DE69006672D1 - Verfahren und Vorrichtung zur Dampfphasenauftragung eines Werkstoffs auf ein Substrat. - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Dampfphasenauftragung eines Werkstoffs auf ein Substrat.Info
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/404,803 US5104695A (en) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | Method and apparatus for vapor deposition of material onto a substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69006672D1 true DE69006672D1 (de) | 1994-03-24 |
DE69006672T2 DE69006672T2 (de) | 1994-08-11 |
Family
ID=23601108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69006672T Expired - Fee Related DE69006672T2 (de) | 1989-09-08 | 1990-08-09 | Verfahren und Vorrichtung zur Dampfphasenauftragung eines Werkstoffs auf ein Substrat. |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5104695A (de) |
EP (1) | EP0422355B1 (de) |
JP (1) | JPH089772B2 (de) |
DE (1) | DE69006672T2 (de) |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI98861C (fi) * | 1994-01-18 | 1997-08-25 | Vaisala Oy | Menetelmä mikrohuokoisen, kaasua läpäisevän elektrodin valmistamiseksisekä mikrohuokoinen kaasua läpäisevä elektrodi |
US5776790A (en) * | 1996-02-28 | 1998-07-07 | International Business Machines Corporation | C4 Pb/Sn evaporation process |
JP3687953B2 (ja) * | 2000-02-22 | 2005-08-24 | 東北パイオニア株式会社 | 有機エレクトロルミネセンス表示パネル及びその製造方法 |
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KR101354985B1 (ko) * | 2012-04-20 | 2014-01-27 | (주)엠엠티 | 열 증착용 고효율 담체 |
KR20210135341A (ko) | 2012-05-31 | 2021-11-12 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 배취식 침착을 위한 고 물질 플럭스를 갖는 유체의 소스 시약-기반 수송 |
US9242298B2 (en) | 2012-06-26 | 2016-01-26 | Empire Technology Development Llc | Method and system for preparing shaped particles |
WO2014003721A1 (en) * | 2012-06-26 | 2014-01-03 | Empire Technology Development Llc | Method and system for preparing shaped particles |
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CN103556118B (zh) * | 2013-10-12 | 2016-03-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 蒸镀装置 |
TWI781929B (zh) * | 2016-04-25 | 2022-11-01 | 美商創新先進材料股份有限公司 | 瀉流單元和含有瀉流單元的沉積系統以及相關方法 |
US20190048460A1 (en) * | 2017-08-14 | 2019-02-14 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Evaporation Crucible and Evaporation System |
KR20210018923A (ko) * | 2018-06-08 | 2021-02-18 | 오티아이 루미오닉스 인크. | 기화성 재료를 수용하기 위한 카트리지 및 이를 위한 방법 |
FR3088078B1 (fr) | 2018-11-06 | 2021-02-26 | Riber | Dispositif d'evaporation pour systeme d'evaporation sous vide, appareil et procede de depot d'un film de matiere |
FR3102189B1 (fr) | 2019-10-17 | 2022-08-05 | Riber | Cellule d’évaporation pour chambre d’évaporation sous vide et procédé d’évaporation associé |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US2612442A (en) * | 1949-05-19 | 1952-09-30 | Sintercast Corp America | Coated composite refractory body |
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-
1989
- 1989-09-08 US US07/404,803 patent/US5104695A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-08-09 DE DE69006672T patent/DE69006672T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-09 EP EP90115301A patent/EP0422355B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-07 JP JP2236019A patent/JPH089772B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH089772B2 (ja) | 1996-01-31 |
JPH03107452A (ja) | 1991-05-07 |
DE69006672T2 (de) | 1994-08-11 |
EP0422355B1 (de) | 1994-02-16 |
US5104695A (en) | 1992-04-14 |
EP0422355A1 (de) | 1991-04-17 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |