eine Verschlechterung der Temperaturverteilung verhindern.
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Die
benachbarten Abschnitte unter den Gummiheizern 211, 212 und 213 sind
ineinander eingreifend nach An von Kammzähnen ausgebildet, wobei zwischen
den Heizeinrichtungen ein vorgegebener Spalt freigelassen ist. Im
Ergebnis kann die Beeinflussung der Spalte, bei denen es sich um
nicht heizende Bereiche handelt, auf das Flachstück A ausgeschlossen werden.
Das heißt,
man erzielt eine gleichmäßige Beheizung.
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10 ist
eine schematische Ansicht eines Beispiels für die Arbeitsweise der Andrückwalze
der Wärmebehandlungsvorrichtung
gemäß eine siebten
Ausführungsform
der Erfindung. 10 zeigt den Aufbau der Plattenheizer 360a, 360b und 360c mit
einem ähnlichen
Aufbau wie die Plattenheizer 320a, 320b und 320c nach 8(a). Ihre Oberflächen, die mit dem Flachstück A in
Berührung
treten, sind gewölbt.
Die obigen Plattenheizer 360a, 360b und 360c und
die Walzen 362a, 362b und 362c definieren
eine Kreisbogenform und sind sequentiell in dieser Reihenfolge angeordnet.
Hierdurch wird ein Flachstück
A geleitet.
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Da
die Plattenheizer 360a, 360b und 360c ähnlich untereinander
sind, wird nur der Plattenheizer 360a beschrieben, die übrigen Plattenheizer 360b und 360c haben
einen ähnlichen
Aufbau.
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Im
folgenden soll der Aufbau der Wärmebehandlungsvorrichtung 358 näher erläutert werden.
Die Passage, durch die das Flachstück A geleitet wird, bildet
einen Kreisbogen mit einem vorspringenden Bereich benachbart zu
jedem Plattenheizer 360a. Das heißt: der Plattenheizer 360a besitzt
eine konkave Form entsprechend der Oberfläche zum Transpor tieren des
Flachstücks
A. Ein Endlostransportriemen 366 ist mit Hilfe einer Spannwalze 368 zwischen
den Andrückwalzen 362 angeordnet,
die gegen die konkave Oberfläche
des Plattenheizers 360a vorgespannt sind, um das Flachstück A zu
transportieren. An der Stelle der Andrückwalze 362 wird das
Flachstück
A zwischen dem Plattenheizer 360a und dem Transportband 366 gehalten.
Anschließend wird
beispielsweise die Spannwalze 368 gedreht, um das Transportband 366 zum
Weiterleiten des Flachstücks
A zu drehen.
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Das
Transportband 366 besitzt einen Reibungskoeffizienten bezüglich des
Flachstücks
A, der größer ist
als derjenige der Oberfläche
des Plattenheizers 360a bezüglich des Flachstücks A. Daher
kann das Flachstück
A relativ transportiert (gleitend bewegt) werden, während es
in Berührung
ist mit dem Plattenheizer 360a, um so zuverlässig transportiert
zu werden. Deshalb wird der Transporteur 366 in Berührung mit
der Gesamtfläche
des Flachstücks
A gebracht, so daß auf
dieses ein Druck mit einer ungleichmäßigen Verteilung verhindert
werden kann. Man kann also eine nicht gleichförmige Erhitzung verhindern.
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Als
Mittel zum Drehen des Transportbands 366 kann man eine
Drehwalze 230 verwenden, wie sie in 8(a) gezeigt
ist, um das Drehmoment auf die Andrückwalze 362 zu übertragen.
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Die
Oberfläche
des Transportbands 366 gegenüber dem Flachstücks A kann
zu einer bürstenähnlichen
Form angehoben sein. Im vorausgehenden Fall kann die Leistungsfähigkeit
des Transports zusätzlich
gesteigert werden. Wenn das Transportband 366 gaspermeabel
ist, kann das aufgrund der chemischen Änderung der Wärmeentwicklungsschicht
auf der Oberfläche
des Flachstücks
A entstehende Gas abgeleitet werden. Im Ergebnis läßt sich
das Haften zwischen Flachstück
A und Plattenheizer verbessern.
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11 ist
eine schematische Ansicht des Aufbaus einer Plattenentwicklungsvorrichtung
unter Verwendung der Wärmebehandlungsvorrichtung
nach der achten Ausführungsform
der Erfindung. Wie in 8 gezeigt ist,
besteht eine Wärmeentwicklungsvorrichtung 310 hauptsächlich aus
einem Aufzeichnungsmaterialzuführteil 12,
einem Breiten- Ausrichtungsteil 14,
einem Bildbelichtungsteil 16 und einer Wärmebehandlungsvorrichtung 318,
die in einer Reihenfolge entsprechend dem Transport eines Wärmeentwicklungs-Photomaterials
oder eines photoempfindlichen und thermoempfindlichen Aufzeichnungsmaterials
(im folgenden als „Flachstück A" bezeichnet) angeordnet
sind.
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Diese
Ausführungsform
unterscheidet sich von der Wärmeentwicklungsvorrichtung
gemäß der in 5 gezeigten
Ausführungsform
dadurch, daß die
Wärmebehandlungsvorrichtung
eine Bogentyp-Wärmebehandlungsvorrichtung 318 ist.
Die anderen Strukturelemente außer
der Wärmebehandlungsvorrichtung
sind ähnlich
wie bei der Wärmeentwicklungsvorrichtung
nach der vierten Ausführungsform,
weshalb Aufbau und Arbeitsweise nicht noch einmal beschrieben werden.
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Die
Wärmebehandlungsvorrichtung 318 dieser
Ausführungsform
hat den in 6 gezeigten Aufbau.
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Wie
oben beschrieben wurde, ist das Flachstück A ein Wärmeentwicklungs-Photomaterial
oder ein photoempfindliches und wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial.
Wenn die Wärmeentwicklung
jedes der Materialien erfolgt, besitzt jedes Material eine Temperatur,
bei der der Entwicklungsvorgang einsetzt. Der aktuelle Entwicklungsprozeß wird bei
einer Temperatur in Gang gesetzt, die wesentlich höher ist
als die vorstehend genannte Temperatur.
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Deshalb
ist es bevorzugt, möglichst
rasch die Temperatur soweit anzuheben, daß die Entwicklung einsetzt.
Wenn der Transfer in der Weise erfolgt, daß die Temperatur auf die Entwicklungsstarttemperatur
etwa am Ende des Heizvorgangs ansteigt, der von dem Plattenheizer 320a ausgeführt wird,
bleibt die Heiztemperatur auf etwa der Entwicklungsstarttemperatur
oder sinkt geringfügig
ab, bis das Flachstück
A zum nächsten Plattenheizer 320b transportiert
wird. Daher dispergiert der Transferdruck etwas. Im Ergebnis streut
die Zeit, zu der der Entwicklungsvorgang eingeleitet wird, an jeder
Stelle des Flachstücks,
was abträglichen
Einfluß auf ein
Bild hat (es kommt zu einer unregelmäßigen Dichte).
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Aus
diesem Grund wird der Transfervorgang so eingerichtet, daß die Temperatur
an dem ersten Plattenheizer 320a nicht auf die Entwicklungsstarttemperatur
angehoben wird. Darüber
hinaus wird die Temperatur beim nächsten Plattenheizer 320b auf
die Entwicklungsstarttemperatur angehoben. Damit läßt sich
der Prozeß der
Entwicklung noch exakter steuern.
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Dabei
ist es bevorzugt, wenn die Temperatur des Flachstücks an der
ersten Lücke
zwischen den Heizvorrichtungen geringer ist als der Entwicklungsstartpegel,
noch mehr bevorzugt erfüllt
die Temperatur die Bedingung, daß sie in einem Bereich zwischen
einem Pegel oberhalb der Zimmertemperatur von +40° und um –1°C unterhalb
der Entwicklungsstarttemperatur liegt. Obschon das obige Verfahren
zu einer etwas längeren Entwicklungszeit
führt,
läßt sich
mit den Maßnahmen
eine unregelmäßige Wärmeentwicklung
vermeiden.
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Eine
Wärmebehandlungsvorrichtung
nach einer neunten Ausführungsform
der Erfindung sowie eine Wärmeentwicklungsvorrichtung
gemäß der zehnten
Ausführungsform
unter Einsatz der neunten Ausführungsform
wird im folgenden anhand der Zeichnungen erläutert. 12 ist
eine perspektivische Ansicht, die die Form der Wärmebehandlungsvorrichtung nach
der neunten Ausführungsform
der Erfindung zeigt.
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Eine
Wärmebehandlungsvorrichtung 400 ist
aufgeteilt in einen Wärmebehandlungsteil 410 und
einen Kühlteil 450.
Ein Paar Außenabdeckungen 404 sind
an einem Rahmen 402 des Wärmebehandlungsteils 410 an
solchen Stellen befestigt, die den beiden seitlichen Enden des Flachstücks A entsprechen,
welches transportiert werden soll. Darüber hinaus befinden sich Wärmeelementabdeckungen 412A, 412B, 412C und 412D an
den paarweisen Abdeckungen 404 im Bereich der Außenstellen
des Wärmebehandlungsteils 410.
Die Außenabdeckungen 404 und
die Heizelementabdeckungen 412A, 412B, 412C und 412D schützen die
inneren Elemente (die weiter unten noch beschrieben werden) einer
Heizeinheit, die weiter unten erläutert wird, außerdem den
Wärmebehandlungsteil 410,
und sie isolieren die Wärme
der internen Elemente. Die Oberflächen jeder der Heizelementabdekkungen 412A, 412B, 412C und 412D kann
mit einer Füllung
ausgestattet sein, um die Bedienungsperson oder andere Personen
vor Verbrennungen durch Berührung
zu schützen.
Das Füllmaterial
muß ein
haarähnliches
Material mit einem Wärmewiderstand
bei etwa 150°C
haben, beispielsweise kann man 6-Nylon oder 66-Nylon verwenden.
Darüber
hinaus ist der Kühlteil 450 mit
dem stromabwärtigen
Bereich des Wärmebehandlungsteils 410 gekoppelt.
Darüber
hinaus dient eine Abdeckung 452 zur Wärmeisolierung und zur Sicherheit.
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13 ist
eine schematische Ansicht, die den internen Aufbau und eine Transferpassage
der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung
zeigt. Die Erwärmungs-
und Transferstrukturen in dem Wärmebehandlungsteil 410 sind
im wesentlichen die gleichen wie bei der in 6 gezeigten
Wärmebehandlungsvorrichtung.
Das bedeutet: mit Plattenheizern 417A, 417B, 417C und 417D,
die gebogene Flächen 424A, 424B, 424C und 424D aufweisen,
ausgestattete Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D befinden
sich sequentiell unterhalb den Heizelementabdeckungen 412A, 412B, 412C und 412D bei
Betrachtung von Stellen stromaufwärts. Die Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D sind
entlang den gebogenen Flächen 424A, 424B, 424C und 424D mit
mehreren Druckwalzen 422A, 422B, 422C und 422D ausgestattet,
so daß der
gesamte Körper
eine sequentielle Kreisbogenform definiert.
