DE69518071T2 - Verfahren und vorrichtung zur herstellung nanostrukturierter keramikpulver und whisker - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur herstellung nanostrukturierter keramikpulver und whiskerInfo
- Publication number
- DE69518071T2 DE69518071T2 DE69518071T DE69518071T DE69518071T2 DE 69518071 T2 DE69518071 T2 DE 69518071T2 DE 69518071 T DE69518071 T DE 69518071T DE 69518071 T DE69518071 T DE 69518071T DE 69518071 T2 DE69518071 T2 DE 69518071T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- precursor
- powders
- carrier gas
- powder
- organometallic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 115
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 46
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 60
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract description 37
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 25
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 20
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims abstract description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- BGGIUGXMWNKMCP-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate;zirconium(4+) Chemical compound CC(C)(C)O[Zr](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BGGIUGXMWNKMCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 27
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 25
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical class [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- 229910004012 SiCx Inorganic materials 0.000 claims 3
- 229910007277 Si3 N4 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910003134 ZrOx Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 7
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011149 active material Substances 0.000 abstract description 2
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 8
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 7
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 7
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011153 ceramic matrix composite Substances 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910033181 TiB2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 description 2
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 239000011156 metal matrix composite Substances 0.000 description 2
- 239000011160 polymer matrix composite Substances 0.000 description 2
- 229920013657 polymer matrix composite Polymers 0.000 description 2
- 238000005001 rutherford backscattering spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical class CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZPJVKXUWVWEAD-UHFFFAOYSA-N [C].[N].[Si] Chemical compound [C].[N].[Si] DZPJVKXUWVWEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021431 alpha silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052454 barium strontium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000013538 functional additive Substances 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000016507 interphase Effects 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052575 non-oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011225 non-oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000009715 pressure infiltration Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000001778 solid-state sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 229910001233 yttria-stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
- C01B32/914—Carbides of single elements
- C01B32/956—Silicon carbide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
- B01J12/02—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor for obtaining at least one reaction product which, at normal temperature, is in the solid state
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/18—Stationary reactors having moving elements inside
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/2415—Tubular reactors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/082—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
- C01B21/0828—Carbonitrides or oxycarbonitrides of metals, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
- C01B32/914—Carbides of single elements
- C01B32/956—Silicon carbide
- C01B32/963—Preparation from compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/005—Growth of whiskers or needles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/36—Carbides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/38—Nitrides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00074—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids
- B01J2219/00076—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids with heat exchange elements inside the reactor
- B01J2219/00085—Plates; Jackets; Cylinders
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00074—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids
- B01J2219/00087—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids with heat exchange elements outside the reactor
- B01J2219/00094—Jackets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00162—Controlling or regulating processes controlling the pressure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00164—Controlling or regulating processes controlling the flow
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/10—Particle morphology extending in one dimension, e.g. needle-like
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/50—Agglomerated particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/10—Solid density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02B—INTERNAL-COMBUSTION PISTON ENGINES; COMBUSTION ENGINES IN GENERAL
- F02B2275/00—Other engines, components or details, not provided for in other groups of this subclass
- F02B2275/14—Direct injection into combustion chamber
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T10/00—Road transport of goods or passengers
- Y02T10/10—Internal combustion engine [ICE] based vehicles
- Y02T10/12—Improving ICE efficiencies
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
- Y10S977/776—Ceramic powder or flake
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/832—Nanostructure having specified property, e.g. lattice-constant, thermal expansion coefficient
- Y10S977/835—Chemical or nuclear reactivity/stability of composition or compound forming nanomaterial
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
- Zur Synthese von nanostrukturierten Pulvern (n-Pulvern) wurden verschiedene physikalische, chemische und mechanische Verfahren entwickelt. Diese sind ausführlich in der Fachliteratur beschrieben (siehe "Nanostructured Materials" (Nanostrukturierte Materialien), Band I, II und III, 1992-4). Von besonderer Relevanz für die vorliegende Erfindung ist der Stand der Technik zur Synthese von n-Pulvern mittels (1) thermischer Zersetzung von metallorganischen Vorstufen unter Verwendung eines fokussierten Laserstrahls, einer Verbrennungsflamme oder eines Plasmabrenners als Wärmequelle und (2) Verdampfung und Kondensation flüchtiger Spezies in einer unter reduziertem Druck stehenden Umgebung.
- Beim Syntheseverfahren mittels Laser erfolgt die Herstellung von n-keramischen Pulvern durch Durchleiten eines Vorstufe/Trägergas-Stroms durch ein Plasma, das durch Wechselwirkung eines hochleistungsdichten fokussierten Laserstrahls mit dem Gasstrom erzeugt wurde. Während der sehr kurzen Verweilzeit der Vorstufenverbindung im Plasma entstehen ultrafeine Agglomerate bzw. Nanopartikel, die von den Abgasen mitgerissen werden und dann in einem Filtersystem aufgefangen werden sollen. In der Regel sind die Pulver monodispers (mittlere Partikelgröße < 20 nm), lose agglomeriert und können durch herkömmliche Heißpreßverfahren leicht auf ihre theoretische Dichte gesintert werden. Die entstehenden gesinterten Materialien besitzen aufgrund ihrer hochreinen und ultrafeinen Strukturen hervorragende Eigenschaften. Dieses Verfahren ermöglicht zwar die Herstellung einer Reihe von n-keramischen Pulvern im Labormaßstab, doch scheint es für die großtechnische Herstellung solcher Pulver nicht geeignet zu sein.
- Bei den Verbrennungsflammen- und. Plasmabrennersyntheseverfahren erfolgt die Herstellung von n- Keramikpulvern durch direktes Einspritzen des Vorstufe/Trägergas-Stroms in die Flamme bzw. das Plasma unter Normaldruckbedingungen. Ein wichtiger Unterschied zwischen beiden Verfahren liegt darin, daß beim Flammenverfahren unter einer oxidierenden oder reduzierenden Atmosphäre und beim Plasmaverfahren in einer Inertgas- oder Reaktivgasatmosphäre gearbeitet wird. Das Flammenverfahren wurde erfolgreich zur Herstellung von Ruß, TiO&sub2; und SiO&sub2; in wirtschaftlichen Mengen angewandt. Mit dem Plasmaverfahren wurden nichtoxidische Keramiken, einschließlich Metallkarbide, -nitride und -boride, wie z. B. TiC, TiN und TiB&sub2;, sowie deren entsprechende feuerfeste Metallkeramiken, in Versuchsmengen hergestellt. Durch die Einfachheit dieser beiden Verfahren werden die relativ hohen Kosten der Vorstufenchemikalien wie TiCl&sub4; zur Herstellung von TiO&sub2; nach dem Flammenverfahren oder TiC und TiB&sub2; nach dem Plasmaverfahren mehr als wettgemacht. Bei der Synthese von Ruß spielt dies keine Rolle, da das als Kohlenstoffquelle verwendete Gas CH&sub4; oder Erdgas ist.
- Ein Merkmal beider Syntheseverfahren liegt in dem hochagglomerierten Zustand der n-keramischen Pulver im Synthesezustand. Beispielsweise können bei der Flammensynthese von 1102 die Primärpulverpartikel in ihrer Größe zwischen 5 und 100 nm schwanken, doch bilden sie Sinteraggregate mit 10 bis 1000 n-Partikel pro Aggregat. Bei vielen Anwendungen spielt die Agglomerierung der n-keramischen Pulver zwar nur eine geringe Rolle, doch gibt es Situationen, bei denen dies von Nachteil ist. Dies ist beispielsweise bei der Herstellung von monolithischen Keramikformen für strukturelle Anwendungen der Fall, bei der das Vorliegen von Restporosität im gesinterten Material dessen Funktionsfähigkeit stark beeinträchtigt. Es ist bekannt, daß die Porosität auf die Verbrückung der Agglomerate in den Pulverpreßlingen vor dem Sintem zurückzuführen ist. 1985 wurde mit der Einführung des Inertgaskondensations-Syntheseverfahrens (IGC) eine mögliche Lösung für das Agglomerationsproblem der Nanopartikel gefunden. Bei diesem Verfahren wird zur Erzeugung der Nanophasenpartikel eine Verdampfungsquelle benutzt, wobei diese Partikel anschließend durch Konvektion zu einem kalten Substrat transportiert und dort abgeschieden werden. Ein wesentliches Merkmal des Verfahrens ist eine unter reduziertem Druck stehende Inertgasumgebung, wie z. B. He, die zwecks wirkungsvoller Herstellung von nicht agglomerierten n-Partikeln im optimalen Bereich von 1-10 mbar gehalten werden muß. Die Bildung der Partikel erfolgt in einem Bereich unmittelbar oberhalb der Verdampfungsquelle durch Wechselwirkung zwischen den heißen Verdampfungsspezies und den kalten inerten Heliumgasatomen in der Reaktionskammer. Nach dem tGGVerfahren wurden hochreine, nicht agglomerierte n-Partikel vieler verschiedener Materialien in Versuchsmengen hergestellt, wobei in mehreren Fällen die völlige Verdichtung der Pulver durch Festkörpersintern der Pulverpreßlinge bei Temperaturen von lediglich 0,5 Tm erzielt wurde. Der Herausforderung, das Verfahren vom Labor- auf den großtechnischen Maßstab zu übertragen, stellt man sich jetzt dadurch, daß man ein Zwangskonvektionsströmungssystem zur kontinuierlichen Verarbeitung von Pulvern und einen Mulitkilowatt-Elektronenstrahl zur Erzielung von hohen Verdampfungsgeschwindigkeiten verwendet. Eine Vielzahl von nützlichen Keramiken und Metallen mit niedrigem Dampfdruck läßt sich jedoch nach solch einem Verdampfungsverfahren nicht leicht herstellen, so daß ein anderer Lösungsweg gefunden werden muß.
- Aus Japanese Patent Abstracts Band. 010, Nr. 208 (C-361) ist ein Verfahren zur Herstellung eines Siliciumkohlenstoffstickstoffpulvers der Formel SiCxNy bekannt, worin x einen Wert zwischen 0,1 und 1,5 und y einen Wert zwischen 0,1 und 1, 2 besitzt. Die Bildung des Pulvers erfolgt durch Erhitzen einer in einem Trägergasstrom suspendierten siliciumorganischen Verbindung auf eine Temperatur von 1000ºC oder darüber in einem senkrecht stehenden Ofen. Anschließend wird das Pulver in einer an den Auslaß der Gasflußröhre angeschlossenen Vorlage aufgefangen.
- Die vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung von Keramikpulvern bereit, umfassend das Vereinen einer Vorstufenverbindung mit einem Trägergas unter Bildung eines Vorstufe/Trägergas-Stroms, wobei die Vorstufenverbindung eine verdampfte metallorganische Verbindung umfaßt, rasches Erhitzen des Vorstufe/Trägergas-Stroms auf eine Temperatur von etwa 500ºC bis etwa 1400ºC, zwecks thermischer Zersetzung der metallorganischen Vorstufe und Bildung von nanostrukturiertem Keramikpulver, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägergas ausgewählt wird aus der Gruppe im wesentlichen bestehend aus Ammoniak, Stickstoff, Helium, Argon, Methan, Ethylen, Distickstoffoxid, Sauerstoff, Kohlenmonoxid und Kohlendioxid, daß der Vorstufe/Trägergas-Strom bei einem Druck von 1 bis 50 mbar erhitzt wird, und daß das Verfahren weiterhin das Lenken des nanostrukturierten Keramikpulvers in einem scharfen Strahl auf eine gekühlte Oberfläche und das Entfernen der Partikel von der Oberfläche umfaßt, wodurch nicht agglomerierte nanostrukturierte Keramikpulver entstehen.
- Die vorliegende Erfindung stellt ein neues chemisches Syntheseverfahren zur Herstellung von nicht agglomerierten nanostrukturierten keramischen (n-keramischen) Pulvern aus metallorganischen Vorstufen dar.
- Der vorliegenden Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß die rasche thermische Zersetzung eines Vorstufe/Trägergas-Stroms in einem heißen röhrenförmigen Reaktor in Verbindung mit rascher Kondensation der Produktpartikelspezies auf einem kalten Substrat solche n-keramischen Pulver ergibt. Der vorliegenden Erfindung liegt weiterhin die Erkenntnis zugrunde, daß dieses neuartige Chemische Dampfkondensationsverfahren (CVC) durch Bereitstellen einer geringen Konzentration der Vorstufenverbindung im Trägergas in Verbindung mit rascher Expansion des Gasstroms durch einen gleichmäßig erhitzten röhrenförmigen. Reaktor in einer unter vermindertem Druck stehenden Inertgasatmosphäre, d. h. von etwa 1-50 mbar, mit raschem Abkühlen der gasphasenkristallisierten Agglomerate bzw. n-Partikel beim Verlassen der Reaktorröhre optimiert werden kann.
- Die vorliegende Erfindung läßt sich auf die verschiedensten metallorganischen Vorstufen anwenden, die alle beim CVC-Verfahren der vorliegenden Erfindung zur Herstellung von n-keramischen Pulvern, einschließlich Einphasen-, Mehrphasen- und Mehrkomponentensystemen, zum Einsatz kommen können.
- Die nach dem Verfahren der vorliegenden Erfindung gebildeten nicht agglomerierten n-keramischen Pulver können zu gleichmäßig dichten Pulverpreßlingen kaltgepreßt werden, die bei Temperaturen von lediglich 0,5 Tm bis nahe auf ihre theoretische Dichte gesintert werden können. Durch geeignete Wahl der Vorstufenverbindung und des Trägergases fassen sich nach dem CVC-Verfahren Pulver fast jeden beliebigen Materials, einschließlich von Metallen, intermetallischer Verbindungen, Halbleitern, Supraleitern, Ferroelektrika, optisch aktiver Stoffe und magnetischer Stoffe, sowie deren Komposite herstellen. Die Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden anhand der nachfolgenden ausführlichen Beschreibung und der Zeichnungen noch weiter verdeutlicht.
- Es zeigen:
- Fig. 1 eine schematische Ansicht einer Vorrichtung für den Einsatz bei der vorliegenden Erfindung;
- Fig. 2 ein Röntgenbeugungsdiagramm von n-SiCxNy;
- Fig. 3 ein Röntgenbeugungsdiagramm von n-SiCxNy-Pulvern nach einer bis zu 18stündigen Wärmebehandlung in fließendem Argon bei 1300ºC;
- Fig. 4 ein Röntgenbeugungsdiagramm von n-SiCxNy-Pulvern nach einer 5minütigen Wärmebehandlung in fließendem NH&sub3;/H&sub2; (1 : 1-Mischung) bei Temperaturen im Bereich von 800-1400ºC;
- Fig. 5 ein Röntgenbeugungsdiagramm von n-SiCxNy-Pulvern nach einer 5minütigen Wärmebehandlung in fließendem Wasserstoff bei Temperaturen im Bereich von 1000-1400ºC.
- Der Reaktor für den Einsatz bei der vorliegenden Erfindung ist ausführlicher in Fig. 1 dargestellt. Dieser Reaktor 10 weist eine verschlossene Reaktionskammer 11 auf, die aus einem Vorstufenzuführungssystem 12 mit Reaktanden beschickt wird. Das Vorstufenzuführungssystem 12 weist eine Trägergasquelle 13 auf, bei der es sich beispielsweise um einen Gasdruckbehälter handeln kann, wobei das Gas zu einem Massenflußregler 14 geleitet wird und dort mit einer Vorstufenquelle 15 vereint wird und die Mischung über das Nadelventil 16 in die Reaktionskammer 11 eingespritzt wird.
- Das Nadelventil 16 leitet die Trägergas/Vorstufenverbindung-Mischung direkt in einen erhitzten röhrenförmigen Reaktor 17. Bei dem erhitzten röhrenförmigen Reaktor handelt es sich um eine molybdänumwickelte Ofenröhre aus hochreinem Aluminiumoxid oder Quarz, die eine Wärmequelle für die kontrollierte thermochemische Zersetzung des Einlaßgasstroms liefert. Dieser Ofen ist zum Erhitzen des durch den erhitzten röhrenförmigen Reaktor innerhalb eines Zeitraums von etwa 0,1 Sekunden fließenden Gasstroms von Raumtemperatur auf eine Temperatur von bis etwa 1400ºC befähigt.
- Das Gas fließt durch den röhrenförmigen Reaktor in der durch den Pfeil 18 angezeigten Richtung, wobei Partikel des Reaktionsprodukts wie bei 19 gezeigt entstehen. Der röhrenförmige Reaktor besitzt ein offenes Ende, das zu einer gekühlten Oberfläche weist.
- Bei der in Fig. 1 gezeigten Ausführungsform handelt es sich bei der gekühlten Oberfläche um einen Zylinder 21, der sich in der durch den Pfeil 22 angezeigten Richtung dreht. Durch einen dem röhrenförmigen Reaktor gegenüberliegenden Schaber 23 werden auf dem Substrat 21 gebildete Partikel abgetrennt und fallen somit nach unten, wo sie von einem Trichter 24 aufgefangen werden, der sie zu einer Abscheidungskammer 25 leitet, die sich alle im Innern der Reaktionskammer 11 befinden. Der Innendruck dieser Reaktionskammer l 1 wird durch eine Vakuumpumpe 26 reguliert, die überein Steuerventil 27, mit dem sich der Innendruck der Reaktionskammer regulieren läßt, mit der Reaktionskammer verbunden ist.
- Der Reaktor der vorliegenden Erfindung umfaßt eine Mischkammer 15, mittels der sich das Trägergas mit der Vorstufenquelle in jedem beliebigen Verhältnis mischen läßt. Bei dieser besonderen Ausführungsform wird das Trägergas einfach durch die Quelle aus flüssiger Vorstufe durchgeblasen. Hierdurch wird ein kleiner Anteil der dampfförmigen Vorstufe mit dem Gas vermischt. Das besondere Nadelventil sorgt für eine kontrollierte Zuführungsgeschwindigkeit des Vorstufe/Trägergas-Stroms zum erhitzten röhrenförmigen Reaktor.
- Vorzugsweise wird die abgekühlte Oberfläche 21 gekühlt und auf einer die Kondensation des Dampfes bewirkenden Temperatur gehalten. Diese liegt im allgemeinen unterhalb etwa 0ºC. Dies gelingt durch Zirkulieren von flüssigem Stickstoff durch den Zylinder.
- Dieser Reaktor wird zur Bildung von n-Keramiken gemäß der vorliegenden Erfindung eingesetzt. Bei diesem Verfahren können die verschiedensten Trägergase und Vorstufen zur Anwendung kommen, wodurch die verschiedensten nanoskaligen Partikel entstehen. Bei dem Trägergas kann es sich beispielsweise um jedes beliebige Inertgas wie ein Edelgas - vorzugsweise Helium oder Argon - handeln. Stickstoff kann ebenfalls zum Einsatz kommen, ebenso wie reaktionsfähigere Gase wie Ammoniak oder Wasserstoff. Als weitere geeignete Gase kommen Methan, Ethylen, Distickstoffoxid, Sauerstoff, Kohlenmonoxid und Kohlendioxid in Frage.
- Bei der Vorstufenquelle kann es sich um jede beliebige metallorganische Verbindung handeln, die unter Bildung einer gasförmigen Phase im Trägergas verdampfbar ist. Hierzu gehören alle bei den derzeitigen CVD- Verfahren verwendeten metallorganischen Verbindungen. Als geeignete metallorganische Verbindungen kommen beispielsweise Aluminium-, Zirconium-, Yttrium-, Nickel-, Titan-, Silicium-, Molybdän und Wolframsilazene, -butoxide, -acetylacetonate, -isopropoxide, -alkoxide und weitere handelsübliche metallorganische Verbindungen in Frage.
- Zur Erzielung optimaler Ergebnisse spielen bei der Synthese von nicht agglomerierten n-keramischen Pulvern nach dem CVC-Verfahren der vorliegenden Erfindung mehrere Faktoren eine entscheidende Rolle. Hierzu gehören eine niedrige Vorstufenkonzentration im Trägergas, wodurch die Stoßhäufigkeit zwischen den während der kurzen Verweilzeit im erhitzten röhrenförmigen Reaktor gebildeten Agglomerate auf ein Minimum reduziert wird. Auf diese Weise kann die Vorstufenkonzentration solange erhöht werden, bis die Agglomeratbildung beginnt. Im allgemeinen sollte die Vorstufenkonzentration weniger als 20 Mol-%, vorzugsweise weniger als 10 Mol-% betragen, die sich zur Verringerung der Agglomeration auf 0,1 Mol-% oder weniger reduzieren läßt.
- Ein zweites wichtiges Merkmal ist die rasche Expansion des Gasstroms in eine unter vermindertem Druck stehende Umgebung in der Reaktionskammer. Dementsprechend wird die Reaktionskammer im allgemeinen unter einem Druck von etwa 1 bis etwa 50 mbar gehalten.
- Schließlich wird durch rasches Abkühlen der Partikel beim Verlassen des Reaktors mit kurzer Flugzeit vor dem raschen Abkühlen der Partikel auf einem mit flüssigem Stickstoff gekühlten Zylinder die rasche Bildung nicht agglomerierter Partikel erleichtert. Im allgemeinen befindet sich die Reaktionskammer in einem Abstand von 2,54-7,62 cm (1-3 Zoll) von der gekühlten Oberfläche. Des weiteren dreht sich die gekühlte Oberfläche, wodurch für die gebildeten Partikel unter Vermeidung von Stößen und Agglomeration eine saubere Oberfläche zur Verfügung steht.
- Zusammen mit diesem Merkmal wird durch Verwendung einer sich drehenden Kühlvorrichtung mit großem Durchmesser im Vergleich mit der Größe der Reaktorröhre für eine hohe Wirksamkeit der n- Partikelabscheidung und für eine konstante Abkühlgeschwindigkeit gesorgt. Es sei darauf hingewiesen, dass ein auf der Rückseite des sich drehenden Substrats befindlicher Schaber eine kontinuierliche Entfernung des abgeschiedenen Pulvers gewährleistet, wodurch für eine saubere Metalloberfläche für die kontinuierliche Abscheidung von Partikeln mit konstanter Abkühlgeschwindigkeit gesorgt wird.
- Ein weiteres attraktives, nicht aufgezeigtes Merkmal dieses Verfahrens ist die Verwendung einer Hochvakuumkammer nicht nur für die Synthese und das Abscheiden der Pulver, sondern auch für die in-situ Pulverkonsolidierung durch Kalt- oder Heißverpressen. So kann an die Hochvakuumkammer des Reaktors 10 eine Heiß- oder Kaltpresse angeschlossen werden. Mit solch einer Anordnung wäre eine Verunreinigung der eine hohe Oberfläche aufweisenden Pulver ausgeschlossen, und es könnte die hervorragende Sinterfähigkeit sauberer n-Partikel höchster Reinheit voll genutzt werden. Die in-situ-Heißkonsolidierung der n- Pulverpreßlinge ohne Induzierung einer wesentlichen Kornvergröberung sollte Materialien mit hervorragenden mechanischen Eigenschaften ergeben.
- Der Reaktor kann natürlich auf vielerlei andere Arten abgewandelt werden und immer noch in den Schutzbereich der vorliegenden Erfindung fallen. Anstelle des erhitzten röhrenförmigen Reaktors können verschiedene andere Wärmequellen zum Einsatz kommen, wie z. B. ein induktiv gekoppeltes Niederdruck- Plasma (1-50 mbar) oder eine Verbrennungsflamme. Im Falle einer Verbrennungsflamme würde die Vorstufe mit einem Verbrennungsgas wie Wasserstoff und einem Oxidationsmittel wie Sauerstoff vereint und die Mischung in die Kammer eingebracht und entzündet werden.
- Zur Synthese von n-keramischen Mehrkomponentenpulvern können mehrere Einspritzöffnungen zur Anwendung kommen, indem man entweder mehrere Nadelventile verwendet oder die Vorstufen an einer dem Nadelventil vorgeschalteten Stelle unmittelbar vor dem Einspritzen miteinander vereint. Des weiteren können hierbei bereits vorhandene, früher für herkömmliche MOCVD-Reaktoren entwickelte Verteilungssysteme für aus mehreren Quellen stammende Gase genutzt werden. Bei diesen Systemen werden kontrollierte Mischungen aus Vorstufe und oxidischem Gas separat verschiedenen Einspritzpistolen zugeführt, um beispielsweise mit Yttriumoxid stabilisierte Zirkoniumoxid- oder Barium-Strontium-titanat-Pulver zu synthetisieren. Zur weiteren Vereinfachung des Gaszuführungssystems kann man ebenfalls ein Einspritzsystem für Aerosol/dampfförmige Vorstufen verwenden, um so Lösungen aller notwendigen Vorstufenverbindungen in einer organischen Flüssigkeit in den zur Synthese von spezifischen Mehrkomponenten-Oxidphasen wie Supraleiterphasen mit hohem 1% notwendigen, richtigen Atomverhältnissen zu verwenden.
