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Gebiet der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung bezieht
sich auf eine Elektronenröhre
mit einem Transmissions-Elektronenvervielfacher.
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Allgemeiner Stand der
Technik
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Das US-Patent 3.478.213 beschreibt
eine Sekundäremissions-Transmissionsvorrichtung,
die dadurch die Verstärkung
eines Elektronenbilds erreicht, dass sie Elektronen veranlasst,
auf einen dünnen
Film bzw. eine dünne
Schicht eines Halbleitermaterials aufzutreffen, wodurch eine große Anzahl von
Sekundärelektronen
für jedes
auftreffende (Primär-)
Elektron erzeugt wird. Die Sekundärelektronen diffundieren durch
die Halbleiterschicht und werden von der gegenüberliegenden Seite der Schicht
emittiert, die mit einer monomolekularen Cäsiumschicht überzogen
ist, um die Austrittsarbeit der emittierenden Oberfläche zu verringern.
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In den vergangenen Jahren gewinnen
Vorrichtungen mit Diamantmaterial zunehmend Aufmerksamkeit als Elektronenvervielfacher
in der Elektronenröhre.
Der Grund, weshalb sich die Aufmerksamkeit auf Diamant konzentriert,
ist der, das Diamant eine negative Elektronenaffinität besitzt
und somit einen hohen Wirkungsgrad der Erzeugung von Sekundärelektronen
aufweist. In der Arbeit „Thin
Solid Films", 253
(1994) 151, ist ein Reflektions-Elektronenvervielfacher als ein
Beispiel für
einen Elektronenvervielfacher mit Diamant beschrieben. Dieser Elektronenvervielfacher
besteht aus einem Substrat aus Mo, Pd, Ti oder AlN oder dergleichen
und einer auf dem Substrat angeordneten Diamant-Dünnschicht,
deren Oberfläche
mit Wasserstoff terminiert ist, wodurch die Sekundärelektronen-Emissionseffizienz
verbessert wird.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Die Erfinder haben die oben beschriebene herkömmliche
Technik untersucht und dabei das folgende Problem festgestellt.
In der Diamant-Dünnschicht
des oben beschriebenen Reflektions-Elektronenvervielfachers ist
die Oberfläche,
auf die Primärelektronen
einfallen, zugleich auch die Oberfläche für die Emission von Sekundärelektronen.
Dadurch ergibt sich ein Problem, dass es beim Einfallen von Primärelektronen
in einer zweidimensionalen Verteilung auf die Diamant-Dünnschicht
und beim Emittieren von Sekundärelektronen
in einer ebenfalls zweidimensionalen Verteilung von der Oberfläche, auf
welche die Primärelektronen
einfallen, aufgrund der geometrischen Anordnung von Elektronenquelle,
Elektronenvervielfacher und Anode im Wesentlichen unmöglich ist,
die Sekundärelektronen
als ein Signal unter Beibehaltung der Informationen zur zweidimensionalen
Verteilung zu extrahieren. Daher können die Einfallspositionen
des zu erfassenden Lichts (im Folgenden als erfasstes Licht bezeichnet)
mit der Elektronenröhre,
die diesen Reflektions-Elektronenvervielfacher
aufweist, nicht erfasst werden.
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Ein Zweck dieser Erfindung ist daher
die Bereitstellung einer Elektronenröhre mit einem Transmissions-Elektronenvervielfacher,
der einen hohen Wirkungsgrad der Erzeugung von Sekundärelektronen
aufweist und einen zum Erfassen der Einfallspositionen von erfasstem
Licht geeigneten Aufbau hat.
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Ein hierin beschriebener Transmissions-Elektronenvervielfacher
besitzt eine Elektronen-Vervielfachungseinrichtung zum sekundären Vervielfachen
eines darauf auftretenden Elektrons zur Ausgabe von Sekundärelektronen.
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Nach der vorliegenden Erfindung wird
eine Elektronenröhre
bereitgestellt, die verbunden werden kann mit einem Transmissions-Elektronenvervielfacher
bestehend aus einem geschlossenen Behälter, einer in dem geschlossenen
Behälter
angeordneten Elektronenquelle zum Emittieren von Elektronen in den
geschlossenen Behälter,
einer in dem geschlossenen Behälter
angeordneten Anode, die der Elektronenquelle zugewandt ist, und
dem zwischen der Elektronenquelle und der Anode angeordneten Transmissions-Elektronenvervielfacher.
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Insbesondere umfasst der Transmissions-Elektronenvervielfacher
eine als Elektronen-Vervielfachungseinrichtung dienende Dünnschicht
mit einer ersten Hauptoberfläche,
auf die Elektronen von einer Elektronenquelle einfallen, und einer
der ersten Hauptoberfläche
gegenüberliegenden
zweiten Hauptoberfläche
zur Ausgabe von Sekundärelektronen,
und ein Verstärkungselement
zum Stützen
der Dünnschicht,
um dieser die nötige
Steifigkeit zu verleihen, wobei das Verstärkungselement eine Öffnung zur
Freigabe mindestens eines Teils der Dünnschicht aufweist.
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Die Vorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, dass
die Elektronenröhre
weiter Stielstifte mit einem Aufbau zum Halten des Verstärkungselements
an einer vorbestimmten Position in dem geschlossenen Behälter aufweist,
und dass die Dünnschicht
aus Diamant oder einem hauptsächlich
aus Diamant zusammengesetztem Material besteht.
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Besteht die Elektronen-Vervielfachungseinrichtung
aus der Dünnschicht
in einer vorbestimmten Dicke von Diamant mit einer hohen Sekundärelektronen-Emissionseffizienz
wie oben beschrieben, so können
die durch Sekundärelektronen-Vervielfachung erzeugten
Elektronen effizient die Dünnschicht
passieren. Die Diamant-Dünnschicht
ist im Hinblick auf die Massenproduktion und die Herstellungskosten
vorzugsweise ein Aggregat aus polykristallinen oder porösen voneinander
unabhängigen Teilchen.
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Das Verstärkungselement in dem Transmissions-Elektronenvervielfacher
nach der vorliegenden Erfindung kann nicht nur mit dem Aufbau hergestellt werden,
bei dem das Verstärkungselement
auf einer Hauptoberfläche
der Diamant-Dünnschicht
angeordnet ist, um diese zu verstärken, sondern auch mit dem
folgenden Aufbau. Insbesondere kann das Verstärkungselement einen Aufbau
haben, bei dem die Diamant-Dünnschicht
dadurch verstärkt
ist, dass ein Paar von Elementen (erste und zweite Elemente) Randbereiche
der Diamant-Dünnschicht
trägt,
wobei in diesem Fall jedes der ersten und zweiten Elemente eine Öffnung zur
Freigabe der ers ten oder zweiten Hauptoberfläche der Diamant-Dünnschicht
aufweist, um das Einfallen und Emittieren von Elektronen zu ermöglichen.
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Weiter kann das Verstärkungselement
einen Aufbau haben, bei dem die Diamant-Dünnschicht durch ein Paar von
Plattenelementen (dritte und vierte Elemente) mit mehreren Öffnungen
gehalten wird. Durch diesen Aufbau kann insbesondere eine ausreichende
Steifigkeit der Diamant-Dünnschicht
erreicht werden, weil jedes Element so an der Diamant-Dünnschicht
befestigt werden kann, dass es die gesamte erste oder zweite Hauptoberfläche der
Diamant-Dünnschicht
abdeckt. Weil jedes Element mehrere Öffnungen aufweist, ist der
größte Teil
jeder Hauptoberfläche
in der Diamant-Dünnschicht
freigelegt. Daher kann ein Transmissions-Elektronenvervielfacher
mit einer ausreichenden Festigkeit erhalten werden, um der Handhabung
in der Produktion oder dergleichen standzuhalten.
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Andererseits kann in der Elektronenröhre mit dem
Transmissions-Elektronenvervielfacher nach der vorliegenden Erfindung
der Transmissions-Elektronenvervielfacher eine effiziente Sekundärelektronen-Vervielfachung
der Elektronen bewirken, die von vorbestimmten Positionen von der
Elektronenquelle emittiert werden, damit Sekundärelektronen auf die Anode einfallen.
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Wenn die Elektronenquelle eine Fotokathode
zum Emittieren von Fotoelektronen entsprechend den Einfallspositionen
des zu erfassenden Lichts ist und wenn die Anode eine fluoreszierende
Schicht aufweist, so dass sie Licht an Positionen emittiert, wo Sekundärelektronen
einfallen, während
die Sekundärelektronen
einfallen, die von dem Transmissions-Elektronenvervielfacher entsprechend
den Einfallspositionen emittiert werden, an denen die von der Fotokathode
emittierten Fotoelektronen einfallen, kann in der vorstehenden Elektronenröhre das
zu erfassende Licht abgebildet bzw. erfasst werden. Dies bedeutet,
dass die Elektronenröhre
mit dem Transmissions-Elektronenvervielfacher auch zweidimensi onale
Informationen der Einfallspositionen des erfassten Lichts oder dergleichen
erhalten kann.
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Die Fotokathode hierbei ist eine
Elektrode zum Emittieren von durch einfallendes Licht vom Valenzband
zum Leitungsband angeregten Fotoelektronen.
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Die vorliegende Erfindung wird besser
verständlich
aus der nachstehenden ausführlichen
Beschreibung und den zugehörigen
Zeichnungen, die nur zur Illustration dienen und nicht als Einschränkung der
vorliegenden Erfindung anzusehen sind.
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Der weitere Umfang der Anwendbarkeit
der vorliegenden Erfindung ergibt sich aus der nachstehenden ausführlichen
Beschreibung. Es besteht jedoch Einigkeit darüber, dass die ausführliche
Beschreibung und die spezifischen Beispiele zwar bevorzugte Ausführungsformen
der Erfindung zeigen, aber nur zur Illustration angegeben sind,
weil für
den Fachmann aus dieser ausführlichen
Beschreibung verschiedene Änderungen
und Modifikationen im Rahmen der vorliegenden Erfindung gemäß den zugehörigen Ansprüchen ersichtlich
sind.
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KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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1 ist
eine schematische Querschnittsansicht, die den Aufbau einer Elektronenröhre mit
der ersten Ausführungsform
des Elektronenvervielfachers nach der vorliegenden Erfindung zeigt.
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2 ist
eine Draufsicht des Elektronenvervielfachers, die erhalten wird,
wenn man in Richtung des Pfeils A in 1 auf
den Elektronenvervielfacher nach der ersten Ausführungsform blickt.
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3 bis 5 sind schematische Ansichten,
die Verfahren zur Herstellung des Elektronenvervielfachers für die Elektronenröhre nach
der vorliegenden Erfindung zeigen.
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6 ist
eine Zeichnung zur Erklärung
des Verhaltens von in einer polykristallinen Diamant-Dünnschicht
erzeugten Fotoelektronen in der Dünnschicht.
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7 ist
eine schematische Querschnittsansicht, die den Aufbau einer Elektronenröhre mit
der zweiten Ausführungsform
des Elektronenvervielfachers nach der vorliegenden Erfindung zeigt.
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8 ist
eine Draufsicht des Elektronenvervielfachers, die erhalten wird,
wenn man in Richtung des Pfeils B in 6 auf
den Elektronenvervielfacher nach der zweiten Ausführungsform
blickt.
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9 ist
eine schematische Perspektivansicht, die den Aufbau einer dritten
Ausführungsform des
Elektronenvervielfachers nach der vorliegenden Erfindung zeigt.
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10 ist
eine schematische Querschnittsansicht, die den Aufbau der dritten
Ausführungsform entlang
der Linie C-C in 9 zeigt.
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BESCHREIBUNG
DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
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Die bevorzugten Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung werden ausführlich unter Bezugnahme auf 1 bis 10 beschrieben. In den Zeichnungen sind
gleichwertige oder entsprechende Teile mit denselben Bezugszeichen
versehen.
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1 zeigt
den Aufbau der Elektronenröhre mit
der ersten Ausführungsform
des Elektronenvervielfachers nach der vorliegenden Erfindung, und
die Elektronenröhre
ist eine Bildverstärkerröhre 10,
die darauf einfallendes schwaches Licht als verstärkte zweidimensionale
Bildinformationen erfassen kann. Ein geschlossener Behälter 12,
in dessen Inneren ein Unterdruck herrscht, hat ein Eintrittsfenster 14,
durch welches das erfasste Licht in das Innere gelangen kann, und
ein Detektionsfenster 16, durch welches das erfasste Licht
verstärkt
nach außen
emittiert werden kann, in einer solchen Anordnung, dass sich das Eintrittsfenster 14 und
das Detektionsfenster 16 einander gegenüber liegen. Die Fotokathode 18 als
eine Elektronenquelle ist auf der Innenseite des Eintrittsfensters 14 angeordnet,
und die Anode 20 einschließlich einer mit einem fluoreszierenden
Material (fluoreszierende Schicht) 22 beschichteten Glasplatte 24 ist
auf der Innenseite des Detektionsfensters 16 angeordnet.
Ein Ende des Stielstifts 26a, 26b ist elektrisch
mit jeder Seitenfläche
der Anode 20 verbunden, und das andere Ende jedes Stielstifts 26a, 26b erstreckt
sich durch den geschlossenen Behälter 12 zur
Außenseite.
Die Stielstifte 26a, 26b sind an dem geschlossenen
Behälter 12 mit
hermetischen Glasdurchführungen 28 befestigt,
wodurch die Anode 20 fixiert ist. Eine vorbestimmte positive
Spannung für die
Fotokathode 18 wird über
die Stielstifte 26a, 26b an die Anode 20 angelegt.
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Der Transmissions-Elektronenvervielfacher 30 ist
zwischen der Fotokathode 18 und der Anode 20 angeordnet.
Der Transmissions-Elektronenvervielfacher 30 nach dieser
Ausführungsform
hat eine polykristalline Diamant-Dünnschicht 32 in kreisrunder
Form mit einer negativen Elektronenaffinität, wie in 1 und 2 gezeigt,
im Hinblick auf die Massenproduktion und die Herstellungskosten.
Gleichzeitig hat die Diamant-Dünnschicht 32 vorzugsweise eine
Dicke, die kleiner als die freie Weglänge der Sekundärelektronen
ist, aber die freie Weglänge
ist in hohem Maße
abhängig
von der Kristallinität
der Diamant-Dünnschicht 32.
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Auf der anderen Seite muss die Diamant-Dünnschicht 32 selbst
eine bestimmte Dicke aufweisen, um eine ausreichende mechanische
Festigkeit zu haben. Die mechanische Festigkeit ist abhängig von
der Kristallinität
der Diamant-Dünnschicht 32,
einem Anteil nicht aus Diamant bestehender Komponenten in der Diamant-Dünnschicht 32 und der
Dichte oder Fläche
der Diamant-Dünnschicht 32. Daher
sollte die Dicke der Diamant-Dünnschicht 32 je nach
Qualität
der erzielten Schicht unter Berücksichtigung
verschiedener Bedingungen der Film- bzw. Schichtbildung der Diamant-Dünnschicht 32 festgelegt
werden.
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Weil bei dieser Ausführungsform
die Diamantschicht eine Dünnschicht
ist, weist diese außerdem
eine geringe Steifigkeit auf und kann daher leicht deformiert oder
beschädigt werden.
Daher wird ein Paar ringförmiger
Metall-Verstärkungselemente 34a, 34b,
zum Beispiel aus Molybdän
(Mo), am Rand der Diamant-Dünnschicht 32 angeordnet,
um die Dünnschicht
einzuspannen und dadurch die geringe Steifigkeit der Diamant-Dünnschicht 32 auszugleichen.
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Bei dieser Ausführungsform nach 1 und 2 sind die Stielstifte 38a, 38b mit
hermetischen Glasdurchführungen 28 an
dem geschlossenen Behälter
befestigt, so dass sie sich durch den geschlossenen Behälter 12 erstrecken.
Jeder Stielstift 38a, 38b hat einen Andruckteil 36a, 36b am
oberen Ende, um die Kante des Verstärkungsrahmens 34 zusammenzudrücken. Durch
diese Anordnung ist der Transmissions-Elektronenvervielfacher 30 zwischen der
Fotokathode 18 und der Anode 20 fixiert. Vorzugsweise
wird eine negative Spannung von mehreren 100 Volt bis mehreren 1.000
Volt für
die Fotokathode 18 über
die Stielstifte 38a, 38b an den Transmissions-Elektronenvervielfacher
angelegt, während eine
positive Spannung von mehreren 100 Volt bis mehreren 1.000 Volt
an die Anode angelegt wird.
