DE69327976T2

DE69327976T2 - Verfahren und Vorrichtung zum Aufschmelzlöten

Info

Publication number: DE69327976T2
Application number: DE69327976T
Authority: DE
Inventors: Manabu Ando; Kurayasu Hamasaki; Kazumi Ishimoto; Kimihito Kuwabara; Toshinori Mimura; Youichi Nakamura; Kenichi Nakano; Masahiro Taniguchi
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp
Priority date: 1992-11-17
Filing date: 1993-11-15
Publication date: 2000-11-02
Anticipated expiration: 2013-11-16
Also published as: EP0598367A1; EP0598367B1; EP0934792A3; US5715990A; KR0123188B1; EP0934792A2; DE69316840T2; US5524812A; EP0753370A1; KR940011113A; EP0753370B1; DE69327976D1; DE69316840D1; US5472135A

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Aufschmelzvorrichtung und -verfahren, bei der ein heißer Gasstrom auf eine Platine aufgeströmt wird, um dabei die Platine zu löten, während die Platine in eine Vielzahl von Abschnitten in einen Schmelzofen entlang eines Transportweges befördert wird.
Die US-A-4 909 430, welche den nächstliegenden Stand der Technik definiert, aus dem die Erfindung hervorgeht, offenbart ein Aufschmelzlötverfahren und eine Vorrichtung, wobei die Vorrichtung unten, d. h. unterhalb des Förderers, der einen Gegenstand transportiert, mit einem luftblasenden Ventilator versehen ist, um einen Minusdruck herzustellen, um Luft in die Vorrichtung derart hereinzuziehen, daß die hereingezogene Luft in konstantem Umfang und konstanter Geschwindigkeit von oben nach unten durch einen vorbestimmten Weg strömen kann und unten durch eine Heizvorrichtung auf dem Weg hindurchströmt, um auf eine gegebene Temperatur des Heizgerätes wesentlich aufgeheizt zu werden. Die aufgeheizte Luft fließt dann nach unten, um den Gegenstand, wie z. B. eine Basisplatine, auf welche elektronische Teile montiert sind, der durch den Förderer transportiert wird, zu berühren und den Gegenstand aufzuheizen. Die Luft wird dann durch den Ventilator aus dem oben erwähnten Luftkreislauf heraus in einen weiteren Weg geschickt, wodurch die Luft von unten nach oben in eine Luftkammer oberhalb der Heizung strömen kann; die Luftkammer hat genügend Kapazität, um die Fließgeschwindigkeit der Luft zu reduzieren, um sie darin zum Stehen zu bringen und um sie für die nächste Luftzirkulation durch die oben erwähnten Luftumlaufwege vorzubereiten, um den Gegenstand aufzuheizen, wenn dieser von dem Förderer transportiert wird.
Die US-A-5 147 083 offenbart einen Konvektionslötofen zum Löten von Aluminium-Wärmetauschern in einer edelgasreichen Atmosphäre, der Eingangs- und Ausgangskammern umfaßt, die Luftschranken aus hängenden Edelstahlstreifen bilden. Der Innenraum des Lötofens ist mehrfach in Zonen aufgeteilt, um die Wärmetauscher fortschreitend auf die Löttemperatur aufzuheizen und dann die Wärmetauscher in der letzten Zone abzukühlen. Ein Flügelrad bringt die aufgeheizte, konzentrierte Gasatmosphäre in jeder Zone in Umlauf, um die Wärmeübertragung zu verstärken. Ein kettenartiger Förderer unterstützt die Wärmetauscher, wenn sie durch den Lötofen bewegt werden. Ein isoliertes Rücklaufrohr umgibt die untere Rücklaufseite der Förderkette, wenn sie durch den Lötofen läuft. Das Lötofengehäuse besteht aus inneren und äußeren Hüllen mit einem edelgasdruckfesten Hohlraum dazwischen. Die innere Hülle hat eine Mehrzahl von Dehnstreifen, die generell ellipsoide Eck-Dehnungsfugen haben.
Die JP-A-04253566 offenbart eine Aufschmelzlötvorrichtung, in welcher ein Werkstück durch eine Werkstückeinführsektion, eine Vorheizkammer, eine Aufschmelzkammer und eine Werkstückausstoßsektion durch einen Förderer transportiert wird. Das Werkstück wird in der Vorheizkammer vorgeheizt, und die Lötpaste wird durch eine inerte Hochtemperatur-Gasatmosphäre in der Aufschmelzkammer einem Aufschmelzen ausgesetzt, wodurch ein Verdrahtungsbord und Teile verlötet werden. Das von einem Injektionsanschluß für inertes Gas in den Aufschmelzofen injizierte inerte Gas wird durch Öffnungen in Partitionsplatten, die in der Werkstückzuführsektion und in der Ausstoßsektion vorgesehen sind, nach außen entladen, jedoch wird die zu entladene Menge von inertem Gas durch die schmalen Öffnungen der Partitionsplatten gedrosselt, um so die Menge von inertem Gas, welches zu injizieren ist, abnehmen zu lassen, und die niedrige Sauerstoffkonzentration in dem Aufschmelzofen aufrecht zu erhalten. Demnach steigt die Durchflußrate des inerten Gases an, und die Wahrscheinlichkeit der Infiltration von Außenluft in den Ofen ist niedrig.
In der JP-A-621 51268 ist eine Lötvorrichtung vom Dampfphasentyp gezeigt, in der ein Förderband zwischen einem Einführteil und einem Ausführteil eines gedruckten Schaltungsbords vorgesehen ist, und wobei auch ein Förderrahmen des Förderers derart installiert ist, daß er frei bewegt werden kann. Auch ist die Öffnungs- /Schließ-Platte integral mit dem Förderrahmen an der nach außen öffnenden Oberfläche des Einführanschlusses und der Teile des Ausführanschlusses vorgesehen, und die Öffnungs-/Schließ-Platte wird durch Verblockung mit der Veränderung der Breite des Förderrahmens geöffnet und geschlossen. Durch Folgen der Veränderung der Breitenabmessung des Schaltungsbords wird das Intervall des Förderrahmens durch Betreiben eines Haltegriffes und durch Verblockung mit ihm angepaßt, wobei die Öffnungs-/Schließ-Platte bewegt und angepaßt wird, um so das Austreten von Dampf aus der Öffnungsoberfläche zu reduzieren.
Eine weitere konventionelle Aufschmelzvorrichtung der obigen Art wurde z. B. in der JP-A-2-137691 offenbart, in der eine Platine in dem Gas aufgeheizt und gelöted wird, während sie in einer Vielzahl von Abschnitten innerhalb eines Aufschmelzofens entlang eines Transportweges befördert wird.
In einer Aufschmelzvorrichtung dieser Art, wie in Fig. 25 gezeigt, wird der Platine 61 vorher eine Lötmittelcreme zugeführt. Nachdem die Platine 61 in einen Aufschmelzofen 63 gegeben wurde, und zwar vom Eingang eines Transportweges 62 aus, wird die Platine 61 entlang eines Transportwege durch einen ersten Vorheiz- Abschnitt 64 bewegt, dann durch einen zweiten Vorheiz-Abschnitt 65, einen Aufschmelz-Abschnitt 66 und einen Kühl-Abschnitt 69. Die Platine 61 wird in dem ersten und zweiten Vorheiz-Abschnitt 64, 65, allmählich aufgeheizt und dann weiter aufgeheizt in dem Aufschmelz-Abschnitt 66 und hierbei gelötet. Bezugszeichen 67 zeigt Heizvorrichtungen, die im vorgegebenen Abstand jeweils in dem ersten Vorheiz-Abschnitt 64, dem zweiten Vorheiz-Abschnitt 65 und dem Aufschmelz-Abschnitt 66 unmittelbar über dem Transportweg 62 angeordnet sind.
Da in der oben beschriebenen konventionellen Aufschmelzvorrichtung die Heizvorrichtungen 67 nahe dem Transportweg plaziert sind, wird der erhitzte Gasstrom 70, der in der Nähe der Heizvorrichtungen 67 vorbeigeht und der Gasstrom 71, der zwischen den Heizvorrichtungen 67 hindurchgeht und daher nicht erhitzt ist, nicht miteinander vermischt. Die Platine 61 wird entlang dem Transportweg 62 ggf. von den Gasströmen 70 und 71 in verschiedenen Temperatur- und Geschwindigkeitsstadien getroffen, so daß die Aufschmelzbedingung nicht erfüllt wird.
Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, eine Aufschmelzvorrichtung und ein Verfahren zu schaffen, die den Gasstrom in gleichbleibender Temperatur und gleichbleibender Geschwindigkeit auf eine sich auf einem Transportweg befindende Platine bringt.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Zur Erfüllung dieser und anderer Ziele ist gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung eine Aufschmelzvorrichtung vorgesehen, in welcher ein heißer Gasfluß einer Platine zugeführt wird, um die Platine zu löten, während die Platine, welcher zuvor eine Lötmittelcreme zugeführt wurde, in eine Vielzahl von Abschnitten innerhalb eines Aufschmelzofens entlang eines Transferweges verbracht wird, wobei die Aufschmelzvorrichtung einen Heizabschnitt aufweist, welcher enthält: ein Gebläse zum Senden des Gasflusses; eine Heizvorrichtung zum Heizen des von dem Gebläse ausgesandten Gases; und ein zirkulierender Gasweg zum Sammeln und Anheben des von dem Gebläse ausgesandten Gasflusses zu der Heizvorrichtung und zum Herablassen des angehobenen Gasflusses auf die Platine auf dem Transferweg von einer oberen Seite des Heizabschnittes, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizvorrichtung auf einer lateralen Seite des Transferweges angeordnet ist.
Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ebenfalls vorgesehen ein Aufschmelzverfahren zum Zuführen eines heißen Gasflusses zu einer Platine, um die Platine zu löten, während die Platine, der eine Lötmittelcreme zuvor zugeführt wurde, in eine Vielzahl von Abschnitten innerhalb eines Aufschmelzofens entlang eines Transferweges verbracht wird, wobei das Verfahren in einem Heizabschnitt die Schritte aufweist: der Gasfluß wird durch ein Gebläse abgesandt; das von dem Gebläse abgesandte Gas wird durch eine Heizvorrichtung geheizt; und der von dem Gebläse zu der Heizvorrichtung gesandte Gasfluß wird gesammelt und angehoben, und der angehobene Gasfluß wird auf eine Platine auf dem Transferweg von einer oberen Seite des Heizabschnittes in einen zirkulierenden Gasweg herunter fallengelassen; dadurch gekennzeichnet, daß in dem Heizschritt das Gas von dem Gebläse durch eine Heizvorrichtung ausgesandt wird, welcher auf einer lateralen Seite des Transferweges angeordnet ist.
Weitere vorteilhafte Ausführungsformen sind in den abhängigen Ansprüchen definiert.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Diese und andere Ziele und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden anhand der folgenden Beschreibung klar, die in Verbindung mit den bevorzugten Ausführungsformen derselben und in bezug auf die beigefügten Zeichnungen gegeben wird.
Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht, in einem Teilausschnitt, einer Heizeinheit einer Aufschmelzvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 ist eine perspektivische Ansicht der gesamten Aufschmelzvorrichtung bei geöffnetem Deckel;
Fig. 3 ist eine schematischer Querschnitt der Seite und zeigt den Gasfluß in der Heizeinheit der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 4 ist eine perspektivische Ansicht einer Konstruktion zur Entfernung von Flußmittel an einem Eingang und einem Ausgang der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 5 ist eine perspektivische Ansicht einer Konstruktion zur Entfernung von Flußmittel am Eingang der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 6 ist eine perspektivische Ansicht einer Konstruktion zur Entfernung von Flußmittel in der Heizeinheit der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 7 ist eine perspektivische Ansicht einer Konstruktion zur Entfernung von Flußmittel aus einem Kühlabschnitt der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 8 ist eine perspektivische Ansicht einer Konstruktion zur Entfernung von Flußmittel in dem Kühlabschnitt der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 9 ist eine perspektivische Ansicht einer Konstruktion zur Entfernung von Flußmittel in dem Kühlabschnitt der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 10 ist eine perspektivische Ansicht einer Konstruktion zur Entfernung von Flußmittel aus einem Gasansaugabschnitt der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 11 ist ein schematischer Seitenansichtsschnitt einer Heizeinheit einer Aufschmelzvorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 12 ist ein schematischer Seitenansichtsschnitt einer Heizeinheit einer Aufschmelzvorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 13 u. 14 sind eine perspektivische Ansicht und ein Querschnitt einer Gleitkonstruktion der Ausrichtungsplatte;
Fig. 15 ist eine perspektivische Ansicht eines hohlen Teils der Aufschmelzvorrichtung und dessen Umgebung;
Fig. 16 ist eine perspektivische Ansicht einer Öffnung am Rand der Abschnitte der Aufschmelzvorrichtung und deren Umgebung;
Fig. 17 ist eine vergrößerte Ansicht eines Flußmittelbehälters in Fig. 6;
Fig. 18 ist eine perspektivische Ansicht eines Teil der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 19 ist eine schematische Frontansicht, die die Umgebung des Transportweges der Aufschmelzvorrichtung darstellt;
Fig. 20 ist eine perspektivische Ansicht eines Teils zur Erklärung des Verfahrens der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 21 ist eine graphische Darstellung der Sauerstoffkonzentration beim Transport einer Platine in der Aufschmelzvorrichtung;
Fig. 22 ist eine graphische Darstellung der Sauerstoffkonzentration beim Transport einer Platine in einer konventionellen Aufschmelzvorrichtung ohne eine Pseudoplatte;
Fig. 23 ist eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen der Sauerstoffkonzentration und der Benetzbarkeit des Lötmittels;
Fig. 24 ist eine perspektivische Ansicht der Heizeinheit und von einem Widerstandsabschnitt der Aufschmelzvorrichtung; und
Fig. 25 ist ein Querschnitt einer konventionellen Aufschmelzvorrichtung.

GENAUE BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSFORMEN

Bevor die Beschreibung der vorliegenden Erfindung fortgesetzt wird, muß vermerkt werden, daß gleiche Teile in den beigefügten Zeichnungen durchgehend mit denselben Bezugszeichen bezeichnet sind.
Eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen nachstehend beschrieben.
Wie in Fig. 2 angegeben, sind innerhalb eines Aufschmelzofens 1 entlang eines Transportweges der Platine 2 (bezugnehmend auf Fig. 1) (Weg der Platinen in einer Förderrichtung (A)): Ein Eingangswiderstandsabschnitt 3, eine erster Vorheizabschnitt 4, ein zweiter Vorheizabschnitt 5, ein dritter Vorheizabschnitt 6, ein erster Aufschmelzabschnitt 7, ein zweiter Aufschmelzabschnitt 8, ein Kühlabschnitt 9 und ein Ausgangswiderstandsabschnitt 10, gesehen von der stromaufwärtigen Seite des Weges.
Jeder Abschnitt bildet eine Einheit und ist mit Stickstoffgas gefüllt. Die Vorheizabschnitte 4, 5, 6 und Aufschmelzabschnitte 7, 8 sind aus Heizeinheiten (U) der gleichen Bauart, wie in Fig. 1 gezeigt, erstellt. Der interne Gasstrom wird innerhalb der Heizeinheit (U) durch einen Warmlufventilator 11 in Umlauf gebracht, der im unteren Teil der Heizeinheit (U) angebracht ist, um das heiße Gas in Umlauf zu bringen. Gleichzeitig wird der interne Gasstrom in einer Kühleinheit in Umlauf gebracht, das den Kühlabschnitt 9 bildet, und zwar durch einen Propellerventilator 12, der im oberen Teil der Kühleinheit angebracht ist, um kaltes Gas in Umlauf zu bringen. Das unten rechts Dargestellte der Fig. 1 und 2 ist die Vorderseite der Vorrichtung in der untenstehenden Beschreibung.
In jeder Heizeinheit (U), wie in Fig. 1 und 3 angegeben, gibt es einen unteren Weg 13, der sich nach rückwärts erstreckt, und einen rückwärtigen Weg 14, der sich nach oben erstreckt, hinter dem Warmluftventilator 11 in einem kastenförmigen Raum, der durch eine Innenwandfläche (Ua) der Einheit (U) bestimmt wird. In dem unteren Weg 13 oberhalb des Warmluftventilators 11 ist eine Saugöffnung 13a gebildet. Der rückwärtige Weg 14 ist mit einem Erhitzer versehen, um den zirkulierenden Gasstrom zu aufzuheizen. Gleichzeitig sind mehrere Ausrichtungsplatten 16 und eine nach unten blasende Düse 17 im oberen Teil der Heizeinheit (U) angebracht, um den Gasstrom, der von dem Erhitzer 15 aufgeheizt wird, in Richtung auf den Transportweg zu führen und zu blasen. In anderen Worten bilden die Innenwandfläche (Ua), die den kastenförmigen Raum formen, und der untere Weg 13 und der rückwärtige Weg 14 einen zirkulierenden Gasweg. In dem zirkulierenden Gasweg steigt der Gasstrom (B), der von dem Warmluftventilator 11 rückwärts durch den unteren Weg 13 geschickt wird, durch den rückwärtigen Weg 14 nach vorne und fällt gleichzeitig nach unten, um wieder von dem Warmluftventilator 11 angesaugt zu werden.
Die Ausrichtungsplatte 16 erstreckt sich vorwärts fast waagerecht und ist, im Querschnitt gesehen, im vorderen Teil nach unten gebogen. Die Ausrichtungsplatte 16 erstreckt sich in der Förderrichtung (A) der Platinen. Es sind eine Vielzahl von Ausrichtungsplatten 16 (zwei in der Ausführungsform in Fig. 3) in Rückwärts- und Vorwärtsrichtung angebracht. Wie in Fig. 13 und 14 gezeigt, passen die Fortsätze 16a der Ausrichtungsplatte 16 in die länglichen Löcher 16b, die in dem oberen Oberflächenteil (Uc) der Innenwandfläche (Ua) ausgebildet sind, so daß die Ausrichtungsplatte 16 unterstützt wird, um rückwärts und vorwärts gleitfähig zu sein. In der Ausführungsform, wie in Fig. 3 gezeigt, sind die Ausrichtungsplatten 16 so angeordnet, daß der Abstand (L1) zwischen einer Führungsplatte 18, im oberen Teil dichter an der rückwärtigen Seite der Heizeinheit (U), und der rückwärtigen Ausrichtungsplatte 16 größer ist, als der Abstand (L2) zwischen der vorderen und der hinteren Ausrichtungsplatte 16, und dieser Abstand (L2) ist größer als der Abstand (L3) in der Rückwärts-Vorwärtsrichtung zwischen der vorderen Ausrichtungplatte 16 und dem Vorderflächenteil (Ub) der Innenwandfläche (Ua). Die Innenwandfläche (Ua) der Heizeinheit (U) steht neben der Ausrichtungsplatte 16 zur Trennung und um zu verhindern, daß der heiße Gasstrom in die angrenzenden Abschnitte geht. Die Ausrichtungsplatten 16 sitzen ungefähr in derselben Höhe mit demselben Querschnitt in der Ausführungsform.
Bezugnehmend auf Fig. 1, 2 und 16 bezeichnen die Bezugszeichen 123A, 123B ein Paar Transportführungsschienen, die den Transportweg, worin Kettenförderer 124 angeordnet sind, bilden. Die Transportführungsschiene 123A an der Vorderseite ist an einer vorgegebenen Position fixiert, während die Transportführungsschiene 123B an der Rückseite in seitlicher Richtung fast senkrecht zu der Transportrichtung (A) verschiebbar gemacht ist, und zwar quer zur Transportrichtung der Platine 2. Daher sind die Transportführungsschienen 123A und 123B angepaßt, um Platinen 2 unterschiedlicher Breite zu handhaben. Am Abschluß der Abschnitte ist eine Öffnung gebildet. Die Transportführungsschienen 123A und 123B gehen durch die Öffnung 125 hindurch.
Die nach unten blasende Düse 17 ist aus einer Vielzahl von gebogenen Platten 19 zusammengesetzt, die in der Transportrichtung (A) aneinandergereiht sind. Die Platte 19 bildet im Querschnitt eine umgekehrte U-Form und erstreckt sich in der Rückwärts- und Vorwärtsrichtung, wie aus Fig. 1 klar ersichtlich ist. Zwischen den angrenzenden gebogenen Platten 19 sind schlitzförmige Öffnungen. Die nach unten blasende Düse 17 stößt den heißen Gasstrom mit hoher Geschwindigkeit von oben gegen den Transportweg und lenkt den Gasstrom, der dazu neigt, parallel zur Transportrichtung (A) zu fließen, zurück. Ein gekerbtes Teil 25a ist an der Stützplatte 25 gebildet, die die vorderen und rückwärtigen Enden der Platte 19 unterstützt, der Innenfläche der gebogenen Platte 19 entsprechend.
