DE602005004562T2 - Verfahren zur herstellung einer rfid-antenne - Google Patents

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Description

  • GEBIET DER ERFINDUNG
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Antennenstruktur.
  • Die Erfindung betrifft weiterhin einen Datenträger.
  • AUSGANGSSITUATION DER ERFINDUNG
  • Es ist bekannt, Antennen von berührungslosen Datenträgern, wie beispielsweise Chipkarten, mittels eines Ätzverfahrens herzustellen, bei dem von einem Substrat, das auf einer Oberfläche ein elektrisch leitfähiges Material, wie beispielsweise Kupfer oder Aluminium, aufweist, all jene Bereiche des leitfähigen Materials, die nicht Teil der zu bildenden Antennenstruktur sind, weggeätzt werden und der verbleibende Teil des leitfähigen Materials die Antennenstruktur bildet. Dazu werden zunächst die Bereiche des elektrisch leitfähigen Materials, welche die Antennenstruktur bilden sollen, mit einem säurebeständigen Fotolack oder dergleichen überzogen, und anschließend wird das leitfähige Material mit Säure in Kontakt gebracht, um den Ätzvorgang durchzuführen. Da bei diesem Herstellungsverfahren Material entfernt wird, wird es als ein „subtraktiver" Prozess bezeichnet. Als ein weiteres Beispiel für einen subtraktiven Prozess kann das in dem Patentdokument US-20030112202 A1 beschriebene Antennen-Stanzverfahren genannt werden, bei dem die Antenne aus einer flachen, elektrisch leitfähigen Verbundfolie mittels eines Stanzwerkzeugs, dessen Schneidkanten die Umrisse der herzustellenden Antenne definieren, ausgestanzt wird.
  • Weiterhin ist bekannt, eine Antenne auf ein elektrisch isolierendes Substrat aufzudrucken, wobei das Druckmaterial eine Silberpaste ist, die einen relativ hohen spezifischen Widerstand aufweist, und in einem zweiten Schritt ein hochleitfähiges Material, wie beispielsweise Kupfer, durch galvanisches Abscheiden auf die aufgedruckte Silberpaste aufzubringen, um eine insgesamt ausreichend gute elektrische Leitfähigkeit der Antenne zu erreichen. Ein Problem ist dabei jedoch, dass sich bei dem Vorgang des galvanischen Abscheidens aufgrund der beträchtlichen Länge der Antenne (bis zu 1 m) und des relativ hohen spezifischen elektrischen Widerstands der Silberpaste wesentlich mehr Material an den Enden der Antenne anlagert als in ihrem Mittenbereich. Da bei diesem Prozess zur Herstel lung einer Antennenstruktur dem Basissubstrat Material hinzugefügt wird, wird er als ein „additiver" Prozess bezeichnet. Um im Fall des genannten additiven Herstellungsprozesses den Nachteil der ungleichen Stromverteilung in der Antenne zu mindern, wird in dem Patentdokument US-20030011523 A1 vorgeschlagen, zur besseren Stromverteilung in der Antenne während des Vorgangs des galvanischen Abscheidens einen temporären Kurzschlussbügel quer über die Windungen der Antennenstruktur anzulegen und nach erfolgtem galvanischen Abscheiden den Kurzschlussbügel wieder zu entfernen. Trotz dieser Maßnahme ist die Stromverteilung in der Antennenstruktur noch nicht optimal, und eine Massenproduktion mit großen Substratbreiten ist schwierig. Ein weiterer Nachteil dieses bekannten Verfahrens zur Herstellung einer Antennenstruktur ist, dass direkt an dem Substrat gearbeitet werden muss, wodurch die Fehleranfälligkeit steigt.
  • In einem weiteren Patentdokument US 2003/091789-A1 ist ein Verfahren zur Fertigung leitfähiger Schaltungen unter Verwendung von Metallpulvern offenbart.
  • AUFGABE UND ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Eine Aufgabe der Erfindung ist, ein Verfahren zur Herstellung einer Antennenstruktur der im ersten Absatz genannten Art und einen Datenträger der im zweiten Absatz genannten Art bereitzustellen, wobei die vorstehend angegebenen Nachteile vermieden werden.
  • Um die vorstehend genannte Aufgabe zu lösen, sind bei einem erfindungsgemäßen Antennenstruktur-Herstellungsverfahren erfindungsgemäße Merkmale vorgesehen, sodass ein erfindungsgemäßes Verfahren durch Folgendes gekennzeichnet sein kann: Verfahren zur Herstellung einer Antennestruktur, wobei das Verfahren umfasst:
    • a) Bereitstellen eines Prozessträgers,
    • b) Aufbringen einer Prozessträger-Beschichtung auf eine Arbeitsfläche des Prozessträgers,
    • c) Erzeugen eines Negativs der Antennenstruktur in der Prozessträger-Beschichtung durch Entfernen entsprechender Bereiche der Prozessträger-Beschichtung entlang den Umrissen der zu erzeugenden Antennenstruktur,
    • d) Einbringen eines Trennmittels in die Negativ-Antennenstruktur der Prozessträger-Beschichtung,
    • e) Einbringen eines elektrisch leitfähigen Antennenmaterials in die Negativ-Antennenstruktur der Prozessträger-Beschichtung, optional gefolgt vom Aushärten des Antennenmaterials,
    • f) Verbinden des Antennenmaterials mit einem Antennensubstrat mittels eines Klebers,
    • g) Abziehen der mit dem Antennensubstrat verbundenen und aus dem Antennenmaterial gefertigten Antennenstruktur von dem Prozessträger.
  • Um die vorstehend genannte Aufgabe zu lösen, wird ein derartiger Datenträger mit einer Antennenstruktur versehen, die gemäß dem erfindungsgemäßen Antennenstruktur-Herstellungsverfahren hergestellt ist.
  • Aufgrund der erfindungsgemäßen Merkmale muss bei der Herstellung der Antennenstruktur nur wenig Material entfernt werden. Das erfindungsgemäße Antennenstruktur-Herstellungsverfahren ist ein additives Verfahren. Im Gegensatz zu den bekannten additiven Verfahren wird jedoch ohne die Verwendung zusätzlicher Hilfsmittel, wie beispielsweise Kurzschlussbügel, eine gleichmäßige Menge elektrisch leitfähigen Materials über die gesamte Länge der Antenne aufgebracht. Das erfindungsgemäße Antennenstruktur-Herstellungsverfahren kann darüber hinaus als ein kontinuierliches Herstellungsverfahren in großindustriellen Prozessen umgesetzt werden.
  • Es sei erwähnt, dass das Patentdokument WO 03/107266 A1 ein Verfahren zur Herstellung von Antennen für RFID-Transponder (RFID = Radio Frequency Identification, Funkfrequenzidentifizierung) offenbart, bei dem ein elektrisch hochleitfähiger Film mittels eines Trockenklebers auf einen Zwischenträger aufgebracht wird, anschließend bis zur halben Tiefe des Films die Form der herzustellenden Antenne in den Film geschnitten wird und daraufhin jene Bereiche des Films, die zur Ausbildung der Antenne beibehalten werden sollen, mit einem hochfesten Kleber beschichtet und auf den endgültigen Antennenträger aufgepresst werden. Nachdem sich der Kleber verfestigt hat, kann der Zwischenträger abge zogen werden, sodass nur noch die die Antenne bildenden Abschnitte des Films auf dem endgültigen Träger kleben bleiben, während die überflüssigen Bereiche des Films zusammen mit dem Zwischenträger entfernt werden. Dieser Antennenherstellungsprozess ist materialaufwändig, da der gesamte Zwischenträger und der größte Teil des Films nach dem Entfernen Abfall darstellen und dieser Abfall aufgrund seiner Verklebung darüber hinaus schwer in seine einzelnen Komponenten trennbar ist. Diese Technik unterscheidet sich beträchtlich von dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung einer Antennenstruktur.
  • Gemäß den Maßnahmen nach Anspruch 2 wird der Vorteil erlangt, dass das Trennmittel auf der Oberfläche der Antennenstruktur verbleibt und als eine Schutzschicht für die Antennenstruktur wirken kann.