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Mitläuferzahnräder 423A, 423B, 423C und 423D befinden
sich an den axialen Enden der Andruckwalzen 422A, 422B, 422C und 422D.
Ein Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 wird
von dem Rahmen 402 an einer Stelle gelagert, an der das
Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 in
die Andruckwalzen 422A, 422B, 422C und 422D eingreift,
so daß die
Achse des Andrückwalzen-Antriebszahnrads 408 die
Mitte der Kreisbogenkonfiguration der Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D ist.
Das Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 ist über ein
Mitläuferzahnrad 406 in
Dreheingriff mit einem Hauptantriebszahnrad 440, welches
sich unterhalb des Wärmebehandlungsteils 410 an
dem Rahmen 402 abstützt.
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Paarweise
Zuführwalzen 416 befinden
sich stromaufwärts
bezüglich
der Heizeinheit 420A, um das Flachstück A zuverlässig in den Wärmebehandlungsteil 410 einzuleiten.
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Das
Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 kann
so aufgebaut sein, daß es
die paarweisen Zuführwalzen 416 ebenfalls
dreht.
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Da
das Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 die
paarweisen Zuführwalzen 416 und
die Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D dreht,
läßt sich
der Transport des aufgeheizten Flachstücks A glatt abwickeln.
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Wenn
die Wärmeleitfähigkeit
des Andrückwalzen-Antriebszahnrads 408 groß ist, kommt
es zu einer starken Wärmeabstrahlung
seitens des Wärmebehandlungsteils 410,
so daß vorzugsweise
ein Material wie beispielsweise ein Harzmaterial (zum Beispiel eine
Bakelit-Platte) mit hoher Wärmekapazität verwendet
wird. Die glatten Abschnitte können
aus Metall oder Glasfasermaterial bestehen, so daß sie eine
zufriedenstellende Haltbarkeit aufweisen.
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Das
Hauptantriebszahnrad 440 überträgt Drehmoment auf das Antriebskraft-Übertragungszahnrad 442A und überträgt ein Drehmoment
auf einen Antriebsriemen 444, der unter den Antriebskraft-Übertragungsrädern 442B, 442C, 442D, 442E und 442F angeordnet
ist. Auf diese Weise werden die Antriebswalzen und eine Lieferwalze 446 einer
Blatteinführwalze 414 sowie
der Kühlteil 450 gedreht.
Man beachte, daß individuelle Antriebsquellen
verwendet werden können.
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Paarweise
Wärmebehandlungsteil-Austragwalzen 418 sind
an stromaufwärtigen
Stellen bezüglich
der Heizeinheit 420D angeordnet. Der Kühlteil 450 befindet
sich in der Nachbarschaft der paarweisen Wärmebehandlungsteil-Austragwalzen 418.
Das Flachstück
A wird durch eine Blatttransferpassage A1 im Kühlteil 450 transportiert.
Anschließend
trägt eine
Austragwalze 446 das Flachstück A aus, dessen Temperatur
auf einen Wert abgesenkt wurde, der nicht höher ist als der der Entwicklung
vorausgehende Temperaturwert.
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Befindet
sich der Wärmebehandlungsteil 410 im
Bereitschaftszustand, so werden die drehenden Teile langsam gedreht,
um eine Wärmeabweichung
unter den Teilen zu vermeiden.
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Die
Spannungsversorgung, mit der die Heizeinheit versorgt werden kann,
läßt sich überwachen,
um den Heizwert so zu berechnen, daß man die Versorgungsspannung
oder das Erreger/Enterregersystem so einstellen kann, daß der gesamte
Heizwert gesteuert werden kann.
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14 ist
eine perspektivische Ansicht des Aufbaus der Heizeinheit 420B von
Heizeinheiten der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung.
Da der Aufbau der Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D im
wesentlichen der gleiche ist, soll im folgenden nur die Heizeinheit 420B beschrieben
werden.
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Wie
in der Zeichnung dargestellt ist, werden der Plattenheizer 417B und
jede Andrückwalze 422B zwischen
paarweisen Heizelement-Seitenplatten 421B gehalten. Ein
Folgerzahnrad 423B an dem axialen Ende der Andrückwalze 422B befindet
sich außerhalb
der Heizelement-Seitenplatte 421B. Haltestifte 428B zum
Sichern der Heizeinheit 420B an dem Rahmen 402 sind
in dem Bereich, in dem sich das Folgerzahnrad 423B befindet,
für jede
Heizelement-Seitenplatte 421B vorgesehen. Die Andrückwalze 422B ist
benachbart zu dem Plattenheizer 417B durch ein Lager 429B gehalten,
um gegenüber
der Heizelement-Seitenplatte 421B drehbar zu sein. Das
Lager 429B wird von einem Belastungselement 426B,
das durch die Heizelement-Seitenplatte 421B mit einem Halteelement 427B gehalten
wird, in Richtung einer gewölbten
Oberfläche 424B des
Plattenheizer 417B vorgespannt. Obschon das Halteelement 427B an
der Heizelement-Seitenplatte 421B in der Zeichnung mit
Schrauben befestigt ist, kann man auch von einer Schweißung oder
einem Klebstoff Gebrauch machen.
-
Das
Material für
jede Andrückwalze 422A, 422B, 422C und 422D ist
Silicium, um eine zufriedenstellende Übertragung und eine zufriedenstellende
Wärmeisolierung
zu erreichen. Schmiermittel des Lagers 429B besitzt eine
Hitzebeständigkeit
bis etwa 150°C.
-
15 ist
ein Diagramm der Wärmeentwicklungsvorrichtung
nach 13, betrachtet entlang der Linie X-X.
-
Wie
in 13 zu sehen ist, ist die Andrückwalze 422B durch
das Lager 429B des Trägerelements 425B,
das von der Heizelement-Seitenplatte 421B gesichert wird,
drehbar gelagert. Der durch das Trägerelement 425B und
das Lager 429B gebildete Aufbau ermöglicht, daß die Welle der Andrückwalze 422B in
einer Richtung zu dem Plattenheizer 417B über eine
vorbestimmte Distanz bewegt werden kann. Wenn das Flachstück A zu
einer Stelle transportiert wurde, die sich zwischen der Andrückwalze 422B und
dem Plattenheizer 417B befindet, wird die vorerwähnte Lücke vergrößert. Da
das Lager 429B von dem Belastungselement 426B in
Richtung des Plattenheizers 417B gedrängt wird, wird auf das Flachstück A ein
erforderlicher Druck in der Weise aufgebracht, daß das Flachstück ohne
Lücke in
Berührung
mit dem Plattenheizer 417B gebracht wird.
-
In
einem Zustand, in welchem das Flachstück A nicht eingeführt ist,
befinden sich das Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 und
das Folgerzahnrad 423B in enger Nachbarschaft ohne gegenseitigen
Eingriff. Nach dem Einleiten des Flachstücks A wird die Lücke zwischen
der Andrückwalze 422B und
dem Plattenheizer 417B vergrößert, wie oben ausgeführt wurde.
In diesem Fall wirkt das Folgerzahnrad 423B mit einem Teilkreis
des Andrückwalzen-Antriebszahnrads 408 zusammen,
und als Ergebnis dieser Anordnung drehen sich die Andrückwalzen,
die gerade das Flachstück
A nicht halten, nicht. Folglich läßt sich eine Belastung, die
zum Drehen des Andrückwalzen-Antriebszahnrads 408 aufzubringen
ist, verringern.
-
Die
Lücke zwischen
der Andrückwalze 422B und
dem Plattenheizer 417B, die in einem Zustand gehalten wird,
in welchem das Flachstück
A nicht eingeleitet wird, ist etwas kürzer als die Dicke des Flachstücks A. Wenn
die Dicke des Flachstücks
A 0,2 mm beträgt,
ist eine geeignete Lücke
etwa 0,15 mm breit. Im obigen Fall ist es bevorzugt, wenn der Abstand, über den
die Welle der Andrückwalze 422B bewegt
werden kann, etwa 0,05 mm bis 0,65 mm beträgt. Da die Differenz zwischen
dem Durchmesser der Andrückwalze 422B und demjenigen
des Lagers 429B konstant ist, wird dieser Umstand dazu
genutzt, die Genauigkeit der Lücke
zwischen der Andrückwalze 422B und
dem Plattenheizer 417B zu verbessern.
-
Der
Heizteil des Plattenheizer 417B ist derart ausgebildet,
daß eine
Platte gegenüber
der Andrückwalze 422B vorgesehen
ist und eine Silikonkautschuk-Heizvorrichtung mit einem Schichtaufbau
mit eingelegtem Heizdrahtmuster an der Rückseite gegenüber der
Andrückwalze 422B angebracht
ist. Zu diesem Anbringen werden die Metallplatte und die Silikonkautschuk-Heizvorrichtung,
die noch nicht vulkanisiert ist, integral miteinander geformt. Auf
diese Weise werden in einem Hub die Vulkanisierung der Silikonkautschuk-Heizvorrichtung und
das Anbringen der Metallplatte erreicht. Als Ergebnis des oben geschilderten
Prozesses werden die Silikonkautschuk-Heizvorrichtung und die Metallplatte
in innige Berührung
ohne jegliche Lücke
miteinander gebracht. Hierdurch läßt sich eine nicht normale
Aufheizung vermeiden, die ein Anschmelzen oder Verbrennen des Silikonkautschuks
zur Folge hat aufgrund des Entstehens einer Lücke.
-
16 ist
eine Horizontalschnittansicht und zeigt einen Heizeinheitenteil
der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung.
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14 zeigt
den Zusammenhang der Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D unter
den Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D.
Wie oben beschrieben, wird jede der Andrückwalzen durch Belastungselemente 426A, 426B, 426C und 426D,
die an Halteelementen 427A, 427B, 427C und 427D befestigt
sind, in eine vorbestimmte Position in Richtung der Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D gedrängt. Jedes
der Belastungselemente 426A, 426B, 426C und 426D ist
so aufgebaut, daß es
eine Feder aufnimmt und mit einem nicht gezeigten Anschlag zusammenwirkt,
der für
jedes der Halteelemente 427A, 427B, 427C und 427D vorhanden
ist. Auf diese Weise wird jede Andrückwalze vorgespannt.
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Die
Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D sind
mit Anschlüssen 415A, 415B, 415C und 415D zum
Zuspeisen elektrischer Leistung versehen.
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Eine
Neigung jeder der Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D bewirkt,
daß Einflüsse der
gewichteten Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D auf
die Belastungselemente 426A, 426B, 426C und 426D in
unerwünschter
Weise voneinander abweichen. Um die Anpreßkraft, die auf das Flachstück A einwirkt,
konstant zu machen, muß die
Vorspannkraft jedes der Belastungselemente für jede Heizeinheit geändert werden. Deshalb
werden die Federn in den Belastungselementen, die gleiche Federkonstante
haben, und die Positionen der Anschläge für die Halteelemente 427A, 427B, 427C und 427D derart
variiert, daß die
erforderliche Vorspannkraft erzielt wird. Bei dem in 14 gezeigten
Aufbau befinden sich die Anschläge
in ausgeschnittenen Bodenbereichen 436A, 436B, 436C und 436D der
Halteelemente 427A, 427B, 427C und 427D.