Weiterhin ist ein Hohlkörper 126, der eine große Schnittfläche in der Transportrichtung (A) hat, und der aus einem kastenförmigen Rahmen 126a gebildet ist, zwischen den Abschnitten vorgesehen. Das Gasstrom (C), der von dem Abschnitt zum nächstliegenden Abschnitt fließt, tritt in den Hohlraum 126 ein.
Wie klar in Fig. 16 gezeigt ist, ist die Transportführungsschiene 123B an der rückwärtigen Seite, die in seitlicher Richtung der Platine 2 verschiebbar ist, mit einem Rolladenmechanismus 127 versehen. Der Rolladenmechanismus 127 besteht aus einem Hauptteil 128, der senkrecht miteinander verbundene Plattenstreifen in der biegbaren Art hat, einen Beschlagteil 130, der am Ende des Hauptteils 128 an der Transportführungsschiene 123B mit Bolzen 129 befestigt ist, und einen Gehäuserahmen 131, der an der rückwärtigen Fläche jeden Abschnitts gelegen ist, um dem Hauptteil 128 von hinten und vorn Halt zu geben. Eine feste Verschlußplatte 132 ist näher an der Vorderseite der Vorrichtung angebracht als die Öffnung 125 der vorderen Transportführungsschiene 123A.
Während in dem oben beschriebenen Aufbau, wie in Fig. 15 gezeigt, die Menge des Gasstroms (C), die entlang dem Transportweg fließt, durch die niedrigere Fläche der nach unten blasenden Düse 17 reduziert wird, tritt der Gasstrom durch die Öffnung 125 an der Grenze der Abschnitte in den Hohlraum 126 ein. Da der Hohlraum 126 einen Raum mit großem Querschnitt umfaßt, geht der Druck zu diesem Zeitpunkt verloren, weil durch das plötzliche Anwachsen der Querschnitt des Weges die Geschwindigkeit des Gasflusses (C) aus dem Abschnitt aufgrund des Hohlraums 126 reduziert wird. Daraus ergibt sich, daß die Menge des ein- und ausströmenden Gasflusses zwischen den benachbarten Abschnitten auf ein Minimum beschränkt ist, so daß die niedrige Sauerstoffkonzentration und die richtige Temperatur in jedem Abschnitt stabil gehalten werden kann.
Da weiterhin, wie in Fig. 16 gezeigt, der für die Platine 2 nicht benötigte Teil der Öffnung 125 an der Begrenzung der Abschnitte durch den Rolladenmechanismus 127 geschlossen wird, ist die Fläche der Öffnung 125 auf das notwendige Minimum begrenzt, und damit ist die niedrige Sauerstoffkonzentration und richtige Temperatur in jedem Abschnitt beständig sichergestellt.
In der obigen Ausführungsform ist der Rolladenmechanismus 127 in dem Fall installiert, wenn nur eine Transportführungsschiene 123B quer zur Richtung der Platinen beweglich ist. Jedoch kann der Rolladenmechanismus 127 auch leicht für jede der beiden Transportführungsschienen 123A und 123B installiert werden, wenn beide Transportführungsschienen beweglich sind. Weiterhin kann der Rollladenmechanismus 127 nicht an der Transportführungsschiene befestigt werden, aber es kann ein Mechanismus vorgesehen werden, um den Rolladenmechanismus 127 an die Transportführungsschiene zu drücken und den Rolladenmechanismus 127 mit der Transportführungsschiene als Ganzes zu bewegen.
Es ist unnötig zu sagen, daß die vorliegende Erfindung für eine Aufschmelzvorrichtung, in der andere Edelgase, wie z. B. Argongas oder ähnliche, außer Stickstoff benutzt werden, anwendbar ist.
Aufgrund der vorliegenden, oben beschriebenen Erfindung kann, da der Hohlraum zwischen den benachbarten Abschnitten vorgesehen ist, um den Druckverlust durch die plötzliche Vergrößerung des Querschnitts des Weges zu erreichen, die Gasflußgeschwindigkeit aus dem Abschnitt aufgrund des Hohlraums reduziert werden, und die Gasflußmenge, die in die benachbarten Abschnitte eindringt und aus den benachbarten Abschnitten herauskommt, kann auf ein Minimum beschränkt werden, wodurch die niedrige Sauerstoffkonzentration und die richtige Temperatur in jedem Abschnitt stabil gehalten werden kann.
Zusätzlich ist mindestens eine der beiden Transportführungsschienen in seitlicher Richtung senkrecht zu dem Transportweg beweglich, und ein Rolladenmechanismus ist vorhanden, der sich mit der beweglichen Transportführungsschiene bewegt und dadurch den Teil der Öffnung an der Begrenzung der Abschnitte, abgesehen von dem Transportweg, schließt. Dementsprechend ist die Fläche der Öffnung zwischen den benachbarten Abschnitten auf ein Minimum beschränkt, und die Gasflußmenge, die in die benachbarten Abschnitte hinein- und aus ihnen herauskommt, ist durch diese Anordnung auf ein Minimum beschränkt, wodurch die niedrige Sauerstoffkonzentration und richtige Temperatur in jedem Abschnitt stabil gehalten werden kann.
Die Pseudoplatte 20 ist parallel zu der Tranportoberfläche der Platine 2 unterhalb des Transportweges in jeder Heizeinheit (U) der Vorheizabschnitte 4, 5, 6 angeordnet, wie in Fig. 1 klar zu sehen ist. Die Pseudoplatte 20 hat ungefähr dieselbe Breite wie die maximale Breite der Platine 2, mit einer Vielzahl von plattenähnlichen Teilen 21 auf der Oberseite derselben, die in jedem vorgegebenen Abstand zu der Transportrichtung (A) der Platinen 2 stehen, und sich in seitlicher Richtung in etwa senkrecht zu der Transportrichtung (A) der Platinen 2 erstrecken (in Richtung der Breite der Platine 2).
Wie in Fig. 19 gezeigt ist, ist die Pseudeplatte 20 um einen Abstand (L), entsprechend der Montierhöhe von Teilen auf der Unterseite der Platine 2, von dem oberen Ende der plattenähnlichen Teile 21 beabstandet. Gleichzeitig ist der Abstand (P&sub3;) zwischen den plattenähnlichen Teilen 21 auf den halben Abstand von dem Abstand (P&sub4;) zwischen den gebogenen Platten 19 der ausblasenden Düsen 17 geschoben, damit der Gasstrom, der aus den Schlitzen zwischen den gebogenen Platten 19 nach unten ausgestoßen wird, richtig auf die Zwischenräume der plattenähnlichen Teile 21 geführt werden kann. In der Ausführungsform ist die Stehhöhe der plattenähnlichen Teile 21 auf ca. 20 mm festgesetzt.
Weiterhin ist die Heizeinheit (U) der Aufschmelzabschnitte 7, 8 jeweils mit einer ausblasenden Düse (nicht dargestellt) versehen, um die Unterseite der beförderten Platine 2 zu heizen, ohne daß die Pseudoplatte 20 vorhanden ist.
In dem oben beschriebenen Aufbau, wie in Fig. 18 und 20 gezeigt, trifft der Gasfluß (B), der zu dem Transportweg (D) läuft, auf die Platine 2 und die Pseudoplatte 20, während die Platine 2 auf dem Transportweg (D) ist, und folglich weicht der Gasfluß (B) quer zur Richtung der Platine 2 ab und läuft entlang der Platine 2, den rückwärtigen Flächen und den Frontflächen der Pseudoplatte 20. Selbst wenn die Platine 2 sich nicht auf dem Transportweg (D) befindet, kann der Gasfluß B) den rückwärtigen Flächen und den Frontflächen der Pseudoplatte 20 entlanglaufen. Dementsprechend kann die Laufrichtung des Gasflusses (B) konstant eingestellt werden, unabhängig vom Vorhandensein oder Nichtvorhandensein der Platine 2.
Aufgrund der stehenden plattenähnlichen Teile 21, die sich auf der Pseudoplatte 20 in lateraler Richtung fast senkrecht zur Transportrichtung (A) der Platine 2 erstrecken, wird der Gasfluß (B) in seitlicher Richtung fast senkrecht zur Transportrichtung (A) der Platine 2 (Richtung der Breite der Platine 2) positiv geführt, wobei der Fluß gegen die Transportrichtung (A), nämlich der Gasfluß zwischen den Einheiten oder durch die Öffnungen nach außen auf ein Minimum beschränkt werden kann.
Da die Gasflußrichtung (B) konstant eingestellt ist und der Gasfluß zwischen den Einheiten oder zwischen der Einheit und der Außenseite bis auf ein Minimum unterdrückt werden kann, kann also die niedrige Sauerstoffkonzentration und die Atmosphäre mit der optimalen Temperatur beständig gehalten werden. Fig. 21 und 22 zeigen vergleichende Beispiele, bei denen (T1) die Zeit ist, zu der die Platine 2 in die Vorrichtung hineingefahren wird und (T2) ist die Zeit, zu der die Platine 2 aus der Vorrichtung hinausgefahren wird. Im Fall, daß die Pseudoplatte 20 nicht vorhanden ist, wie aus Fig. 22 ersichtlich, verändert sich die Sauerstoffkonzentration auf 1000 ppm, nachdem die Platine 2 in die Vorrichtung hineingefahren wird, obgleich die Sauerstoffkonzentration 100 ppm zum Zeitpunkt (T1) beträgt, wenn die Platine 2 in die Vorrichtung hineingefahren wird. Auf der anderen Seite bleibt die Sauerstoffkonzentration, wenn die Pseudoplatte 20 vorhanden ist, bei 100 ppm, selbst nachdem die Platine 2 in die Vorrichtung hineingefahren ist, wie in Fig. 21 gezeigt.
Fig. 23 ist eine graphische Darstellung, die die Benetzbarkeit in Relation zur Sauerstoffkonzentration zeigt. Wie in Fig. 23 angegeben, ist die Benetzbarkeit am besten, wenn die Sauerstoffkonzentration ca. 100 ppm ist. Wenn die Sauerstoffkonzentration erhöht wird, verringert sich die Benetzbarkeit. In anderen Worten, wenn die Sauerstoffkonzentration bei bestenfalls etwa 100 ppm gehalten wird, kann die Erzeugung von minderwertigen Teilen, verursacht durch Lötbrücken oder die Erzeugung von Lötperlen, die in der bisherigen Technik durch die Verschlechterung der Benetzbarkeit hervorgerufen wurden, gut vermieden werden.
Wie in Fig. 24 dargestellt, sind die Eingangs- und Ausgangswiderstandsabschnitte 3, 10 auch mit einer Mehrzahl von plattenähnlichen Teilen 22 versehen. Die plattenähnlichen Teile 22 erstrecken sich in lateraler Richtung fast senkrecht zu der Transportrichtung (A) der Platinen 2 oberhalb und unterhalb des Transportweges (D). Daher wird das Gas daran gehindert, aus dem Inneren des Aufschmelzofens 1 hinauszufließen, und durch die plattenähnlichen Teile wird vermieden, daß das Gas von außen eindringen kann.
Gemäß der vorliegenden, oben beschriebenen Erfindung kann die Laufrichtung des Gasflusses konstant eingestellt werden, da die Pseudoplatte parallel zur Transportoberfläche der Platine angeordnet ist, um den Gasfluß gegen den Transportweg in eine festgelegte Richtung zu führen, unabhängig davon, ob eine Platine vorhanden ist oder nicht, und demgemäß kann die niedrige Sauerstoffkonzentration und die Atmosphäre mit optimaler Temperatur gleichbleibend sichergestellt werden.
Darüber hinaus ist die Pseudoplatte mit plattenähnlichen, stehenden Teilen versehen, die sich in lateraler Richtung fast senkrecht zu der Transportrichtung der Platine erstrecken. Demgemäß kann der Gasfluß zwischen den Abschnitten und zwischen dem Abschnitt und außen auf ein Minimum unterdrückt werden, und weiterhin ist so der Zustand der niedrigen Sauerstoffkonzentration und die Atmosphäre mit optimaler Temperatur positiv sichergestellt.
Inzwischen wird eine Vielzahl von Maßnahmen ergriffen, um das Flußmittel im Aufschmelzofen 1 zu entfernen.
Zuerst ist solch eine Einrichtung entworfen, wo die Platine 2 hinein- und hinausgefahren wird, daß die mit der Platine 2 eintretende Luft durch ein Auslaßventil 30, wie in Fig. 2 und 4 gezeigt, nach außen ausgestoßen wird. Eine Ansaugluke des Auslaßventils 30 ist mit einem Metallgewebe 31 versehen. Das Flußmittel, das von der geneigten inneren Oberfläche des rahmenförmigen Körpers 32 mit dem Metallgewebe 31 tropft, wird von einem Topf 33 aufgenommen. Gleichzeitig gibt es, wie in Fig. 5 gezeigt, einen weiteren rahmenförmigen Körper 34 unterhalb eines Eingangstunnels, der ein Eingang in den Aufschmelzofen 1 ist, zur Aufnahme des von der Platine 2 herunterfallenden Flußmittels. Das von dem rahmenförmigen Körper 34 heruntertropfende Flußmittel wird von einem Behälter 35 aufgenommen.
Wie in Fig. 6 gezeigt, ist in jeder Heizeinheit (U) an der Wandfläche vor dem oberen Rand des rückwärtigen Wegs 14 etc. ein Wandbehälter 36 angebracht, um das ver festigte Flußmittel an der Wandfläche innerhalb des Aufschmelzofens 1 zu beseitigen. Darüber hinaus ist ein Behälter 37 unterhalb der Heizvorrichtung 15 plaziert. Gezwungenermaßen ist oberhalb der Heizvorrichtung 15, wie in Fig. 7 gezeigt, ein Katalysator angebracht, um das Flußmittel zu verringern.
Weiterhin, wie in Fig. 6, sind Metallgewebe 39 zur Beseitigung von Flußmittel jeweils an der Vorderseite und rückwärtig der Pseudoplatte 20 angeordnet, und im oberen Teil jeder gebogenen Platte 19 der nach unten blasenden Düse 17 in dem dritten Vorheizabschnitt 6 ist ein Flußmittelbehälter 40 gestaltet.
In Fig. 8 ist ein Behälter 42 unterhalb einer Kühlrippe 41 des Kühlabschnitts 9 angebracht um das Flußmittel, der aus der Kühlrippe 41 heraustropft, aufzufangen. Außerdem beseitigt auch ein Filter aus Metallgewebe 43 unterhalb des Kühlabschnitts 9 das Flußmittel.
Es kann so arrangiert werden, wie in Fig. 9 gezeigt, daß eine Kühlrippe 44 oberhalb des Kühlabschnitts 9 angebracht ist mit einem Behälter 45 und einem doppelschichtigen Filter 46 darunter. Der Filter 46 kann aus drei oder mehr Schichten gebildet werden.
Im Aufschmelzofen 1 ist die Einheit, die jeweils den ersten Vorheizabschnitts 4, den zweiten Vorheizabschnitts 5, den dritten Vorheizabschnitts 6, den ersten Aufschmelzabschnitts 7, den zweiten Aufschmelzabschnitts 8 und den Kühlabschnitts 7 bildet, mit einem Temperaturfühler und einer Gasansaugluke (nicht dargestellt) versehen. Nachdem das Flußmittel von dem Gas durch die Saugluke durch einem Glaswollfilter 51, einen Gewebefilter 52 und einen aktivierten Kohlefilter 53, usw. wie in Fig. 10 gezeigt, gesaugt und beseitigt wurde, wird die Sauerstoffkonzentration von einem Sauerstoffkonzentrationsanalysiergerät 50 gemessen. Der Zustand und die Temperatur des heißen Gasflusses im Aufschmelzofen 1 werden kontrolliert, wobei die Temperatur und Sauerstoffkonzentration von jedem Abschnitt als Grundlage dient, um so eine Information und Kontrolle über die Sauerstoffkonzentration und Temperatur in jedem Abschnitt im vorgegebenen Bereich zu haben. Im vorliegenden Aufschmelzofen 1 wird die Sauerstoffkonzentration der Vorheizabschnitte 4, 5 und 6 auf 400 ppm gehalten und die der Aufschmelzabschnitte 7 und 8 wird auf ca. 100 ppm gehalten. Eine vorgegebene Menge von Stickstoffgas wird mit einer vorgegebenen Menge von Luft gemischt, wobei die einzuspeisende Menge durch eine feedback Kontrolle geht, und dann wird das Gasgemisch mit 200 l pro min in den Aufschmelzofen geführt.
Bezugnehmend auf Fig. 1 ist die Ziffer 47 eine Einspritzdüse für Stickstoffgas mit Luft gemischt, um Gas mit der niedrigen Sauerstoffkonzentration zu blasen, und die Ziffer 48 bezeichnet eine Auslaßventil. Das Gasgemisch wird jederzeit oder beim Aufschmelzen eingeblasen und, wenn das Aufschmelzen beendet ist, abgelassen. Weiterhin zeigt das Bezugszeichen 55 in Fig. 2 einen Deckelkörper zur Abdeckung der oberen Fläche jeder Einheit.
In dem oben beschriebenen Aufbau, wie in Fig. 1 und 3 gezeigt, wird der heiße Gasstrom (B) von dem rückwärtigen Weg 14 vorwärts bewegt entlang der oberen Oberfläche (Uc) der Innenwandfläche (Ua), wie in Fig. 1 gezeigt. Während dieser Bewegung, bei der der heiße Gasstrom in die Vorwärts- und Rückwärtsrichtung der Ausrichtungsplatten 16 verteilt wird, fällt der Gasstrom nach unten. Da der Abstand (L1) zwischen der Führungsplatte 18, die im oberen Teil näher an der Rückseite der Heizeinheit (U) angebracht ist, und der rückwärtigen Ausrichtungsplatte 16 größer ist als der Abstand (L2) zwischen den vorderen und rückwärtigen Ausrichtungsplatten 16, und außerdem der Abstand (L2) größer ist als der Abstand (L3) zwischen der vorderen Ausrichtungsplatte 16 und dem vorderen Oberflächenteil (Ub) der Innenwandfläche (Ua), wird die waagerechte Fläche, wo der Gasstrom auf die Ausrichtungsplatten 16 fällt, durch die Ausrichtungsplatten 16 in Richtung der Vorderseite in kleinere Bereiche aufgeteilt. Deshalb wird der heiße Gasstrom wegen der Ausrichtungsplatten 16 tatsächlich gleichmäßig in Vorwärts- und Rückwärtsrichtung verteilt, obwohl der Gasstrom ohne die Ausrichtungsplatten 16 durch die Trägheit mehr an der Vorderseite nach unten gehen würde. Darüber hinaus wird der heiße Gasstrom auch durch die nach unten blasende Düse 17 in die Transportrichtung (A) verteilt und gegen die Platine 2 auf den Transportweg ausgestoßen. Demgemäß kann der heiße Gasstrom mit gleichbleibender Geschwindigkeit in senkrechter Richtung auf die gesamte Oberfläche der Platine 2 geschossen werden, wodurch günstiges Vorheizen und Aufschmelzen erreicht wird.
Da in jeder Einheit der Weg, den das zirkulierende Gas nimmt, so gebildet ist, daß der heiße Gasstrom von der Rückseite voll nach oben bewegt wird und an der Vorderseite nach unten fällt, werden die Gasströme (B) während des Umlaufs aufgerührt, damit die Temperatur und Geschwindigkeit der Gasströme einheitlich werden. Dementsprechend kann die Platine 2 auf dem Transportweg durch die Gasströme von gleichbleibender Temperatur und Geschwindigkeit gut aufgeheizt werden. Außerdem können die Gasströme in der Transportrichtung (A) auf ein Minimum beschränkt werden und die Richtung des internen Gasstroms kann konstant gehalten werden, da die Gasströme aufgrund der Ausrichtungsplatten 16 und der nach unten blasenden Düse 17 in vertikaler Richtung auf die Platine 2 gestoßen werden. Die niedrige Sauerstoffkonzentration und die Atmosphäre mit optimaler Temperatur kann in jeder Einheit oder jedem Abschnitt sichergestellt werden. Außerdem, selbst wenn der heiße Gasstrom, der auf die Platine 2 aufgeblasen wird, reflektiert wird und auf die rückwärtige Fläche der gebogenen Platten 19 der nach unten blasenden Düse 17 trifft, wird der reflektierte Strom durch die eingekerbten Teile 25a der Verbindungsplatten 25 vor und hinter den Platten 19 nach außen abgelassen. Dadurch wird verhindert, daß der heiße Gasstrom an der rückwärtigen Seite der nach unten blasenden Düse 17 bleibt.
Fig. 11 zeigt eine abgewandelte Ausführungsart der vorliegenden Erfindung. In der Abwandlung von Fig. 11 ist eine Ausrichtungsplatte 57 aus einer Platte gebildet, die sich nur nach oben und nach unten erstreckt. Eine Vielzahl von Ausrichtungsplatten 57 sind nach vorn und nach hinten in vorgegebenem Abstand (P1) angeordnet. Die Ausrichtungsplatten 57 sind so angeordnet, daß die eine, die auf der Seite des unteren Stroms in seitlicher Richtung des heißen Gasflusses angebracht ist, nämlich an der Vorderseite sich durch den Abstand (P2) mit ihrem oberen Ende weiter erstreckt als die hintere Ausrichtungsplatte 57.
Aufgrund einer solchen Anordnung der Ausrichtungsplatten 57, wie oben beschrieben, wird der heiße Gasstrom, der den Hang hat vom oberen Teil des hinteren Weges 14 zur Vorderseite zu fließen, gleichmäßig nach oben und unten verteilt, wenn der heiße Gasstrom nach unten geführt wird. Dadurch wird der heiße Gasstrom von gleichbleibender Geschwindigkeit auf die Platine 2 auf dem Transportweg geschossen, wodurch günstiges Vorheizen und Aufschmelzen erzielt wird. Es muß vermerkt werden, daß, wenn den Ausrichtungsplatten 57 nach oben und nach unten dieselbe Länge gegeben wird, die mehr vorn angeordneten Ausrichtungsplatten in einer höheren Position angebracht werden können, da die Ausrichtungsplatten nur in der Richtung nach oben und nach unten verändert werden.
Fig. 12 zeigt eine weitere Abänderung der Ausführungsform. In dieser Abänderung ist die Länge der Ausrichtungsplatten 57 dieselbe, und die obere Fläche (Uc) der Innenwandfläche (Ua) ist geneigt (Uc), so daß der Abstand zwischen der oberen Fläche (Uc) und dem oberen Ende der rückwärtigen Ausrichtungsplatte 57 größer ist als der Abstand zwischen der oberen Fläche (Uc) und dem oberen Ende der vorderen Ausrichtungsplatte 57. Im Ergebnis können dasselbe Verfahren und dieselbe Wirkung erzielt werden wie in der vorhergehenden Abänderungsform.
In dieser Ausführungsform wird Stickstoffgas als Edelgas verwendet. Es ist überflüssig zu sagen, daß die vorliegende Erfindung auf einen Aufschmelzofen, der anderes Edelgas ausstößt oder der das Aufschmelzen in der Luft durchführt, leicht anzuwenden ist.
Wie oben beschrieben, ist gemäß der vorliegenden Erfindung der Gasumlaufweg so gebildet, daß das Gas in Bewegung gebracht wird, um auf einer Seite des Heizabschnittes hinaufzuströmen und auf der anderen Seite des Heizabschnittes hinunterzufallen. Deshalb werden die Gasströme, selbst wenn die durch die Heizverfahren auf unterschiedliche Art aufgeheizten Gasströme ausströmen, auf dem. Umlaufweg aufgerührt, so daß die Temperatur und Geschwindigkeit der Gasströme einheitlich wird. Die Platine auf dem Transportweg kann durch die Gasströme von einheitlicher Temperatur und Geschwindigkeit gut aufgeheizt werden.
Darüber hinaus wird z. B. verhindert, daß die Gasströme, die von beiden Seiten aufsteigen, sich in der Mitte treffen und einander stören. Dementsprechend können die Richtungen des internen Gasstroms in den Heizabschnitten innerhalb des Aufschmelzofens konstant eingestellt und auch die Atmosphäre mit der optimalen Temperatur sichergestellt werden.
Da eine Vielzahl von Ausrichtungsplatten oberhalb des Transportweges angeordnet sind, um den heißen Gasstrom, der in seitlicher Richtung nach unten auf die Platine auf dem Transportweg fließt, zu führen, können die Laufrichtung des internen Gasstroms, insbesondere die Laufrichtung und Laufgeschwindigkeit des internen Gasstroms in der Nähe des Transportweges konstant und die Temperatur und Geschwindigkeit des Gasstroms, der auf die Platine trifft, einheitlich eingestellt werden. Da weiterhin die Ausrichtungsplatten in seitlicher Richtung senkrecht zur Transportrichtung der Platinen verschiebbar sind, kann die Menge des heißen Gasstroms in der seitlichen Richtung senkrecht zur Transportrichtung leicht reguliert werden. Da der Abstand zwischen den nebeneinanderliegenden Ausrichtungsplatten zur seitlichen Richtung senkrecht zur Transportrichtung der Platinen kürzer angelegt ist als der zwischen der Ausrichtungsplatte und der Führungswandfläche, die den heißen Gasstrom nach unten führt gegen den unteren Strom der seitlichen Laufrichtung des heißen Gasstroms, kann die Menge des heißen Gasstroms in seitlicher Richtung senkrecht zur Transportrichtung einheitlich eingestellt werden.
Darüber hinaus ist es möglich, wenn die Ausrichtungsplatte, die an dem viel weiter unten in seitlicher Laufrichtung des heißen Gasstroms fließenden Laufs angebracht ist, an der oberen Seite des Gasumlaufwegs angeordnet ist, die Menge des heißen Gasstroms einheitlich einzustellen, wobei die Temperatur und Geschwindigkeit des heißen Gasstroms, der auf die Platine ausgestoßen wird, einheitlich sein kann.
Die nach unten blasende Düse ist aus Platten gebaut, die in mehreren Reihen in vorgegebenem Abstand in der Transportrichtung der Platinen aneinandergereiht sind. Im Querschnitt hat die Platte zwei nach unten gebogene Kanten. Die nach unten blasende Düse sitzt oberhalb der Ausrichtungsplatten, und der Gasstrom wird auf die Platine aus schlitzförmigen Öffnungen zwischen den Platten der nach unten blasenden Düse geblasen. Daher kann der heiße Gasstrom auf die Platine ausgestoßen werden, während der heiße Gasstrom vorteilhaft in die Transportrichtung verteilt wird. Da der eingekerbte Teil so geformt ist, den Gasstrom, der außen in die nach unten blasende Düse eintritt, abzugeben, wird verhindert, daß der heiße Gasstrom an der Rückseite der nach unten blasenden Düse bleibt, und dadurch wird auf bequemere Weise die niedrige Sauerstoffkonzentration und die Atmosphäre mit optimaler Temperatur sichergestellt.
Da der Gasstrom nur von einer Seite aus dem Ventilator abgegeben wird, wie in Fig. 3 gezeigt, ist die Leistungsfähigkeit besser, als in einem Fall, wo der Gasstrom von beiden Seiten des Ventilators abgegeben wird.

