DE68925233T3 - Mikrolithographischer Apparat - Google Patents
Mikrolithographischer ApparatInfo
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Description
- Diese Erfindung betrifft Geräte für die Mikrolithographie und insbesondere betrifft sie eine elektromagnetische Ausrichtvorrichtung, die neben anderen möglichen Verwendungen insbesondere zur Verwendung bei der Ausrichtung von Wafern in einem Mikrolithographiesystem geeignet ist.
- Das Patent US-A-4 506 204 zeigt eine elektromagnetische Ausrichtvorrichtung, die wenigstens drei Magnetanordnungen enthält, die in zueinander beabstandeter Beziehung gebracht sind, sowie wenigstens drei Spulenanordnungen, die so angebracht sind, daß der hohe Flußbereich der magnetischen Anordnungen durch sie hindurchtritt, weiter eine Vorrichtung zum Verbinden der Spulenanordnungen zur Bildung eines starren Aufbaus und eine Vorrichtung zum Steuern der Stromversorgung für die Spulen, so daß der Aufbau selektiv in den drei Freiheitsgraden bewegbar ist.
- Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine weiterentwickelte elektromagnetische Ausrichtvorrichtung zu schaffen.
- Diese Aufgabe wird durch eine elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 1 gelöst.
- Kurz gesagt, beinhaltet die vorliegende Erfindung die Vorsehung einer elektromagnetischen Ausrichtvorrichtung mit folgenden Teilen: einen monolithischen Tisch, einen Basistisch, einen isolierten Bezugsaufbau, zwischen den monolithischen Tisch und den Basistisch zwischengefügte Kraftstellglieder zum Haltern und Positionieren des monolithischen Tisches im Raum, eine Steuervorrichtung zum Steuern der Position des monolithischen Tisches, und zwischen dem isolierten Bezugsaufbau und dem monolithischen Tisch angebrachte Sensoren zum Feststellen der Position des monolithischen Tisches und zum Ausgeben eines Signals an die Steuervorrichtung. Die Steuervorrichtung ist so aufgebaut und angeordnet, daß sie die festgestellte Position des monolithischen Tisches mit einer Sollposition des Tisches vergleicht und ein Fehlersignal an die Kraftstellglieder ausgibt. Die Vorrichtung enthält weiter eine Vorrichtung zum Steuern der Position des Basistisches, so daß dieser der ungefähren Position des monolithischen Tisches folgt.
- In einer Ausführungsform der Erfindung enthalten die Kraftstellglieder ein an den Basistisch angebrachtes Spulenelement und einen getrennten, berührungsfreien Magnetaufbau, der an dem monolithischen Tisch angebracht ist.
- Gemäß einem Aspekt der Erfindung beinhalten die Sensoren Lasermeßsensoren für die drei Freiheitsgrade und kurzreichweitige berührungsfreie elektrooptische Sensoren für drei unterschiedliche Freiheitsgrade des monolithischen Tisches.
- Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung enthält die Vorrichtung zum Steuern der Position des Basistischs wenigstens zwei getrennte berührungsfreie Sensoren und zwei lineare Servomotoren, die funktionell auf die berührungsfreien Sensoren ansprechen.
- Gemäß noch einem weiteren Aspekt der Erfindung ist die Steuervorrichtung so aufgebaut und angeordnet, daß sie ein Beschleunigungsvorschubsignal liefert, das zusammen mit dem festgestellten Positionssignal zur Ausgabe eines modifizierten Steuersignals an die Kraftstellglieder führt. Die Steuervorrichtung ist zudem so aufgebaut und angeordnet, daß sie ein Beschleunigungsvorschubsignal liefert, das zusammen mit den Signalen von den berührungsfreien Sensoren zur Ausgabe eines modifizierten Steuersignals an die linearen Servomotoren führt.
- Es werden die Probleme vermieden, die bei bestehenden Tischsystemen nach dem Stand der Technik die Leistungsfähigkeit begrenzen, einschließlich der Probleme von tiefen Resonanzfrequenzen, großen magnetischen Aufbauten und Reaktionslaststörungen in kritischen Baukomponenten. Die Vorteile der Erfindung bestehen in einer höheren Genauigkeit, einem modularen Aufbau, geringeren Kosten, einem kleineren und geringeren Gewicht und darin, daß keine Luftlagerungen notwendig sind.
- Es wurden somit bisher relativ allgemein die wichtigeren Merkmale der Erfindung dargelegt, damit ihre ausführliche Beschreibung, die nun folgt, besser verständlich ist, und damit der vorliegende Beitrag zum Stand der Technik besser zu würdigen ist. Natürlich gibt es zusätzliche Merkmale der Erfindung, die hier im folgenden ausführlicher beschrieben werden. Der Fachmann wird erkennen, daß das Grundlegende dieser Offenbarung sofort als Basis für den Entwurf anderer Vorrichtungen zum Ausführen verschiedener Zwecke der Erfindung verwendbar ist. Es ist deshalb höchst wichtig, daß diese Offenbarung so angesehen wird, daß sie äquivalente Vorrichtungen beinhaltet, die nicht vom Grundgedanken und Bereich der Erfindung abweichen.
- Mehrere Ausführungsformen der Erfindung sind zum Zwecke der Veranschaulichung und Beschreibung ausgewählt worden, die in den begleitenden Zeichnungen, die Gegenstand der Beschreibung sind, dargestellt sind.
- In den Zeichnungen zeigen:
- Fig. 1 eine perspektivische Explosionsansicht einer elektromagnetischen Ausrichtvorrichtung, die nach dem Prinzip der vorliegenden Erfindung aufgebaut ist;
- und
- Fig. 2 ein Blockdiagramm für die Steuerung der in Fig. 1 gezeigten Vorrichtung.
- In der dargestellten Ausführungsform der Erfindung umfaßt die neue und verbesserte elektromagnetische Ausrichtvorrichtung einen monolithischen Tisch 10, einen X-Y Basistisch 12 und einen isolierten Bezugsaufbau 14, wie in Fig. 1 gezeigt ist.
- Der X-Y Basistisch 12 ist ein herkömmlicher, mechanisch geführter X-Y Basistisch, der über einen Servoantrieb verfügt, um der ungefähren Position des monolithischen Tisches zu folgen. Er könnte für die Führungen reibungsfreie Lager aufweisen, wie zum Beispiel Kugellager oder Rollenlager. Luftlager könnten ebenfalls verwendet werden, sind jedoch nicht notwendig. Als Ergebnis könnte das Gerät bei Bedarf in einem Vakuum betrieben werden. Tatsächlich könnte die gesamte Ausrichtvorrichtung so aufgebaut werden, daß sie für gewisse Einrichtungen in einem Vakuum betreibbar ist, falls dies notwendig wäre.
- Wie man am besten in der Fig. 1 sieht, enthält der Basistisch 12 eine Basisplatte 16, die auf dem Boden angebracht ist, wie bei 18 angedeutet ist, und einen beweglichen Rahmen 20. Der Rahmen 20 ist in der X-Richtung mittels eines linearen Servomotors 24 vor und zurück bewegbar, wie durch den Pfeil 22 angedeutet wird. Ein Tafelelement 26 ist an dem Rahmen 20 zur durch den Pfeil 28 angedeuteten Vor- und Zurückbewegung in der Y-Richtung mittels eines für diesen Zweck vorgesehenen linearen Servomotors 30 angebracht. Andere geeignete Antriebsvorrichtungen könnten anstelle der linearen Servomotoren 24 und 30 verwendet werden, beispielsweise Kugelrollspindeln, Drehmotoren oder Entsprechendes. Die Lager und Antriebsvorrichtungen für den Basistisch 12 müssen nicht sehr präzise sein. Sie müssen lediglich für nicht übermäßige Beschleunigungsgeschwindigkeiten geeignet sein. Folglich können sie relativ kostengünstig und kompakter sein, als es notwendig wäre, wenn beispielsweise ein Planarkraftmotor verwendet würde.
- Wie man an der Fig. 1 sieht, enthält der monolithische Tisch 10 ein Blockteil 32, das eine Waferhalteeinrichtung 34 trägt, mit der ein Wafer 35 gehaltert wird. Dieser kompakte, genaue monolithische Tisch wird im Raum in seiner in sechs Freiheitsgraden gesteuerten Position gehalten durch Servos mit hoher Leistungsfähigkeit, die kurzhubige, berührungsfreie elektromagnetische Kraftstellglieder verwenden. Es sind vier Flachspulenstellglieder 36 vorgesehen, von denen jedes ein Flachspulenelement 38 enthält, das an dem X-Y Basistisch 12 angebracht ist, sowie einen getrennten, berührungsfreien Hochleistungspermanentmagneten 40, der an dem monolithischen Tisch 10 angebracht ist. Während es derzeit bevorzugt ist, das Spulenelement 38 an dem X-Y Basistisch 12 anzubringen und den Magneten 40 an dem monolithischen Tisch 10, um die Wärmedissipation und die Anzahl von an dem monolithischen Tisch angebrachten Drähten zu verringern, wäre es dennoch auch annehmbar, diese Elemente zu vertauschen. Während die Fig. 1 vier Flachspulenstellglieder darstellt, wäre es auch möglich, einen Betrieb mit einem Minimum von drei solchen Stellgliedern zu verwirklichen. Diese Stellglieder schaffen eine Bewegung des monolithischen Tisches 10 in drei Freiheitsgraden. Das heißt, zwei Stellglieder schaffen die Bewegung in der X-Richtung, wie durch die Pfeile 42 angezeigt ist, und die anderen beiden Stellglieder schaffen die Bewegung in der Y-Richtung, wie durch die Pfeile 44 angedeutet ist. Der monolithische Tisch wird durch gemeinsamen Antrieb aller Stellglieder in Drehung versetzt.
- Es sind vier Fokalstellglieder 46 eines Lautsprecherspulentyps vorgesehen, von denen jedes ein zylindrisches Spulenelement, das an dem X-Y Basistisch 12 angebracht ist, und einen getrennten, berührungsfreien Hochleistungspermanentmagneten enthält, der an dem monolithischen Tisch 10 angebracht ist. Wie im Falle der Flachspulenstellglieder ist es bevorzugt, das Spulenelement aus dem X-Y Basistisch 12 und den Magneten an dem monolithischen Tisch 10 anzubringen, wobei es jedoch auch möglich ist, diese Elemente zu vertauschen. Während es möglich ist, ein Minimum von drei Fokalstellgliedern zu verwenden, sind jedoch vier bevorzugt. Diese Fokalstellglieder 46 schaffen zusätzliche drei Freiheitsgrade für den monolithischen Tisch 10, wie durch die Pfeile 47 veranschaulicht ist. Das heißt, der monolithische Tisch kann je nach Wunsch verkippt werden durch Auswahl der Betätigung eines bestimmten Paars von Stellgliedern. Wenn alle vier Stellglieder zugleich betätigt werden, kann der monolithische Tisch bezüglich des X-Y Basistisches angehoben oder abgesenkt werden. Der Abstand zwischen den beiden Tischen wird im allgemeinen in einem Bereich in der Größenordnung von ungefähr 1/32 Zoll aufrechterhalten. Die beschriebene Verwendung von Flachspulenstellgliedern und Stellgliedern des Lautsprechertyps ist bevorzugt, da diese Anordnung den Aufbau und Abbau vereinfacht. Das heißt, der monolithische Tisch kann buchstäblich von dem Basistisch entlang der Z-Achse abgehoben werden. Eine insgesamt aus Lautsprecherspulen bestehende Anordnung ist ebenfalls praktikabel.
- Jegliche Fehlausrichtung zwischen dem monolithischen Tisch 10 und dem Basistisch 12 wird durch berührungsfreie Sensoranordnungen gemessen, von denen zwei mit dem Bezugszeichen 48 in der Nähe der Mitte des Basistisches und ihre passenden, mit 48' bezeichneten Teile in Mittennähe auf der Unterseite des monolithischen Tisches vorgesehen sind. Zwei einzelne Sensoren oder ein kombinierter Sensor können zur Messung der X und Y Positionen verwendet werden. Die Ausgabe aus diesen Sensoren wird elektronisch verstärkt und an die Servomotoren 24 und 30 zurückgeführt, um zu bewirken, das der Basistisch ungefähr der Bewegung des monolithischen Tisches folgt und die Ausrichtung der Kraftstellglieder aufrechterhält, wie nachfolgend ausführlicher beschrieben wird. Jegliche geeignete Art von berührungsfreien kurzreichweitigen Sensoren ist verwendbar, wie zum Beispiel ein Detektor mit einem Festkörperemitter und einer geteilten Photodiode, ein Kapazitätssensor, oder beispielsweise ein linear verstellbarer Differentialtransformer (LVDT). Der X-Y-Abstand oder die Position des Basistisches bezüglich des monolithischen Tisches ist die wichtige Größe. Der vertikale Abstand oder die Winkelbeziehung zwischen den beiden Tischen muß von diesen Sensoren nicht erfaßt werden.
- Obwohl es nach der Geometrie so aussieht, daß der monolithische Tisch auf dem Basistisch angebracht ist, schwebt der monolithische Tisch tatsächlich im Raum über dem Basistisch, wobei seine Position durch die elektromagnetische Kraft der Stellglieder gesteuert wird. Solange die Spulen der Steuerglieder im Magnetfeld ihrer zugeordneten Magnetaufbauten bleiben und diese Aufbauten nicht berühren, ist die Position des monolithischen Tisches durch die Position des Basistisches nicht beeinflußt.
- In einigen Anwendungen ist es zum Verhindern eines Überhitzens der Stellglieder bevorzugt, das Grundgewicht des monolithischen Tischs auszugleichen. Dies kann durch Verwendung von zentral angeordneten Permanentmagneten entweder unter Anziehung oder Abstoßung zwischen dem monolithischen Tisch und dem Basistisch erzielt werden, wie in Fig. 1 mit Bezugszeichen 49 gezeigt ist.
- Das Gerät kann mit einer erweiterten Bewegung in einer vertikalen Ebene betrieben werden. Die Verwendung einer Kraftausgleichsvorrichtung an der vertikalen Achse des Basistisches kann in einigen Anwendungen notwendig sein.
- Der isolierte Bezugsaufbau 14 umfaßt ein Halteteil 50, das am Boden 18 mittels Isolatoren oder Federn 52 angebracht ist. Das Halteteil trägt ein optisches Abbildungssystem 54 und äußere Regelschleifenfokussensoren 56. Eine Anzahl von unterschiedlichen optischen Abbildungssystemen ist verwendbar, wie zum Beispiel eine Belichtungsvorrichtung, eine Inspektionsvorrichtung oder ein Elektronenstrahl. Wenn das Gerät zur Belichtung von Wafern für die Halbleiterindustrie verwendet wird, wird ein getrennter Satz von Sensoren 56 in der Nähe der Abbildungsoptik 54 angebracht, die an verschiedenen Stellen direkt auf die Oberfläche des Wafers 35 messen. Die Sensoren werden dazu verwendet, der Waferoberfläche zu folgen, die Unebenheiten aufweisen kann. Diese Sensoren schaffen eine genaue Messung, müssen jedoch nicht so schnell sein wie die inneren Regelschleifensensoren, die hier im folgenden beschrieben werden. Jegliche geeignete Art von berührungsfreien Sensoren, wie beispielsweise Luftspaltfühler, Kappenfühler oder andere Arten von optischen Sensoren sind verwendbar.
- Das Gerät ist wenigsten mit drei inneren elektrooptischen Regelschleifenfokussensoren 58 ausgestattet, die an den Ecken des monolithischen Tisches 10 angebracht sind, sowie mit drei entsprechenden Flachteilen 60, die an der Unterseite des Halteteils 50 angebracht sind. Die Verkippungsposition des monolithischen Tisches wird durch diese drei kurzreichweitigen, berührungsfreien elektrooptischen Sensoren in drei Freiheitsgraden gemessen. In einer Ausführungsart wird ein Strahl von der Spiegeloberfläche des Flachstücks 60 reflektiert, und falls sich der Spiegel näher herbewegt oder wegbewegt, zeigt ein Signal für eine kleine Zelle eine Veränderung, um dadurch Veränderungen durch die kleine Bewegung zwischen den Ecken des monolithischen Tisches und den drei Flachstücken festzustellen. Andere geeignete Arten, wie beispielsweise ein Kappenfühler, wären ebenfalls verwendbar.
- Wenigstens drei Laserfühler-Flachspiegel-Interferometer 62 werden dazu verwendet, die Position des monolithischen Tisches 10 in den drei Freiheitsgraden X, Y und Theta festzustellen. Die Laserfühler 62 hängen an dem Halteteil 50 in einer Lage angrenzend an die Seiten 64 des Blockteils 32. Die Seiten 64 bilden Spiegel aufgrund von reflektierenden Beschichtungen oder von tatsächlich angebrachten Spiegeln. Das heißt, die Interferometer richten Strahlen auf die Seiten, um die X-, Y- und Theta-Bewegung des monolithischen Tisches festzustellen. Theta ist ein Maß der Drehung in der Ebene.
- Es ist offensichtlich, daß die Leistungsfähigkeit des Geräts von den Laserfühlerinterferometern und den Bezugsflachteilen der kurzreichweitigen Sensoren abhängt, und davon, daß die optischen Abbildungsanordnungen auf einem gemeinsamen isolierten Aufbau angebracht sind, wodurch verhindert wird, daß Reaktionslasten des Tisches diese kritischen Komponenten stören.
- Im wesentlichen wird die Position des monolithischen Tisches elektronisch mit einer vom Computer vorgegebenen Sollposition des Tisches verglichen. Der sich ergebende Fehler wird verstärkt an die Stellglieder zurückgeführt. Die Fig. 2 zeigt dies im einzelnen. Zum Zwecke der Klarheit ist eines der Systeme für die sechs Freiheitsgrade dargestellt, nämlich das X- System. Ein Computer oder Profilgenerator 66 wird verwendet. Der Profilgenerator oder die Anweisungsvorrichtung wird so programmiert, daß im voraus die X-Position bekannt ist, bei der der monolithische Tisch sein soll. Ein summierender Knoten 68 empfängt ein X-Positionssignal von dem Profilgenerator 66 und von dem interferometrischen Positionssensor 62. Die Fehlerausgabe aus dem summierenden Knoten 68 läuft durch einen Servokompensationsblock 70 zu einem summierenden Knoten 72. Der Servokompensationsblock dient als ein elektrisches System zur Netzwerkstabilisierung. Ein der Beschleunigung und der Vorschubposition entsprechendes Signal wird aus dem Profilgenerator 66 an den summierenden Knoten 72 abgegeben. Die Ausgabe aus dem summierenden Knoten 72 läuft durch eine Verstärkervorrichtung 74, um das Stellglied 36 anzutreiben.
- Noch unter Bezug auf die Fig. 2 wird das Signal von der Sensoranordnung 48 durch einen Servokompensationsblock 76 zu einem summierenden Knoten 78 geleitet. Der Servokompensationsblock 76 dient als ein elektrisches System zur Netzwerkstabilisierung ähnlich dem Kompensationsblock 70. Ein Beschleunigungs- und Vorschubpositionssignal von dem Profilgenerator 66 wird ebenfalls dem summierenden Knoten 78 zugeleitet. Die Ausgabe aus diesem summierenden Knoten wird durch eine Verstärkervorrichtung 80 an zwei lineare Servomotorstellglieder 24 geleitet.
- Auf ähnliche Weise werden alle Stellglieder durch ihre jeweiligen Sensoren in Verbindung mit Signalen aus dem Profilgenerator gesteuert, um den monolithischen Tisch wie auch den Basistisch zu positionieren.
- Man kann somit erkennen, daß die vorliegende Erfindung in der Tat ein neues und verbessertes Gerät für die Mikrolithographie schafft, wobei die Position des monolithischen Tisches durch die Vibration des Basistisches nicht beeinflußt wird. Damit wird ermöglicht, daß der Basistisch von kostengünstigerer Art ist und ohne Isolation gegen Bodenvibrationen angebracht ist. Alle Reaktionslasten sowohl von dem monolithischen Tisch als auch von dem Basistisch werden direkt auf den Boden übertragen und stören daher nicht den isolierten Aufbau, gegenüber dem die Position des monolithischen Tisches elektrooptisch bestimmt wird.
- Obwohl bestimmte Ausführungsformen der Erfindung hier zum Zwecke der Erläuterung offenbart sind, sind weitere Abwandlungen nach Studium dieser Beschreibung dem Fachmann auf dem einschlägigen Gebiet offensichtlich. Zur Bestimmung des Bereichs der Erfindung sollten demnach die beiliegenden Ansprüche dienen.
Claims (12)
1. Eine elektromagnetische Ausrichtvorrichtung mit:
einem monolithischen Tisch (10), einem Basistisch (12),
einem isolierten Bezugsaufbau (14), einer an dem
Basistisch (12) angebrachten Vorrichtung (36, 46)
einschließlich kontaktloser elektromagnetische Kraftstellglieder
zur Halterung des monolithischen Tisches im Raum an
vorbestimmten Positionen, einer an dem isolierten
Bezugsaufbau angebrachten Vorrichtung (62) zum Feststellen der
Position des monolithischen Tisches (10) und zum Ausgeben
eines entsprechenden Signals an die Vorrichtung (36, 46)
zur Halterung des monolithischen Tisches, und einer
Vorrichtung (48, 24, 30) zum Steuern der Position des
Basistisches (12) derart, daß er der ungefähren Position des
monolithischen Tisches (10) folgt.
2. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 1,
wobei die Vorrichtung (36, 46) zur Halterung des
monolithischen Tisches (10) eine Vorrichtung zum Steuern der
Position des monolithischen Tisches in sechs
Freiheitsgraden enthält.
3. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 2,
wobei die Vorrichtung (48, 24, 30) zum Steuern der
Position des Basistisches eine Vorrichtung zum Steuern der
Position des Basistisches in drei Freiheitsgraden
enthält.
4. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 1,
wobei jedes elektromagnetische Kraftstellglied ein an dem
Basistisch (12) angebrachtes Spulenelement (38) und ein
an dem monolithischen Tisch (10) angebrachtes getrenntes,
berührungsfreies Magnetbauteil (40) enthält.
5. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 2,
wobei die Vorrichtung (62, 48) zum Feststellen der
Position des monolithischen Tisches Laserabstandssensoren
(62) für drei Freiheitsgrade und kurzreichweitige,
berührungsfreie elektrooptische Sensoren (58) für drei
unterschiedliche Freiheitsgrade enthält.
6. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 3,
wobei die Vorrichtung zum Steuern der Position des
Basistischs wenigstens zwei getrennte berührungsfreie Sensoren
und zwei lineare Servomotoren enthält, die funktionell
auf die berührungsfreien Sensoren ansprechen.
7. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 6,
wobei der monolithische Tisch (10) eine Vorrichtung zum
Anbringen eines Halbleiterwafers (35) enthält, und wobei
der isolierte Bezugsaufbau (14) eine Vorrichtung (50) zur
Anbringung einer Abbildungsoptik (54) enthält, und wobei
ein Satz von Sensoren (56) an dem isolierten Bezugsaufbau
(14) angrenzend an die Abbildungsoptik (54) so angebracht
ist, daß die Oberfläche des Wafers (35) zum Einstellen
der Abbildungsoptik betrachtet wird.
8. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 1,
die eine Steuervorrichtung zum Steuern der Position des
monolithischen Tisches enthält, wobei die
Steuervorrichtung eine Vorrichtung (68) zum Vergleich der
festgestellten Position des monolithischen Tisches (10) mit einer
Sollposition des Tisches enthält und ein Fehlersignal an
die Vorrichtung (36) zum Positionieren des monolithischen
Tisches ausgibt.
9. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 8,
wobei die Steuervorrichtung einen Profilgenerator (66),
einen ersten summierenden Knoten (68), der ein
Positionssignal von der Vorrichtung (62) zum Feststellen der
Position des monolithischen Tisches und von dem
Profilgenerator (68) erhält und ein Signal ausgibt, einen zweiten
summierenden Knoten (72), der das von dem ersten
summierenden Knoten (68) ausgegebene Signal empfängt und ein
Beschleunigungsvorschubsignal von dem Profilgenerator
(68) empfängt und ein Signal an die Vorrichtung zur
Positionierung des monolithischen Tisches (10) ausgibt,
enthält.
10. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 9,
wobei die Vorrichtung zum Steuern der Position des
Basistisches (12) wenigstens zwei getrennte berührungsfreie
Sensoren (48) und zwei lineare Servomotoren (24, 30)
enthält, und wobei die Steuervorrichtung einen summierenden
Knoten (78) enthält, der eine Ausgabe aus den
berührungsfreien Sensoren empfängt und ein zweites
Beschleunigungsvorschubsignal von dem Profilgenerator (66) empfängt und
ein Signal an die Servomotoren (24, 30) ausgibt.
11. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 10,
wobei die Vorrichtung (36, 46) zum Haltern des
monolithischen Tisches elektromagnetische Kraftstellglieder
enthält.
12. Elektromagnetische Ausrichtvorrichtung gemäß Anspruch 8
wobei der monolithische Tisch eine Vorrichtung (34) zum
Anbringen eines Halbleiterwafers (35) enthält, und wobei
der isolierte Bezugsaufbau (14) eine Vorrichtung zum
Anbringen einer Abbildungsoptik (52) enthält, und wobei ein
Satz von Sensoren (56) an dem isolierten Bezugsaufbau
angrenzend an die Abbildungsoptik derart angebracht ist,
daß die Oberfläche des Wafers (35) zur Einstellung der
Abbildungsoptik betrachtet wird.
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JP3087305B2 (ja) | 1990-03-05 | 2000-09-11 | 株式会社ニコン | ステージ装置 |
US5504407A (en) * | 1992-02-21 | 1996-04-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage driving system |
US5285142A (en) * | 1993-02-09 | 1994-02-08 | Svg Lithography Systems, Inc. | Wafer stage with reference surface |
US5695683A (en) * | 1993-09-30 | 1997-12-09 | Hoechst Aktiengesellschaft | Ferroelectric liquid crystal mixture |
US6989647B1 (en) | 1994-04-01 | 2006-01-24 | Nikon Corporation | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device |
US7365513B1 (en) | 1994-04-01 | 2008-04-29 | Nikon Corporation | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device |
US5874820A (en) * | 1995-04-04 | 1999-02-23 | Nikon Corporation | Window frame-guided stage mechanism |
US5528118A (en) | 1994-04-01 | 1996-06-18 | Nikon Precision, Inc. | Guideless stage with isolated reaction stage |
JP3484684B2 (ja) * | 1994-11-01 | 2004-01-06 | 株式会社ニコン | ステージ装置及び走査型露光装置 |
US6721034B1 (en) | 1994-06-16 | 2004-04-13 | Nikon Corporation | Stage unit, drive table, and scanning exposure apparatus using the same |
US5850280A (en) | 1994-06-16 | 1998-12-15 | Nikon Corporation | Stage unit, drive table, and scanning exposure and apparatus using same |
US6246204B1 (en) | 1994-06-27 | 2001-06-12 | Nikon Corporation | Electromagnetic alignment and scanning apparatus |
US5623853A (en) * | 1994-10-19 | 1997-04-29 | Nikon Precision Inc. | Precision motion stage with single guide beam and follower stage |
US6008500A (en) * | 1995-04-04 | 1999-12-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame |
US5508518A (en) * | 1995-05-03 | 1996-04-16 | International Business Machines Corporation | Lithography tool with vibration isolation |
TW318255B (de) | 1995-05-30 | 1997-10-21 | Philips Electronics Nv | |
US5760564A (en) * | 1995-06-27 | 1998-06-02 | Nikon Precision Inc. | Dual guide beam stage mechanism with yaw control |
US5780943A (en) * | 1996-04-04 | 1998-07-14 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method |
JPH10521A (ja) * | 1996-06-07 | 1998-01-06 | Nikon Corp | 支持装置 |
US5757160A (en) * | 1996-12-23 | 1998-05-26 | Svg Lithography Systems, Inc. | Moving interferometer wafer stage |
US6509953B1 (en) | 1998-02-09 | 2003-01-21 | Nikon Corporation | Apparatus for exposing a pattern onto an object with controlled scanning |
US6320345B1 (en) * | 1998-03-05 | 2001-11-20 | Nikon Corporation | Command trajectory for driving a stage with minimal vibration |
US6008610A (en) * | 1998-03-20 | 1999-12-28 | Nikon Corporation | Position control apparatus for fine stages carried by a coarse stage on a high-precision scanning positioning system |
US6260282B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-07-17 | Nikon Corporation | Stage control with reduced synchronization error and settling time |
TWI242113B (en) * | 1998-07-17 | 2005-10-21 | Asml Netherlands Bv | Positioning device and lithographic projection apparatus comprising such a device |
US6113056A (en) * | 1998-08-04 | 2000-09-05 | Micrion Corporation | Workpiece vibration damper |
US6069417A (en) * | 1998-08-27 | 2000-05-30 | Nikon Corporation | Stage having paired E/I core actuator control |
EP1143492A4 (de) | 1998-09-03 | 2004-06-02 | Nikon Corp | Belichtungsgerät, belichtungsverfahren, bauelement und dessen herstellungsverfahren |
US6144118A (en) * | 1998-09-18 | 2000-11-07 | General Scanning, Inc. | High-speed precision positioning apparatus |
TW526630B (en) | 1998-11-10 | 2003-04-01 | Asml Netherlands Bv | Actuator and transducer |
US6147421A (en) * | 1998-11-16 | 2000-11-14 | Nikon Corporation | Platform positionable in at least three degrees of freedom by interaction with coils |
US6208045B1 (en) | 1998-11-16 | 2001-03-27 | Nikon Corporation | Electric motors and positioning devices having moving magnet arrays and six degrees of freedom |
US6525802B1 (en) | 1999-11-05 | 2003-02-25 | Nikon Corporation | Kinematic mounted reference mirror with provision for stable mounting of alignment optics |
US6355994B1 (en) | 1999-11-05 | 2002-03-12 | Multibeam Systems, Inc. | Precision stage |
US20030024913A1 (en) * | 2002-04-15 | 2003-02-06 | Downes Joseph P. | Laser scanning method and system for marking articles such as printed circuit boards, integrated circuits and the like |
US6437463B1 (en) | 2000-04-24 | 2002-08-20 | Nikon Corporation | Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage |
US6405659B1 (en) | 2000-05-01 | 2002-06-18 | Nikon Corporation | Monolithic stage |
US6483071B1 (en) * | 2000-05-16 | 2002-11-19 | General Scanning Inc. | Method and system for precisely positioning a waist of a material-processing laser beam to process microstructures within a laser-processing site |
US6452292B1 (en) | 2000-06-26 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Planar motor with linear coil arrays |
US6445093B1 (en) | 2000-06-26 | 2002-09-03 | Nikon Corporation | Planar motor with linear coil arrays |
US6504162B1 (en) | 2000-09-15 | 2003-01-07 | Nikon Corporation | Stage device, control system, and method for stabilizing wafer stage and wafer table |
US6717159B2 (en) | 2000-10-18 | 2004-04-06 | Nikon Corporation | Low distortion kinematic reticle support |
US6686991B1 (en) | 2000-11-06 | 2004-02-03 | Nikon Corporation | Wafer stage assembly, servo control system, and method for operating the same |
US20020137358A1 (en) * | 2001-02-08 | 2002-09-26 | Mike Binnard | Multiple point support assembly for a stage |
US6538720B2 (en) * | 2001-02-28 | 2003-03-25 | Silicon Valley Group, Inc. | Lithographic tool with dual isolation system and method for configuring the same |
US6777645B2 (en) * | 2001-03-29 | 2004-08-17 | Gsi Lumonics Corporation | High-speed, precision, laser-based method and system for processing material of one or more targets within a field |
US6529260B2 (en) | 2001-05-03 | 2003-03-04 | Nikon Corporation | Lifting support assembly for an exposure apparatus |
US6750625B2 (en) | 2001-08-15 | 2004-06-15 | Nikon Corporation | Wafer stage with magnetic bearings |
US6842226B2 (en) * | 2001-09-21 | 2005-01-11 | Nikon Corporation | Flexure supported wafer table |
US6597435B2 (en) | 2001-10-09 | 2003-07-22 | Nikon Corporation | Reticle stage with reaction force cancellation |
US6879127B2 (en) | 2002-02-12 | 2005-04-12 | Nikon Corporation | 3-ring magnetic anti-gravity support |
US6784978B2 (en) * | 2002-03-12 | 2004-08-31 | Asml Holding N.V. | Method, system, and apparatus for management of reaction loads in a lithography system |
US7015418B2 (en) * | 2002-05-17 | 2006-03-21 | Gsi Group Corporation | Method and system for calibrating a laser processing system and laser marking system utilizing same |
US6757110B2 (en) * | 2002-05-29 | 2004-06-29 | Asml Holding N.V. | Catadioptric lithography system and method with reticle stage orthogonal to wafer stage |
WO2004012260A1 (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-05 | Tamura Corporation | 精密加工用ステージ装置 |
TWI295854B (en) * | 2002-11-19 | 2008-04-11 | Adv Lcd Tech Dev Ct Co Ltd | Method and apparatus for exposing or forming pattern on thin substrate or the like |
JP2006510182A (ja) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 高い位置正確性で物体を処理するための装置 |
US20040119964A1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-06-24 | Nikon Corporation | Double isolation fine stage |
JP4362862B2 (ja) * | 2003-04-01 | 2009-11-11 | 株式会社ニコン | ステージ装置及び露光装置 |
US6950175B2 (en) * | 2003-06-02 | 2005-09-27 | Asml Holding N.V. | System, method, and apparatus for a magnetically levitated and driven reticle-masking blade stage mechanism |
US6906789B2 (en) * | 2003-06-02 | 2005-06-14 | Asml Holding N.V. | Magnetically levitated and driven reticle-masking blade stage mechanism having six degrees freedom of motion |
JP4484621B2 (ja) | 2003-08-04 | 2010-06-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
WO2006007167A2 (en) * | 2004-06-17 | 2006-01-19 | Nikon Corporation | Magnetic levitation lithography apparatus and method |
US20060061751A1 (en) * | 2004-09-21 | 2006-03-23 | Ting-Chien Teng | Stage assembly including a stage having increased vertical stroke |
JP2008519456A (ja) * | 2004-11-04 | 2008-06-05 | 株式会社ニコン | 精密ステージのz支持装置 |
US20080029682A1 (en) * | 2005-11-04 | 2008-02-07 | Nikon Corporation | Fine stage "Z" support apparatus |
US20080024749A1 (en) * | 2006-05-18 | 2008-01-31 | Nikon Corporation | Low mass six degree of freedom stage for lithography tools |
US20070267995A1 (en) * | 2006-05-18 | 2007-11-22 | Nikon Corporation | Six Degree-of-Freedom Stage Apparatus |
US7728462B2 (en) * | 2006-05-18 | 2010-06-01 | Nikon Corporation | Monolithic stage devices providing motion in six degrees of freedom |
US20080111977A1 (en) * | 2006-11-14 | 2008-05-15 | Asml Holding N.V. | Compensation techniques for fluid and magnetic bearings |
US20080285004A1 (en) * | 2007-05-18 | 2008-11-20 | Nikon Corporation | Monolithic, Non-Contact Six Degree-of-Freedom Stage Apparatus |
CN100507724C (zh) * | 2007-06-29 | 2009-07-01 | 清华大学 | 一种6自由度微动工作台 |
NL2004847A (en) * | 2009-06-30 | 2011-01-04 | Asml Holding Nv | Method for controlling the position of a movable object, a control system for controlling a positioning device, and a lithographic apparatus. |
CN102114600B (zh) * | 2009-12-30 | 2012-07-18 | 财团法人金属工业研究发展中心 | 超精密压电定位平台 |
NL2008007A (en) | 2011-01-20 | 2012-07-23 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
ES2635499T3 (es) | 2011-04-06 | 2017-10-04 | Depuy Synthes Products Llc | Prótesis de cadera ortopédica modular |
JP2013036941A (ja) * | 2011-08-10 | 2013-02-21 | Yamaha Corp | 磁気センサの検査装置及び検査方法 |
CN103252761B (zh) * | 2013-04-28 | 2015-11-11 | 合肥工业大学 | 具有角度补偿功能的大行程二维纳米工作台系统 |
KR20180029145A (ko) * | 2016-09-09 | 2018-03-20 | 삼성전자주식회사 | 기판 처리 장치 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US27289A (en) * | 1860-02-28 | Island | ||
US27436A (en) * | 1860-03-13 | Kaitge | ||
FR1602768A (en) * | 1968-12-20 | 1971-01-25 | Accurate alignment of multilayer unfired - ceramic sheets | |
US3789285A (en) * | 1972-03-27 | 1974-01-29 | Handotai Kenkyu Shinkokai | Position control system using magnetic force |
US3889164A (en) * | 1973-01-24 | 1975-06-10 | Handotai Kenkyu Shinkokai | Position control system using magnetic forces for correcting the inclination of a controlled member including a torsional mounting |
JPS553679B2 (de) * | 1973-08-27 | 1980-01-26 | ||
US4019109A (en) * | 1974-05-13 | 1977-04-19 | Hughes Aircraft Company | Alignment system and method with micromovement stage |
JPS51123565A (en) * | 1975-04-21 | 1976-10-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Three-dimention-position differential adjustment of processing article |
US4687980A (en) * | 1980-10-20 | 1987-08-18 | Eaton Corporation | X-Y addressable workpiece positioner and mask aligner using same |
US4443743A (en) * | 1978-10-05 | 1984-04-17 | Mcdonnell Douglas Corporation | Two axis actuator |
US4506204A (en) * | 1983-06-10 | 1985-03-19 | The Perkin-Elmer Corporation | Electro-magnetic apparatus |
US4507597A (en) * | 1983-06-10 | 1985-03-26 | The Perkin-Elmer Corporation | Electro-magnetic alignment assemblies |
US4485339A (en) * | 1983-06-10 | 1984-11-27 | The Perkin-Elmer Corporation | Electro-magnetic alignment device |
US4506205A (en) * | 1983-06-10 | 1985-03-19 | The Perkin-Elmer Corporation | Electro-magnetic alignment apparatus |
DE3343886A1 (de) * | 1983-12-05 | 1985-06-13 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Drehanoden-roentgenroehre mit einem gleitlager |
FR2566987B1 (fr) * | 1984-06-29 | 1986-10-10 | Thomson Cgr | Dispositif radiologique a asservissement en position de foyer |
US4742286A (en) * | 1985-10-29 | 1988-05-03 | Micro-Stage, Inc. | Gas bearing X-Y-θ stage assembly |
NL8601095A (nl) * | 1986-04-29 | 1987-11-16 | Philips Nv | Positioneerinrichting. |
-
1988
- 1988-05-18 US US07/198,545 patent/US4952858A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-05-15 CA CA000599723A patent/CA1304173C/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-17 EP EP89108854A patent/EP0342639B2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-17 DE DE68925233T patent/DE68925233T3/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-18 JP JP1123023A patent/JP2871722B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0342639B1 (de) | 1995-12-27 |
CA1304173C (en) | 1992-06-23 |
JP2871722B2 (ja) | 1999-03-17 |
EP0342639A3 (de) | 1991-06-26 |
EP0342639B2 (de) | 2002-01-02 |
EP0342639A2 (de) | 1989-11-23 |
US4952858A (en) | 1990-08-28 |
DE68925233D1 (de) | 1996-02-08 |
JPH0235709A (ja) | 1990-02-06 |
DE68925233T2 (de) | 1996-05-15 |
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