  • Gemäß den Maßnahmen nach Anspruch 3 wird der Vorteil erlangt, dass das Trennmittel zur Herstellung einer großen Anzahl von Antennen verwendet werden kann, wodurch ein sehr ressourcensparendes Herstellungsverfahren sichergestellt wird.
  • Gemäß den Maßnahmen nach Anspruch 4 wird der Vorteil erlangt, dass das elektrisch leitfähige Antennenmaterial mittels eines technologisch ausgereiften Galvanisierungsprozesses aufgebracht werden kann.
  • Gemäß den Maßnahmen nach Anspruch 5 wird der Vorteil erlangt, dass das Einbringen des elektrisch leitfähigen Antennenmaterials sehr rasch vonstatten geht und die Antennenstruktur somit in kurzer Zeit hergestellt werden kann.
  • Gemäß den Maßnahmen nach Anspruch 6 wird der Vorteil erlangt, dass der Antennenstruktur-Herstellungsprozess als Rotationsprozess konfiguriert werden kann, was eine sehr hohe Herstellungsgeschwindigkeit bei geringem Maschinenplatzbedarf bedeutet.
  • Gemäß den Maßnahmen nach Anspruch 8 wird der Vorteil erlangt, dass das Verfahren sehr materialsparend und damit kostengünstig durchgeführt werden kann.
  • Die vorstehend genannten und weitere Aspekte der Erfindung gehen aus dem nachfolgend beschriebenen Ausführungsbeispiel hervor und sind unter Bezugnahme auf dieses Ausführungsbeispiel erläutert.
  • KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Die Erfindung wird unter Bezugnahme auf ein in den Zeichnungen gezeigtes Ausführungsbeispiel beschrieben, auf das die Erfindung jedoch nicht beschränkt ist.
  • 1 zeigt ein Schema des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer Antennenstruktur.
  • 2 zeigt schematisch den Verfahrensschritt des Einbringens eines elektrisch leitfähigen Antennenmaterials mittels eines Galvanisierungsprozesses.
  • 3 zeigt schematisch eine weitere Ausführungsform des Verfahrensschritts des Einbringens eines elektrisch leitfähigen Antennenmaterials.
  • 4 zeigt eine Draufsicht eines RFID-Datenträgers, umfassend eine erfindungsgemäß hergestellte Antennenstruktur.
  • BESCHREIBUNG VON AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • 1 zeigt ein Schema des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer Antennenstruktur, anhand dessen die Erfindung im Folgenden erläutert wird. In Schritt a) des erfindungsgemäßen Antennenstruktur-Herstellungsverfahrens wird ein Prozessträger 1 bereitgestellt, der ausreichende Widerstandsfähigkeit gegen mechanische, thermische und chemische Beanspruchung aufweist. Geeignete Materialien für den Prozessträger 1 schließen zum Beispiel Kupfer, Stahl, Aluminium oder Legierungen, welche die vorgenannten Materialien als Bestandteil umfassen, ein. Auf eine Arbeitsfläche 1a des Prozessträgers 1 wird in Schritt b) eine Prozessträger-Beschichtung 2 aufgebracht, deren Dicke D etwa der Dicke der herzustellenden Antennenstruktur entspricht und typischerweise im Bereich von einigen μm bis einigen 1/10 mm liegt Auch für die Prozessträger-Beschichtung 2 gilt die Anforderung an ausreichende Widerstandsfähigkeit gegen mechanische, thermische und chemische Beanspruchung im Verlauf des Verfahrens. Geeignete Materialien für die Prozessträger-Beschichtung 2 umfassen zum Beispiel Lacke, Polytetrafluorethylen-(PTFE-)Schichten sowie Kunststofffolien und -platten. In Schritt c) wird in der Prozessträger-Beschichtung 2 ein Negativ 3 der herzustellenden Antennenstruktur durch Entfernen von Bereichen der Prozessträger-Beschichtung 2, die den Umrissen der Antennenstruktur entsprechen, angefertigt. Die entsprechenden Bereiche der Prozessträger- Beschichtung 2 können durch chemische (zum Beispiel Ätzen) oder mechanische Prozesse entfernt werden, wobei mechanische Prozesse zum Beispiel Schneiden (einschließlich Laser-Schneiden), Fräsen und Stanzen einschließen. Es sei erwähnt, dass es erfindungsgemäß auch möglich ist, die Verfahrensschritte b) und c) in ihrer zeitlichen Reihenfolge zu vertauschen. Insbesondere bei Stanzen des Negativs 3 der herzustellenden Antennenstruktur in eine durch eine Kunststofffolie oder Kunststoffplatte gebildeten Prozessträger-Beschichtung 2 wird zuerst der Stanzvorgang durchgeführt und anschließend die das Negativ 3 enthaltende Prozessträger-Beschichtung 2 auf den Prozessträger 1 aufgebracht.
  • In Schritt d) wird daraufhin ein Trennmittel 4 in die Negativ-Antennenstruktur 3 der Prozessträger-Beschichtung eingebracht. Das Trennmittel 4 ermöglicht es, die fertige Antennenstruktur in einem anschließenden Verfahrensschritt von dem Prozessträger 1 und der Prozessträger-Beschichtung 2 zu lösen. Als vorteilhaftes Material für das Trennmittel 4 hat sich Graphitpulver erwiesen.
  • In Schritt e) des erfindungsgemäßen Antennenstruktur-Herstellungsverfahrens wird ein elektrisch leitfähiges Antennenmaterial 5 in die Negativ-Antennenstruktur 3 der Prozessträger-Beschichtung 2 eingebracht, gegebenenfalls gefolgt vom Aushärten des Antennenmaterials 5.
  • Das Einbringen des elektrisch leitfähigen Antennenmaterials 5 in die Negativ-Antennenstruktur 3 kann bevorzugt durch einen in 2 schematisch gezeigten Galvanisierungsprozess erfolgen. Der aus dem Prozessträger 1 und der die Negativ-Antennenstruktur enthaltenden Prozessträger-Beschichtung 2 bestehende Komplex wird in ein Elektrolytbecken 10 eingetaucht, das eine Elektrolytflüssigkeit 11 enthält. Der Prozessträger 1 ist als ein Zylinder ausgebildet. Eine Gleichspannungsquelle 12 ist mit ihrem negativen Pol an den Prozessträger 1 und mit ihrem positiven Pol an die Elektrolytflüssigkeit 11 angeschlossen, die gelöste Teilchen (Ionen) des Antennenmaterials 5 enthält. Aufgrund des Anlegen der elektrischen Spannung wandern die in der Elektrolytflüssigkeit 11 enthaltenen Ionen des Antennenmaterials 5 zu der Negativ-Antennenstruktur 3 und lagern sich darin ab. Das Antennenmaterial 5 umfasst elektrisch hochleitfähige Materialien, bevorzugt Metalle, wie beispielsweise Kupfer oder Aluminium. Damit es möglich ist, das beschriebene Galvanisierungsverfahren durchzuführen, müssen die folgenden Voraussetzungen erfüllt sein: Der Prozessträger 1 und das Trennmittel 4 müssen aus elektrisch leitfähigem Material bestehen, während die Prozessträger-Beschichtung 2 aus elektrisch isolierendem Material besteht. Das Erzeugen eines Negativs 3 der Antennenstruktur in der Prozessträger-Beschichtung 2 wird so durchgeführt, dass die Bereiche der Prozessträger-Beschichtung 2, welche die zu erzeugende Antennenstruktur definieren, durch die gesamte Dicke D der Prozessträger-Beschichtung 2 hindurch entfernt werden, sodass in diesen Bereichen die Arbeitsfläche 1a des Prozessträgers 1 freigelegt ist und mit dem leitfähigen Trennmittel 4 überzogen werden kann. Da somit in der Negativ-Antennenstruktur 3 ein elektrisch leitfähiger Kontakt zwischen dem Trennmittel 4 und der Elektrolytflüssigkeit 11 besteht, ist das galvanische Abscheiden des Antennenmaterials 5 in die Negativ-Antennenstruktur 3 sichergestellt.
  • 3 zeigt schematisch eine alternative Ausführungsform von Schritt e) des Einbringens des elektrisch leitfähigen Antennenmaterials 5 in die Negativ-Antennenstruktur 3. Das elektrisch leitfähige Antennenmaterial 5 wird in Form einer Lötpaste, gegebenenfalls auch eines Lötpulvers, in die Negativ-Antennenstruktur 3 der Prozessträger-Beschichtung 2 eingebracht, wobei das Einbringen durch Drucken, Einspritzen oder dergleichen erfolgen kann. Im Gegensatz zu der nach dem Stand der Technik verwendeten Silberpaste weist die Lötpaste hervorragende elektrische Leitfähigkeit auf und muss daher nicht nachträglich mit anderen leitfähige Materialien beschichtet werden. Damit sich die Lötpaste gleichmäßig in der Negativ-Antennenstruktur 3 verteilt, wird sie über ihren Schmelzpunkt erhitzt (schematisch gezeigt durch Bestrahlung mit Wärmestrahlung T aus der Elektroheizung 13) und anschließend durch Abkühlen ausgehärtet. Es sei erwähnt, dass es bei dieser Variante des Verfahrensschritts des Einbringens des elektrisch leitfälligen Antennenmaterials 5 in die Negativ-Antennenstruktur 3 nicht erforderlich ist, dass der Prozessträger 1 und/oder das Trennmittel 4 elektrisch leitfähig sind, da kein galvanisches Ab scheiden durchgeführt wird. Ebenso wenig ist es erforderlich, dass die Prozessträger-Beschichtung 2 elektrisch isolierend ist.
  • Unter erneuter Bezugnahme auf 1 erfolgt als nächster Schritt in dem erfindungsgemäßen Antennenstruktur-Herstellungsverfahren das Aufbringen eines Klebers 6 auf das Antennenmaterial 5 (in der Zeichnung als Schritt f1 gezeigt) und das Aufpressen eines Antennensubstrats 7 auf die freiliegenden Flächen des Klebers 6. Der Kleber kann vorteilhaft durch einen Rollenprozess aufgebracht werden. Die Art des Klebers ist nicht näher eingeschränkt, zum Beispiel können Trockenkleber, aufzudrückende Kleber, Folien, die unter erhöhter Temperatur Adhäsionskraft entwickeln (Heißklebefolien), flüssige Kleber oder UV-härtende Kleber verwendet werden. Es sei erwähnt, dass der Kleber 6 erfindungsgemäß auch zuerst auf das Antennensubstrat 7 aufgebracht und der Verbund aus Antennensubstrat 7 und Kleber anschließend auf das Antennenmaterial 5 geklebt werden kann. Geeignete Materialien für das Antennensubstrat 7 schließen zum Beispiel Papier und Kunststofffolien oder -platten, die aus PVC, PA, PE oder dergleichen gefertigt sind, ein. Textilien sind ebenfalls als Antennensubstrat 7 geeignet, sodass die erfindungsgemäße Antennenstruktur auch in Etiketten eingebaut werden kann.
  • Das erfindungsgemäße Antennenstruktur-Herstellungsverfahren wird anschließend durch Schritt g) des Abziehens der mit dem Antennensubstrat 7 verbundenen und durch das Antennenmaterial 5 gebildeten Antennenstruktur 16 von dem Prozessträger 1 vervollständigt.
  • Unter erneuter Bezugnahme auf Schritt d) des erfindungsgemäßen Antennenstruktur-Herstellungsverfahrens sei erwähnt, dass die Adhäsionskraft, die das Trennmittel 4 an den Prozessträger 1 und die Prozessträger-Beschichtung 2 einerseits und das Antennenmaterial 5 andererseits bindet, entweder so eingestellt werden kann, dass bei Abziehen des als eine Antennenstruktur ausgebildeten Antennenmaterials 5 von dem Prozessträger 1 das Trennmittel 4 ebenfalls abgezogen wird, oder so, dass das bei Abziehen des als eine Antennenstruktur ausgebildeten Antennenmaterials 5 von dem Prozessträger 1 das Trennmittel 4 auf dem Prozessträger 1 und gegebenenfalls an der Prozessträger-Beschichtung 2 verbleibt. Im letztgenannten Fall kann das Trennmittel 4 zur aufeinanderfolgenden Herstellung einer Anzahl von Antennenstrukturen verwendet werden.
  • 4 zeigt in Draufsicht einen RFID-Datenträger 14, der auf einem Datenträgersubstrat 15 angeordnet und mit einer Antennenstruktur 16 verbunden ist, die gemäß dem erfindungsgemäßen Antennenstruktur-Herstellungsverfahren hergestellt wurde. Die Antennenstruktur 16 kann sich auf einem eigenen Antennensubstrat befinden, das mit dem Datenträgersubstrat 15 verbunden ist. Vorteilhaft wird jedoch das Datenträgersubstrat 15 auch als ein Antennensubstrat für die Antennenstruktur 16 verwendet.

Claims (8)

  1. Verfahren zur Herstellung einer Antennenstruktur (16) für RFID, wobei das Verfahren umfasst: a) Bereitstellen eines Prozessträgers (1), b) Aufbringen einer Prozessträger-Beschichtung (2) auf eine Arbeitsfläche (1a) des Prozessträgers (1), c) Erzeugen eines Negativs (3) der Antennenstruktur in der Prozessträger-Beschichtung (2) durch Entfernen entsprechender Bereiche der Prozessträger-Beschichtung entlang den Umrissen der zu erzeugenden Antennenstruktur, und gekennzeichnet durch d) Einbringen eines Trennmittels (4) in die Negativ-Antennenstruktur (3) der Prozessträger-Beschichtung, e) Einbringen eines elektrisch leitfähigen Antennenmaterials (5) in die Negativ-Antennenstruktur (3) der Prozessträger-Beschichtung (2), optional gefolgt vom Aushärten des Antennenmaterials (5), f) Verbinden des Antennenmaterials (5) mit einem Antennensubstrat (7) mittels eines Klebers (6), g) Abziehen der mit dem Antennensubstrat (7) verbundenen und aus dem Antennenmaterial (5) gefertigten Antennenstruktur (16) von dem Prozessträger (1).
  2. Antennenstruktur-Herstellungsverfahren nach Anspruch 1, wobei bei Abziehen der Antennenstruktur (16) von dem Prozessträger (1) das Trennmittel (4) ebenfalls abgezogen wird.
  3. Antennenstruktur-Herstellungsverfahren nach Anspruch 1, wobei bei Abziehen der Antennenstruktur (16) von dem Prozessträger (1) das Trennmittel (4) auf dem Prozessträger (1) und gegebenenfalls an der Prozessträger-Beschichtung (2) verbleibt.
  4. Antennenstruktur-Herstellungsverfahren nach Anspruch 1, wobei der Prozessträger (1) und das Trennmittel (4) elektrisch leitfähig sind, die Prozessträger-Beschichtung (2) elektrisch isolierend ist, das Erzeugen eines Negativs (3) der Antennenstruktur in der Prozessträger-Beschichtung (2) das Entfernen entsprechender Bereiche der Prozessträger-Beschichtung gemäß der zu erzeugenden Antennenstruktur bis hinab zu der Prozessträger-Arbeitsfläche (1a) umfasst, das Trennmittel (4) auf die Prozessträger-Arbeitsfläche (1a) aufgebracht wird, und das Einbringen des elektrisch leitfähigen Antennenmaterials (5) in die Negativ-Antennenstruktur (3) das galvanische Abscheiden des Antennenmaterials (5) in die Negativ-Antennenstruktur umfasst.
  5. Antennenstruktur-Herstellungsverfahren nach Anspruch 1, wobei das Einbringen eines elektrisch leitfähigen Antennenmaterials (5) in die Negativ-Antennenstruktur (3) der Prozessträger-Beschichtung (2) das Einbringen einer Lötpaste, das Schmelzen der Lötpaste zur gleichmäßigen Verteilung in der Negativ-Antennenstruktur und das Aushärten der geschmolzenen Lötpaste umfasst.
  6. Antennenstruktur-Herstellungsverfahren nach Anspruch 1, wobei der Prozessträger (1) als ein Zylinder ausgebildet ist.
  7. Datenträger (14), umfassend eine Antennenstruktur (16), die nach einem der Ansprüche 1 bis 6 hergestellt ist.
  8. Datenträger nach Anspruch 7, umfassend ein Datenträgersubstrat (15), das gleichzeitig als ein Antennensubstrat dient.
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