- In einer aus vier Versuchen bestehenden Testreihe wurde die Ofentemperatur im Bereich von 1100-1400ºC in Schritten von 100ºC variiert, wobei die Strömungsgeschwindigkeit des Helium-Trägergases auf 8,55 · 10&supmin;³ mol/min festgesetzt, die HMDS-Konzentration im He-Trägergas auf 16,5 Mol% eingestellt, die Leckrate so festgesetzt wurde, daß sich ein dynamischer Druck von 10 mbar in der Reaktionskammer ergab, und der Abstand des kalten Substrats vom Reaktorrährenausgang auf 5 cm eingestellt wurde. In allen vier Versuchen wurden nach etwa 30minütigem Betrieb des Reaktors etwa 2 Gramm Pulver abgeschieden. Die Reaktionsbedingungen sind in Tabelle 1 aufgeführt. Die verschiedenen gebildeten Pulverabscheidungen zeigten eine Farbänderung von braun nach schwarz, was mit der zunehmenden Pyrolysetemperatur in Einklang steht, Tabelle 2. Aus der Röntgenbeugungsanalyse ergab sich, daß alle Pulver amorph waren. Elektronenmikrosonden- und Rückstreuanalysen nach Rutherford zeigten, daß die amorphen Pulver variable Zusammensetzungen des Typs SiCxNyOz (worin x im allgemeinen 1 bis etwa 1,6, y 0 bis etwa 0,5 und z 0 bis etwa 0,7 bedeuten) besaßen, Tabelle 3. Das Vorliegen von Kohlenstoff und Stickstoff in den Partikeln spiegelt lediglich die Zusammensetzung der HMDS-Ausgangsvorstufe wider. Sauerstoff ist eine Verunreinigung, die aufgenommen wird, wenn das eine hohe Oberfläche aufweisende Pulver der Luft ausgesetzt wird. Die mittlere Partikelgröße nach TEM (Transmissionselektronenmikroskop) lag im Bereich von 6-10 nm, wobei die geringste Partikelgröße der höchsten Reaktionstemperatur entspricht. Dagegen nahm die nach BET gemessene Partikelgröße im Bereich von 4-8 nm mit der Reaktionstemperatur zu. Dies legt die Vermutung nahe, daß bei den nach TEM gemessenen Partikeln jedes n-Partikel - zumindest bei den niedrigeren Reaktionstemperaturen - tatsächlich aus teilagglomerierten Agglomeraten besteht. Nicht einmal durch sorgfältige Untersuchung bei hoher Auflösung war es aufgrund des geringen Kontrasts ihrer amorphen Strukturen möglich, die Agglomerate in den 10 nm großen Partikeln aufzulösen. TABELLE 1
- In Tabelle 1 sind die zur Herstellung von vier Versuchsansätzen von amorphen n-SiCxNy-Pulvern verwendeten CVC-Verfahrensbedingungen zusammengefaßt. Die Temperatur des röhrenförmigen Reaktors wurde im Bereich von 1100-1400ºC in Schritten von 100ºC erhöht, die Strömungsgeschwindigkeit des He- Trägergases wurde auf 8,55 · 10&supmin;³ mol/min festgesetzt, die Konzentration der HMDS-Vorstufe wurde auf 16,5. Mol-% eingestellt, der Kammerdruck wurde auf 10 mbar festgesetzt und der Abstand des kalten Substrats vom Ausgang des heißen röhrenförmigen Reaktors wurde auf 5 cm eingestellt. TABELLE 2
- * Mit einem Pyknometer unter Verwendung von He-Gas gemessen.
- ** Durch Einzelpunkt-HET-Adsorption gemessen.
- In Tabelle 2 sind einige wichtige Eigenschaften der vier Ansätze von SiCxNy-Pulvern im Synthesezustand verglichen. Mit zunehmender Pyrolysetemperatur ändert sich das Aussehen des Pulvers von braun nach schwarz, nimmt die Pulverdichte zu und die Pulverpartikelgröße (nach TEM) ab. Die aus den BET- Adsorptionsmessungen abgeleiteten kleineren Partikelgrößen bei den niedrigsten Reaktionstemperaturen spiegeln die teilweise Agglomerierung von eine extrem hohe Oberfläche aufweisenden Agglomeraten wider. TABELLE 3
- In Tabelle 3 sind die durch Rückstreuungsspektroskopie nach Rutherford bestimmten chemischen Zusammensetzungen der vier Ansätze von amorphen n-SiCxNyOz-Pulvern im Synthesezustand verglichen. Das Vorliegen von Kohlenstoff und Stickstoff in den Partikeln spiegelt die Ausgangszusammensetzung (SiC&sub3;N0,5) der HMDS-Vorstufe nach teilweisem Verlust von Bestandteilen bei der Pyrolyse wider. Sauerstoff ist eine Verunreinigung, die aufgenommen wird, wenn das eine hohe Oberfläche aufweisende Pulver der Luft ausgesetzt wird. Eine 4stündige Wärmebehandlung dieser amorphen n-Pulver bei 1600ºC in Argon bewirkt denen Kristallisation zu phasenreinem kubischem α-SiC.
- Oberflächenmessungen an den vier Ansätzen von n-SiCxNy-Pulvern, die durch Einzelpunktstickstoffadsorption erfolgten, ergaben Werte im Bereich von 568-272 m²/g mit zunehmender Pyrolysetemperatur. Dies steh im Einklang mit der bei den niedrigsten Synthesetemperaturen stattfindenden Bildung von Nanopartikeln, die aus Sinteraggregaten von Agglomeraten mit sehr hoher Oberfläche bestehen. Die Dichtebestimmungen der Nanopartikel erfolgte mit einem Pyknometer unter Verwendung von He und ergaben einen Wert > 2,6 g/cm³. Wie angegeben, nimmt die Partikeldichte mit der Reaktionstemperatur zu, was wahrscheinlich den höheren Grad an Vorstufenpyrolyse widerspiegelt, d. h. Umwandlung der HMDS- Vorstufe in die SiCxNy-Phase. Bei noch niedrigeren Reaktionstemperaturen besitzen die Partikel im Synthesezustand eine wachsähnliche Konsistenz, was in Einklang mit der Bildung eines anorganischen Polymers steht.
- Alle n-SiCxNy-Pulver waren in Methylalkohol mittels Ultraschall dispergierbar, wobei ein scheinbar stabiles Kolloid ohne sichtbaren Hinweis auf Sedimentation nach mehreren Tagen entstand, was darauf hindeutet, daß wenig oder keine Agglomerierung der Nanopartikel in den Pulvern im Synthesezustand stattfindet. Verhältnismäßig hohe Konzentrationen (bis zu 20 Gew.-%) der Nanopartikel waren in Lösung zu einer Mischung mit pastenähnlicher Konsistenz dispergierbar. Unter Verwendung einer verdünnten kolloidalen Lösung wurde mit Hilfe eines kohlenstoffbeschichteten Gitters eine kleine Pulverprobe zur TEM-Untersuchung entnommen. In der Regel bildeten die Nanopartikel auf dem Trägerfilm beim Verdampfen des Lösungsmittels Ketten oder flache Inseln. Die Untersuchung unter dem Elektronenmikroskop ergab Ketten von Partikeln mit einer mittleren Größe von 10 nm, ohne daß sich "Hals"-bildung zwischen benachbarten n-Partikeln feststellen ließ. Dies ist ein direkter Beweis für das Fehlen von wesentlicher Partikelagglomerierung, d. h. Bildung von Sinterpartikelaggregaten in den nach dem CVC-Verfahren hergestellten n-keramischen Pulvern im Synthesezustand.
- Neben der Untersuchung der Synthese des aus HMDS/He hergestellten n-SiCxNy-Pulvers wurde ebenfalls untersucht, wie sich die Verwendung eines anderen Trägergases insbesondere auf die Chemie der Pulver im Synthesezustand auswirkt. Mit NH&sub3; als Trägergas entsteht ein fast phasenreines n-Si&sub3;N&sub4;-Pulver. Dagegen nimmt mit H&sub2; als Trägergas der Kohlenstoffgehalt des n-SiCxNy Pulvers im Synthesezustand drastisch ab, zumindest gegenüber dem aus HMDS/He erhaltenen Pulver.
- Mit Zirconium-tert.-butoxid als Vorstufenverbindung und He als Trägergas wurde ein amorphes n-ZrOxCy- Pulver mit einer mittleren Partikelgröße < 10 nm synthetisiert. Es wird angenommen, daß der amorphe Zustand des Pulvers eine Folge der in den Partikeln gefangenen flüchtigen Spezies ist. Das bei einer Reaktortemperatur von 500ºC synthetisierte Pulver enthält mehr polymere Spezies als das bei einer Reaktortemperatur von 700ºC synthetisierte Pulver. Dies zeigt sich daran, daß das erstere beim Glühen mehr Gewichtsverlust zeigt als das letztere.
- In Fig. 2 ist dargestellt, wie sich eine 5minütige Wärmebehandlung von amorphem n-SiCxNy-Pulver in fließendem Argon bei Temperaturen im Bereich 1100-1500ºC auswirkt. Die Kristallisation zu kubischem SiCxNy beginnt bei 1200-1300ºC und ist bei 1400ºC beendet. Die mittlere Korngröße des kristallisierten Pulverprodukts beträgt 3 nm bei 1300ºC, was durch die Verbreiterung der Röntgenlinie bestimmt wurde, und ist damit kleiner als die aus der direkten Beobachtung mittels TEM abgeleitete Partikelgröße von 10 nm. Es wird angenommen, daß das Vorliegen von freiem Kohlenstoff im kristallisierten Pulver das Kornwachstum behindert, so daß jedes n-Partikel zumindest anfänglich mehrere Körner aufweist. Nach einer > 10 Stunden dauernden Wärmebehandlung bei 1300ºC, Fig. 3, wird die mittlere Korngröße mit der Partikelgröße vergleichbar, was so ausgelegt wird, daß sich gegebenenfalls vorhandener Restkohlenstoff an den n- Partikeloberflächen abgeschieden hat. Bei 4stündiger Wärmebehandlung des Pulvers bei 1600ºC in Argon wird das kubische SiC-Pulver phasenrein, Tabelle 3. Das Verschwinden des freien Kohlenstoffs im Pulver kann teils einer Reaktion mit der Verunreinigung aus Sauerstoff an den Pulveroberflächen und teils einer Reaktion mit den Spurenverunreinigungen aus Sauerstoff im fließenden Argon zugeschrieben werden.
- In Fig. 4 ist dargestellt, wie sich eine 5minütige Wärmebehandlung von amorphem n-SiCxNy-Pulver in fließendem NH&sub3;/H&sub2; (1 : 1-Mischung) bei Temperaturen im Bereich von 800-1400ºC auswirkt. Die Kristallisation zu hexagonalem Si&sub3;N&sub4; erfolgt bei 1400ºC. Überraschenderweise liegt das α-Si&sub3;N&sub4; in Form von Nanowhiskern mit Durchmessern von 30-60 nm und Längen-Breiten-Verhältnissen von bis zu 500 : 1 vor, die einen hohen Grad an Einkristallperfektion aufweisen. Durch reduzierende Zersetzung von n-SiCxNy- Partikeln in der Pulverschicht entstehen ultrafeine Tröpfchen aus flüssigem Silicium, von denen angenommen wird, daß sie für das Wachstum von Einkristall-Si&sub3;N&sub4;-Nanowhiskern verantwortlich sind. Anscheinend wandern die Tröpfchen aus flüssigem Silicium durch die Pulverschicht, lösen die auf ihrem Weg liegenden amorphen n-Partikel auf und lassen kristalline Whisker hinter sich zurück. Durch Koaleszenz der in einem Pulveragglomerat gebildeten Tröpfchen aus flüssigem Silicium können ebenfalls größere Siliciumtröpfchen entstehen, die ihrerseits Whisker mit größerem Durchmesser erzeugen können.
- Wie in Tabelle 4 dargestellt, kommt es mit zunehmender Temperatur der Wärmebehandlung zu einer systematischen Änderung der Zusammensetzung des Pulvers im Synthesezustand. Bei 1400ºC findet eine starke Erniedrigung des Sauerstoffgehalts und eine entsprechende Anreicherung an Stickstoff statt, was wahrscheinlich eine starken Einfluß auf die Whiskerbildung bei dieser Temperatur ausübt. Tabelle 4
- In Tabelle 4 sind die chemischen Zusammensetzungen des n-SiCxNy-Pulvers im Synthesezustand (Reaktortemperatur 1400ºC) nach einer 5minütigen Wärmebehandlung in fließendem NHWH&sub2; (1 : 1- Mischung) bei Temperaturen im Bereich von. 300-1400ºC verglichen. Mit zunehmender Temperatur kommt es aufgrund der chemischen Reaktionen mit dem stickstoff/wasserstoffreichen Gasstrom zu einer Erhöhung des Stickstoffgehalts und einer Erniedrigung des Kohlenstoffgehalts. Bei 1400ºC erfolgt eine deutliche Abnahme des Sauerstoffgehalts, was mit der Bildung von hexagonalen Si&sub3;N&sub4;-Nanowhiskers im Zusammenhang steht.
- In Fig. 5 ist dargestellt, wie sich eine 5minütige Wärmebehandlung von amorphem n-SiCxNy-Pulver in fließendem H&sub2; bei Temperaturen im Bereich von 1000-1400ºC auswirkt. Die Kristallisation zu Einkristall- Nanowhiskern (Durchmesser 20-50 nm) aus kubischem β-SiC erfolgt bei 1400ºC. Anhand von TEM wurde nachgewiesen, daß die Whisker ein Wachstum in Richtung [111] zeigten und daß viele (111)-Stapelfehler in senkrechter Richtung zur Wachstumsachse vorlagen.
- In allen Fällen beobachtete man eine offensichtliche Neigung der nanokristallinen Whisker zur Bildung von einander durchdringenden Netzwerken, bei denen die ursprüngliche Form der Pulverproben nachgebildet war.
- Zur Durchführung einer definitiveren Überprüfung dieses Verhaltens wurde eine Pulverprobe gleichmäßig auf dem Boden eines hochreinen Aluminiumtiegels (0,25 Zoll · 0,5 Zoll · 3,0 Zoll) verteilt und anschließend einer 10stündigen Wärmebehandlung bei 1200ºC in Wasserstoff unterzogen. Die hierbei entstehende freistehende Whisker-Vorform, die dis gleiche Form wie der Tiegel aufwies, dem sie entnommen wurde, bestand aus kubischen SiC-Whiskern niedriger Dichte (< 10 Vol.-%). Interessanterweise war die Whisker-Vorform relativ flexibel und war zu einem gewissen Grad bieg- und verpreßbar, ohne die Fähigkeit zu verlieren, bei Wegnahme der Belastung ihre ursprüngliche Form zurückzubilden. Die Untersuchung unter dem SEM (Rasterelektronenmikroskop für Oberflächen) ergab, daß viele stark gebogene Whisker in der Gewebestruktur vorlagen, was darauf schließen läßt, daß sie eine hohe Eigenstabilitat und -steife besitzen, was von Einkristall-SiC-Whiskern auch zu erwarten ist.
- n-ZrO&sub2;-Pulverpreßlinge mit einer mittleren Partikelgröße von 6 nm wurden 40 Minuten bei 1135ºC an der Luft gesintert, wobei die mittlere Korngröße weniger als 100 nm betrug. Ähnliche Pulverpreßlinge wurden 40 Minuten bei 975ºC unter Vakuum gesintert, wobei die mittlere Korngröße 60 nm betrug. Sinterschmieden und Heißverpressen wurden ebenfalls angewandt, um die Verdichtungstemperatur und somit die Korngröße noch weiter zu erniedrigen. Hierbei erhielt man unter Sinterschmied- und Heißpressbedingungen Korngrößen von lediglich 35 bzw. 45 nm. Anders als wie bisher nach herkömmlichem Fachwissen auf diesem Gebiet angenommen, sind die zur Verdichtung von n-ZrO&sub2;-Pulvern benötigten Belastungen beim Sinterschmieden viel geringer als beim Heißverpressen. Die angewandten Belastungen, die zur völligen Verdichtung von n- ZrO&sub2;-Pulvern bei 900ºC benötigt werden, betragen 200 MPa bzw. 350 MPa. Diese Ergebnisse sind in Tabelle 5 zusammengefaßt.
- Wie in Beispiel 3 angemerkt, enthielten die bei einer Reaktortemperatur von 500ºC synthetisierten n-ZrOxCy- Pulver mehr Restpolymerspezies als das bei einer Reaktortemperatur von 700ºC synthetisierte Pulver. Ähnliche Eigenschaften zeigen die bei Temperaturen unterhalb etwa 900ºC synthetisienten n-SiCxNy-Pulver. Die nach Teilpyrolyse der Vorstufenverbindung zurückbleibenden organischen Nebenprodukte können als wirkungsvolle Schmiermittel dienen, indem sie die Verträglichkeit und Bildungsfähigkeit der Grünpreßlinge verbessern. Somit besteht jetzt eine Möglichkeit, die im Pulver benötigte Menge an Schmiermittel durch Regulierung der Zersetzungskinetik der Vorstufenverbindung, d. h. durch geeignete Einstellungen der Reaktortemperatur und Gasverweilzeit, zuzugeben. Tabelle 5
- In Tabelle 5 sind die Angaben zur Sinteifähigkeit von n-ZrO&sub2;-Pulverpreßlingen unter Verwendung von verschiedenen Sinterverfahren verglichen. Die niedrigsten Sintertemperaturen, entsprechend den kleinsten Korngrößen in den völlig gesinterten Produkten, werden beim Sinterschmieden und Heißverpressen erreicht.
- Somit stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Bildung der verschiedensten n-keramischen Pulver aus metallorganischen Vorstufen zur Verfügung. Diese Pulver lassen sich als Katalysatoren zur Förderung chemischer Reaktionen, als funktionelle Zusatzstoffe bei Farben und Kunststoffen und als Ausgangsmaterial bei der Herstellung von porösen oder dichten Strukturen verwenden. Beispielsweise können die durch Teilsintern n-keramischer Pulverpreßlinge gebildeten einheitlichen n-porösen Strukturen als biologische Filter, Batterieelektroden und für chemische Trennungen von Nutzen sein. Dagegen können völlig dichte n- keramische Beschichtungen und Teile, die hervorragende Hochtemperaturfestigkeit, Heißkorrosionsbeständigkeit und Bruchzähigkeit besitzen sollten, bei Gasturbinenmotoren, Raketenmotoren, adiabatischen Dieselmotoren und herkömmlichen Verbrennungsmotoren zum Einsatz kommen.
- n-Keramikpulver im Synthesezustand lassen sich ebenfalls einer Weiterbehandlung unter Bildung von Gewebenetzwerken aus kristallinen n-keramischen Whiskern unterziehen. Solche selbstzusammengebauten Gewebestrukturen, die sowohl flexibel als auch elastisch sind, können möglicherweise als Umwickelisolationsbänder bzw. -kacheln, wie sie z. B. zu thermischen Isolierungszwecken in dem Space- Shuttle verwendet werden, zum Einsatz kommen. Auch für die Herstellung der Netzwerkform einer neuen Generation von whiskerverstärkten Hochleistungsnanokompositen durch Matrixinfiltration von Whisker- Vorformen bestehen hervorragende Aussichten. Der Einsatz von n-keramischen Pulvern als Infiltrationsstoffe bei der Herstellung von keramischen Matrixkompositen ist besonders vorteilhaft, da (1) durch Druckinfiltration einer n-keramischen Aufschlämmung in ein gewirkte keramische Vorform der gesamte in dieser Votform zur Verfügung stehende Porenraum gefüllt werden kann, wodurch für ein defektfreies Sinterprodukt gesorgt wird, und (2) durch die für n-Keramikpulverpreßünge charakteristischen niedrigen Sintertemperaturen (Beispiel 7 oben) schädliche Whisker/Matrix-Grenzphasenreaktionen unterdrückt werden sollten - ein bei der Kompositherstellung angetroffenes, weit verbreitetes Problem. Die derzeitige Forschung richtet sich auf die Netzformherstellung von Polymermatrixkompositen (PMCs), Metallmatrixkompositen (MMCs) sowie keramischen Matrixkompositen (CMCs) unter Verwendung einer Reihe verschiedener Matrixinfiltrations- und Verdichtungstechniken.
Claims (16)
1. Vorrichtung zur Synthese von Keramikpulvern, umfassend eine Reaktionskammer (11), eine Quelle (15)
einer metallorganischen Vorstufe und ein Gaszuführungssystem (12), das so ausgestaltet ist, daß es die
metallorganische Vorstufe mit einem Trägergas vereint, und weiterhin umfassend eine Einspritzöffnung, die zu
einem Einlaß eines länglichen, erhitzten Reaktors (17) in der Reaktionskammer (11) führt, wobei der erhitzte
Reaktor (17) die thermische Zersetzung der metallorganischen Vorstufe bei einer Temperatur von 500ºC bis
1400ºC zwischen dem Einlaß und einem offenen Auslaßende bewirkt, dadurch gekennzeichnet, daß die
Reaktionskammer (11) so ausgestaltet ist, daß sie einen Druck von 1 bis 50 mbar aushält, und daß der
erhitzte Reaktor (17) Reaktionsprodukte durch den Auslaß in einem scharfen Strahl auf eine gekühlte
Oberfläche (21) lenkt, die sich vor dem Auslaß befindet, so daß nicht agglomerierte, nanostrukturierte
Keramikpulver entstehen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die gekühlte Oberfläche (21) in bezug auf den erhitzten Reaktor (17)
beweglich ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, wobei die gekühlte Oberfläche eine gekühlte zylindrische
Oberfläche (21) umfaßt, die relativ zum offenen Ende des erhitzten Reaktors (17) drehbar ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, wobei die zylindrische Oberfläche (21) mit flüssigem Stickstoff gekühlt wird
und die Vorrichtung ferner einen Schaber (23) aufweist, der die zylindrische Oberfläche (21) berührt, so daß
durch die Rotation der zylindrischen Oberfläche die Oberfläche von einer vor dem offenen Ende des erhitzten
Reaktors (17) liegenden Stelle umlaufend zum Schaber (23) geleitet wird.
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erhitzte Reaktor (17) eine Länge von
etwa 15,24 cm (6 Zoll) hat.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erhitzte Reaktor (17) einen
röhrenförmigen Reaktor aus einem Material ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Aluminiumoxid und
Quarz umfaßt.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erhitzte Reaktor (17) mehrere
Vorstufe/Trägergas-Einlässe aufweist.
8. Verfahren zur Herstellung von Keramikpulvern, umfassend das Vereinen einer Vorstufenverbindung mit
einem Trägergas unter Bildung eines Vorstufe/Trägergas-Stroms, wobei die Vorstufenverbindung eine
verdampfte metallorganische Verbindung umfaßt, rasches Erhitzen des Vorstufe/Trägergas-Stroms auf eine
Temperatur von etwa 500ºC bis etwa 1400ºC zwecks thermischer Zersetzung der metallorganischen Vorstufe
und Bildung von nanostrukturiertem Keramikpulver, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägergas ausgewählt
wird aus der Gruppe im wesentlichen bestehend aus Ammoniak, Stickstoff, Helium, Argon, Methan, Ethylen,
Distickstoffoxid, Sauerstoff, Kohlenmonoxid und Kohlendioxid, daß der Vorstufe/Trägergas-Strom bei einem
Druck von 1 bis 50 mbar erhitzt wird, und daß das Verfahren ferner das Lenken des nanostrukturierten
Keramikpulvers in einem scharfen Strahl auf eine gekühlte Oberfläche und das Entfernen der Partikel von der
Oberfläche umfaßt, so daß nicht agglomerierte, nanostrukturierte Keramikpulver entstehen.
9. Verfahren nach Anspruch 8, wobei das Molverhältnis zwischen Trägergas und Vorstufe zwischen 0,1 und
20 Mol-% liegt.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder Anspruch 9, wobei die metallorganische Verbindung ausgewählt wird
aus der Gruppe bestehend aus metallorganischen Verbindungen auf der Basis von Aluminium, Zirconium,
Yttrium. Nickel, Titan, Silicium, Molybdän und Wolfram.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei die Vorstufe Hexamethyldisilarzan ist, so daß das
nicht agglomerierte, nanostrukturierte Keramikpulver die Formel SiCxNy hat, wobei die Partikel eine Größe
von 2-20 nm haben und worin · 1 bis 1,6 und y 0 bis 0,5 bedeuten.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei die Vorstufe Zirconium-tert-butoxid ist, so daß das
gebildete nicht agglomerierte, nanostrukturierte Keramikpulver die Formel n-ZrOx Cy hat, die Partikel eine
Größe von 2-20 nm haben, · 1 bis 1,6 und y 0 bis 0,05 bedeuten.
13. Verfahren nach Anspruch 8 oder Anspruch 9, wobei die Vorstufe wenigstens zwei Verbindungen
ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus metallorganischen Verbindungen auf der Basis von Aluminium,
Zirconium, Yttrium, Nickel, Titan, Silicium, Molybdän und Wolfram umfaßt.
14. Verfahren zur Bildung von keramischen Faserkristallen, umfassend das Erhitzen von n-SiCx Ny-Pulver
mit einer Partikelgröße von weniger als 20 nm auf eine Temperatur von 1100ºC bis 1400ºC, wobei · 1 bis 1,6
und y 0 bis 0,5 bedeuten.
15. Verfahren nach Anspruch 14, wobei der Erhitzungsschritt das Umsetzen von amorphem n-SiCx Ny-
Pulver in einer Wasserstoffatmosphäre über einen Zeitraum von S Minuten bis zu mehreren Stunden zu
Siliciumcarbid-Whiskern umfaßt.