Die Halteelemente an verschiedenen eingeschnittenen Bodenbereichen 436A, 436B, 436C und 436D dienen
zur Justierung der Vorspannkraft jedes der Belastungselemente.
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17 ist
eine teilperspektivische Ansicht und zeigt die in 12 dargestellte
Wärmebehandlungsvorrichtung
in einem Zustand, in welchem die äußere Abdeckung und die Heizelementabdeckung
entfernt sind.
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Ausschnitte 432A, 432B, 432C und 432D zum
Halten der Heizeinheiten befinden sich an Stellen der Oberfläche des
Rahmens 402, an denen die Heizeinheiten angeordnet sind.
Damit werden paarweise Trägerstifte 428A, 428B, 428C und 428D für die Heizeinheiten
aufgenommen. Feste Platten 430A, 430B, 430C und 430D sind
an den jeweils einen paarweisen Trägerstiften vereint. Die festen
Platten 430A, 430B, 430C und 430D sind
an dem Rahmen 402 derart befestigt, daß die Heizeinheiten an vorbestimmten
Stellen festgelegt sind. In der in der Zeichnung dargestellten Struktur
ist jede der festen Platten mit einer Fixierschraube gesichert.
Die Teile der Trägerzapfen 428A, 428B, 428C und 428D,
die Berührung
mit dem Rahmen 402 haben, sind aus einem Material mit geringer
Wärmeleitfähigkeit
gefertigt. Deshalb läßt sich
eine unerwünschte
Wärmeabstrahlung
von den Heizeinheiten verhindern.
-
Im
Ergebnis läßt sich
das Anbringen und das Abnehmen der Heizeinheiten an bzw. von dem
Rahmen in einfacher Weise durchführen.
-
Man
beachte, daß an
das Folgerzahnrad 406 direkt ein Handgriff 406A angebracht
ist, damit die Andrückwalze
von Hand gedreht werden kann, sollte es zu einem Stau des Flachstücks A kommen.
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18 ist
eine vergrößerte Ansicht,
die den Kühlteil
der in 13 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung
veranschaulicht.
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Jede
Kühlwalze 460 des
Kühlteils 450 ist
so angeordnet, daß der
Flachstücktransportpassage
A1 für das
Flachstück
A eine vorbestimmte Krümmung
R verliehen wird. Damit wird das Flachstück A mit der vorbestimmten
Krümmung
R soweit transportiert, bis das Flachstück A auf eine Glasübergangstemperatur
des Materials des Flachstücks
A abgekühlt
ist. Da die Krümmung
dem Flachstück
A mit Absicht aufgeprägt
wird, läßt sich
eine unerwünschte
Kräuselung
des Flachstücks
A verhindern, bevor dieses auf die Glasübergangstemperatur abgekühlt ist.
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Wenn
die Temperatur auf einen Wert gesenkt ist, der nicht höher als
die Glasübergangstemperatur
ist, läßt sich
die Ausbildung einer neuerlichen Kräuselung verhindern. Damit läßt sich
die Streuung sich ausbildende Kräuselungen
verhindern.
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Um
eine unerwünschte Änderung
der Dichte zu vermeiden, indem die Zeit konstant gemacht wird, bei der
die Temperatur auf einen Wert abgesenkt ist, der nicht größer ist
als der der Entwicklung vorausgehende Wert, ist es zu bevorzugen,
wenn folgender Prozeß durchgeführt wird:
Die
Temperatur der Innenatmosphäre
jeder der Kühlwalzen 460 und
des Kühlteils 450 kann
eingestellt werden. Die vorausgehende Einstellung der Temperatur
ermöglicht,
daß der
Zustand unmittelbar nach Beginn des Betriebs der Wärmebehandlungsvorrichtung
und ein Zustand, der nach einer ausreichenden Betriebszeit gegeben
ist, im wesentlichen gleich sind. Hierdurch läßt sich eine Dichteänderung
einschränken.
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Wie
ebenfalls aus 12 entnehmbar ist, sind für die Kühlabdeckung 452 Öffnungen
vorgesehen, wobei die Anzahl dieser Öffnungen in stromabwärtiger Richtung
erhöht
ist. Damit ist keine Steuereinheit erforderlich, um das Abkühlen entsprechend
einer akzeptierbaren Temperaturabsinkkurve durchzuführen. Wenn
die Kühlwalze 460 in
Form eines Rohrs mit zwei Enden aus einem Material geringer Wärmeleitfähigkeit
verwendet wird, läßt sich
die Wärmekapazität verringern.
Darüber
hinaus läßt sich
die Differenz der Temperatur zwischen dem Zustand unmittelbar nach
Beginn des Betriebs der Wärmebehandlungsvorrichtung
und einem Zustand nach ausreichend langer Betriebszeit verringern.
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Über die
Oberfläche
der Kühlwalze 460 ist
spiralförmig
ein textiler Filz gewickelt. Als Ergebnis dieser Struktur ist ein
andauernder Kontakt des Saums des Filzes mit der gleichen Stelle
des Flachstücks
A möglich. Deshalb
verbleibt keinerlei Markierung von dem Saum.
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19 ist
eine schematische Strukturansicht und zeigt den Innenaufbau und
die Transportpassage der Wärmebehandlungsvorrichtung
gemäß einer
weiteren Ausführungsform
der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung.
Gleiche Elemente der Wärmebehandlungsvorrichtung 470 wie
bei der Vorrichtung nach 13 tragen
gleiche Bezugszeichen.
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In
einem von den Heizelementabdeckungen 412A, 412B, 412C und 412D gebildeten
Innenbereich besitzen Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D,
die Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D enthalten, jeweils
eine gebogene Oberfläche
und sind sequentiell ausgehend von einer stromaufwärtigen Stelle
angeordnet. Darüber
hinaus sind die Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D mit
mehreren Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D ausgestattet,
die entlang den gekrümmten
Oberflächen 424A, 424B, 424C und 424D angeordnet
sind. Damit ist die Gesamtform eine Kreisbogenform.
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Die
Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D sind
derart aufgebaut, daß Endlostransportbänder 476A, 476B, 476C und 476D,
die zwischen den Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D angeordnet
sind, zwischen den Plattenheizern 417A, 417B, 417C und 417D und
den Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D angeordnet
sind. Ähnlich
wie bei den Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D, üben Spannwalzen 467A, 467B, 467C und 467D,
die von Heizelement-Seitenplatten 421A, 421B, 421C und 421D getragen
werden, Spannung auf die Endlostransportbänder 476A, 476B, 476C und 476D aus.
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Als
Ergebnis der oben geschilderten Struktur wird das Flachstück A unter
den Plattenheizern 417A, 417B, 417C und 417D und
den Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D an
der Stelle jeder der Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D gehalten.
Zum Transport des Flachstücks
A werden die Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D gedreht.
-
Als
Drehsystem zum Drehen der Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D kann
von einer ähnlichen
Struktur Gebrauch gemacht werden, wie sie für die in 13 gezeigte
Wärmebehandlungsvorrichtung vorgesehen
ist, wobei ein Walzendrehzahnrad 408, das drehbar von einem
Rahmen 402 gelagert ist, mit den Folgerzahnrädern 423A, 423B, 423C und 423D kämmt, die
an dem axialen Ende der Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D angeordnet
sind. Es kann von einer anderen Struktur Gebrauch gemacht werden,
bei der ein Zahnrad ähnlich
dem Walzen-Drehantriebszahnrad 408 mit den Spannwalzen 467A, 467B, 467C und 467D zusammenwirkt.
-
Jeder
der Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D besitzt
in bezug auf das Flachstück
A einen Reibungskoeffizienten, der größer ist als derjenige der Oberfläche jedes
der Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D in
bezug auf das Flachstück
A. Daher kann das Flachstück
A relativ hierzu bewegt (verschoben) werden, so daß es zuverlässig transportiert
wird, während
das Flachstück
Berührung
mit der Oberfläche
der Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D hat.
Aus diesem Grund werden die Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D in
Berührung
mit der Gesamtfläche
des Flachstücks
A gebracht. Im Ergebnis läßt sich
eine ungleichmäßige Aufheizung
vermeiden.
-
Die
Oberflächen
der Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D gegenüber dem
Flachstück
A können
bürstenähnlich erhaben
ausgebildet sein. Im obigen Fall läßt sich die Transportleistung
noch weiter steigern. Wenn die Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D variabel
sind, wird Gas abgeleitet, welches aufgrund einer chemischen Änderung
in der Wärmebehandlungsschicht
der Oberfläche
des Flachstücks
A entsteht. Im Ergebnis läßt sich
das Haften zwischen dem Flachstück
A und dem Plattenheizer zusätzlich
verbessern.
-
20 ist
eine schematische Ansicht des Aufbaus einer Wärmeentwicklungsvorrichtung
mit der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung
gemäß der zehnten
Ausführungsform
der Erfindung. Deshalb besteht so wie in 11 die
Wärmeentwicklungsvorrichtung 500 hauptsächlich aus
einem Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 522, 524,
einem Breitenausrichtungsteil 514, einem Bildbelichtungsteil 516 und
der Wärmebehandlungsvorrichtung 400,
die in der Reihenfolge des Transports eines Wärmeentwicklungs-Photomaterials oder
eines photoempfindlichen oder thermoempfindlichen Aufzeichnungsmaterials
(im folgenden „Flachstück A") angeordnet sind.
Der Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 522, 524 entspricht
dem Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 22, 24.
Der Breitenausrichtungsteil 514 entspricht dem Breitenausrichtungsteil 14. Der
Bildbelichtungsteil 516 entspricht dem Bildbelichtungsteil 16.
Die Wärmebehandlungsvorrichtung 400 entspricht
der Wärmebehandlungsvorrichtung 18.
Das „Flachstück A" wird der Flachstücktransportwalze 414 der Wärmebehandlungsvorrichtung
mit Hilfe der Transportwalzen 564 und 566 zugeleitet,
nachdem es im Bildbelichtungsteil 516 belichtet wurde.
Eine Elektroenergiequelle 555 und ein Steuerteil 550 befinden
sich unterhalb der Wärmeentwicklungsvorrichtung.
-
Die
Wärmebehandlungsvorrichtung 400 nach
dieser Ausführungsform
ist in der in den 12 bis 18 dargestellten
Weise angeordnet und ausgebildet. Die übrigen Teile außer der
Wärmebehandlungsvorrichtung
sind ähnlich
jenen der Wärmeentwicklungsvorrichtung
nach der ersten Ausführungsform,
so daß die Beschreibung
der Strukturmerkmale und der Arbeitsweise dieser Teile entfällt.
-
[Beispiel 1]
-
Die
in 8 dargestellte Wärmebehandlungsvorrichtung
diente für
einen Vergleich zwischen einem Aufbau, bei dem das plattenähnliche
Heizelement in drei Abschnitte unterteilt ist (erste Ausführungsform)
und einer Struktur, bei der ein Einplatten-Heizelement verwendet
wird (Vergleichsbeispiel 1).
-
Die
Wärmebehandlungsvorrichtung
nach 6 beinhaltet die Plattenheizer 320a, 320b und 320c,
die jeweils eine Oberfläche
haben, die in Berührung
mit dem Flachstück
steht und mit einem Nickelüberzug
versehen ist. Um die Dicke jedes der Plattenheizer 320a, 320b und 320c in
den Flachstückeinleitbereichen
zu vergrößern und
ein einfaches Binden der Heizvorrichtung zu erreichen, wird die
rückwärtige Seite
abgewandt von der Fläche,
die in Berührung
mit dem Flachstück
steht, als flaches Teil ausgebildet. Eine Heizvorrichtung 210 ist
eine Gummiheizvorrichtung zum Realisieren einer gleichmäßigen elektrischen
Leistungsdichte von 5 kw/m2 ohne lokale
Streuung.
-
Die
Temperatur der Platte wurde auf 120°C eingestellt. Als die Temperatur
auf das vorausgehende Niveau angestiegen war, wurden 20 Halbschnitt-Flachstücke A sukzessive
in Abständen
von 8 Sekunden zugeführt,
damit sie einer Wärmebehandlung
ausgesetzt wurden.
-
Wie
aus der Tabelle 1 entnehmbar ist, ermöglichte das Aufteilen der Platte,
die Differenz der Temperatur während
der Wärmebehandlung
im Vergleich zu dem herkömmlichen
Aufbau zu reduzieren. Damit ließ sich
die Qualität
verbessern, die durch die Wärmebehandlung
erreicht wurde.
-
-
[Beispiel 2]
-
Die
in 8 gezeigte Wärmebehandlungsvorrichtung wurde
dazu benutzt, einen Vergleich zwischen der Struktur, in der das
plattenähnliche
Heizelement in drei Abschnitte aufgeteilt war (erste Ausführungsform) und
eine Struktur zu machen, bei der ein Einplatten-Heizelement verwendet
wurde (Vergleichsbeispiel 1).
-
Die
Temperatur der Platte wurde auf 120°C eingestellt. Als die Temperatur
auf den vorhergehenden Wert angestiegen war, wurden sukzessive 20
Halbschnitt-Flachstücke
A in Intervallen von 8 Sekunden zugeführt, damit sie einer Wärmebehandlung
unterzogen wurden. Die Entwicklungsdauer für das Flachstück betrug 20
Sekunden.
-
Wie
aus Tabelle 2 entnehmbar ist, ermöglichte das Aufteilen der Platte,
die Dichtedifferenz als Ergebnis der Wärmeentwicklung zu reduzieren
im Vergleich zu der herkömmlichen
Struktur. Damit ließ sich
die Qualität
der Wärmebehandlung
verbessern.
-
-
[Beispiel 3]
-
Die
in 6 dargestellte Wärmebehandlungsvorrichtung wurde
hergenommen für
einen Vergleich zwischen einer Struktur, bei der das plattenähnliche
Heizelement in drei Abschnitte unterteilt war (erste Ausführungsform)
und einer Struktur, in der ein Einplatten-Heizelement verwendet wurde (Vergleichsbeispiel
1).
-
Die
Temperatur der Platte wurde eingestellt. Als die Temperatur auf
den vorhergehenden Wert angestiegen war, wurden 20 Halbschnitt-Flachstücke A sukzessive
in Intervallen von 8 Sekunden zugeführt, damit sie einer Wärmebehandlung
unterzogen wurden.
-
Wie
sich aus der Tabelle 3 ergibt, ermöglichte die Aufteilung der
Platte, die sich als Ergebnis der Wärmeentwicklung einstellende
Dichtedifferenz im Vergleich zur herkömmlichen Struktur zu verringern.
Damit wurde die Qualität
der Wärmebehandlung
verbessert.
-
-
[Beispiel 4]
-
Die
vierte Ausführungsform
der Plattenheizer der in 9 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung wurde
zum Durchführen
einer Wärmeentwicklung
eingesetzt. Temperatursensoren 221, 222 und 223 entsprechend
den Heizgeräten 211, 212 und 213 befinden
sich an den hinteren Enden der Platten. Um das Auftreten einer unregelmäßigen Temperatur
an den Grenzen zwischen den Heizgeräten zu vermeiden, sind die
Widerstandsdrähte
der benachbarten Heizgeräte
in Breitenrichtung zickzackförmig
angelegt. Die Temperatur der Platte wurde auf 120°C eingestellt.
Als die Temperatur auf den vorhergehenden Wert gestiegen war, wurden 20
Halbschnitt-Flachstücke
A in Intervallen von 8 Sekunden für eine Wärmebehandlung zugeführt. Die
Wärmebehandlungsdauer
betrug 20 Sekunden. Das Flachstück
A besaß eine
Halbschnittgröße (14'' × 17") (35,56 × 43,18
cm) oder acht mal zehn (8'' × 10'')
(20,32 × 25,40
cm).
-
Wie
sich aus der Tabelle 4 ergibt, wurde die Heizeinrichtung benachbart
zum Flachstückeinlaßbereich in
drei Abschnitte unterteilt, bei denen es sich um die Heizgeräte 211, 212 und 213 handelt,
und zwar in Breitenrichtung. Damit verringerte sich die aus der
Wärmeentwicklung
resultierende Dichtedifferenz, falls das Flachstück eine andere Breite hatte.
Die Qualität
der Entwicklung wurde hierdurch verbessert.
-
-
Im
folgenden wird das Flachstück
A beschrieben. Das photographische photoempfindliche Material enthält ein photoempfindliches
Material zur Verwendung beim Naßentwicklungsverfahren,
bei dem von einer Verarbeitungslösung
Gebrauch gemacht wird, die eine Entwicklerlösung und eine Fixierlösung enthält, um ein auf
einem photoempfindlichen Material gebildetes latentes Bild in ein
sichtbares Bild umzuwandeln. Darüber hinaus
enthält
das photoempfindliche Material ein Material zur Verwendung bei einem
Trockenentwicklungsverfahren, welches von keiner Verarbeitungslösung Gebrauch
macht.
-
Beispiele
für die
Trockenentwicklung beinhalten folgende Verfahren:
- (1)
Ein Verfahren, bei dem ein entsprechend einem Bild belichtetes photoempfindliches
Material mit einem Bildaufnahmematerial laminiert wird und das Laminat
dann erhitzt wird (und gegebenenfalls mit Druck beaufschlagt wird),
damit ein dem auf dem photoempfindlichen Material durch die Belichtung
erzeugten latenten Bild entsprechendes Bild auf ein Bildaufnahmematerial übertragen
wird (beispielsweise Verfahren gemäß den japanischen Patent-Offenlegungsschriften
Nr. 5-113629, Nr. 9-258404, Nr. 9-61978, Nr. 8-62803, Nr. 10-71740,
Nr. 9-152705, der japanischen Patentanmeldung Nr. 10-90181, der
japanischen Patentanmeldung Nr. 10-13326 und der japanischen Patentanmeldung
Nr. 10-18172).
- (2) Ein Verfahren, bei dem ein photoempfindliches, entsprechend
einem Bild belichtetes Material mit einem Material laminiert wird,
welches verarbeitet werden muß,
und das Laminat dann erhitzt wird, so daß ein Bild, welches einem durch
die Belichtung auf dem photoempfindlichen Material entstandenen
latenten Bild entspricht, auf dem photoempfindlichen Material entsteht
(beispielsweise Verfahren nach der japanischen Patent-Offenlegungsschrift
Nr. 9-274295 und der japanischen Patentanmeldung Nr. 10-17192).
- (3) Ein Verfahren, bei dem ein photoempfindliches Material mit
einer photoempfindlichen Schicht, in der Silberhalogenid als Photokatalysator
dient, Silbersalz als bilderzeugende Substanz dient und ein Reduziermittel
für Silberionen
in einem Bindemittel dispergiert ist, mit einem Bild belichtet wird,
woraufhin das photoempfindliche Material auf eine vorbestimmte Temperatur
erwärmt
wird, so daß ein
durch die Belichtung entstandenes latentes Bild zu einem sichtbaren
Bild wird (beispielsweise Verfahren, die offenbart sind in „Thermally
Processed Silver Systems" (Imaging
Processes and Materials) Neblette, Vol. 8, Sturge, V. Walworth and
A shepp, S. 2, 1996, Research Disclosure 17029 (1978), EP80376A1 , EP803765A1 und japanische
Patent-Offenlegungsschrift Nr. 8-211521).
- (4) Ein Verfahren unter Verwendung eines photoempfindlichen
und wärmeempfindlichen
Aufzeichnungsmaterials, derart angeordnet und ausgebildet, daß eine photoempfindliche
und wärmeempfindliche
Aufzeichnungsschicht ein Aufzeichnungsmaterial enthält, welches
einen durch Elektronen freisetzbaren farblosen Farbstoff enthält, der
in auf Wärme
ansprechenden Mikrokapseln eingekapselt ist, eine Verbindung, die
im selben Molekül
eine Elektronenaufnahmestelle besitzt, außerdem einen polymerisierbaren
Vinylmonomer-Teil und einen Licht-Polymerisationsinitiator an der
Außenseite
der Mikrokapseln (beispielsweise ein Verfahren nach der japanischen
Patent-Offenlegungsschrift Nr. 4-249251).
Als Alternative hierzu beinhaltet ein Verfahren, bei dem eine photoempfindliche
und Wärmeempfindliche
Aufzeichnungsschicht ein Aufzeichnungsmaterial enthält, welches
einen durch Elektronen freisetzbaren farblosen Farbstoff enthält, eingekapselt
in eine auf Wärme
ansprechende Mikrokapsel, außerdem
eine Elektronenaufnahmeverbindung, ein polymerisierbares Vinylpolymer
und einen Licht-Polymerisationsinitiator auf der Außenseite
der Mikrokapsel (zum Beispiel ein Verfahren nach der japanischen
Patent-Offenlegungsschrift
Nr. 4-211252).
-
In
der vorliegenden Beschreibung werden die photoempfindlichen Materialien
und die Aufzeichnungsmaterialien zur Verwendung bei der Trockenentwicklung
kollektiv als „Wärmeentwicklungs-Photomaterial" oder ähnlich bezeichnet.
Bei den Trockenentwicklungsverfahren (1) und (2) muß Wasser
in geringer Menge eingesetzt werden, um die Entwicklung und Bildentstehung
zu begünstigen.
-
Wie
oben beschrieben wurde, sind die Wärmebehandlungsvorrichtung mit
dem oben beschriebenen Aufbau und gemäß der Erfindung sowie die Wärmeentwicklungsvorrichtung,
die davon Gebrauch macht, derart ausgebildet, daß das Heizelement in der Richtung
unterteilt ist, in der ein Wärmeentwicklungs-Photomaterial-Flachstück oder
das photoempfindliche und wärmeempfindliche
Aufzeichnungsmaterialflachstück
transportiert wird, wobei die Temperaturen der entsprechenden Heizelemente
unabhängig
eingestellt und gesteuert werden. Damit läßt sich die Differenz der Temperatur
in dem Flachstück
verringern. Darüber
hinaus kann eine unregelmäßige Entwicklung
verhindert werden, die aufgrund einer Wärmebeeinträchtigung bei Verwendung des
Endlosbands entsteht. Außerdem
läßt sich
eine gleichmäßige Erhitzung
erreichen. Im Ergebnis läßt sich ein
hochqualitatives Bild frei von Entwicklungs-Unregelmäßigkeiten
erhalten.
