DE69809629T2 - Photoempfindliche Verbindungen, photoempfindliche Harzzusammensetzungen, und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Verbindungen oder dieser Zusammensetzungen - Google Patents

Photoempfindliche Verbindungen, photoempfindliche Harzzusammensetzungen, und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Verbindungen oder dieser Zusammensetzungen

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0878739B1 (de) * 1997-05-13 2002-11-27 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Photoempfindliche Verbindungen, photoempfindliche Harzzusammensetzungen, und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Verbindungen oder dieser Zusammensetzungen
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JP4036440B2 (ja) * 2002-03-29 2008-01-23 東洋合成工業株式会社 新規な感光性化合物及び感光性樹脂並びに感光性組成物
JP4637476B2 (ja) * 2002-12-19 2011-02-23 東京応化工業株式会社 ホトレジスト組成物の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL270002A (de) * 1960-10-08
JPS5239289B2 (de) * 1974-07-01 1977-10-04
JPH0742329B2 (ja) * 1986-03-18 1995-05-10 工業技術院長 感光性樹脂の製造方法
JPH02204750A (ja) * 1989-02-03 1990-08-14 Hitachi Ltd 感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
JP3428715B2 (ja) * 1994-02-23 2003-07-22 東洋合成工業株式会社 感光性樹脂組成物
US5866296A (en) * 1996-01-25 1999-02-02 Toyo Gosei Co., Ltd. Photosensitive resin composition
JP4093501B2 (ja) * 1997-05-13 2008-06-04 東洋合成工業株式会社 感光性化合物及び感光性樹脂
EP0878739B1 (de) * 1997-05-13 2002-11-27 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Photoempfindliche Verbindungen, photoempfindliche Harzzusammensetzungen, und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Verbindungen oder dieser Zusammensetzungen

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