16. Verfahren nach Anspruch 14, wobei der Erhitzungsschritt das Erhitzen von amorphem n-SiCx Ny-Pulver
in einer Atmosphäre aus Ammoniak und Wasserstoff zwecks Bildung von n- Si&sub3; N&sub4;-Whiskern auf eine
Temperatur von mehr als 1300ºC umfaßt.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/231,026 US5514350A (en) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | Apparatus for making nanostructured ceramic powders and whiskers |
PCT/US1995/004792 WO1995029124A1 (en) | 1994-04-22 | 1995-04-18 | Method and apparatus for producing nanostructured ceramic powders and whiskers |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69518071D1 DE69518071D1 (de) | 2000-08-24 |
DE69518071T2 true DE69518071T2 (de) | 2001-03-22 |
Family
ID=22867491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69518071T Expired - Fee Related DE69518071T2 (de) | 1994-04-22 | 1995-04-18 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung nanostrukturierter keramikpulver und whisker |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5514350A (de) |
EP (1) | EP0756580B1 (de) |
AT (1) | ATE194817T1 (de) |
AU (1) | AU2424995A (de) |
DE (1) | DE69518071T2 (de) |
WO (1) | WO1995029124A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10138573A1 (de) * | 2001-08-06 | 2003-03-06 | Degussa | Nanoskaliges pyrogen hergestelltes Yttrium-Zirkon-Mischoxid |
WO2016110418A1 (de) * | 2015-01-06 | 2016-07-14 | Universität Paderborn | Vorrichtung und verfahren zum herstellen von siliziumcarbid |
Families Citing this family (67)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3402821B2 (ja) * | 1995-02-09 | 2003-05-06 | 科学技術振興事業団 | 超微粒子の製造方法と超微粒子配向成長体の製造方法 |
US5876683A (en) * | 1995-11-02 | 1999-03-02 | Glumac; Nicholas | Combustion flame synthesis of nanophase materials |
US5874134A (en) * | 1996-01-29 | 1999-02-23 | Regents Of The University Of Minnesota | Production of nanostructured materials by hypersonic plasma particle deposition |
US5922403A (en) | 1996-03-12 | 1999-07-13 | Tecle; Berhan | Method for isolating ultrafine and fine particles |
WO1998002241A1 (en) | 1996-07-11 | 1998-01-22 | The University Of Cincinnati | Electrically assisted synthesis of particles and films with precisely controlled characteristics |
US5872070A (en) * | 1997-01-03 | 1999-02-16 | Exxon Research And Engineering Company | Pyrolysis of ceramic precursors to nanoporous ceramics |
US7575784B1 (en) | 2000-10-17 | 2009-08-18 | Nanogram Corporation | Coating formation by reactive deposition |
US6849334B2 (en) * | 2001-08-17 | 2005-02-01 | Neophotonics Corporation | Optical materials and optical devices |
CN1076211C (zh) * | 1998-06-11 | 2001-12-19 | 中国科学院金属研究所 | 一种纳米粉收集方法及系统 |
US6379419B1 (en) | 1998-08-18 | 2002-04-30 | Noranda Inc. | Method and transferred arc plasma system for production of fine and ultrafine powders |
US6395214B1 (en) * | 1998-11-30 | 2002-05-28 | Rutgers, The State University Of New Jersey | High pressure and low temperature sintering of nanophase ceramic powders |
DE19936868A1 (de) * | 1999-08-05 | 2001-02-15 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von oxidischen Nanokristallen |
US6723387B1 (en) | 1999-08-16 | 2004-04-20 | Rutgers University | Multimodal structured hardcoatings made from micro-nanocomposite materials |
US20070044513A1 (en) * | 1999-08-18 | 2007-03-01 | Kear Bernard H | Shrouded-plasma process and apparatus for the production of metastable nanostructured materials |
US6254928B1 (en) * | 1999-09-02 | 2001-07-03 | Micron Technology, Inc. | Laser pyrolysis particle forming method and particle forming method |
US6974367B1 (en) * | 1999-09-02 | 2005-12-13 | Micron Technology, Inc. | Chemical mechanical polishing process |
US6924004B2 (en) * | 2000-07-19 | 2005-08-02 | Regents Of The University Of Minnesota | Apparatus and method for synthesizing films and coatings by focused particle beam deposition |
JP4535677B2 (ja) * | 2000-10-17 | 2010-09-01 | ナノグラム・コーポレイション | 反応性デポジションによるコーティング膜製造 |
US6468497B1 (en) * | 2000-11-09 | 2002-10-22 | Cyprus Amax Minerals Company | Method for producing nano-particles of molybdenum oxide |
US7572430B2 (en) * | 2000-11-09 | 2009-08-11 | Cyprus Amax Minerals Company | Method for producing nano-particles |
US6674047B1 (en) | 2000-11-13 | 2004-01-06 | Concept Alloys, L.L.C. | Wire electrode with core of multiplex composite powder, its method of manufacture and use |
US6513728B1 (en) | 2000-11-13 | 2003-02-04 | Concept Alloys, L.L.C. | Thermal spray apparatus and method having a wire electrode with core of multiplex composite powder its method of manufacture and use |
US6428596B1 (en) | 2000-11-13 | 2002-08-06 | Concept Alloys, L.L.C. | Multiplex composite powder used in a core for thermal spraying and welding, its method of manufacture and use |
US20060248982A1 (en) * | 2001-02-20 | 2006-11-09 | Nanoproducts Corp. | Nanomaterials manufacturing methods and products thereof |
US6994837B2 (en) * | 2001-04-24 | 2006-02-07 | Tekna Plasma Systems, Inc. | Plasma synthesis of metal oxide nanopowder and apparatus therefor |
JP3918073B2 (ja) | 2001-06-25 | 2007-05-23 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 3C−SiCナノウィスカーの合成方法及び3C−SiCナノウィスカー |
US7465431B2 (en) | 2001-08-06 | 2008-12-16 | Degussa Ag | Nanoscalar pyrogenically produced yttrium-zirconium mixed oxide |
US6689192B1 (en) | 2001-12-13 | 2004-02-10 | The Regents Of The University Of California | Method for producing metallic nanoparticles |
US6755886B2 (en) * | 2002-04-18 | 2004-06-29 | The Regents Of The University Of California | Method for producing metallic microparticles |
US7357910B2 (en) * | 2002-07-15 | 2008-04-15 | Los Alamos National Security, Llc | Method for producing metal oxide nanoparticles |
AU2003296882A1 (en) * | 2002-07-19 | 2004-05-04 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Article having nano-scaled structures and a process for making such article |
DE10237915A1 (de) * | 2002-08-14 | 2004-03-11 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Hochdichte Keramiken sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
GB0303070D0 (en) * | 2003-02-11 | 2003-03-19 | Univ Nottingham | A novel method of light assisted fabrication of materials in liquid media |
US7521097B2 (en) * | 2003-06-06 | 2009-04-21 | Nanogram Corporation | Reactive deposition for electrochemical cell production |
US7241500B2 (en) | 2003-10-06 | 2007-07-10 | Certainteed Corporation | Colored roofing granules with increased solar heat reflectance, solar heat-reflective shingles, and process for producing same |
US7384448B2 (en) * | 2004-02-16 | 2008-06-10 | Climax Engineered Materials, Llc | Method and apparatus for producing nano-particles of silver |
US7297619B2 (en) * | 2004-08-24 | 2007-11-20 | California Institute Of Technology | System and method for making nanoparticles using atmospheric-pressure plasma microreactor |
WO2006044629A2 (en) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Climax Molybdenum Company | Gaseous fluid production apparatus and method |
FR2877591B1 (fr) * | 2004-11-09 | 2007-06-08 | Commissariat Energie Atomique | Systeme et procede de production de poudres nanometriques ou sub-micrometriques en flux continu sous l'action d'une pyrolyse laser |
US7476851B2 (en) * | 2004-11-12 | 2009-01-13 | Regents Of The University Of Minnesota | Aerodynamic focusing of nanoparticle or cluster beams |
US7491431B2 (en) * | 2004-12-20 | 2009-02-17 | Nanogram Corporation | Dense coating formation by reactive deposition |
JP4518410B2 (ja) * | 2005-03-09 | 2010-08-04 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | プラズマ溶射された酸化アルミニウム層 |
EP1700926A1 (de) | 2005-03-09 | 2006-09-13 | Degussa AG | Plasmagespritzte Schichten aus Aluminiumoxid |
FR2884111B1 (fr) | 2005-04-07 | 2007-05-18 | Saint Gobain Mat Constr Sas | Granule biocide, notamment pour la fabrication de bardeau d'asphalte |
US20070283782A1 (en) * | 2005-08-10 | 2007-12-13 | Mercuri Robert A | Continuous process for the production of nano-scale metal particles |
US20070283783A1 (en) * | 2005-08-10 | 2007-12-13 | Mercuri Robert A | Process for the production of nano-scale metal particles |
KR100857596B1 (ko) * | 2005-08-23 | 2008-09-09 | 삼성전자주식회사 | 나노입자 생성장치 |
US7422989B2 (en) * | 2005-09-07 | 2008-09-09 | Certainteed Corporation | Solar heat reflective roofing membrane and process for making the same |
US9044921B2 (en) | 2005-09-07 | 2015-06-02 | Certainteed Corporation | Solar heat reflective roofing membrane and process for making the same |
WO2007149541A2 (en) * | 2006-06-20 | 2007-12-27 | University Of Utah Research Foundation | Methods for making carbide-metal nanocomposite powders |
US7749593B2 (en) | 2006-07-07 | 2010-07-06 | Certainteed Corporation | Solar heat responsive exterior surface covering |
US8361597B2 (en) | 2007-04-02 | 2013-01-29 | Certainteed Corporation | Solar heat-reflective roofing granules, solar heat-reflective shingles, and process for producing same |
CA2688340C (en) * | 2007-05-24 | 2016-02-09 | Certainteed Corporation | Roofing granules with high solar reflectance, roofing products with high solar reflectance, and processes for preparing same |
US20090029064A1 (en) * | 2007-07-25 | 2009-01-29 | Carlton Maurice Truesdale | Apparatus and method for making nanoparticles using a hot wall reactor |
US20100316882A1 (en) * | 2008-02-25 | 2010-12-16 | Filippov Andrey V | Nanomaterial and method for generating nanomaterial |
WO2009145968A1 (en) | 2008-03-31 | 2009-12-03 | Certainteed Corporation | Coating compositions for roofing granules, dark colored roofing granules with increased solar heat reflectance, solar heat-reflective shingles, and process for producing the same |
WO2010011076A2 (ko) * | 2008-07-24 | 2010-01-28 | 주식회사 펨빅스 | 고상파우더 연속 증착장치 및 고상파우더 연속 증착방법 |
US8394498B2 (en) | 2008-12-16 | 2013-03-12 | Certainteed Corporation | Roofing granules with high solar reflectance, roofing materials with high solar reflectance, and the process of making the same |
US8722140B2 (en) * | 2009-09-22 | 2014-05-13 | Certainteed Corporation | Solar heat-reflective roofing granules, solar heat-reflective shingles, and process for producing the same |
US20110223385A1 (en) | 2010-03-15 | 2011-09-15 | Ming Liang Shiao | Roofing granules with high solar reflectance, roofing products with high solar reflectance, and process for preparing same |
US8298329B2 (en) | 2010-04-29 | 2012-10-30 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Nano-crystalline dental ceramics |
CA2783777A1 (en) | 2011-08-18 | 2013-02-18 | Certainteed Corporation | System, method and apparatus for increasing average reflectance of a roofing product for sloped roof |
TWI558663B (zh) * | 2013-05-16 | 2016-11-21 | Lg化學股份有限公司 | 用於製造SiO之設備與方法 |
TWI555861B (zh) * | 2014-04-11 | 2016-11-01 | 聖約翰科技大學 | 蒸鍍設備 |
CN105115187B (zh) * | 2015-09-18 | 2017-05-10 | 天津阜昭合金材料有限公司 | 一种用于永磁体粉末的一体式加热制冷装置 |
US10730799B2 (en) | 2016-12-31 | 2020-08-04 | Certainteed Corporation | Solar reflective composite granules and method of making solar reflective composite granules |
DE102017114243A1 (de) * | 2017-06-27 | 2018-12-27 | Psc Technologies Gmbh | Verfahren zur Herstellung von siliciumcarbidhaltigen Fasern und Schäumen sowie ihre Verwendung |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1583333A (en) * | 1920-06-08 | 1926-05-04 | Bigum Hans Jphirgen Jensen | Rotary cooling drum |
US1463216A (en) * | 1921-03-17 | 1923-07-31 | Norman W Krase | Condenser |
US2118438A (en) * | 1934-06-05 | 1938-05-24 | Solvay Process Co | Granulation of fertilizers |
US2001084A (en) * | 1934-07-09 | 1935-05-14 | Ind Patents Corp | Heat exchange device |
US3024009A (en) * | 1944-05-08 | 1962-03-06 | Jr Eugene T Booth | Condensation can |
US4014980A (en) * | 1972-07-27 | 1977-03-29 | Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing graphite whiskers using condensed polycyclic hydrocarbons |
JPS6148409A (ja) * | 1984-08-16 | 1986-03-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | けい素、炭素、窒素からなる微粉末およびその製造方法 |
US4900483A (en) * | 1987-10-29 | 1990-02-13 | Exxon Research And Engineering Company | Method of producing isotropically reinforced net-shape microcomposites |
US5128081A (en) * | 1989-12-05 | 1992-07-07 | Arch Development Corporation | Method of making nanocrystalline alpha alumina |
US5208069A (en) * | 1991-10-28 | 1993-05-04 | Istituto Guido Donegani S.P.A. | Method for passivating the inner surface by deposition of a ceramic coating of an apparatus subject to coking, apparatus prepared thereby, and method of utilizing apparatus prepared thereby |
-
1994
- 1994-04-22 US US08/231,026 patent/US5514350A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-04-18 DE DE69518071T patent/DE69518071T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-04-18 EP EP95918262A patent/EP0756580B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-04-18 AT AT95918262T patent/ATE194817T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-04-18 WO PCT/US1995/004792 patent/WO1995029124A1/en active IP Right Grant
- 1995-04-18 AU AU24249/95A patent/AU2424995A/en not_active Abandoned
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10138573A1 (de) * | 2001-08-06 | 2003-03-06 | Degussa | Nanoskaliges pyrogen hergestelltes Yttrium-Zirkon-Mischoxid |
WO2016110418A1 (de) * | 2015-01-06 | 2016-07-14 | Universität Paderborn | Vorrichtung und verfahren zum herstellen von siliziumcarbid |
US10260163B2 (en) | 2015-01-06 | 2019-04-16 | Universität Paderborn | Device and method for producing silicon carbide |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5514350A (en) | 1996-05-07 |
EP0756580A4 (de) | 1997-07-16 |
WO1995029124A1 (en) | 1995-11-02 |
DE69518071D1 (de) | 2000-08-24 |
EP0756580A1 (de) | 1997-02-05 |
ATE194817T1 (de) | 2000-08-15 |
EP0756580B1 (de) | 2000-07-19 |
AU2424995A (en) | 1995-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69518071T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung nanostrukturierter keramikpulver und whisker | |
EP0360305B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Verbundmaterialteilchen und deren Verwendung | |
Chang et al. | Chemical vapor processing and applications for nanostructured ceramic powders and whiskers | |
EP0650945B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Metall- und Keramiksinterkörpern und -schichten | |
DE69316172T2 (de) | Durch CVD-hergestelltes Siliciumkarbid | |
DE69406659T2 (de) | Verdichtetes feinstkörniges feuerfestes metallcarbid oder carbidkeramik aus fester lösung (mischmetall) | |
DE68909673T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von keramischen Pulvern aus Borcarbid und Titandiborid mit Borcarbid als Substrat und danach hergestellte Zusammensetzung. | |
DE69200764T2 (de) | Durch druckloses oder niedrigdruckgassintern hergestellte dichte, selbstarmierte siliciumnitridkeramik. | |
EP0412428A1 (de) | Keramische Verbundkörper und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE69620899T2 (de) | Siliziumnitrid-nanowhiskers und verfahren zur herstellung derselben | |
DE69506389T2 (de) | In situ herstellung von siliciumcarbid enthaltenden keramischen kompositpulvern | |
DE69028268T2 (de) | Karbidprodukte und Verfahren und Vorrichtung zu ihrer Herstellung | |
DE69413358T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbidpulver aus verdampfter Polysiloxanen | |
DE2700208A1 (de) | Polykristalliner siliziumnitrid- koerper und verfahren zu dessen herstellung | |
DE69620577T2 (de) | Chemische abscheidung von mullitschichten und mullitpulvern aus der gasphase | |
DE3415611A1 (de) | Herstellung von metall-diboridpulvern | |
EP0601405B1 (de) | Polymere Borosilazane und Alumosilazana, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung | |
DE3935865C1 (de) | ||
EP0372382A2 (de) | Sinterfähiges Keramikpulver, Verfahren zu seiner Herstellung, daraus hergestellte Siliziumnitridkeramik, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung | |
DE69310284T2 (de) | Kohlenstoff und Keramik enthaltende Schichten zur Verwendung beim Sintern von Siliciumnitridkörpern | |
DE19545346C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von keramischen Nanocomposites | |
DE69318168T2 (de) | Verfahren zur darstellung von diamant, sowie dadurch erhaltene produkte | |
DE4221659C2 (de) | Flüchtige, metallorganische Alkoxide und ihre Verwendung zur Herstellung von Mikrokompositen aus Keramik und Metall | |
EP0413389A1 (de) | Verfahren zur Abscheidung mikrokristalliner Festkörperartikel aus der Gasphase mittels Chemical Vapour Deposition | |
DE2744636A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von hochreinem siliciumcarbidpulver und seine verwendung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |