DE602005003545T2

DE602005003545T2 - Plasmaanzeigetafel

Info

Publication number: DE602005003545T2
Application number: DE602005003545T
Authority: DE
Inventors: Min Kiheung-Eup Yongin-City Hur; Jae-Rok Kiheung-Eup Yongin-City Kim
Original assignee: Samsung SDI Co Ltd
Current assignee: Samsung SDI Co Ltd
Priority date: 2005-01-20
Filing date: 2005-08-01
Publication date: 2008-10-23
Anticipated expiration: 2025-08-02
Also published as: CN1808674A; EP1684322A1; EP1684322B1; JP2006202719A; JP4288258B2; KR100599630B1; DE602005003545D1; US20060158112A1

Description

GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Plasmaanzeigetafel, insbesondere eine Plasmaanzeigetafel, die ausgebildet ist, eine Entladungszündspannung zu reduzieren und die Lichtausbeute zu erhöhen.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Plasmaanzeigetafeln (PDP) umfassen Plasmaanzeigetafelvorrichtungen mit Oberflächenentladung und Plasmaanzeigetafelvorrichtungen mit Gegenelektrodenentladung. In Strukturen mit Oberflächenentladung ist ein Paar von Elektroden, welche an einer Erhaltungsentladung beteiligt sind, in der selben Ebene in einer Richtung, die senkrecht zu einem vorderen und hinteren Substrat verläuft, ausgebildet. Dadurch findet die Erhaltungsentladung zwischen zwei Bereichen in der selben Ebene statt, wobei die zwei Bereiche mit dem Paar von Elektroden korrespondieren und voneinander entfernt angeordnet sind. In Gegenelektrodenstrukturen ist das Paar von Elektroden, die an der Erhaltungsentladung beteiligt sind, dagegen in zueinander entgegengesetzter Richtung angeordnet. Dadurch findet die Erhaltungsentladung zwischen den gegenüberliegenden Flächen des Paares von Elektroden statt.
Eine Plasmaanzeigetafel vom Drei-Elektroden-Oberflächenentladungstyp weist ein Substrat auf, welches Sustain-Elektroden und Ansteuerelektroden auf einer Oberfläche des Substrats aufweist, wobei die Plasmaanzeigetafel vom Drei-Elektroden-Oberflächenentladungstyp ein weiteres Substrat aufweist, welches Adresselektroden aufweist, die senkrecht zu den Sustain-Elektroden und den Ansteuerelektroden angeordnet sind. Ein zwischen den Substraten ausgebildeter Raum ist mit Entladungsgas gefüllt und abgedichtet. Die Entladung der Plasmaanzeigetafel wird durch die Entladung der Adresselektroden und der Ansteuerelektroden, die unabhängig voneinander gesteuert werden, bestimmt. Eine Erhaltungsentladung zur Anzeige eines Bildes wird durch die Sustain-Elektroden und die Ansteuerelektroden, die auf dem selben Substrat ausgebildet sind, erzeugt.
Im Allgemeinen erzeugt die Plasmaanzeigetafel mittels einer Glimmentladung sichtbare Strahlen, wobei die durch die Glimmentladung erzeugten sichtbaren Strahlen in mehreren Etappen zum menschlichen Auge gelangen. Bei der Erzeugung der Glimmentladung wird durch die Kollision von Elektronen und Gas angeregtes Gas erzeugt, wobei durch das angeregte Gas ultraviolette Strahlen erzeugt werden. Die ultravioletten Strahlen kollidieren mit einem Phosphormaterial in Entladungszellen, so dass sichtbares Licht erzeugt wird, wobei das sichtbare Licht durch ein transparentes vorderes Substrat zum menschlichen Auge gelangt. Die an die Sustain-Elektroden und an die Ansteuerelektroden angelegte Eingangsleistung verringert sich bei diesen Etappen erheblich.
Die Glimmentladung wird dadurch erzeugt, dass eine Spannung, die höher als eine Entladungszündspannung ist, zwischen den zwei Elektroden angelegt wird. Zur Erzeugung dieser Glimmentladung ist eine sehr hohe Spannung erforderlich. Sobald die Glimmentladung erzeugt ist, wird die Spannungsverteilung zwischen einer Kathode und einer Anode aufgrund eines Raumladungseffektes, der in einer dielektrischen Schicht um die Anode und die Kathode herum auftritt, verzerrt. In der Nähe der Kathode ist eine Kathodenhülsenregion ausgebildet, in der der größte Teil der Spannung, die an die zwei Elektroden angelegt wird, um die Entladung zu erzeugen, verbraucht wird. In der Nähe der Anode ist eine Anodenhülsenregion ausgebildet, in der ein Teil der Spannung verbraucht wird. Eine positive Spaltenregion, in der kaum Spannung verbraucht wird, ist zwischen den zwei Regionen ausgebildet. Die Elektronenaufheizungseffizienz hängt von einem Sekundärelektronenkoeffizient eines MgO-Schutzfilmes ab, der auf der Oberfläche der dielektrischen Schicht in der Kathodenhülsenregion ausgebildet ist. Der größte Teil der Eingangsleistung wird für die Elektronenaufheizung in der positiven Spaltenregion verwendet.
Vakuumultraviolette Strahlen, die durch eine Kollision mit dem Phosphormaterial sichtbares Licht emittieren, werden erzeugt, wenn Xenon(Xe)-Gas von einem Anregungszustand in einen Grundzustand übergeht. Der Anregungszustand von Xenon (Xe) wird durch eine Kollision zwischen Xenon(Xe)-Gas und Elektronen hervorgerufen. Um das Verhältnis der für die Erzeugung von sichtbarem Licht verwendeten Eingangsleistung zu erhöhen, muss somit die Anzahl der Kollisionen zwischen Xenon(Xe)-Gas und Elektronen erhöht werden. Um die Anzahl der Kollisionen zwischen Xenon(Xe)-Gas und Elektronen zu erhöhen, muss die Elektronenaufheizungseffizienz erhöht werden.
In der Kathodenhülsenregion wird der größte Teil der Eingangsleistung verbraucht, die Elektronenaufheizungseffizienz ist jedoch niedrig. In der positiven Spaltenregion wird eine geringe Menge der Eingangsleistung verbraucht, wobei die Elektronenaufheizungseffizienz sehr hoch ist. Somit ist es möglich, durch die Vergrößerung der positiven Spaltenregion (des Entladungsspalts) eine hohe Lichtausbeute zu erhalten.
Das Verhältnis (E/n) ist das Verhältnis eines elektrischen Feldes E, welches an beide Enden des Entladungsspaltes (der positiven Spaltenregion) angelegt wird, zu einer Gasdichte n des Gases, das den Spalt füllt. Das Verhältnis der zur Xenonanregung (Xe*) verbrauchten Elektronen zu allen Elektronen einschließlich derer, die zur Xenonanregung (Xe*), zur Xenonionisation (Xe⁺), zur Neonanregung (Ne*) und zur Neonionisation (Ne⁺) verbraucht werden, erhöht sich mit dem Verhältnis (E/n). Außerdem steigt der Partialdruck von Xenon (Xe) im gleichen Verhältnis (E/n), in dem sich die Elektronenenergie verringert. Steigt der Partialdruck von Xenon (Xe), so erhöht sich dementsprechend das Verhältnis der zur Anregung von Xenon (Xe) verbrauchten Elektronen unter den Elektronen, die zur Xenonanregung (Xe*), zur Xenonionisation (Xe⁺), zur Neonanregung (Ne*) und zur Neonionisation (Ne⁺) verbraucht werden. Dadurch wird es möglich, die Lichtausbeute zu erhöhen.
Wie oben beschrieben, erhöht sich die Elektronenaufheizungseffizienz durch die Vergrößerung der positiven Spaltenregion. Außerdem erhöht sich das Verhältnis der zur Xenonanregung (Xe*) verbrauchten Elektronen durch den Anstieg des Partialdrucks von Xenon (Xe). Sowohl die Vergrößerung der positiven Spaltenregion als auch der Anstieg des Partialdrucks von Xenon (Xe) ermöglichen somit eine Erhöhung der Elektronenaufheizungseffizienz, was zu einer Erhöhung der Lichtausbeute führt.
Sowohl die Vergrößerung der positiven Spaltenregion als auch der Anstieg des Partialdrucks von Xenon (Xe) führen jedoch zu einer Erhöhung der Gasentladungsspannung, wodurch die Herstellungskosten für die Plasmaanzeigetafel steigen.
Deswegen müssen die positive Spaltenregion bei einer niedrigen Entladungszündspannung vergrößert und der Partialdruck von Xenon (Xe) bei einer niedrigen Entladungszündspannung erhöht werden, um die Lichtausbeute zu erhöhen.
Werden der gleiche Entladungsspalt und der gleiche Druck für die zwei Strukturen verwendet, so ist für die Gegenelektrodenstruktur eine niedrigere Entladungszündspannung erforderlich als für eine Struktur mit Oberflächenentladung.
US 2002/0145387 A1 offenbart eine Technik für Plasmaanzeigetafeln, die den Betrieb mit einer niedrigen Spannung und einem reduzierten Energieverbrauch gestattet. Dabei weist eine Isolierplatte eine Metallelektrode auf, die einen Vorsprung aufweist, der teilweise in Richtung der Seite des Zellenraumes zwischen Anzeigeelektroden hervorragt, wobei die Anzeigeelektroden derart ausgebildet sind, dass sie sich mit einer Adresselektrode in einer Ebene, die annähernd parallel zur Tafelebene ist, schneiden.
EP 1 255 339 A2 offenbart eine Plasmaanzeigetafel, die eine Struktur aufweist, die eine hochauflösende Anzeige ermöglicht. Dabei wird eine dielektrische Schicht, die Anzeigeelektroden bedeckt, zu einer Schicht gemacht, deren Oberfläche Vorsprünge und Vertiefungen entlang von Wellenformen der Oberfläche, auf der die dielektrische Schicht ausgebildet ist, aufweist. Eine Abtrennung wird derart angeordnet, dass sie den Vorsprüngen der Oberfläche der dielektrischen Schicht zugewandt ist, so dass ein Lüftungsweg zur Entlüftung gewährleistet ist.
EP 1 435 639 A2 offenbart eine Plasmaanzeigetafel, die Elektroden zur Aufrechterhaltung der Entladung aufweist, wobei die Elektroden zur Aufrechterhaltung der Entladung Buselektroden aufweisen, die entlang einer Richtung ausgebildet sind, welche weitgehend senkrecht zu einer Richtung, in der Adresselektroden ausgebildet sind, verläuft, und wobei die Elektroden zur Aufrechterhaltung der Entladung weiterhin Vorsprungselektroden aufweisen, die sich von den Buselektroden in Bereiche, die mit Entladungszellen korrespondieren, hinein erstrecken.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Ausführungsformen der Erfindung stellen eine Plasmaanzeigetafel bereit, die ausgebildet ist, unter Verwendung einer Gegenelektrodenstruktur eine Entladungszündspannung zu reduzieren und die Lichtausbeute zu erhöhen.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist eine Plasmaanzeigetafel ein erstes Substrat und ein zweites Substrat auf, die einander gegenüber angeordnet sind, wobei sich ein Zwischenraum zwischen ihnen befindet, in dem eine Vielzahl unterteilter Entladungszellen ausgebildet ist. Die Plasmaanzeigetafel weist weiterhin Phosphorschichten, die in den Entladungszellen ausgebildet sind, Adresselektroden, die entlang einer Richtung zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat ausgebildet sind, erste Elektroden und zweite Elektroden auf, wobei die ersten Elektroden und die zweiten Elektroden zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat ausgebildet sind und sich orthogonal zu den Adresselektroden erstrecken und wechselweise zwischen benachbarten Entladungszellen angeordnet sind, und wobei jede der ersten Elektroden und der zweiten Elektroden von den benachbarten Entladungszellen gemeinsam verwendet wird, und wobei die Plasmaanzeigetafel weiterhin dielektrische Schichten aufweist, die so ausgebildet sind, dass sie die Außenflächen der Adresselektroden, der ersten Elektroden und der zweiten Elektroden bedecken. Jede der Adresselektroden weist einen vorstehenden Bereich auf, der in Erstreckungsrichtung der zweiten Elektrode vorsteht und von benachbarten Entladungszellen, welche sich die erste Elektrode oder die zweite Elektrode teilen, gemeinsam verwendet wird.
In einer Ausführungsform weist die Plasmaanzeigetafel gemäß der Erfindung weiterhin eine erste Schicht aus Isolierstegen auf, die auf dem ersten Substrat bereitgestellt wird, um eine Vielzahl von Entladungsräumen auszubilden, wobei die Plasmaanzeigetafel gemäß der Erfindung weiterhin eine zweite Schicht aus Isolierstegen aufweist, die auf dem zweiten Substrat bereitgestellt wird, um eine Vielzahl von Entladungsräumen auszubilden, die mit der Vielzahl von Entladungsräumen, die auf dem ersten Substrat ausgebildet sind, korrespondieren. Außerdem sind gemäß einer Ausführungsform die Adresselektroden, die ersten Elektroden und die zweiten Elektroden zwischen der ersten Schicht aus Isolierstegen und der zweiten Schicht aus Isolierstegen angeordnet.
Bei der oben genannten Struktur kann weiterhin während eines Adressierungsintervalls ein Ansteuerimpuls an die zweiten Elektroden angelegt werden, wobei der vorstehende Bereich der Adresselektrode von benachbarten Entladungszellen, die sich die zweite Elektrode teilen, gemeinsam verwendet werden kann.
In einigen Ausführungsformen kann ein Schutzfilm auf den dielektrischen Schichten ausgebildet sein, wobei der Schutzfilm die Eigenschaft, durchlässig für nicht sichtbares Licht zu sein, aufweisen kann.
In einigen Ausführungsformen sind die Adresselektroden nahe dem ersten Substrat angeordnet, während die ersten Elektroden und die zweiten Elektroden nahe dem zweiten Substrat angeordnet sind. Außerdem ist in einigen Ausführungsformen ein Spalt zwischen einer imaginären Linie, welche ein dem zweiten Substrat zugewandter Rand der Adresselektrode ausbildet, und einer imaginären Linie, welche dem ersten Substrat zugewandte Ränder der ersten und zweiten Elektrode ausbilden, ausgebildet.
In einigen Ausführungsformen ist in der zu den Substraten senkrecht verlaufenden Richtung eine Dicke der Adresselektrode kleiner als eine Dicke der ersten Elektrode, wobei die Dicke der Adresselektrode kleiner als eine Dicke der zweiten Elektrode ist.
In einigen Ausführungsformen ist das Volumen jedes Entladungsraumes, der von der zweiten Schicht aus Isolierstegen ausgebildet wird, größer als das Volumen jedes Entladungsraumes, der von der ersten Schicht aus Isolierstegen ausgebildet wird.
In einigen Ausführungsformen weist die erste Schicht aus Isolierstegen erste Isolierstegglieder, die parallel zu den Adresselektroden ausgebildet sind, und zweite Isolierstegglieder, die die ersten Isolierstegglieder schneiden, auf, wobei die zweite Schicht aus Isolierstegen dritte Isolierstegglieder, die parallel zu den Adresselektroden ausgebildet sind, und vierte Isolierstegglieder, die so ausgebildet sind, dass sie die dritten Isolierstegglieder schneiden, aufweist.
In einigen Ausführungsformen weisen die Phosphorschichten eine erste Phosphorschicht, die auf dem ersten Substrat der Entladungszellen ausgebildet ist, und eine zweite Phosphorschicht, die aus dem gleichen Phosphormaterial wie die erste Phosphorschicht hergestellt ist und auf dem zweiten Substrat der Entladungszellen ausgebildet ist, auf. Außerdem ist in einigen Ausführungsformen die Dicke der ersten Phosphorschicht größer als die Dicke der zweiten Phosphorschicht.
Die ersten und zweiten Elektroden können Sustain-Elektroden und Ansteuerelektroden in einer Plasmaanzeigetafel sein, und das erste und das zweite Substrat können ein hinteres und ein vorderes Substrat in einer Plasmaanzeigetafel sein. Wie oben beschrieben, werden gemäß der erfindungsgemäßen Plasmaanzeigetafel die Sustain-Elektroden, die Ansteuerelektroden und die Adresselektroden zwischen dem hinteren und dem vorderen Substrat bereitgestellt. Die Sustain-Elektroden und die Ansteuerelektroden sind wechselweise auf zwei Seiten benachbarter Entladungszellen angeordnet und werden von benachbarten Entladungszellen gemeinsam verwendet. Vorstehende Bereiche der Adresselektroden werden ebenfalls von benachbarten Entladungszellen gemeinsam verwendet. Verglichen mit einer konventionellen Adresselektrodenstruktur, bei der vorstehende Bereiche in jeder Entladungszelle einzeln bereitgestellt werden, gewährleistet die Struktur gemäß der Erfindung ein größeres Öffnungsverhältnis für die Entladungszelle und erhöht die Lichtausbeute.
Weiterhin ist es gemäß der erfindungsgemäßen Plasmaanzeigetafel möglich, die Entladungszündspannung so weit zu reduzieren, dass sie unterhalb der Entladungszündspannung einer konventionellen Struktur mit Oberflächenentladung liegt, da die Sustain-Elektroden und die Ansteuerelektroden in einer Gegenelektrodenstruktur angeordnet sind.
KURZBESCHREIBUNG DER FIGUREN
1 zeigt eine Explosionsteilansicht einer Plasmaanzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der Erfindung.
2 zeigt eine Teildraufsicht, die schematisch die Struktur von Entladungszellen und von Elektroden der Plasmaanzeigetafel gemäß der Ausführungsform in 1 darstellt.
3 zeigt eine Querschnittsdarstellung, die entlang der Linie III-III der in 1 gezeigten Plasmaanzeigetafel gemacht wurde.
4 zeigt eine Querschnittsdarstellung, die entlag der Linie IV-IV der in 1 gezeigten Plasmaanzeigetafel gemacht wurde.
5 zeigt eine perspektivische Teilansicht, die schematisch die Struktur von Elektroden der Plasmaanzeigetafel gemäß der Ausführungsform in 1 darstellt.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
1 zeigt eine Explosionsteilansicht einer Plasmaanzeigetafel gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung. Die Plasmaanzeigetafel weist ein erstes Substrat 10 (nachfolgend „hinteres Substrat" genannt) und ein zweites Substrat 20 (nachfolgend „vorderes Substrat" genannt) auf, wobei das erste Substrat 10 und das zweite Substrat 20 einander gegenüber angeordnet sind, wobei ein vorbestimmter Spalt zwischen ihnen besteht. Der Raum zwischen dem hinteren Substrat 10 und dem vorderen Substrat 20 bildet einen Entladungsraum aus. Eine Vielzahl von Entladungszellen 17 ist durch eine Unterteilung des Entladungsraumes zwischen dem hinteren Substrat 10 und dem vorderen Substrat 20 ausgebildet. Jede Entladungszelle 17 ist durch eine Verbindung von Entladungsräumen 18 und Entladungsräumen 28 ausgebildet. Der Entladungsraum ist durch eine erste Schicht 16 aus Isolierstegen (nachfolgend „Rückplatten-Isoliersteg" genannt) und durch eine zweite Schicht 26 aus Isolierstegen (nachfolgend „Frontplatten-Isoliersteg" genannt) unterteilt. In den Entladungszellen 17 sind Phosphorschichten 19, 29 ausgebildet, die vakuumultraviolette Strahlen absorbieren, um sichtbares Licht zu emittieren. Entladungsgas, beispielsweise Xenon (Xe) oder Neon (Ne) füllt die Entladungszellen 17, so dass durch eine Plasmaentladung vakuumultraviolette Strahlen erzeugt werden.
Der Rückplatten-Isoliersteg 16 ragt aus dem hinteren Substrat 10 in Richtung des vorderen Substrats 20 hervor. Der Frontplatten-Isoliersteg 26 ragt aus dem vorderen Substrat 20 in Richtung des hinteren Substrats 10 hervor. Die Rückplatten-Isolierstege 16 bilden eine Vielzahl von Entladungsräumen aus, die zum hinteren Substrat, wo die hinteren Entladungsräume 18 ausgebildet sind, benachbart sind. Die Frontplatten-Isolierstege 26 bilden eine Vielzahl von Entladungsräumen aus, die zum vorderen Substrat, wo die vorderen Entladungsräume 28 ausgebildet sind, benachbart sind. Eine Entladungszelle 17 wird durch die einander auf den Substraten 10, 20 gegenüberliegenden Entladungsräume ausgebildet. Sofern der vordere Entladungsraum 28 und der hintere Entladungsraum 18 nicht speziell gekennzeichnet sind, bezeichnen in der folgenden Beschreibung die Entladungszellen 17 eine durch die Verbindung zweier Entladungsräume ausgebildete Entladungszelle.
In einigen Ausführungsformen kann das Volumen des vorderen Entladungsraumes 28, der durch die Frontplatten-Isolierstege 26 ausgebildet ist, größer als das Volumen des hinteren Entladungsraumes 18, der durch die Rückplatten-Isolierstege 16 ausgebildet ist, sein. Aufgrund dieses Unterschiedes zwischen dem hinteren und dem vorderen Volumen kann sichtbares Licht, welches in den Entladungszellen 17 erzeugt wird, auf effiziente Weise durch das vordere Substrat 20 hindurch gelangen.
Der Rückplatten-Isoliersteg 16 und der Frontplatten-Isoliersteg 26 können derart ausgebildet sein, dass die Entladungszellen 17 Rechteck- oder Sechseckformen aufweisen. In der gezeigten Ausführungsform weisen die Entladungszellen 17 Rechteckformen auf. Außerdem weist der Rückplatten-Isoliersteg 16 erste Isolierstegglieder 16a und zweite Isolierstegglieder 16b auf, wobei die ersten Isolierstegglieder 16a und die zweiten Isolierstegglieder 16b auf dem hinteren Substrat 10 ausgebildet sind. In der gezeigten Ausführungsform erstrecken sich die ersten Isolierstegglieder 16a in eine Richtung (die Richtung der y-Achse der Figur), während sich die zweiten Isolierstegglieder 16b in eine zu den ersten Isoliersteggliedern 16a orthogonal verlaufende Richtung (die Richtung der x-Achse der Figur) erstrecken. Infolgedessen sind die hinteren Entladungsräume 18 als Entladungsräume auf dem hinteren Substrat 10 unterteilt. Der Frontplatten-Isoliersteg 26 besteht aus dritten Isoliersteggliedern 26a und vierten Isoliersteggliedern 26b, wobei die dritten Isolierstegglieder 26a und die vierten Isolierstegglieder 26b auf dem vorderen Substrat 20 ausgebildet sind. Die dritten Isolierstegglieder 26a sind derart ausgebildet, dass sie mit den ersten Isoliersteggliedern 16a korrespondieren, wobei sie in Richtung des hinteren Substrats 10 hervorragen. Die vierten Isolierstegglieder 26b sind derart ausgebildet, dass sie mit den zweiten Isoliersteggliedern 16b korrespondieren, wobei sie in Richtung des hinteren Substrats 10 hervorragen. Dadurch schneiden sich die dritten und vierten Isolierstegglieder 26a, 26b der Frontplatten-Isolierstege 26, so dass die vorderen Entladungsräume 28 auf dem vorderen Substrat 20 ausgebildet werden, wobei die vorderen Entladungsräume 28 mit den auf dem hinteren Substrat 10 ausgebildeten hinteren Entladungsräumen 18 korrespondieren.
Die Phosphorschichten 19, 29 sind jeweils in den Entladungszellen 17 ausgebildet, wie dies oben beschrieben ist. Das heißt, dass die Phosphorschichten 19, 29 aus einer ersten Phosphorschicht 19, die in den hinteren Entladungsräumen 18 auf dem hinteren Substrat 10 ausgebildet ist, und aus einer zweiten Phosphorschicht 29, die in den vorderen Entladungszellen 28 auf dem vorderen Substrat 20 ausgebildet ist, bestehen.
Die erste Phosphorschicht 19 ist auf Innenflächen der ersten und zweiten Isolierstegglieder 16a, 16b und auf dem hinteren Substrat 10 im hinteren Entladungsraum 18 ausgebildet. Die zweite Phosphorschicht 29 ist auf Innenflächen der dritten und vierten Isolierstegglieder 26a, 26b und auf der Oberfläche des hinteren Substrats 10 in den Entladungszellen 28 ausgebildet. Die Verbindung von hinteren Entladungsräumen 18, die durch die Rückplatten-Isolierstege 16 ausgebildet sind, und vorderen Entladungsräumen 28, die durch die Frontplatten-Isolierstege den hinteren Entladungsräumen gegenüberliegend ausgebildet sind, bildet eine unterteilte Entladungszelle 17. Dabei erzeugen die erste Phosphorschicht 19 und die zweite Phosphorschicht 29, welche in einer Entladungszelle 17 ausgebildet sind, sichtbares Licht der gleichen Farbe.
Die erste Phosphorschicht 19 kann durch Aufbringen eines Phosphormaterials auf dem hinteren Substrat 10, welches die Rückplatten-Isolierstege 16 aufweist, ausgebildet werden. Alternativ kann die erste Phosphorschicht 19 dadurch ausgebildet werden, dass das hintere Substrat 10 in die Form der Entladungsräume 18 geätzt wird und ein Phosphormaterial auf der geätzten Oberfläche aufgebracht wird. Ebenso kann die zweite Phosphorschicht 29 durch Aufbringen eines Phosphormaterials auf dem vorderen Substrat 20, welches den Frontplatten-Isoliersteg 26 aufweist, ausgebildet werden, oder sie kann dadurch ausgebildet werden, dass das vordere Substrat 20 in die Form der vorderen Entladungsräume 28 geätzt wird und ein Phosphormaterial auf der geätzten Oberfläche aufgebracht wird.
Wenn das hintere Substrat 10 geätzt wird, um die Rückplatten-Isolierstege 16 auszubilden, bestehen das hintere Substrat 10 und die Rückplatten-Isolierstege 16 aus dem gleichen Material. Wenn das vordere Substrat 20 geätzt wird, um die Frontplatten-Isolierstege 26 auszubilden, bestehen das vordere Substrat 20 und die Frontplatten-Isolierstege 26 aus dem gleichen Material. Verglichen mit einem Verfahren, bei dem die Rückplatten-Isolierstege 16 und die Frontplatten-Isolierstege 26 getrennt vom hinteren Substrat 20 und vom vorderen Substrat 10 ausgebildet werden und in einer späteren Etappe an diesen Substraten befestigt werden, lassen sich die Herstellungskosten durch dieses Ätzverfahren reduzieren.
Die erste Phosphorschicht 19 absorbiert vakuumultraviolette Strahlen, so dass in den hinteren Entladungsräumen 18 auf dem hinteren Substrat 10 sichtbares Licht erzeugt wird, welches zum vorderen Substrat 20 emittiert wird. Die zweite Phosphorschicht 29 absorbiert vakuumultraviolette Strahlen, so dass in den vorderen Entladungsräumen 28 auf dem vorderen Substrat 20 sichtbares Licht erzeugt wird, welches zum vorderen Substrat 20 emittiert wird. Außerdem reflektiert die erste Phosphorschicht 19 sichtbares Licht, während die zweite Phosphorschicht 29 das sichtbare Licht transmittiert. Dabei kann in einigen Ausführungsformen eine Dicke t₁ der ersten Phosphorschicht 19, welche auf dem hinteren Substrat 10 ausgebildet ist, größer sein als eine Dicke t₂ der zweiten Phosphorschicht 29, welche auf dem vorderen Substrat 20 ausgebildet ist (t₁ > t₂). Diese Struktur erhöht die Lichtausbeute sichtbaren Lichts, welches zum vorderen Substrat 20 emittiert wird.
Vakuumultraviolette Strahlen kollidieren mit der ersten Phosphorschicht 19 und mit der zweiten Phosphorschicht 29, welche die oben genannte Struktur aufweisen. Um durch eine Plasmaentladung die vakuumultravioletten Strahlen zur Erzeugung eines Bildes zu erzeugen, werden zwischen dem hinteren Substrat 10 und dem vorderen Substrat 20 Adresselektroden 12, erste Elektroden 31 (nachfolgend „Sustain-Elektroden" genannt) und zweite Elektroden 32 (nachfolgend „Ansteuerelektroden" genannt) bereitgestellt, die mit den Entladungszellen 17 korrespondieren.
2 zeigt eine Teildraufsicht, die schematisch die Struktur der Entladungszellen und der Elektroden der in 1 gezeigten Plasmaanzeigetafel darstellt. Die Adresselektroden 12 erstrecken sich in orthogonal zu den Sustain-Elektroden 31 und den Ansteuerelektroden 32 verlaufender Richtung (Richtung der y-Achse). Die Adresselektroden 12, die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 sind alle zwischen den Rückplatten-Isolierstegen 16 und den Frontplatten-Isolierstegen 26 angeordnet. Die Adresselektroden 12 weisen vorstehende Bereiche 12a auf, die in Richtung der x-Achse hervorragen. Der vorstehende Bereich 12a wird von den hinteren Entladungsräumen 18, die einander entlang der Richtung der Adresselektrode 12 (Richtung der y-Achse) benachbart sind, gemeinsam verwendet. Infolgedessen können benachbarte Entladungszellen 17 simultan adressiert werden. Der vorstehende Bereich 12a kann benachbarten Entladungszellen 17, die sich die selbe Sustain-Elektrode 31 teilen, oder benachbarten Entladungszellen 17, die sich die selbe Ansteuerelektrode 32 teilen, gemeinsam sein. Beispielsweise sind die Adresselektrode 12 und die Ansteuerelektrode 32 an der Adressierung von einander entlang der Richtung der Adresselektrode 12 (der Richtung der y-Achse) benachbarten Entladungszellen beteiligt. Außerdem ist die Abschirmung sichtbarer Strahlen durch den vorstehenden Bereich 12a reduziert, da der vorstehende Bereich 12a in benachbarten, auf dem hinteren Substrat 10 befindlichen Entladungszellen 17 bereitgestellt wird, was zu einer Erhöhung der Lichtausbeute führt.
Die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 sind zwischen den Rückplatten-Isolierstegen 16 und den Frontplatten-Isolierstegen 26 angeordnet, wobei sie parallel zueinander verlaufen. Gemäß 2 sind die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 entlang der Richtung der x-Achse wechselweise auf beiden Seiten der Entladungszellen 17 angeordnet und einander benachbart, wobei sie ihren benachbarten Entladungszellen 17 gemeinsam sind. Dadurch sind die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 an einer Erhaltungsentladung der zwischen ihnen angeordneten, benachbarten Entladungszellen beteiligt. Bei der Plasmaanzeige-tafel, die die oben genannte Struktur aufweist, sind somit die Sustain-Elektroden 31 in geradzahlige Sustain-Elektroden und ungeradzahlige Sustain-Elektroden aufgeteilt, wobei auch die Ansteuerelektroden 32 in geradzahlige Ansteuerelektroden und ungeradzahlige Ansteuerelektroden aufgeteilt sind. Erfolgt auf den geradzahligen Elektroden eine Erhaltungsentladung, so werden Erhaltungsimpulse an die geradzahligen Sustain-Elektroden 31 und an die geradzahligen Ansteuerelektroden 32 angelegt. Erfolgt eine Erhaltungsentladung dagegen auf den ungeradzahligen Elektroden, so werden Erhaltungsimpulse an die ungeradzahligen Sustain-Elektroden 31 und an die ungeradzahligen Ansteuerelektroden 32 angelegt, so dass ein Bild angezeigt wird.
3 zeigt eine Querschnittsdarstellung, die entlang der Linie III-III der in 1 gezeigten Plasmaanzeigetafel gemacht wurde, wobei die Plasmaanzeigetafel durch die Verbindung des vorderen Substrats 20 mit dem hinteren Substrat 10 ausgebildet wird. 4 zeigt eine Querschnittsdarstellung, die entlang der Linie TV-TV der in 1 gezeigten Plasmaanzeigetafel gemacht wurde.
5 zeigt eine perspektivische Teilansicht, die schematisch die Struktur von Adresselektroden 12, Sustain-Elektroden 31 und Ansteuerelektroden 32 der Plasmaanzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der Erfindung darstellt.
Gemäß diesen Figuren erstrecken sich die Adresselektroden 12 in Richtung der y-Achse zwischen den Rückplatten-Isolierstegen 16 und den Frontplatten-Isolierstegen 26. In Richtung der z-Achse sind die Adresselektroden 12 zwischen dem hinteren Substrat 10 und dem vorderen Substrat 20 angeordnet. Die Adresselektroden 12 sind zwischen den ersten Isoliersteggliedern 16a und den dritten Isoliersteggliedern 26a ausgebildet, wobei sie sich in Richtung der y-Achse erstrecken und parallel zu den ersten und dritten Isoliersteggliedern 16a, 26a sind. Außerdem sind die Adresselektroden 12 parallel zueinander in Intervallen entlang der Richtung der x-Achse angeordnet oder ausgebildet, wobei sie mit den Entladungszellen 17 korrespondieren.
Der vorstehende Bereich 12a steht von den Adresselektroden 12 in Richtung der x-Achse hervor. Der vorstehende Bereich 12a weist eine (in 2 gezeigte) vorbestimmte Breite w entlang der Richtung der y-Achse auf. Die Breite w ist benachbarten Entladungszellen 17, die eine gemeinsame Ansteuerelektrode 32 verwenden, gemeinsam. Ein Teil des vorstehenden Bereiches 12a korrespondiert mit der sich in Richtung der x-Achse erstreckenden Ansteuerelektrode 32. Von diesem Teil ausgehend ragt der vorstehende Bereich 12a in Richtung der y-Achse in benachbarte Entladungszellen 17 hinein.
Werden Ansteuerimpulse und Adressimpulse jeweils an die Ansteuerelektroden 31 und die Adresselektroden 12 angelegt, so findet in den Entladungszellen 17 eine Adressentladung statt. Die Ansteuerelektroden 31 und die Adresselektroden 12, die von benachbarten Entladungszellen 17 gemeinsam verwendet werden, sind derart ausgebildet, dass die vorstehenden Bereiche 12a sowohl mit den Ansteuerelektroden 31 als auch mit den Adresselektroden 12 korrespondieren. Die vorstehenden Bereiche 12a bewirken, dass die Entladungsellen 17 mit den an die Adresselektroden 12 angelegten Adressimpulsen versorgt werden. Weiterhin ist aufgrund dieser vorstehenden Bereiche 12a ein Entladungsspalt zwischen dem vorstehenden Bereich 12a und der Ansteuerelektrode 31 ein kurzer Spalt. Für einen kurzen Spalt ist eine niedrigere Adressentladungsspannung erforderlich. In der gezeigten Ausführungsform wird jede Adresselektrode 12 zwischen benachbarten Entladungszellen 17 entlang der Richtung der y-Achse bereitgestellt. Jede Adresselektrode 12 ist außerdem zwischen den ersten und dritten Isoliersteggliedern 16a, 26a angeordnet. Die Adresselektroden 12, die entlang der y-Achse verlaufen, können zur Aufteilung der Entladungszellen 17 entlang der Richtung der x-Achse verwendet werden.
Weiterhin erstrecken sich die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 in die Richtung der x-Achse der Figuren, wobei sie sich orthogonal zu den Adresselektroden 12 erstrecken. Die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 sind in Richtung der z-Achse zwischen dem Rückplatten-Isoliersteg 16 und dem Frontplatten-Isoliersteg 26 angeordnet. Außerdem sind die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 gegenüber den Adresselektroden 12 elektrisch isoliert. Das heißt, dass die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 zwischen den zweiten und vierten Isoliersteggliedern 16b, 26b ausgebildet sind, wobei sie parallel zu diesen Isoliersteggliedern 16b, 26b ausgebildet sind. Die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 sind wechselweise angeordnet und werden von den einander quer zur Richtung der Adresselektroden 12 benachbarten Entladungszellen 17 gemeinsam verwendet.
In dieser Ausführungsform können die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 den Maßstab für die Aufteilung der Entladungszellen 17 entlang der Längsrichtung der Adresselektroden 12 bilden, da die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 bezüglich benachbarter Entladungszellen 17 wechselweise zwischen den zweiten und vierten Isoliersteggliedern 16b, 26b angeordnet sind.
Während eines Adressierungsintervalls erzeugen die Ansteuerelektrode 32 und die Adresselektrode 12 eine Adressentladung, durch die die Entladungszellen 17, die angeschaltet werden sollen, ausgewählt werden. Während eines Erhaltungsintervalls erzeugen die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 eine Erhaltungsspannung, durch die ein Bild angezeigt wird. Während des Erhaltungsintervalls werden Erhaltungsimpulse an die Sustain-Elektroden 31 angelegt. Außerdem können während des Erhaltungsintervalls die Erhaltungsimpulse an die Ansteuerelektroden 32 angelegt werden, wobei während eines Ansteuerintervalls auch Ansteuerimpulse an die Ansteuerelektroden 32 angelegt werden können. Je nach den Signalspannungen, die an sie angelegt werden, können die jeweiligen Elektroden verschiedene Funktionen erfüllen. Die Erfindung ist somit nicht auf die gezeigte Struktur beschränkt.
Die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 sind zwischen den zwei Substraten 10, 20 angeordnet, wodurch sie den Raum zwischen den Substraten 10, 20 in die Entladungszellen 17 unterteilen. Die zwei Teile jeder Entladungszelle 17 bilden zusammen eine Entladungszelle 17 aus. Eine derart ausgebildete Gegenelektrodenstruktur kann eine Erhaltungszündspannung einer Erhaltungsentladung besser reduzieren als eine Struktur mit Oberflächenentladung, und kann die Lichtausbeute mehr verbessern als dies die Struktur mit Oberflächenentladung kann.
Weiterhin können die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 mit einer in Richtung der z-Achse verlaufenden Höhe h_v ausgebildet sein, die größer ist als eine in Richtung der y-Achse verlaufende Breite h_h, um die Fläche jeder Entladungszelle 17 zu vergrößern. Die Entladung, die in einer größeren Entladungszelle 17 stattfindet, erzeugt vakuumultraviolette Strahlen mit hochintensiver Strahlung. Die hochintensiven vakuumultravioletten Strahlen kollidieren mit den Phosphorschichten 19, 29, die auf der großen Fläche der Entladungszelle 17 ausgebildet sind. Dies führt dazu, dass eine größere Menge an sichtbarem Licht erzeugt wird.
Die Adresselektroden 12 sind nahe dem hinteren Substrat 10 angeordnet, während die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 nahe dem vorderen Substrat 20 angeordnet sind. Ein Spalt C₁ befindet sich zwischen einer imaginären Linie L₁, die durch eine Verlängerung eines dem vorderen Substrat 20 zugewandten Randes der Adresselektrode 12 ausgebildet ist, und einer imaginären Linie L₂, die durch eine Verlängerung eines dem hinteren Substrat 10 zugewandten Randes der Sustain-Elektrode 31 oder der Ansteuerelektrode 32 ausgebildet ist. Aufgrund dieses Spalts C₁ können sich die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 mit den Adresselektroden 12 kreuzen, ohne sie tatsächlich zu schneiden.
Weiterhin ist in der zum hinteren Substrat 10 und zum vorderen Substrat 20 senkrecht verlaufenden Richtung eine Dicke t₃ der Adresselektrode kleiner als eine Dicke t₄ der Sustain-Elektrode 31 und als eine Dicke t₅ der Ansteuerelektrode 32. Dank dieser Struktur können die Erhaltungsimpulse, die eine höhere Spannung als die an die Adresselektroden 12 angelegten Adressimpulse aufweisen, stabil an die Sustain-Elektroden 31 und die Ansteuerelektroden 32 angelegt werden.
Die Sustain-Elektroden 31, die Ansteuerelektroden 32 und die Adresselektroden 12 können aus einem Metall, das eine hohe Leitfähigkeit aufweist, ausgebildet werden, da diese Elektroden in einer nicht licht-emittierenden Region zwischen dem Rückplatten-Isoliersteg 16 und dem Frontplatten-Isoliersteg 26 angeordnet sind.
Auf Außenflächen der Sustain-Elektroden 31, der Ansteuerelektroden 32 und der Adresselektroden 12 sind dielektrische Schichten 34, 35 ausgebildet. Die dielektrischen Schichten 34, 35 speichern nicht nur Wandladungen, sondern isolieren auch die Elektroden 31, 32, 12 voneinander. Die Sustain-Elektroden 31, die Ansteuerelektroden 32 und die Adresselektroden 12 können durch ein Dickschicht-Keramikplatten(TFCS)-Verfahren ausgebildet werden. Beim TFCS-Verfahren wird eine Elektrodeneinheit, wie die Sustain-Elektroden 31, die Ansteuerelektroden 32 und die Adresselektroden 12, separat hergestellt und dann mit dem hinteren Substrat, das den Rückplatten-Isoliersteg 16 aufweist, verbunden.
Auf den dielektrischen Schichten 34, 35, die die Sustain-Elektroden 31, die Ansteuerelektroden 32 und die Adresselektroden 12 bedecken, kann ein Schutzfilm 36 ausgebildet sein. Insbesondere kann der Schutzfilm 36 ausgebildet sein, um der Plasmaentladung, die in den Entladungsräumen der Entladungszellen 17 stattfindet, ausgesetzt zu werden. Der Schutzfilm 36 schützt die dielektrischen Schichten 34, 35 und erfordert einen hohen Sekundärelektronenemissionskoeffizient. Der Schutzfilm 36 muss jedoch nicht die Eigenschaft aufweisen, sichtbares Licht zu übertragen. Da die Sustain-Elektroden 31, die Ansteuerelektroden 32 und die Adresselektroden 12 weder auf dem vorderen Substrat 20 noch auf dem hinteren Substrat 10 angeordnet sind, sondern eher zwischen den zwei Substraten angeordnet sind, kann der Schutzfilm 36, der auf den dielektrischen Schichten 34, 35, welche die Sustain-Elektroden 31, die Ansteuerelektroden 32 und die Adresselektroden 12 bedecken, ausgebildet ist, aus einem Material bestehen, welches die Eigenschaft aufweist, durchlässig für nicht sichtbares Licht zu sein. Als Beispiel für einen Schutzfilm 36, der durchlässig für nicht sichtbares Licht ist, kann ein MgO-Film verwendet werden. Ein MgO-Film weist einen sehr hohen Sekundärelektronenemissionskoeffizient auf und ermöglicht eine weitere Reduktion der Entladungszündspannung.
Weiterhin sind die Adresselektroden 12 von den dielektrischen Schichten 35, die überall die gleiche Dielektrizitätskonstante aufweisen, umgeben. Dadurch wird bei roten (R), grünen (G) und blauen (B) Phosphorschichten 19, 29 die gleiche Entladungszündspannung ausgebildet.
Obwohl die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf bestimmte Ausführungsbeispiele beschrieben wurde, können auf dem Fachmann geläufige Weise verschiedene Modifikationen und Variationen der vorliegenden Erfindung vorgenommen werden, ohne den in den anhängenden Ansprüchen definierten Schutzbereich der vorliegenden Erfindung zu verlassen.

Claims

Plasmaanzeigetafel, aufweisend: ein erstes Substrat (10); ein zweites, vom ersten Substrat (10) beabstandetes Substrat (20); eine Vielzahl unterteilter Entladungszellen (17), welche zwischen dem ersten Substrat (10) und dem zweiten Substrat (20) ausgebildet sind; Adresselektroden (12), welche sich entlang einer ersten Richtung zwischen dem ersten Substrat (10) und dem zweiten Substrat (20) und parallel zum ersten Substrat (10) und zum zweiten Substrat (20) erstrecken; erste Elektroden (31) und zweite Elektroden (32), welche sich entlang einer zweiten Richtung zwischen dem ersten Substrat (10) und dem zweiten Substrat (20) und parallel zum ersten Substrat (10) und zum zweiten Substrat (20) erstrecken, wobei die zweite Richtung die erste Richtung kreuzt, und wobei die ersten Elektroden (31) und die zweiten Elektroden (32) von den Adresselektroden (12) getrennt sind; und vorstehende Bereiche (12a), welche von jeder der Adresselektroden (12) entlang der zweiten Richtung zu unterteilten Entladungszellen (17) hin vorstehen, wobei jeder vorstehende Bereich (12a) sich in ein Paar benachbarter Entladungszellen (17) hinein erstreckt, und wobei das Paar benachbarter Entladungszellen (17) jeden vorstehenden Bereich (12a) der Adresselektrode (12) und entweder eine der ersten Elektroden (31) oder eine der zweiten Elektroden (32) gemeinsam verwendet.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 1, weiterhin aufweisend: eine erste Schicht (16) aus Isolierstegen, welche auf dem ersten Substrat (10) angeordnet ist und eine Vielzahl erster Entladungsräume (18) ausbildet; und eine zweite Schicht (26) aus Isolierstegen, welche auf dem zweiten Substrat (20) angeordnet ist und eine Vielzahl zweiter Entladungsräume (28), welche mit den ersten Entladungsräumen (18) korrespondieren, ausbildet, wobei jede der unterteilten Entladungszellen (17) durch ein Paar, welches aus einem ersten Entladungsraum (18) und einem zweiten Entladungsraum (28) besteht, definiert ist, wobei der erste Entladungsraum (18) und der zweite Entladungsraum (28) einander gegenüberliegen.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 2, wobei die Adresselektroden (12), die ersten Elektroden (31) und die zweiten Elektroden (32) zwischen der ersten Schicht (16) aus Isolierstegen und der zweiten Schicht (26) aus Isolierstegen angeordnet sind.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 2, wobei ein Volumen jedes zweiten Entladungsraumes (28) größer als ein Volumen jedes ersten Entladungsraumes (18) ist.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 2, wobei die erste Schicht (16) aus Isolierstegen erste Isolierstegglieder (16a), welche sich in die erste Richtung erstrecken, aufweist, und wobei die zweite Schicht (26) aus Isolierstegen zweite Isolierstegglieder (16b), welche sich in die erste Richtung erstrecken, aufweist.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 5, wobei die erste Schicht (16) aus Isolierstegen weiterhin dritte Isolier-stegglieder (26), welche die ersten Isolierstegglieder (16a) schneiden, aufweist, und wobei die zweite Schicht (26) aus Isolierstegen weiterhin vierte Isolierstegglieder (26b), welche die ersten Isolierstegglieder (16b) schneiden, aufweist.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 1, wobei die ersten und zweiten Elektroden (31, 32) aus Metallelektroden bestehen, und/oder wobei die ersten Elektroden (31), die zweiten Elektroden (32) und die Adresselektroden (12) dielektrische Schichten (34, 35) auf Außenflächen aufweisen.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 7, wobei ein Schutzfilm (36) auf den dielektrischen Schichten (34, 35) ausgebildet is.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 8, wobei der Schutzfilm (36) die Eigenschaft, durchlässig für nicht sichtbares Licht zu sein, aufweist, und/oder wobei der Schutzfilm (36) aus Magnesiumoxid (MgO) ausgebildet ist.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 1, wobei die Adresselektroden (12) näher am ersten Substrat (10) als am zweiten Substrat (20) angeordnet sind und dem zweiten Substrat (20) zugewandt sind, und wobei die ersten und zweiten Elektroden (31, 32) näher am zweiten Substrat (20) als am ersten Substrat (10) angeordnet sind und dem ersten Substrat (10) zugewandt sind, und wobei eine Lücke (C₁) zwischen einer dem zweiten Substrat (20) zugewandten Seite der Adresselektrode (12) und einer dem ersten Substrat (10) zugewandten Seite jeder der ersten Elektroden (31) und der zweiten Elektroden (32) ausgebildet ist.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 1, wobei eine Dicke der Adresselektrode (12) kleiner als eine Dicke der ersten Elektrode (31) ist, und/oder wobei die Dicke der Adresselektrode (12) kleiner als eine Dicke der zweiten Elektrode (32) ist, und wobei die Dicken entlang einer zum ersten und zweiten Substrat (10, 20) senkrechten Richtung gemessen werden.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 1, weiterhin aufweisend: eine erste Phosphorschicht (19), welche in den Entladungszellen (17) auf dem ersten Substrat (10) ausgebildet ist; und eine zweite Phosphorschicht (29), welche eine gleiche Farbe wie die erste Phosphorschicht (19) aufweist und in den Entladungszellen (17) auf dem zweiten Substrat (20) ausgebildet ist.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 12, wobei eine Dicke der ersten Phosphorschicht (19) größer als eine Dicke der zweiten Phosphorschicht (29) ist.
Plasmaanzeigetafel nach Anspruch 1, wobei die Plasmaanzeigetafel Mittel zum Anlegen von Ansteuerimpulsen an die ersten Elektroden (31) während eines Adressierungszeitraumes aufweist, und wobei die vorstehenden Bereiche (12a) Grenzen zwischen benachbarten Entladungszellen (17), welche von den ersten Elektroden (31) ausgebildet werden, kreuzen, oder wobei die vorstehenden Bereiche (12a) Grenzen zwischen benachbarten Entladungszellen (17), welche von den zweiten Elektroden (32) ausgebildet werden, kreuzen.