Claims

1. Aufschmelzvorrichtung, in welcher ein heißer Gasfluß einer Platine (2) zugeführt wird, um die Platine (2) zu löten, während die Platine (2), welcher zuvor eine Lötmittelcreme zugeführt wurde, in eine Vielzahl von Abschnitten innerhalb eines Aufschmelzofens (1) entlang eines Transferweges (A, D) verbracht wird, wobei die Aufschmelzvorrichtung einen Heizabschnitt (U) aufweist, welcher enthält:

ein Gebläse (11) zum Senden des Gasflusses (B);

eine Heizvorrichtung (15) zum Heizen des von dem Gebläse (11) ausgesandten Gases; und

einen zirkulierender Gasweg (13, 148) zum Sammeln und Anheben des von dem Gebläse (11) ausgesandten Gasflusses zu der Heizvorrichtung (15) und zum Herablassen des angehobenen Gasflusses auf die Platine (2) auf dem Transferweg von einer oberen Seite des Heizabschnittes (U),

dadurch gekennzeichnet, daß

die Heizvorrichtung (15) auf einer lateralen Seite des Transferweges (A, D) angeordnet ist.

2. Aufschmelzvorrichtung nach Anspruch 1, wobei der Heizabschnitt (U) weiterhin eine Vielzahl von richtenden Plattenelementen (16) aufweist, die oberhalb des Transferweges (D) angeordnet sind, um eine Vielzahl von Öffnungen zu bilden, um den in einer lateralen Richtung orthogonal zu einer Transferrichtung (R) der Platinen (2) laufenden heißen Gasfluß nach unten in Richtung auf die Platine (2) auf dem Transferweg (D) durch die Öffnungen zu leiten.

3. Aufschmelzvorrichtung nach Anspruch 2, wobei jedes Richtplattenelement an einem oberen Teil des Heizabschnittes (U) angebracht ist, um so in lateraler Richtung orthogonal zu der Transferrichtung (A) der Platinen (2) verschiebbar zu sein.

4. Aufschmelzvorrichtung nach Anspruch 2, wobei die Richtplattenelemente so angeordnet sind, daß ein Abstand der Öffnung einer Vorderseite (Ub) des Heizabschnittes (U) in der lateralen Richtung orthogonal zu der Transferrichtung (A) der Platinen (2) kleiner ist als die Öffnung an einer Rückseite des Heizabschnittes (U), um so den heißen Gasfluß gleichförmig nach unten zu leiten.

5. Aufschmelzvorrichtung nach Anspruch 2, wobei die Richtplattenelemente (16) mit der gleichen vertikalen Länge so angeordnet sind, daß Abstände zwischen den oberen Enden der Richtplattenelemente (16) und einer oberen Wand (Uc) des Heizabschnittes (U) gleichmäßig kleiner werden, soweit sie von einem rückseitigen Teil zu einem vorderen Teil des Heizabschnittes (U) ausgerichtet sind.

6. Aufschmelzvorrichtung nach Anspruch 2, wobei ein oberer Rand (Uc) des Heizabschnittes (U) von einer Rückseite zu einer Vorderseite des Heizabschnittes (U) angewinkelt ist, so daß Abstände zwischen oberen Enden der Richtplattenelemente (16) und einer oberen Wand (Uc) des Heizabschnittes (U) gleichförmig kleiner werden, soweit sie von einem rückseitigen Teil zu einem vorderen Teil des Heizabschnittes (U) zeigen.

7. Aufschmelzvorrichtung nach Anspruch 2, wobei eine nach unten blasende Düse (17) eine Länge aufweist, die gleich oder größer ist als eine Länge der Platine (2) in der Transferrichtung (A) der Platinen (2), wobei diese auf den Plattenelementen (19) gebildet ist, die jeweils im Querschnitt beide Kanten nach unten gebogen haben und in einer Vielzahl von Reihen in einem vorbestimmten Abstand in der Transferrichtung der Platinen ausgerichtet sind, wobei sie unterhalb der Richtplattenelemente (16) angeordnet ist, so daß der Gasfluß (B, C) nach unten auf die Platine (2) durch einen Öffnungsschlitz ausgeblasen wird, der zwischen den Plattenelementen (19) der nach unten blasenden Düse (17) gebildet ist.

8. Aufschmelzvorrichtung nach Anspruch 1, weiterhin einen Katalysator (38) aufweisend, der an einer stromabwärts gelegenen Seite der Heizvorrichtung (U) angeordnet ist, um Flußmittel aus dem Gasfluß zu entfernen.

9. Aufschmelzvorrichtung nach Anspruch 7, wobei die nach unten blasende Düse (17) ein Flußmittel aufnehmendes Element (40) mit M-förmigem Querschnitt an einem oberen Abschnitt desselben zum Entfernen von Flußmittel aus dem Gasfluß (B, C) aufweist.

10. Aufschmelzvorrichtung nach Anspruch 1, weiterhin ein hohles Teil (126) enthaltend, welches zwischen den Abschnitten angeordnet ist, um eine Querschnittsfläche des Weges plötzlich zu Vergrößern, um einen Druckabfall durch das Teil zu verursachen, um die Geschwindigkeit des Gasflusses von dem Abschnitt zu reduzieren.

11. Aufschmelzvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 10, mit:

einem Paar von Transferführungsschienenelementen (123A, 123B), die so angeordnet sind, um den Weg zwischen ihnen zu halten, wobei mindestens eines von ihnen in einer laterale Richtung orthogonal zu dem Transferweg (D) bewegbar ist; und

einem Schließmechanismus (127), welcher vorgesehen ist, um sich integral mit dem bewegbaren Transferführungsschienenelement (123A, 123 B) zu bewegen, um einen Teil einer Öffnung zu schließen, außer den Transferweg, gebildet an einer Grenze der Abschnitte durch welche die Platine (2) gelangt.

12. Aufschmelzverfahren zum Zuführen eines heißen Gasflusses zu einer Platine (2), um die Platine (2) zu löten, während die Platine (2), der eine Lötmittelcreme zuvor zugeführt wurde, in eine Vielzahl von Abschnitten innerhalb eines Aufschmelzofens (1) entlang eines Transferweges (A, D) verbracht wird, wobei das Verfahren in einem Heizabschnitt (U) die Schritte aufweist:

der Gasfluß (B) wird durch ein Gebläse (11) abgesandt;

das von dem Gebläse (11) abgesandte Gas wird durch eine Heizvorrichtung (15) geheizt; und

der von dem Gebläse (11) zu der Heizvorrichtung (15) gesandte Gasfluß wird gesammelt und angehoben, und der angehobene Gasfluß wird auf eine Platine auf dem Transferweg (A, D) von einer oberen Seite des Heizabschnittes (U) in einem zirkulierenden Gasweg herunter fallengelassen;

dadurch gekennzeichnet, daß

in dem Heizschritt das Gas von dem Gebläse (11) durch eine Heizvorrichtung (15) ausgesandt wird, welcher auf einer lateralen Seite des Transferweges (A, D) angeordnet ist.

13. Aufschmelzverfahren nach Anspruch 12, weiterhin einen Schritt des plötzlichen Vergrößerns einer Querschnittsfläche des Weges durch ein hohles Teil (126) enthaltend, welches zwischen den Abschnitten angeordnet ist, und dann einen Druckabfall durch das Teil verursachend, um die Geschwindigkeit des Gasflusses (B, C) von dem Abschnitt zu reduzieren.

14. Aufschmelzverfahren nach Anspruch 12 oder 13, weiterhin die Schritte aufweisend: außer dem Transferweg (D) wird ein Teil einer an einer Grenzfläche der Abschnitte, durch welche die Platinen hindurchgelangen, durch einen Schließmechanismus (127) geschlossen, welcher Mechanismus sich integral mit einem beweglichen Teil eines Paares von Transferführungsschienenelementen (123A, 123B) bewegen kann, welche so angeordnet sind, um den Weg dazwischen aufrecht zu erhalten, wobei das bewegbare Element in einer lateralen Richtung orthogonal zu dem Transferweg (D) bewegbar ist.