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3 bis 5 sind schematische Ansichten,
die Verfahren zur Herstellung des Transmissions-Elektronenvervielfachers 30 zeigen.
Bei diesem Herstellungsverfahren wird die Mikrowellen-Plasma-CVD-Abscheidung
(nachstehend als „Mikrowellen-Plasma-CVD-Verfahren" bezeichnet) zur
Herstellung des Transmissions-Elektronenvervielfachers 30 benutzt.
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Zuerst wird ein handelsüblich erhältliches Si-Substrat
in eine Beschichtungskammer eines Mikrowellen-Plasma-CVD-Systems gelegt. Dieses Si-Substrat
wird verwendet, weil es wegen seiner stabilen Qualität vorteilhaft
für die
Herstellung der Diamant-Dünnschicht
ist. Als Nächstes
wird wie in 3 gezeigt
durch Mikrowellen ein Plasmazustand erzeugt, wenn Wasserstoff als
Anregungsgas in die Beschichtungskammer eingeleitet wird.
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Wird in diesem Zustand Methan (CH4) als ein Ausgangsstoff für die Diamant-Dünnschicht
in die Beschichtungskammer eingeleitet, wird CH4 durch Wasserstoffionen
nahe einer Einlassöffnung
der Beschichtungskammer dissoziiert. Weil sich der durch Dissoziation
von CH4 erhaltene Kohlenstoff in der diamantartigen
Kristallstruktur auf dem Si-Substrat ablagert, wird dabei die Diamant-Dünnschicht
gebildet, beispielsweise in einer Dicke von ca. 6 μm.
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Weil bei diesem Herstellungsverfahren
Si für das
Substrat benutzt wird, kann eine großflächige, gleichmäßige Diamant-Dünnschicht
hergestellt werden. Die Diamant-Dünnschicht kann mit Bor (B)
dotiert werden, das eine Leitfähigkeit
vom p-Typ aufweist, indem bei der Filmbildung der Diamant-Dünnschicht
auch Diboran (B2H6)
eingeleitet wird. Das Dotieren mit Bor ist nicht immer wichtig,
aber nach den Versuchsergebnissen der Erfinder hat die B-dotierte Diamant-Dünnschicht
einen höheren
Wirkungsgrad der Erzeugung von Sekundärelektronen als die Diamant-Dünnschicht
ohne B-Dotierung,
vor allem bei Verwendung mit einer hohen Beschleunigungsspannung.
Nach der Filmbildung wird das Si-Substrat
wie in 4 gezeigt durch Ätzen mit
einem Lösungsgemisch
aus Fluorwasserstoffsäure
plus Salpetersäure (HF
+ HNO3) entfernt, wodurch die polykristalline
Diamant-Dünnschicht
erhalten wird. Der Außenrand dieser
Diamant-Dünnschicht
wird mit Klebstoff 300 an den Verstärkungselementen 34a und 34b aus
Mo angeklebt, wodurch die Diamant-Dünnschicht
mechanisch eingespannt wird (siehe 5).
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Wenn das erfasste Licht (Hν) durch das
Eintrittsfenster 14 in der Bildverstärkerröhre 10 in 1 fällt, werden Fotoelektronen
(e–),
bei denen es sich um Primärelektronen
handelt, von der Unterseite der Fotokathode 18 in Form
eines zweidimensionalen Fotoelektronenbilds entsprechend den Einfallspositionen
des erfassten Lichts emittiert. Weil die vorbestimmte Spannung für die Fotokathode 18 über die Stielstifte 36a, 36b an
den Transmissions-Elektronenvervielfacher 30 angelegt wird,
werden die Fotoelektronen, die das zweidimensionale Fotoelektronenbild
bilden, beschleunigt, um in den Transmissions-Elektronenvervielfacher
einzutreten.
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Die Fotoelektronen, die das zweidimensionale
Fotoelektronenbild bilden, fallen somit auf den Elektronenvervielfacher
ein und verlieren Energie in der einheitlich dicken polykristallinen
Diamant-Dünnschicht
32, um Elektronenlochpaare wie in 6 gezeigt
zu erzeugen, wodurch multiplikativ Sekundärelektronen erzeugt werden.
Dabei ist die Sekundärelektronen-Emissionseffizienz
hoch, weil die Diamant-Dünnschicht 32 eine
negative Elektronenaffinität
aufweist. Diese Sekundärelektronen
wandern entlang der Korngrenzen zur Unterseite, weil die Diamant-Dünnschicht 32 polykristallin
ist. Die Sekundärelektronen
werden gleichmäßig entsprechend
einer Einfallsposition des Fotoelektrons mit einer Ausbreitung von
mehreren Mikrometern, was in der Praxis kein Problem darstellen
würde,
von der Unterseite der Diamant-Dünnschicht
emittiert, wie durch Pfeile in 6 angedeutet.
Folglich werden die Sekundärelektronen
(die ein Sekundärelektronenbild
bilden), die aufgrund der multiplikativen Generierung entsprechend
dem zweidimensionalen Fotoelektronenbild erhalten werden, das durch
die einfallenden Fotoelektronen gebildet wird, von der Unterseite
des Transmissions-Elektronenvervielfachers emittiert.
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Weil die positive Spannung für den Transmissions-Elektronenvervielfacher 30 an
die Anode 20 angelegt ist, fallen die Sekundärelektronen,
die das Sekundärelektronenbild
bilden, auf die Anode 20. Die kinetische Energie, welche
die Sekundärelektronen
beim Auftreffen darauf verlieren, veranlasst das fluoreszierende
Material 22, Fluoreszenz an vorbestimmten Positionen (entsprechend
den Einfallspositionen der Sekundärelektronen) zu emittieren, und
ein zweidimensionales Bild entsprechend dem Sekundärelektronenbild
kann durch das Detektionsfenster 16 beobachtet werden.
Daher kann die Elektronenröhre
mit dem Transmissions-Elektronenvervielfacher 30 nach dieser
Ausführungsform
das zweidimensionale Bild entsprechend den Einfallspositionen des
erfassten schwachen Lichts in einem wirksam verstärkten Zustand
erfassen.
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Die polykristalline Diamant-Dünnschicht 32 in
dem Transmissions-Elektronenvervielfacher 30 nach der ersten
Ausführungsform
kann auch einen porösen
Zustand aufweisen, wodurch die Sekundärelektronen effizienter emittiert
werden. Zur Herstellung einer solchen porösen Diamant-Dünnschicht wird
ebenfalls das Mikrowellen-Plasma-CVD-Verfahren wie bei dem oben
beschriebenen Herstellungsverfahren für die polykristalline Diamant-Dünnschicht 32 benutzt.
Bei diesem Verfahren kann die Dichte der Diamant-Dünnschicht
mit Hilfe der Schichtbildungsbedingungen in einem gewissen Maß gesteuert
werden, z. B. durch den Druck des Wasserstoffgases bei der Schichtbildung.
Durch Erhöhen
des Drucks auf einen relativ hohen Wert kann eine so genannte poröse polykristalline
Diamant-Dünnschicht
mit relativ geringer Dichte erhalten werden.
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Die so erhaltene Diamant-Dünnschicht 32 kann
im Wesentlichen als ein Aggregat aus voneinander unabhängigen Teilchen
angesehen werden. Die mechanische Festigkeit dieser Diamant-Dünnschicht 32 selbst
ist folglich geringer, und die Diamant-Dünnschicht muss eine höhere Dicke
als die vorstehend beschriebene Schicht aufweisen.
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Das Verfahren zur Herstellung der
porösen polykristallinen
Diamant-Dünnschicht 32 beschränkt sich
nicht auf das oben beschriebene Verfahren, sondern die Diamant-Dünnschicht 32 kann
zum Beispiel auch mit einem Verfahren zum Sintern feiner Partikel aus
körnigem
monokristallinem Diamant hergestellt werden.
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Das Paar Verstärkungselemente 34 beschränkt sich
nicht auf die in 1 und 2 gezeigte Ausführungsform
zum Einspannen der Umfangskante der Diamant-Dünnschicht. Insbesondere zeigen 7 und 8 den Aufbau einer zweiten Ausführungsform
des Transmissions-Elektronenvervielfachers nach der vorliegenden
Erfindung. Bei dieser Ausführungsform
ist ein ringförmiger
Verstärkungsrahmen 340 aus
Si am oberen Randbereich der vorstehenden polykristallinen Diamant- Dünnschicht 32 angebracht,
um ihr die nötige
Steifigkeit zu verleihen.
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Zur Erzielung der polykristallinen
Diamant-Dünnschicht 32,
an der mit dem Klebstoff 300 der Verstärkungsrahmen 340 befestigt
wird, wird zuerst mit dem Mikrowellen-Plasma-CVD-Verfahren eine feine polykristalline
Diamant-Dünnschicht
auf dem Si-Substrat gebildet, und danach wird die Umfangskante des
Si-Substrats mit einem Fotoresist-Lack oder dergleichen abgedeckt.
Als Nächstes wird
der zentrale Teil des Si-Substrats durch Ätzen mit dem Lösungsgemisch
aus HF und HNO3 entfernt, um die polykristalline
Diamant-Dünnschicht 32 zu
erhalten.
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Selbstverständlich kann die Diamant-Dünnschicht 32,
die von dem Verstärkungsrahmen 340 in dem
Transmissions-Elektronenvervielfacher 60 nach der zweiten
Ausführungsform
gestützt
und verstärkt wird,
auch als poröse
Dünnschicht
ausgeführt
sein.
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Die zweite Ausführungsform war so aufgebaut,
dass die Diamant-Dünnschicht 32 kreisförmig und
der Verstärkungsrahmen 340 ringförmig war, aber
ohne Einschränkung
hierauf kann die vorliegende Erfindung auch andere Formen annehmen,
zum Beispiel eine rechteckige Form. Der Verstärkungsrahmen 340 des
Transmissions-Elektronenvervielfachers 60 kann ein Gittermuster
wie in der Perspektivansicht in 9 und 10 aufweisen. Der Verstärkungsrahmen
mit dieser Form kann mit den neuesten Lithografietechniken in jeder
beliebigen Größe und Form
hergestellt werden. 9 und 10 zeigen den Aufbau des
Transmissions-Elektronenvervielfachers 90 nach dieser Erfindung.
Der Transmissions-Elektronenvervielfacher 90 nach dieser
dritten Ausführungsform
besteht aus der polykristallinen Diamant-Dünnschicht 32 und einem
Paar Verstärkungsplatten 360a, 360b.
Die Verstärkungsplatten 360a und 360b sind
jeweils mit mehreren Öffnungen 361 versehen.
Dieses Paar Verstärkungsplatten 360a, 360b ist
mit Klebstoff 300 auf den entsprechenden Hauptebe nen der
polykristallinen Diamant-Dünnschicht 32 angeklebt,
um die polykristalline Diamant-Dünnschicht 32 zu
tragen.
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Weiterhin wies der oben beschriebene Transmissions-Elektronenvervielfacher
eine polykristalline Diamant-Dünnschicht
oder eine poröse
polykristalline Diamant-Dünnschicht
auf, aber abgesehen davon sind auch monokristalline, Graphit- oder
diamantartige Kohlenstoff-Dünnschichten
möglich.
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Wie vorstehend beschrieben, ermöglichen der
Transmissions-Elektronenvervielfacher und die damit ausgestattete
Elektronenröhre
nach der vorliegenden Erfindung das Erfassen der Einfallspositionen
von erfasstem Licht, indem der Transmissions-Elektronenvervielfacher
mit einer Diamant-Dünnschicht
mit hoher Sekundärelektronen-Emissionseffizienz
versehen wird. Weiterhin kann die mit diesem Transmissions-Elektronenvervielfacher
ausgestattete Elektronenröhre
ein Bild des schwachen Lichts verstärken.
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Aus den hiermit beschriebenen Ausführungsformen
der Erfindung ist ersichtlich, dass die Erfindung auf vielfältige Weise
variiert werden kann. Derartige Variationen sind nicht als Abweichung
vom Umfang der Erfindung anzusehen, der durch die zugehörigen Ansprüche festgelegt
ist.