DE69020818T2

DE69020818T2 - Platte zur elektromagnetischen Abschirmung.

Info

Publication number: DE69020818T2
Application number: DE69020818T
Authority: DE
Inventors: Leslie Thomas Hoylake Wirral L47 1Hy Clarke
Original assignee: Pilkington PLC
Current assignee: Pilkington Group Ltd
Priority date: 1989-08-18
Filing date: 1990-08-16
Publication date: 1996-02-08
Anticipated expiration: 2010-08-17
Also published as: BR9004084A; JPH03136399A; CA2022948A1; DE69020818D1; ZA906082B; EP0413580A1; GB8918859D0; ATE125102T1; US5147694A; KR910005323A; MX172772B; AU5993190A; NO903575D0; GB2236790A; NO177730C; EP0413580B1; GB2236790B; NO177730B; AU633124B2; NZ234676A

Description

Die Erfindung bezieht sich auf elektromagnetische Abschirmplatten und insbesondere auf durchsichtige Platten zum Abschirmen gegen elektromagnetische Störungen, welche elektrisch leitende Beschichtungen enthalten, um elektromagnetische Strahlung zu schwächen.
Es ist bekannt, daß Glas und durchsichtige Kunststoffe für kurzwellige elektromagnetische Strahlung durchlässig sind, und infolgedessen kann solche Strahlung in Gebäude und/oder elektronische Geräte, wie Computer und Wortprozessoren, in Gebäuden und/oder durch schützende Sichtplatten an dem Gerät eindringen und aus diesen austreten. Dies wird vom Standpunkt der Informationsicherheit für höchst unerwünscht gehalten, da diese Strahlung leicht demoduliert werden kann.
Eine wirksame Lösung dieses Problems ist vorgeschlagen worden, wobei alle solche elektronischen Geräte innerhalb einer vollständig elektromagnetisch abgeschirmten Umhüllung untergebracht werden. Eine solche Umhülllung hat gewöhnlich die Form eines Raumes ohne jedes Fenster, in welchem die Wände und die Tür ein Gitter oder eine Metallfolie enthalten, die elektrisch mit Erde verbunden sind. Bei einer solchen Anordnung, die als Faradaykäfig bekannt ist, verläßt elektromagnetische Strahlung weder den Raum noch tritt sie in ihn ein.
Es ist jedoch z.B. aus wirtschaftlichen und/oder ästhetischen Gründen nicht immer möglich, alle elektronischen Geräte, die gefährdete Information verarbeiten, innerhalb solchen Räumen oder Umhüllungen anzuordnen. Es sind verschiedene andere Vorschläge bekannt, bei denen durchsichtige Abschirmungsplatten als Fenster dienen können. Diese Platten verwenden unter anderem elektrisch leitende Beschichtungen, die direkt elektrisch mit Erde verbunden sind. Solche Platten verhindern das Durchtreten von elektromagnetischer Strahlung.
Beispielsweise beschreibt GB-B-2 064 629 nicht nur eine elektromagnetische Abschirmplatte, die aus Glasscheiben besteht, welche eine elektrisch leitende Schicht enthalten, sondern auch Glasscheiben, die ein feines elektrisch leitendes gewobenes Netz enthalten.
Um die erforderliche Schwächung der elektromagnetischen Strahlung zu erzielen, ist es wesentlich, daß die Schicht und das Netz mit Erde verbunden werden, und dies wird mittels direkter physischer elektrischer Anschlüsse sowohl an der Schicht als auch am Netz erreicht.
Ein Nachteil dieser Art von Platte besteht darin, daß die Sichtbarkeit durch dieselbe durch das leitende Netz beeinträchtigt wird.
Bei einer weiteren, in EP-A-222151 beschriebenen Abschirmplattenanordnung wird eine verbesserte Sichtbarkeit erreicht. Die Abschirmplatte besteht aus einem Paar von im Abstand angeordneten Glasscheiben auf entgegengesetzten Seiten eines Paares von im Abstand voneinander angeordneten parallelen elektrisch leitenden durchsichtigen Folien, die in einem straffen Zustand im Zwischenraum zwischen den Scheiben gehalten sind. Bei dieser Platte ist es erforderlich, die beiden elektrisch leitenden Folien durch eine direkte physische elektrische Verbindung an Erde anzuschließen.
Bei einer weiteren in GB-A-2 205 527 beschriebenen Abschirmplattenanordnung besteht die Platte aus zwei elektrisch leitenden beschichteten Glasscheiben, die in parallelem gegenseitigen Abstand angeordnet sind, wobei die Schichten nach innen gegeneinanderweisen. Diese Abschirmplatte hat die Vorteile, daß sie eine gute Schwächung der elektromagnetischen Strahlung ergibt und gleichzeitig zusätzlich gute optische Eigenschaften zeigt. Trotzdem bleibt das Erfordernis, elektrische Verbindungen der Schichten direkt mit einem physischen elektrischen Anschluß an Erde herzustellen. Bei dieser Anordnung wird dies mittels eines elektrisch leitenden Drahtnetzes erreicht, welches direkten elektrischen Kontakt mit den Beschichtungen selbst herstellt.
Ein weiteres Beispiel einer elektromagnetischen Abschirmplatte ist in EP-A-0 322 720 beschrieben.
Die elektromagnetischen Abschirmplatten fallen in mehrere allgemeine Kategorien, d.h. sie können doppeltverglast sein, wobei Luft oder Gas zwischen zwei im Abstand voneinander angeordneten parallelen Glasscheiben enthalten ist, oder sie können beschichtet sein, wobei eine Kunststoffzwischenschicht zwischen zwei parallelen Glasscheiben eingeschlossen ist. Sie können auch eine Kombination dieser beiden Typen darstellen.
Allgemein besteht, wenn eine elektrisch leitende Schicht oder eine durchsichtige Folie verwendet wird, infolge der empfindlichen Natur solcher Schichten oder durchsichtiger Folien die Notwendigkeit, dieselben vor Beschädigung zu schützen. Daher weisen solche Beschichtungen oder Schichten oder durchsichtige Folien gewöhnlich innerhalb der Platte nach innen und können beispielsweise durch eine äußere Glasscheibe geschützt werden.
Infolge dieser Art des Aufbaus besteht immer das Problem, eine gute direkte physische Verbindung mit der inneren Schicht oder durchsichtigen Folie herzustellen, was sich unter bestimmten Umständen als ziemlich schwierig herausstellt und bei der Herstellung kostspielig sein kann Beispielsweise kann bei doppelverglasten Einheiten die Anschlußeinrichtung die Abdichtung zur Umgebung nachteilig beeinflussen.
Ein Ziel dieser Erfindung besteht in der Schaffung einer elektromagnetischen Abschirmplatte, welche die genannten Nachteile überwindet, eine wirksame Schwächung der elektromagnetischen Strahlung erzielt und überdies gute optische Eigenschaften zeigt.
Demgemäß schafft die Erfindung eine Platte zur elektromagnetischen Abschirmung mit einer ersten und zweiten Scheibe, die unabhängig voneinander aus Glas oder Kunststoff bestehen, wobei die erste und zweite Scheibe jeweils innere und äußere Hauptflächen aufweisen, sowie mit einer ersten und zweiten elektrisch leitenden Schicht, wobei die erste elektrisch leitende Schicht auf der äußeren Hauptfläche der ersten Scheibe aus Glas oder Kunststoff angeordnet ist und die zweite elektrisch leitende Schicht zwischen der ersten und der zweiten Scheibe aus Glas oder Kunststoff angeordnet ist, wobei die zweite elektrisch leitende Schicht mit der ersten elektrisch leitenden Schicht über die zwischen der ersten und zweiten elektrisch leitenden Schicht vorhandene Kapazität elektrisch gekoppelt ist, so daß bei Verwendung der Abschirmplatte die direkte elektrische Verbindung zur ersten elektrisch leitenden Schicht, welche einen Anschluß der ersten elektrisch leitenden Schicht an Erde ermöglicht, auch die Verbindung der zweiten elektrisch leitenden Schicht mit Erde über die genannte kapazitive Kopplung ergibt, um eine wirksame Schwächung der elektromagnetischen Strahlung im Weg der Abschirmplatte zu erzeugen, während sich gute optische Eigenschaften ergeben.
Die zweite elektrisch leitende Schicht kann auf einer Hauptfläche der ersten oder zweiten Scheibe aus Glas oder Kunststoff angeordnet sein, und wenn sie auf der inneren Hauptfläche der ersten Scheibe aus Glas oder Kunststoff gegenüber der ersten elektrisch leitenden Schicht angeordnet ist, kann die zweite Scheibe aus Glas oder Kunststoff entweder aus klarem Glas oder Kunststoff oder beschichtetem Glas bestehen, welches eine der ersten elektrisch leitenden Schicht entsprechende Schicht aufweist, um a) eine doppeltverglaste Platte, die einen Luft- oder Gaszwischenraum zwischen den Scheiben aufweist, der im Bereich von 6 mm bis 20 mm liegen kann, oder b) ein Laminat zu bilden, das eine Kunststoffzwischenschicht zwischen den Scheiben aus Glas oder Kunststoff enthält, welche eine Dicke zwischen 0,38 mm und 1 mm besitzen kann.
Falls die zweite elektrisch leitende Schicht auf der inneren Hauptfläche der zweiten Scheibe aus Glas oder Kunststoff angeordnet ist, ist sie vorzugsweise im Abstand von der ersten Scheibe aus Glas oder Kunststoff angeordnet, um a) eine doppeltverglaste Platte mit einem Luft- oder Gasraum zwischen den Scheiben, der im Bereich von 6 mm bis 20 mm liegen kann, oder b) ein Laminat zu bilden, das eine Kunststoffzwischenschicht zwischen den Scheiben aus Glas oder Kunststoff enthält, welche eine Dicke zwischen 0,38 mm und 1 mm besitzen kann.
Vorzugsweise beträgt der Gas- oder Luftraum 12 mm und die Kunststoff zwischenschicht besitzt eine Dicke von 0,5 mm.
Vorzugsweise ist die erste elektrisch leitende Schicht eine durchsichtige abriebfeste Schicht, die zweckmäßigerweise aus einem Halbleitermetalloxid, beispielsweise mit Zinn dotiertem Indiumoxid oder dotiertem Zinnoxid, bestehen kann. Mit Fluor dotierte Zinnoxidschichten, die durch pyrolytische Verfahren hergestellt werden, sind für diesen Zweck besonders gut geeignet.
Die durchsichtige abriebfeste Schicht, die gewöhnlich aus einer Halbleitermetalloxidschicht in der Größenordnung von nm bis 100 nm, vorzugsweise 300 nm bis 400 nm Dicke, besteht, kann auch eine oder mehrere Farbunterdrückungs- Unterschichten enthalten, wie sie beispielsweise in GB-B-2031756 oder GB-B-2015983 beschrieben sind.
Vorzugsweise ist die zweite elektrisch leitende Schicht eine Silberschicht mit einer Dicke zwischen 10 nm und 50 nm, kann jedoch auch eine Gold- oder Kupferschicht sein. Die Verwendung einer Silberschicht mit einer Dicke von wenigstens 15 nm ermöglicht eine elektrisch leitende Beschichtung zur Erzielung eines Schichtwiderstands von 5 Ohm pro Quadrat. Vorzugsweise besitzen die elektrisch leitenden Schichten eine Silberschicht von wenigstens 22,5 nm Dicke zur Bildung eines Schichtwiderstandes von unter 5 Ohm pro Quadrat.
Da dickere Silberschichten kostspieliger sind und da solche dickeren Schichten eine geringere Lichtdurchlässigkeit bewirken, hat die Silberschicht vorzugsweise eine Dicke von weniger als 40 nm. Bevorzugte Schichten haben eine Silberschicht mit einer Dicke im Bereich von 10 nm bis 30 nm. Um die Lichtdurchlässigkeit des beschichteten Glases zu verbessern, kann die Silberschicht zwischen reflexionshemmenden Schichten aus Metalloxid eingeschlossen sein. Das Metalloxid kann ausgewählt sein aus Titanoxid, Zinnoxid, Indium-Zinnoxid, Zinkoxid und Wismutoxid. Die Dicke der reflexionshemmenden Schicht liegt vorzugsweise im Bereich von 20 nm bis 70 nm. Es wird bevorzugt, Zinnoxid für die reflexionshemmenden Schichten zu verwenden, und zur Erzielung einer optimalen Lichtdurchlässigkeit besitzen die Zinnoxidschichten jeweils eine Dicke im Bereich von 30 nm bis 50 nm in Abhängigkeit von der Dicke der Silberschicht.
Die Abschirmplatte wird vorzugsweise in einem elektrisch leitenden Träger gehalten, der mit Erde elektrisch verbunden ist. Ein direkter physischer elektrischer Anschluß ist vorzugsweise von der ersten elektrisch leitenden Schicht zum Träger mittels einer um den Umfang verlaufenden elektrisch leitenden kompressiblen Einrichtung hergestellt, die zwischen der ersten elektrisch leitenden Schicht und dem Träger als Schicht eingefügt ist. Die elektrisch leitende kompressible Einrichtung besteht vorzugsweise aus einem mit Metall versehenen Gummiring oder kann aus einem Ring von mit Metall versehenem Gummi oder von Zinkmetallnetz bestehen.
Die zweite elektrisch leitende Schicht ist mit der ersten elektrisch leitenden Schicht durch eine kapazitive Einrichtung gekoppelt, wobei die kapazitive Einrichtung aus einer verteilten inneren Kapazitanz besteht, die zwischen der ersten und zweiten elektrisch leitenden Schicht vorhanden ist.
Die hier beschriebene Abschirmplatte ist außerordentlich geeignet als lichtdurchlässige Abschirmung gegen elektromagnetische Strahlung mit einer Freguenz im Bereich von 30 MHz bis 20 GHz.
Die Erfindung wird leichter verstanden aus der folgenden Beschreibung mehrerer Ausführungsformen und Beispiele, die in Verbindung mit den Figuren gelesen werden sollte. Es zeigt:
Fig. 1 einen Schnitt durch eine Ausführungsform in Art einer doppeltverglasten elektromagnetischen Abschirmplatte gemäß der Erfindung;
Fig. 2 einen Schnitt durch eine der in Fig.1 dargestellten ähnliche Ausführungsform, die jedoch als laminare elektromagnetische Abschirmplatte gemäß der Erfindung ausgebildet ist;
Fig. 3 einen Schnitt durch eine weitere Ausführungsform in Art einer doppelverglasten elektromagnetischen Abschirmplatte gemäß der Erfindung;
Fig. 4 einen Schnitt durch eine der in Fig. 3 dargestellten ähnliche Ausführungsform, die jedoch als laminare elektromagnetische Abschirmplatte gemäß der Erfindung ausgebildet ist; und
Fig. 5 einen Schnitt durch eine weitere Ausführungsform einer doppeltverglasten elektromagnetischen Abschirmplatte gemäß der Erfindung, die der in Fig.3 dargestellten ähnlich ist, bei der jedoch eine Scheibe von klarem Floatglas durch eine Scheibe von beschichtetem Glas ersetzt ist.
Zu den Zeichnungen wird bemerkt, daß zur Vereinfachung gleichartige Komponenten in allen Figuren 1 - 5 mit gleichen Bezugszeichen versehen sind.
Bei den zu betrachtenden Beispielen machen zwei der Abschirmplatten 1 und 2 (Fig. 1 und Fig. 2) von im Handel erhältlichen belichteten Gläsern mit geringem Emissionsvermögen Gebrauch. Eine Art umfaßt beispielsweise eine Scheibe von 3 mm bis 6 mm klaren Floatglases 5, das mit einer durchsichtigen elektrisch leitenden Schicht beschichtet ist, welche eine Silberschicht 6 aufweist, die zwischen reflexionshemmenden Schichten 7 und 8 aus Metalloxid (hergestellt, wie in GB-B-2 129 831 beschrieben) eingeschlossen ist. Beschichtetes Glas dieser Art ist im Handel von PILKINGTON GLASS LIMITED, ST.HELENS, ENGLAND, under der Handelsmarke KAPPAFLOAT erhältlich. Die spezifische Leitfähigkeit der Schicht hängt von der Dicke der Silberschicht ab und kann in der Größenordnung von 2, 5 oder 10 Ohm pro Quadrat.
Die Verwendung einer Silberschicht mit einer Dicke von wenigstens 15 nm ermöglicht die Erzielung einer Schicht mit einem Schichtwiderstand von weniger als 5 Ohm pro Quadrat Bevorzugte Beschichtungen haben eine Silberschicht von wenigstens 22,5 nm Dicke, um noch niedrigeren Flächenwiderstand zu erzielen. Unglücklicherweise sind die Kosten der Beschichtung um so größer und ist die Lichtdurchlässigkeit des beschichteten Glases um so geringer, je dicker die Silberschicht ist. So weist die Silberschicht vorzugsweise eine Dicke von weniger als 40 nm auf. Besonders bevorzugt sind Beschichtungen, die eine Silberschicht mit einer Dicke im Bereich von 10 bis 30 nm aufweisen.
Wie erwähnt, kann die Silberschicht zwischen reflexionshemmende Schichten von Metalloxid eingelegt werden, wobei die äußere Schicht zum Schutz des Silbers dient. Beispiele für Metalloxide, die verwendet werden können, sind Titanoxid, Zinnoxid, Indium-Zinnoxid, Zinkoxid und Wismutoxid. Die reflexionshemmenden Schichten haben allgemein jeweils eine Dicke im Bereich von 20 nm bis 70 nm. Es wird bevorzugt, Zinnoxid für die reflexionshemmenden Schichten zu verwenden, und zur Erzielung optimaler Lichtdurchlässigkeit haben die Zinnoxidschichten jeweils eine Dicke im Bereich von 20 nm bis 50 nm in Abhängigkeit von der Dicke der Silberschicht.
Die andere Art von beschichtetem Glas mit geringem Emissionsvermögen weist eine durchsichtige abriebfeste Beschichtung auf, welche aus einer Halbleiter-Metalloxidschicht 10, z.B. mit Zinn dotiertem Indiumoxid oder dotiertem Zinnoxid, besteht. Durch pyrolytische Verfahren erzeugtes Glas mit Beschichtungen aus mit Fluor dotiertem Zinnoxid sind im Handel erhältlich und für die vorliegende Anwendung geeignet. Beschichtete Gläser dieser Art sind im Handel erhältlich von PILKINGTON GLASS LIMITED, ST.HELENS, ENGLAND, unter der Handelsbezeichnung PILKINGTON K-GLASS. Die Leitfähigkeit der Beschichtung hängt ab von Art und Anteil der vorhandenen Dotiermittel sowie der Dicke der Beschichtung. Ein gegenwärtig erhältliches beschichtetes Glas ist PILKINGTON K-GLASS und besitzt eine spezifische Leitfähigkeit in der Größenordnung von 17 Ohm pro Quadrat.
Die zwei Abschirmplatten 3 und 4 (Fig.3 und Fig.4) enthalten Scheiben mit abriebfesten elektrisch leitenden Beschichtungen, die jeweils auf der ihrer abriebfesten Beschichtung 10 entgegengesetzten Hauptfläche zusätzlich eine Beschichtung 6, 7 und 8 aufweisen, die der in neutralem beschichteten KAPPAFLOAT-Glas mit niedrigem Emissionsvermögen enthaltenen gleich ist. Diese Beschichtung wird entweder von einer Scheibe aus klarem Floatglas 11 oder durch eine Glasscheibe mit abriebfester Beschichtung in der doppeltverglasten Abschirmplatte 3 mit einem Zwischenraum zwischen den Scheiben im Bereich von 6 mm bis 20 mm und in der laminaren Abschirmplatte 4 durch eine Scheibe von klarem Floatglas 11 oder eine Glasscheibe mit einer abriebfesten Beschichtung und einer Runststoffzwischenschicht 12 mit einer Dicke zwischen 0,38 mm und 1 mm geschützt.
Bei den zu betrachtenden Beispielen haben die Glasscheiben (beschichtet oder in anderer Art), die zum Aufbau der Abschirmplatten 1, 2, 3 und 4 verwendet werden, eine Abmessung von 1 m², und sie sind in einem elektrisch leitenden Trägerrahmen 14 gehalten, der direkt an Erde E anschließbar ist.
Aus den Figuren 1 bis 5 geht hervor, daß alle Abschirmplatten 1, 2, 3, 4 und PS wenigstens eine beschichtete Basisglasscheibe mit einer abriebfesten elektrisch leitenden Beschichtung enthält, wobei die Beschichtung nach außen weist. Zweckmäßigerweise wird eine direkte physische elektrische Verbindung mit und rings um den Umfang der äußeren Beschichtung 10 mittels eines geeigneten um den Umfang verlaufenden, elektrisch leitenden kompressiblen Dichtrings 15 hergestellt, der zwischen den Umfang der beschichteten Glasscheiben 9,10 und den elektrisch leitenden Trägerrahmen 14 eingelegt ist. Der Dichtring 15 kann zweckmäßigerweise ein mit Metall versehener Gummiring oder ein Ring aus feinem Metallnetz sein.
Ein elektrischer Anschluß der inneren Beschichtung 6, 7 und 8 wird durch Ausnützung der verteilten inneren Kapazitanz C (beispielhaft schematisch dargestellt in der Platte 2 und der Platte 4) bewirkt, welche zwischen den zwei Beschichtungen vorhanden ist. Tatsächlich ist die innere Beschichtung mit der äußeren Beschichtung, die direkt elektrisch verbunden ist mit dem Trägerrahmen 14 über den Ring 15 und sodann mit Erde E, wirksam kapazitiv gekoppelt.
Die Hauptschwächung der elektromagnetischen Strahlung beruht auf der Reflexion der elektromagnetischen Wellen an der ersten leitenden Beschichtung der Platte. Dies wird durch die Fehlanpassung der Impedanz der ankommenden Welle (377 Ohm im "Fernfeld" ist größer als λ /2π von einer Strahlungsguelle ES) und die kombinierte Impedanz der Beschichtungen bewirkt. Eine weitere Schwächung wird als Folge der Mehrfachreflexionen zwischen den elektrisch leitenden Schichten auf dem Glas erreicht. Eine Schwächung kann auch dem Adsorptionsverlust innerhalb des Glases selbst zugeschrieben werden, wobei die Weglänge der elektromagnetischen Welle infolge der Mehrfachreflexionen stark erhöht wird, was das Glas viel dicker erscheinen läßt als es tatsächlich ist. Solche Mehrfachreflexionen sind in Fig.1 beispielhaft gezeigt und sind schematisch durch die mit RP bezeichneten gestrichelten Linien dargestellt, welche zwischen den zwei Schichten verlaufen (solche Mehrfachreflexionen treten in ähnlicher Weise, wie in der Platte 1 gezeigt, in den anderen dargestellten Platten auf).
Bei den zu betrachtenden Beispielen wurden Lichtreflexion und Lichtdurchlässigkeit der Platte gemessen und die Schwächung oder Abschirmwirkung der Durchlässigkeit für elektromagnetische Strahlung ER von der elektromagnetischen Strahlungsquelle ES, die sich längs eines Transmissionsweges TP senkrecht zur Plattenoberfläche bewegt, durch die Platte wurde über einen Frequenzbereich von 50 NHz bis 10 GHz bestimmt.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele erläutert, jedoch nicht eingeschränkt.

Beispiel 1

Die Platte 1 besitzt Doppelverglasung und weist zwei beschichtete Glasscheiben auf, die in parallelem Abstand angeordnet und durch eine um den Umfang verlaufende Außendichtung 13 getrennt sind. Die erste Scheibe besteht beispielsweise aus PILKINGTON K-Glas, wobei die Beschichtung zum Äußeren der Platte weist, und die zweite Scheibe besteht aus neutralem KAPPAFLOAT-Glas, wobei die Beschichtung zum Inneren der Platte weist.
Die Dicke der Silberschicht in der neutralen KAPPAFLOAT- Scheibe liegt in der Größenordnung von 15 nm, woraus sich eine spezifische Leitfähigkeit (Schichtwiderstand) von 5 Ohm pro Quadrat ergibt. Die spezifische Leitfähigkeit der äußeren Schicht liegt in der Größenordnung von 17 Ohm pro Quadrat . Die Abmessung des Zwischenraums zwischen den Scheiben liegt in der Größenordnung von 12 mm.
Es wurden die folgenden Ergebnisse erhalten:
Lichtreflexion 14%
Lichttransmission 70%
Abschirmwirkung 32 dB

Beispiel 2

Platte 2 ist laminar aufgebaut und weist zwei beschichtete Glasscheiben der bei Platte 1 beschriebenen Art auf. Die zwei beschichteten Scheiben sind unter Verwendung einer 0,5 mm dicken Zwischenschicht 13 aus Polyvinylbutyral aufeinandergeschichtet. Die Dicke der Silberschicht in der neutralen KAPPAFLOAT-Scheibe liegt in der Größenordnung von 22,5 nm, was eine spezifische Leitfähigkeit (Schichtwiderstand) von 2 Ohm pro Quadrat ergibt. Die spezifische Leitfähigkeit der äußeren Beschichtung liegt in der Größenordnung von 17 Ohm pro Quadrat.
Es wurden die folgenden Ergebnisse erhalten:
Lichtreflexion 42%
Lichttransmission 40%
Abschirmwirkung 37 dB.

Beispiel 3

Die Platte 3 ist doppeltverglast, aber in ihrem Aufbau weist, wie oben erläutert, die beschichtete Scheibe aus PILKINGTON K-Glas eine Schicht 6, 7 und 8 auf, die dem neutralen beschichteten KAPPAFLOAT-Glas mit niedrigem Emissionsvermögen gleich ist, das auf der der abriebfesten Schicht 10 entgegengesetzten Hauptfläche beschichtet ist. Die spezifische Leitfähigkeit der abriebfesten Schicht liegt in der Größenordnung von 17 Ohm pro Quadrat , während die Dicke der Silberschicht 15 nm beträgt, was eine spezifische Leitfähigkeit von 5 Ohm pro Quadrat ergibt. Die innere Schicht ist durch eine Scheibe 12 aus klarem Glas geschützt, die in einem Abstand von 12 mm vom der inneren Schicht durch eine um den Umfang verlaufende Außenabdichtung 14 gehalten wird.
Es wurden die folgenden Ergebnisse erhalten:
Lichtreflexion 15%
Lichttransmission 67%
Abschirmwirkung 37 dB.
Wenn bei diesem Beispiel eine Silberschicht mit einer Dicke von 22,5 nm verwendet wurde, was eine spezifische Leitfähigkeit von 2 Ohm pro Quadrat ergab, so wurden die folgenden Ergebnisse erhalten:
Lichtreflexion 35%
Lichttransmisson 47%
Abschirmwirkung 50 dB.

Beispiel 4

Platte 4 besitzt den laminaren Aufbau der Platte 3 und unterscheidet sich nur durch die Polyvinylbutyral-Zwischenschicht 13, die 0,5 mm dick ist. Es wurden zwei beschichtete Gläser mit unterschiedlicher spezifischer Leitfähigkeit geprüft, wobei die folgenden Ergebnisse erhalten wurden:
a) 2 Ohm pro Quadrat
Lichtreflexion 40%
Lichttransmission 43%
Abschirmwirkung 40 dB
b) 50 Ohm pro Quadrat
Lichtreflexion 20%
Lichttransmission 60%
Abschirmwirkung 35 dB.

Beispiel 5

Bei diesem Beispiel wird auf Fig.5 Bezug genommen. Der Aufbau der für dieses Beispiel verwendeten Platte ist gleich demjenigen der Platte 3 (Fig.3) mit der Ausnahme, daß die Scheibe aus klarem Glas durch eine Scheibe aus PILKINGTON K-Glas ersetzt wurde. So hat die Platte dieses Beispiels zwei Scheiben aus PILKINGTON K-Glas Eine der Scheiben aus PILKINGTON K-Glas weist eine Schicht 6, 7 und 8 auf, die gleich ist dem KAPPAFLOAT-Glas mit niedrigem Emissionsvermögen, das auf der der abriebfesten Beschichtung 10 entgegengesetzten Hauptfläche beschichtet ist. Die spezifische Leitfähigkeit der abriebfesten Schicht liegt in der Größenordnung von 17 0hm pro Quadrat , während die Dicke der Silberschicht 22,5 nm beträgt, was eine spezifische Leitfähigkeit von 2 0hm pro Quadrat ergibt. Die innere Schicht ist durch eine Scheibe aus PILKINGTON K-Glas 9, 10 geschützt, die durch die um den Umfang verlaufende Außenabdichtung 13 mit 12 nm im Abstand von der inneren Schicht gehalten ist.
Es wurden die folgenden Ergebnisse erhalten:
Lichtreflexion 35%
Lichttransmission 44%
Abschirmwirkung 55 dB
Es ist für den Fachmann ersichtlich, daß das Auswechseln der Scheibe aus klarem Glas mit einer Scheibe aus PILKINGTON K-Glas im laminaren Aufbau der Platte 4 (Fig.4) noch ein weiterer Aufbau ist, der verbesserte Abschirmwirkung ergibt.
Es ist für den Fachmann ferner klar, daß die innere elektrisch leitende Schicht, statt auf der Glasfläche angeordnet zu sein, die Form einer leitenden Schicht besitzen kann, welche auf ein getrenntes Kunststoffmaterial aufgebracht ist. Beispielsweise kann die Polyvinylbutyral-Zwischenschicht 13 zweckmäßigerweise eine metallisierte Polyesterfolie enthalten.
Ein wichtiger Vorteil der Erfindung besteht darin, daß durch Verwendung einer durchsichtigen abriebbeständigen, elektrisch leitenden Schicht als erste elektrisch leitende Schicht auf der äußeren Hauptfläche der ersten Scheibe und das Ausnutzen einer verbesserten kapazitiven Kopplung C zwischen dieser Schicht und der zweiten elektrisch leitenden Schicht es möglich wird, eine zweite abriebfeste elektrisch leitende Schicht (z.B. eine aus einer Silberschicht bestehende Beschichtung), die zwischen den Scheiben geschützt ist, wirksam zu erden, ohne daß irgendwelche speziellen elektrischen Anschlüsse an irgendeine Beschichtung zwischen den Platten hergestellt werden.
Ein daraus hervorgehender Hauptvorteil besteht darin, daß die zweite elektrisch leitende Schicht rings um den Umfang der Platte bei den doppelverglasten Aufbauten abgestreift werden kann, was die Außenabdichtung um den Umfang beträchtlich verbessert. Die Platte ergibt ferner eine wesentliche Verbesserung bezüglich der Schwächung der elektromagnetischen Strahlung. So ist es durch geeignete Auswahl der Silberbeschichtungen möglich, gute optische Eigenschaften zusammen mit einem verbesserten Schwächungsfaktor bei elektromagnetischen Abschirmplatten gemäß der Erfindung zu erzielen.
Die Erfindung ist zwar unter Verwendung von Glasscheiben beschrieben und dargestellt worden, es ist jedoch auch möglich, ähnliche Ergebnisse bei Verwendung von durchsichtigen Kunststoffscheiben zu erzielen.

Claims

1. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung mit einer ersten und zweiten Scheibe, die unabhängig voneinander aus Glas oder Kunststoff bestehen, wobei die erste und zweite Scheibe jeweils innere und äußere Hauptflächen aufweisen, sowie mit einer ersten und zweiten elektrisch leitenden Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste elektrisch leitende Schicht (10) auf der äußeren Hauptfläche der ersten Scheibe (9) aus Glas oder Kunststoff angeordnet ist und die zweite elektrisch leitende Schicht (6,7,8) zwischen der ersten (9) und der zweiten Scheibe (5,11) aus Glas oder Kunststoff angeordnet ist, wobei die zweite elektrisch leitende Schicht (6,7,8) mit der ersten elektrisch leitenden Schicht über die zwischen der ersten und zweiten elektrisch leitenden Schicht vorhandene Kapazität elektrisch gekoppelt ist, so daß bei Verwendung der Abschirmplatte die direkte elektrische Verbindung zur ersten elektrisch leitenden Schicht (10), welche einen Anschluß der ersten elektrisch leitenden Schicht (10) an Erde (E) ermöglicht, auch die Verbindung der zweiten elektrisch leitenden Schicht (6,7,8) mit Erde (E) über die genannte kapazitive Kopplung ergibt, um eine wirksame Schwächung der elektromagnetischen Strahlung im Weg der Abschirmplatte zu erzeugen, während sich gute optische Eigenschaften ergeben.

2. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1, bei welcher die zweite elektrisch leitende Schicht (6,7,8) auf der inneren Hauptfläche der ersten Scheibe (9) aus Glas oder Kunststoff gegenüber der ersten elektrisch leitenden Schicht angeordnet ist und die zweite Scheibe (11) aus Glas oder Kunststoff aus klarem Glas oder Kunststoff besteht.

3. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1, bei welcher die zweite elektrisch leitende Schicht (6,7,8) auf der inneren Hauptfläche der ersten Scheibe (9) aus Glas oder Kunststoff gegenüber der ersten elektrisch leitenden Schicht (10) angeordnet ist und die zweite Scheibe (9) aus Glas oder Kunststoff aus beschichtetem Glas besteht, das eine Beschichtung aufweist, welche derjenigen der ersten elektrisch leitenden Schicht (10) entspricht.

4. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1, bei welcher die zweite elektrisch leitende Schicht (6,7,8) auf der inneren Hauptfläche der zweiten Scheibe (5) aus Glas oder Kunststoff angeordnet ist.

5. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei welcher die Abschirmplatte eine doppeltverglaste Platte (1,3) ist, die einen Luft- oder Gaszwischenraum zwischen den Platten aus Glas oder Kunststoff einschließt.

6. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 5, bei welcher der Luft- oder Gaszwischenraum im Bereich von 6 mm bis 20 mm liegt.

7. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 5, bei welcher der Luft- oder Gaszwischenraum 12 mm beträgt.

8. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei welcher die Abschirmplatte ein Laminat ist, das eine Kunststoff zwischenschicht (12) zwischen den Platten aus Glas oder Kunststoff einschließt.

9. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 8, bei welcher die Kunststoffzwischenschicht (12) eine Dicke zwischen 0,38 mm und 1 mm besitzt.

10. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 8, bei welcher die Kunststoffzwischenschicht (12) eine Dicke von 0,5 mm besitzt.

11. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei welcher die erste elektrisch leitende Schicht (10) aus einer durchsichtigen abriebfesten Beschichtung besteht.

12. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 11, bei welcher die durchsichtige abriebfeste Beschichtung (10) aus einem Halbleitermetalloxid besteht.

13. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 12, bei welcher das Halbleitermetalloxid aus mit Zinn dotiertem Indiumoxid besteht.

14. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 12, bei welcher das Halbleitermetalloxid aus dotiertem Zinnoxid besteht.

15. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 12, bei welcher das Halbleitermetalloxid aus mit Fluor dotiertem Zinnoxid besteht, das durch ein pyrolytisches Verfahren hergestellt ist.

16. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 11, bei welcher die Dicke der transparenten abriebfesten Schicht (10) zwischen 150 nm und 1000 nm liegt.

17. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei welcher die zweite elektrisch leitende Schicht (6,7,8) eine Silberschicht (6) mit einer Dicke zwischen 10 nm und 50 nm ist.

18. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, bei welcher die zweite elektrisch leitende Schicht (6,7,8) eine Silberschicht (6) mit einer Dicke von mindestens 10 nm ist.

19. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, bei welcher die zweite elektrisch leitende Schicht (6,7,8) eine Silberschicht (6) mit einer Dicke von mindestens 15 nm ist.

20. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, bei welcher die zweite elektrisch leitende Schicht (6,7,8) eine Silberschicht (6) mit einer Dicke von mindestens 22,5 nm ist.

21. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der Ansprüche 17 bis 20, bei welcher die Silberschicht (6) zwischen reflexionshemmenden Schichten (7,8) aus Metalloxid eingeschlossen ist.

22. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 21, bei welcher die reflexionshemmenden Schichten aus Schichten (7,8) von Zinnoxid bestehen.

23. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 22, bei welcher jede reflexionshemmende Zinnoxidschicht (7,8) eine Dicke im Bereich von 30 nm bis 50 nm besitzt.

24. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei welcher die Abschirmplatte in einem elektrisch leitenden Träger (14) gehalten ist, der an Erde (E) elektrisch anschließbar ist.

25. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 24, bei welcher eine direkte physische elektrische Verbindung von der ersten elektrisch leitenden Schicht zum Träger mittels einer um den Umfang verlaufenden elektrisch leitenden kompressiblen Einrichtung (15) hergestellt ist, die zwischen der ersten elektrisch leitenden Schicht (10) und dem Träger (14) als Schicht eingefügt ist.

26. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 25, bei welcher die elektrisch leitende kompressible Einrichtung (15) aus einem mit Metall versehenen Gummiring besteht.

27. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 25, bei welcher die elektrisch leitende kompressible Einrichtung (15) aus einem Metallnetzring besteht.

28. Platte zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei welcher die Platte als lichtdurchlässige Abschirmung gegen elektromagnetische Strahlung mit einer Frequenz im Bereich von 30 MHz bis 20 GHz dient.