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Die
vorliegende Erfindung betrifft die Herstellung von Beschichtungen,
die Epoxy-funktionelle Gruppen enthalten, unter Verwendung gepulster
Plasmapolymerisation von Verbindungen wie etwa Glycidylmethacrylat.
Solche Oberflächen
können
nachfolgender Derivatisierung mit anderen funktionellen Gruppen,
wie etwa nukleophilen Reagenzien, unterzogen werden, oder sie können verwendet
werden, um die Anheftung zu verstärken, sowie als Klebstoffe.
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Die
Oberflächenfunktionalisierung
fester Objekte ist ein Thema von beträchtlicher technischer Bedeutung,
da sie ein kostengünstiges
Mittel bietet, die Substratleistung zu verbessern, ohne die allgemeinen
Eigenschaften der Hauptmasse zu beeinflussen. Beispielsweise können Epoxygruppen
an der Oberfläche
für die
Immobilisierung nukleophiler Reagenzien Bindungsstellen bereitstellen
(Rosowsky, A. In Heterocyclic Compounds with Three-and Four-Membered
Rings, Weissberger, A. Herausgeber; The Chemistry of Heterocyclic Compounds;
Interscience Publishers: New York, 1964; Teil 1), wie etwa von Aminen
(Zhang, J. et al., J. Polym. Sci., Teil A: Polym. Chem., 1995, 33,
2629; Mori, M. et al., J. Polym. Sci., Teil A: Polym. Chem., 1994,
32, 1683; Allmer, K. et al., J. Polym. Sci., Teil A: Polym. Chem.,
1989, 27, 1641; Allcock, H. R. et al., Chem. Mater., 1994, 6, 516;
Lee, W. et al., J. Colloid Interface Sci., 1998, 200, 66; Kubota,
H. et al., J. Appl. Polym. Sci., 1995, 56, 25). Diese Reaktionen
finden Verwendung in der Biotechnologie (Lee, W.; Furusaki, et al.,
J. Colloid Interface Sci., 1998, 200, 66; Kubota, H. et al., J.
Appl. Polym. Sci., 1995, 56, 25; Bai, G. et al., Polym. Bull., 1996,
36, 503; Motomura, T. et al., Europäische Patentanmeldung 679436,
1999) und bei der Anheftung (Zhang, J. et al., J. Polym. Sci., Teil
A: Polym. Chem., 1995, 33, 2629; Shang, M. C. et al., Polymer, 1999,
40, 299; Wu, S. et al., Macromolecules, 1999, 32, 186; Yamada, K.
et al., J. Appl. Po lym. Sci., 1996, 60, 1847; Wang, T. et al., J.
Adhes. Sci. Tech., 1997, 11, 679). Bestehende Verfahren zur Anheftung
von Epoxiden an feste Oberflächen beinhalten
UV (Allmer, K. et al., Polym. Sci., Teil A: Polym. Chem., 1989,
27, 1641; Allcock, H. R. et al., Chem. Mater., 1994, 6, 516; Bai,
G. et al., Polym. Bull., 1996, 36, 503; Wu, S. et al., Macromolecules,
1999, 32, 186) oder Elektronenstrahlen (Lee, W. et al., J. Colloid
Interface Sci., 1998, 200, 66), die Bestrahlung von Substraten,
die eingetaucht sind in einer Lösung,
die einen Initiator und ein polymerisierbares Epoxymonomer (z.B. Glycidylmethacrylat)
enthält,
was zum Polymerwachstum auf der Oberfläche führt. Andere Möglichkeiten
umfassen die Plasmaaktivierung eines Substrats, gefolgt von dem
Pfropfen eines polymerisierbaren Epoxymonomers in Lösungsphase
(Mori, M. et al., J. Polym. Sci., Teil A: Polym. Chem., 1994, 32,
1683; Yamada, K. et al., J. Appl. Polym. Sci., 1996, 60, 1847),
oder das Koppeln von Epoxysilanen an Siliziumscheiben (Luzinov,
I. et al., Langmuir, 1999, 15, 3029). Alle diese Ansätze leiden
unter Nachteilen, wie etwa der Einbeziehung von Mehrstufen-Prozessen und der
Erfordernis von Lösungsphase-Chemie.
Einige können
auch eine Tendenz zur Substratspezifität zeigen.
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Plasmapolymere
werden im Vergleich zu konventionellen Polymeren oft als strukturell
abweichend angesehen, da sie hohe Niveaus an Vernetzung und das
Fehlen einer regelmäßigen Wiederholungseinheit
aufweisen (Yasuda, H. Plasma Polymerisation, Academic Press: New
York, 1985). Dies kann der Plasmaumgebung zugeschrieben werden,
die eine ganze Bandbreite an reaktiven Zwischenprodukten erzeugt,
die zum allgemeinen Fehlen chemischer Selektivität beitragen. Es ist jedoch
herausgefunden worden, dass das Pulsen der elektrischen Entladung
auf der ms – μs-Zeitskala
die strukturelle Erhaltung der Elternmonomer-Spezies signifikant
verbessern kann (Panchalingam, V. et al., Appl. Polym. Sci. 1994,
54, 123; Han, L. M. et al., Chem. Mater., 1998, 10, 1422; Timmons
et al., US-Patent Nr.
US 5,876,753 ), und
in einigen Fällen
sind konventionelle lineare Polymere synthetisiert worden (Han,
L. M. et al., J. Polym. Sci., Teil A: Polym. Chem. 1998, 36, 3121). Unter
solchen Bedingungen kontrollieren, wie bekannt ist, wiederholte
kurze Plasmaentladungen die Anzahl und Lebensdauer aktiver Spezies,
die während
der Einschaltzeit gebildet werden, was dann von den konventionellen
Reaktionswegen während
der Ausschaltzeit (z.B. Polymerisation) abgelöst wird (Savage, C. R. et al., Chem.
Mater., 1991,3,575).
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Die
Anmelder haben herausgefunden, dass die Plasmapolymerisation von
Monomeren, die Epoxyfunktionalitäten
enthalten, potentiell die Einschränkungen der bestehenden Techniken
für die
Bildung Epoxyfunktionalisierter Oberflächen überwinden kann.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung wird ein Verfahren bereitgestellt, um eine Beschichtung,
die eine reaktive Epoxygruppe enthält, auf einem Substrat aufzutragen,
dadurch gekennzeichnet, dass es umfasst, das Substrat einer gepulsten
Plasmaentladung in Gegenwart einer Verbindung der Formel (I) oder
(IA) zu unterziehen:
wobei R
1 oder
R
1a eine optional substituierte Hydrocarbylgruppe
oder heterozyklische Gruppe ist; R
2 eine
optional substituierte geradkettige oder verzweigte Alkylenkette
ist; und Y Sauerstoff oder eine Bindung ist, und wobei die durchschnittliche
Energie der gepulsten Plasmaentladung weniger als 0,05 W/cm
3 beträgt.
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Wie
hier verwendet, beinhaltet der Begriff „Hydrocarbyl" Alkyl, Alkenyl,
Alkinyl, Aryl und Aralkylgruppen. Der Begriff „Aryl" bezieht sich auf aromatische zyklische
Gruppen, wie etwa Phenyl oder Naphthyl, insbesondere Phenyl. Der
Begriff „Alkyl" bezieht sich auf
geradkettige oder verzweigte Ketten von Kohlenstoffatomen, geeigneter
Weise von 1 bis 20 Kohlenstoffatomen Länge. Die Begriffe „Alkenyl" und „Alkinyl" beziehen sich auf
gerade oder verzweigte ungesättigte
Ketten, die geeigneter Weise 2 bis 20 Kohlenstoffatome besitzen. Diese
Gruppen können
eine oder mehrere Mehrfachbindungen besitzen. Somit beinhalten Beispiele
von Alkenylgruppen Allenyl und Dienyl.
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Geeignete
optionale Substituenten für
die Hydrocarbylgruppen R1 und R1a und
die Alkylengruppen R2 sind Gruppen, die
während
des Verfahrens der Erfindung im Wesentlichen inert sind. Diese können Halogengruppen,
wie etwa Fluor, Chlor, Brom und Iod beinhalten. Ein besonders bevorzugter
Halogensubstituent ist Fluor.
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Bevorzugt
ist Y Sauerstoff.
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Insbesondere
ist R
2 eine unsubstituierte Alkylengruppe.
Somit ist die Verbindung der Formel (I) bei einer spezifischen Ausführungsform
eine Verbindung der Formel (II)
wobei R
1 so
ist, wie oben definiert, und wobei n eine ganze Zahl von 1 bis 20
ist, beispielsweise von 1 bis 3, und bevorzugt 1.
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Geeigneter
Weise sind R1 und R1a ungesättigte Hydrocarbylgruppen,
wie etwa Alkenyl oder Alkinyl. Insbesondere ist R1 oder
R1a eine geradkettige oder verzweigte C1-6-Alkenylgruppe. Diese können optional
substituiert sein, wie oben definiert.
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Eine
besonders bevorzugte Verbindung der Formel (II) sind Acrylate der
Formel (III)
wobei R
3,
R
4 und R
5 unabhängig ausgewählt sind
aus Wasserstoff oder Alkyl, und insbesondere aus Wasserstoff oder
C
1-6-Alkyl, wie etwa Methyl.
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Ein
spezifisches Beispiel für
eine Verbindung der Formel (III) ist Glycidylmethacrylat, wobei
R3 Methyl ist und R4 und
R5 beide Wasserstoff sind.
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Ein
spezifisches Beispiel für
eine Verbindung der Formel (IA) ist ein Divinylbenzolmonoxid der
Formel (IV)
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Die
genauen Bedingungen, unter denen die Plasmaabscheidung der Verbindung
der Formel (I) oder (IA) in einer effektiven Weise stattfindet,
wird in Abhängigkeit
von Faktoren, wie etwa der Natur des Monomers, des Substrats etc.
variieren und wird unter Verwendung von Routineverfahren und/oder
der hier im Folgenden beschriebenen Techniken bestimmt werden. Im
allgemeinen jedoch wird die Polymerisation geeigneter Weise unter
Verwendung von Dämpfen
der Verbindungen der Formel (I) oder (IA) bei Drücken von 0,01 bis 10 mbar, geeigneter
Weise bei etwa 0,2 mbar, durchgeführt.
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Es
wird dann eine Glimmentladung gezündet, indem man eine Hochfrequenzspannung
anlegt, beispielsweise bei 13,56 MHz.
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Die
angelegten Felder sind geeigneter Weise von durchschnittlicher Energie
von bis zu 50 W. Die Felder werden geeigneter Weise für eine Zeitspanne
angelegt, die hinreichend ist, um die gewünschte Beschichtung zu ergeben.
Im allgemeinen wird dies 30 Sekunden bis 20 Minuten betragen, bevorzugt
2 bis 15 Minuten, in Abhängigkeit
von der Natur der Verbindung der Formel (I) oder (IA) und dem Substrat,
etc.
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Die
durchschnittliche Energie der gepulsten Plasmaentladung beträgt weniger
als 0,05 W/cm3, bevorzugt weniger als 0,025
W/cm3 und am bevorzugtesten weniger als
0,0025 W/cm3.
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Das
Puls-Schema, das derartig niedrige durchschnittliche Energieentladungen
zuführen
wird, wird in Abhängigkeit
von der Natur des Substrats, der Größe und Natur der Entladungskammer
etc. variieren. Jedoch können
geeignete Puls-Anordnungen in jedem spezifischen Fall durch Routineverfahren
bestimmt werden. Eine typische Abfolge ist eine Abfolge, bei der
der Strom für
20 μs an
ist und für
1000 bis 20.000 μs
aus ist.
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Geeignete
Plasmen zur Verwendung im Verfahren der Erfindung beinhalten Nichtgleichgewichtsplasmen,
wie etwa diejenigen, die durch Hochfrequenzen (Rf), Mikrowellen
oder Gleichstrom (DC) erzeugt werden. Diese können bei Atmosphärendruck
oder bei Drücken
unterhalb des Atmosphärendrucks
arbeiten, wie dies in der Technik bekannt ist.
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Das
Plasma kann die monomere Verbindung alleine, in Abwesenheit anderer
Gase, oder im Gemisch z.B. mit einem inerten Gas enthalten. Plasmen,
die aus einer monomeren Verbindung alleine bestehen, können erreicht
werden, wie hier im Folgenden dargestellt, indem man zuerst das
Reaktorgefäß soweit
wie möglich
evakuiert, und das Reaktorgefäß dann mit
der organischen Verbindung für
eine Zeitspanne spült,
die hinreichend ist, um sicherzustellen, dass das Gefäß weitestgehend
frei von anderen Gasen ist. Die Temperatur in der Plasmakammer ist
geeigneter Weise hoch genug, um es genügend Monomer in der Gasphase
zu erlauben, in die Plasmakammer zu gelangen. Diese wird vom Monomer
abhängen,
und praktischerweise wird Umgebungstemperatur verwendet werden.
Jedoch können
erhöhte
Temperaturen, z.B. von 25 bis 50°C,
in einigen Fällen
erforderlich sein.
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Die
Erfindung stellt weiterhin ein Substrat bereit, das eine Epoxy enthaltende
Beschichtung darauf besitzt, erhalten durch ein Verfahren gemäß obiger
Beschreibung. Solche Substrate werden jedwedes feste Substrat beinhalten,
wie etwa Gewebe/Stoff, Metall, Glas, Keramik, Papier, Holz oder
Polymere, wie etwa Polytetrafluorethylen, Polythen oder Polystyrol.
Bei einer spezifischen Ausführungsform
umfasst die Oberfläche
ein Trägermaterial,
wie etwa ein polymeres Material, das bei der biochemischen Analyse
verwendet wird.
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Wenn
die Erfindung im Bereich der Klebstoffe verwendet wird, kann das
Substrat ein beliebiges der oben aufgelisteten Substrate sein, ist
jedoch wahrscheinlich Glas, Keramik, Metall, Papier, Holz oder Polymer.
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Die
gepulste Plasmapolymerisation der Erfindung ist daher ein lösungsmittelfreies
Verfahren zur Funktionalisierung fester Oberflächen mit Epoxygruppen.
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Sobald
die Epoxy-funktionelle Beschichtung auf das Substrat aufgebracht
worden ist, kann die Epoxygruppe, so wie es erforderlich ist, weiter
derivatisiert werden. Insbesondere kann sie mit einer Carbonsäure, wie
etwa Trifluoressigsäure,
einem Amin, wie etwa Diethylamin, oder mit einer Aminosäure, umgesetzt
werden. Die Derivatisierungsreaktion kann in der Gasphase durchgeführt werden,
wo die Reagenzien dies erlauben, oder in einem Lösungsmittel, wie etwa einem
organischen Lösungsmittel.
Beispiele solcher Lösungsmittel beinhalten
Alkohole, wie etwa Methanol und Tetrahydrofuran.
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Die
Derivatisierung kann in der Immobilisierung eines nukleophilen Reagenz
auf dieser Oberfläche
resultieren.
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Epoxid-funktionalisierte
Oberflächen,
die in Übereinstimmung
mit der Erfindung hergestellt wurden, wurden mit einer Vielzahl
nukleophiler Reagenzien (z.B. Carbonsäuren und Aminen) derivatisiert.
Typischerweise erfolgte die Reaktion an den elektrophilen Epoxidkohlenstoffzentren,
was zur Ringöffnung
führt.
Im Falle der Carbonsäuren
und Amine ist der Angriff auf den geringer substituierten Epoxidkohlenstoff
bevorzugt, was zur Bildung des sekundären Alkohols führt (Schema
I).
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Bei
einer weiteren Ausführungsform
stellt die Erfindung somit ein Verfahren zur Immobilisierung eines nukleophilen
Reagenz an einer Oberfläche
bereit, wobei dieses Verfahren umfasst, eine reaktive Epoxy-enthaltende
Beschichtung durch das oben beschriebene Verfahren auf der Oberfläche zu applizieren
und die Oberfläche
dann in Kontakt mit einer Lösung
des nukleophilen Agens zu bringen, unter Bedingungen, die so sind,
dass das nukleophile Agens mit den Epoxygruppen reagiert.
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Das
Aushärten
der Epoxygruppen in der Beschichtung kann im Anhaften der Oberfläche an eine
andere Oberfläche
resultieren. Somit stellt die Erfindung bei wiederum einem weiteren
Aspekt ein Verfahren zum Aneinanderkleben von zwei Oberflächen bereit,
wobei das Verfahren das Aufbringen einer reaktiven Beschichtung
auf wenigstens eine der Oberflächen
durch Plasmaabscheidung unter Verwendung des oben beschriebenen
Verfahrens und das In-Kontakt-Bringen
dieser Oberfläche
mit der anderen Oberfläche
unter Bedingungen umfasst, bei denen die reaktiven Gruppen in der
Beschichtung reagieren werden, um so die beiden Oberflächen aneinander
zu befestigen.
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Geeigneter
Weise enthält
die andere Oberfläche
selbst reaktive Funktionalitäten,
insbesondere nukleophile Gruppen, wie etwa Amin- oder Säuregruppen,
die mit den reaktiven Gruppen in der Beschichtung reagieren werden,
um so die Oberflächen
miteinander zu verbinden. Die reaktiven Gruppen sind bevorzugt Epoxidgruppen.
Da, wo solche nukleophilen Gruppen nicht verwendet werden, können Kopplungsmittel
verwendet werden.
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Bei
einer spezifischen Ausführungsform
wird eine reaktives Epoxy enthaltende Beschichtung unter Verwendung
des oben beschriebenen Verfahrens auf beide dieser Oberflächen aufgebracht,
wobei ein Kopplungsmittel, wie etwa ein Diamin, z.B. Ethylendiamin,
zwischen diesen eingeführt
wird. Man lässt
das Kopplungsmittel dann mit den Epoxygruppen auf jeder Oberfläche reagieren,
was in der Anhaftung zwischen den Oberflächen resultiert.
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Falls
nötig oder
erwünscht,
kann die Anhaftung verstärkt
werden, indem man die Oberfläche
zunächst aufraut.
Dies kann durch O2-Plasma-Aufrauung erreicht werden (M.
Morra et al., Surf. Interf. Anal. 1990, 16, 412; Ryan et al., Macromolecules
1995, 28, 1377).
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Es
ist herausgefunden worden, dass gepulste Plasmapolymerisation in Übereinstimmung
mit der Erfindung ein wirksames Mittel zum Funktionalisieren fester
Substrate mit Epoxidgruppen ist. Die resultierenden funktionalisierten
Oberflächen
sind konventionellen Epoxid-Derivatisierungs-Chemien zugänglich.
Zusätzlich ist
herausgefunden worden, dass sie eine hervorragende Anhaftungsleistung
bieten.
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Es
folgt nun eine spezifische Beschreibung der Erfindung mittels Beispiel
und unter Bezugnahme auf die begleitenden schematischen Zeichnungen
und Reaktionsschemata, von denen:
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1 die
C(1s) XPS-Spektren von Glycidylmethacrylat-Plasmapolymeren zeigt, die auf einem
flachen Glassubstrat abgelagert wurden: (a) theoretische Kurve;
(b) 3 W kontinuierliche Welle; und (c) gepulst (Einschaltzeit =
20 μs, Ausschaltzeit:
20 ms, Spitzenlieferleistung = 40 W).
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2 Infrarotspektren
zeigt von: (a) Glycidylmethacrylat-Monomer; (b) 3 W kontinuierlichem
Wellenplasmapolymer; und (c) gepulstem Plasmapolymer (Einschaltzeit
= 20 μs,
Ausschaltzeit: 20 ms, Spitzenlieferleistung = 40 W).
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3 die
C(1s)-XPS-Spektren von Plasmapolymeren zeigt, die Trifluoressigsäuredampf
ausgesetzt wurden: (a) 3 W kontinuierliche Welle; und (b) gepulst
(Einschaltzeit = 20 μs,
Ausschaltzeit: 20 ms, Spitzenlieferleistung = 40 W).
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4 die
N(1s)- und C(1s)-XPS-Spektren von gepulstem Glycidylmethacrylat-Plasmapolymer,
das mit Diethylamin derivatisiert wurde, zeigt (Einschaltzeit =
20 μs, Ausschaltzeit:
20 ms, Spitzenlieferleistung = 40 W).
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5 die
Belastungs-/Spannungskurven zeigt von: (a) Polyethylensubstrat,
und (b) einer Einzelüberlappungsverbindung
von mit gepulstem Glycidylmethacrylat-Plasmapolymer beschichteten
Polyethylenstreifen (Einschaltzeit = 20 μs, Ausschaltzeit = 20 ms, Spitzenlieferleistung
= 40 W).
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6 den
Einfluss von 20 W Sauerstoffplasma-Vorbehandlungszeit auf die Stärke der Überlappungsverbindung
für PTFE-Substrat
zeigt, das nachfolgend mit gepulstem Glycidylmethacrylat-Plasmapolymer
beschichtet wurde (Einschaltzeit: 20 μs, Ausschaltzeit = 20 ms, Spitzenlieferleistung
= 40 W).
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7 die
C(1s)-XPS-Spektren von 3 W kontinuierlichem Allylglycidylether-Wellenplasmapolymer zeigt.
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8 die
Infrarotspektren zeigt von: (a) Allylglycidylethermonomer; (b) 3
W kontinuierlichem Wellenplasmapolymer; und (c) gepulstem Plasmapolymer
(Einschaltzeit = 20 μs,
Ausschaltzeit = 20 ms, Spitzenlieferleistung = 40 W).
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9 die
Infrarotspektren zeigt von: (a) Butadienmonoxid-Monomer; (b) 3 W kontinuierlichem Wellenplasmapolymer;
und (c) gepulstem Plasmapolymer (Einschaltzeit = 20 μs, Ausschaltzeit
= 20 ms, Spitzenlieferleistung = 40 W).
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Schema
1 die Reaktion zwischen einem Epoxidring und einem nukleophilen
Reagenz zeigt, wobei R ein organischer Rest ist und R1 eine
nukleophile Gruppe ist.
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Schema
2 die Reaktion von Poly(Glycidylmethacrylat) mit Trifluoressigsäure zeigt.
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Schema
3 die Reaktion von Poly(Glycidylmethacrylat) mit Diethylamin zeigt.
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Beispiel 1
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Die
Plasmapolymerisation von Glycidylmethacrylat (Aldrich, +97%, weiter
gereinigt unter Verwendung mehrerer Einfrier-Pump-Auftau-Zyklen) wurde in
einem zylindrischen Glasreaktor durchgeführt, der mittels einer mechanischen
Rotationspumpe über
eine auf flüssigem
Stickstoff basierende Kältefalle
(Basisdruck = 8 × 10–3 Torr
und Leckrate = 3,2 × 10–9 Mol/s)
leergepumpt wurde. Ein um den Reaktor ge wickeltes Kupferkabel wurde über ein
LC-Anpassungsnetzwerk mit einer 13,56 MHz Hochfrequenz-Spannungsquelle
verbunden. Vor jedem Versuch wurde die Kammer unter Verwendung eines
50 W Luftplasmas bei 0,2 Torr gereinigt. Glycidylmethacrylat-Monomer
wurde dann über
ein feines Kontrollnadelventil bei einem Druck von 0,2 Torr und
einer Fließgeschwindigkeit
von 1,2 × 10–7 Mol/s
eingeführt,
gefolgt von Filmablagerung für
15 Minuten. Der Reaktor wurde für
5 Minuten mit Monomerdampf gereinigt, gefolgt von Plasmaabscheidung.
Im Fall der gepulsten Plasmapolymerisation wurde ein Signalgenerator
verwendet, um die RF-Zufuhr auszulösen, und die Pulsform wurde
mit einem Oszilloskop überwacht.
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Die
Messungen der Quarzkristall-Ablagerungsgeschwindigkeit wurden während der
Plasmapolymerisation unter Verwendung eines Varian 985-7013 Dickemessmonitors
durchgeführt.
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Die
XPS-Analyse der erhaltenen Glycidylmethacrylat-Plasmapolymer-Beschichtungen bestätigten das
Vorliegen nur von Kohlenstoff und Sauerstoff an der Oberfläche, ohne
ein Durchdringen von Si(2p)-Signal aus
dem darunter liegenden Glassubstrat. Die C(1s)-Hülle enthielt eine Vielzahl
von Kohlenstoff-Funktionalitäten
sowohl für
die Schicht des kontinuierlichen Wellen-Plasmas als auch für die Schicht
des gepulsten Plasmapolymers: CH (285,0 eV), C(CH
3)(C=O)O
(285,7 eV), O-CH
2-CO (286,7 eV), Epoxid-Kohlenstoffe
(287,2 eV), C=O (287,8 eV) und C(=O)O (289,1 eV),
1.
Mit Ausnahme der Carbonylgruppe bei 287,8 eV (assoziiert mit dem
kontinuierlichen Wellenplasmapolymer), werden die verbleibenden
Peak-Zuordnungen auf die XPS-Spektren bezogen, die von dem konventionellen,
in Lösungsphase
polymerisierten Glycidylmethacrylat erhalten wurden. Die gepulste
Plasmapolymerisation erzeugte eine viel größere Konzentration an Epoxidgruppen
im Vergleich zu den kontinuierlichen Wellenbedingungen,
1 und
Tabelle 1. Tabelle
1: XPS-Analyse von Glycidylmethacrylat-Plasmapolymeren
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Infrarotspektren
von Plasmapolymerfilmen, die auf NaCl-Platten abgelagert worden
waren, wurden auf einem Mattson Polaris FTIR-Instrument bei einer Auflösung von
4 cm–1 gemessen
und über
100 Messungen gemittelt.
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Es
wurde Infrarotspektroskopie verwendet, um die molekulare Struktur
der abgelagerten Plasmabeschichtungen zu bestimmen (2).
Für das
Glycidylmethacrylat-Monomer wurden die folgenden Bandenzuordnungen
getroffen: Epoxidring C-H-Dehnung (3063 cm–1),
C-H-Dehnung (3000-2900
cm–1),
Acrylat-Carbonyl-Dehnung (1720 cm–1),
Acrylat C=C Dehnung (1637 cm–1), Epoxidring-Atmung
(1253 cm–1),
antisymmetrische Epoxidring-Deformation (908 cm–1),
und symmetrische Epoxidring-Deformation (842 cm–1).
Das schwache Absorptionsmerkmal, das bei 2360 cm–1 vorliegt,
stammt aus Hintergrund-CO2, das im FTIR-Spektrometer vorhanden ist.
Die über
kontinuierliche Wellen erfolgte Plasmaabscheidung von Glycidylmethacrylat
führte
zu breiten Infrarot-Absorptionsmerkmalen: Epoxidring C-H-Dehnung (3060 cm–1),
C-H-Dehnung (3000-2900 cm–1), gesättigte Ester-C=O
Dehnung (1728 cm–1), C=C Dehnung (1630
cm–1),
Epoxidring-Atmung (1253 cm–1), antisymmetrische
Epoxidring-Deformation (908 cm–1), und symmetrische
Epoxidring-Deformation (842 cm–1). Die Merkmale für den Epoxidring
und die Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung waren viel schwächer im
Vergleich zu dem Monomer, wogegen die Region der C-H-Streckung intensiver
war. Alle zu dem Glycidylmethacrylat-Monomer gehörenden Banden waren nach der
gepulsten Plasmapolymerisation klar erkennbar, mit Ausnahme des
Acrylat-Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungs-Merkmals, das während der Polymerisation verschwunden
war. Die intensiveren Infrarot-Absorptionsbanden, die zu dem Epoxidring
gehören,
bestätigen,
dass unter den elektrisch gepulsten Bedingungen eine größere strukturelle
Erhaltung stattgefunden hat.
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Die
Messungen der Quarzkristallablagerungsgeschwindigkeit ergaben Werte
von 19 ± 3 × 10–9 g
s–1 cm–2 und
2, 5 ± 0,
5 × 10–9 g
s–1 cm–2 für die Bedingungen
der kontinuierlichen Welle bzw. die gepulsten Bedingungen. Der niedrigere
Wert, der für
die gepulste Plasmapolymerisation erhalten wurde, kann im wesentlichen der
geringeren Energiezufuhr zugeschrieben werden. De facto wurde die
Abscheidungseffizienz (ausgedrückt als
Ablagerungsgeschwindigkeit geteilt durch die Energie) mit 6,3 bzw.
63 × 10–9 g
cm–2 J–1 berechnet.
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Beispiel 2
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Die
mit Epoxid funktionalisierten Oberflächen wurden dann für 30 min
mit Trifluoressigsäuredampf (Fluorochem
Limited, +99,5%) umgesetzt, gefolgt von Evakuierung, um alle absorbierten
Rückstände zu entfernen.
Andere Derivatisierungsreaktionen beinhalten die Exposition gegenüber Ethylendiamin
(Aldrich, +99%) und Diethylamin (Sigma, +98%); hier wurden die mit
Plasmapolymer beschichteten Glas-Objektträger in einer
Lösung
des Amins, verdünnt
mit Methanol (Fisher, +99,8%), für
24 Stunden eingetaucht und dann in reinem Methanol abgespült. Es wurde
Röntgen-Photoelektronen-Spektroskopie
(XPS)-Analyse unter Verwendung eines Kratos ES300-Spektrometers,
ausgestattet mit einer Mg Kα-Röntgenquelle
und einem halbkugeligen Analysator, der im festgelegten, retardierten
Verhältnis-Modus
(22:1) arbeitet, durchgeführt.
Die Photoelektronen wurden mit einem Startwinkel von 30° senkrecht
zum Substrat gesammelt. Die Elementzusammensetzung wurde berechnet
unter Verwendung von Sensitivitätsfaktoren,
die von chemischen Standards abgeleitet sind, C : O : F N entspricht
1,00 : 0,57 : 0,67 : 0,74. Alle Bindungsenergien wurden auf den
C(1s)-Kohlenwasserstoff-Peak bei 285,0 eV als Referenz bezogen.
Es wurde ein Marquardt Minimierungs-Computerprogramm verwendet,
um die Core Level-Hüllen
für Gauß'sche Peaks mit festgelegter
Breite passend zu machen.
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Der
Trifluoressigsäuredampf
machte die Reaktion bei der gepulsten Plasmapolymerbeschichtung
in einem größeren Ausmaß durch
(XPS-Messung: 4,1 ± 0,5%
und 16,0 ± 0,8%
Fluor für
die kontinuierlichen bzw. für
die gepulsten Plasmapolymerbeschichtungen), Schema 2. Diese Steigerung
für die
gepulste Plasmapolymerbeschichtung wurde durch die Identifizierung
von CF
3-Funktionalitäten bei 293,4 eV in der C(1s)-Hülle bestätigt,
3.
Der Anteil der Epoxidgruppen, die eine Monoveresterung durchgemacht
hatten, wurde unter Verwendung der F(1s)-Peakfläche wie folgt berechnet:
wobei x der Anteil der umgesetzten
Epoxide ist, [Epoxide]
0 die Anfangskonzentration
der Epoxidgruppen, [C]
0 die Anfangskonzentration
von Kohlenstoff, [O]
0 die Anfangskonzentration
von Sauerstoff und [F] der Prozentsatz von Fluor, der an der Oberfläche detektiert
wird, ist. Auf dieser Basis hatten 42% bzw. 89% der Oberflächen-Epoxidgruppen
mit den kontinuierlichen Wellen- bzw. gepulsten Plasmapolymerschichten
reagiert. Daher scheint es so, dass der Anteil an Epo xidgruppenzentren,
die aus der C(1s)-Peak-Anpassung berechnet wurden (
1),
bei den kontinuierlichen Wellenbedingungen wahrscheinlich eine Überschätzung ist.
Andere Gruppen, wie etwa Ether oder Carbonyle, müssen ebenfalls in der Plasmapolymerschicht
vorhanden sein und zu der Komponente bei etwa 287,2 eV im C(1s)-Spektrum beitragen. Überschüssige Trifluoressigsäure könnte potentiell
mit den Alkoholgruppen weiterreagieren, die während der Epoxidring-Öffnung gebildet
werden, um einen Diester zu produzieren, und dieser könnte zu
einer geringen Überschätzung bei
der Gesamt-Reaktionsausbeute
beitragen.
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Es
wurde Diethylamin verwendet, um die Reaktivität der Oberflächen-Epoxidgruppen
gegenüber
Aminen zu bestimmen. Dieses sekundäre Amin wurde ausgewählt, da
es in der Lage ist, nur einmal mit einem Epoxid-Zentrum zu reagieren
(Schema 2), was es somit viel einfacher macht, die Anzahl aminierter
Epoxide aus den korrespondierenden N(1s)-Peakflächen zu berechnen:
4,4% Stickstoff wurde durch
die XPS für
die gepulste Plasmapolymerschicht detektiert, was 59% der Oberflächen-Epoxidgruppen
entspricht, die die gemäß Schema
2 dargestellte Reaktion durchlaufen haben. Die zwei Peaks, die in
den N(1s)-Spektren zu sehen sind, können neutralem (399,8 eV) und
positiv geladenem Stickstoff (402,1 eV) zugeordnet werden (
4),
wobei letzterer vermutlich eher auf die Protonierung durch die Umgebungsfeuchtigkeit
zurückzuführen ist als
auf die Reaktion des Aminzentrums mit einer benachbarten Epoxidgruppe.
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Beispiel 3
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Für die Anhaftungsmessungen
wurde ein Tropfen (~ 3 μl)
einer Lösung
eines Kopplungsmittels (Ethylendiamin, 0,5 M in 1,4-Dioxan (Aldrich,
+99%)) zwischen zwei mit Glycidylmethacrylat-Plasmapolymer beschichtete
Streifen aus Polymerfilm (Polyethylen, PE, ICI, 0,08 mm Dicke oder
Polytetrafluorethylen, PTFE, Goodfellow, 0,25 mm Dicke) gebracht
und dann über
Nacht bei 60°C
gehärtet.
Nachfolgend wurden Einzelüberlappungs-Anhaftungstests
unter Verwendung eines Instron 5543 Tensilometers durchgeführt, das
bei einer Kreuzkopf-Geschwindigkeit von 1 mm/min arbeitete.
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Die
Ergebnisse der Messungen des Einzelüberlappungs-Anhaftungstests
zeigten, dass die Klebebindung stärker war als der Schwellenwert
für den
Bruch der Wirts-Polyethylenmatrix (Materialbruch trat bei 17 N auf
(5). In Abwesenheit entweder der Epoxid-Funktionalitäten oder
des Härtungsmittels
wurde keine Anhaftung zwischen den Polyethylenstreifen beobachtet.
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Im
Fall von PTFE war eine O2-Plasma-Aufrauung
des Substrats nötig,
bevor die gepulste Plasmaabscheidung von Glycidylmethacrylat erfolgte,
um eine gute Anhaftung zu erreichen. Hier versagte schließlich eher
die Verbindung als das Substrat, da PTFE wesentlich stärker als
PE ist (Materialbruch des PTFE erfolgte bei 45 N). Es wurde herausgefunden,
dass die Dauer der Sauerstoffplasma-Vorbehandlung die Stärke der
Klebeverbindung beeinflusst (6). Übermäßig lange
Sauerstoffplasma-Expositionen können
zu Polymerkettenspaltung und der Bildung von niedermolekularem Material
führen,
was einen nachteiligen Effekt auf die Anhaftung haben wird.
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Vergleichsbeispiel 4
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Die
Methodik aus Beispiel 1 wurde in Versuchen verwendet, Filme aus
Allylglycidylether (Struktur V) abzulagern.
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Dieses
Material wurde in der
US 5,876,753 als
geeignet für
die Verwendung bei der Plasmaabscheidung zur Erzeugung polymerer
Filme bezeichnet. Die Filme wurden unter Verwendung von 3 W kontinuierlichen
Wellen- und gepulsten Plasmatechniken hergestellt. Die Filme wurden
nachfolgend unter Verwendung von XPS und IR-Spektroskopie analysiert.
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Die
Ergebnisse der XPS-Analyse sind in Tabelle 2 zusammengefasst. Dies
zeigt, dass keiner der abgelagerten Filme molekulare Strukturen
zeigt, die man von dem polymerisierten Monomer erwarten würde, wenn
es die konventionelle Polymerisation über die C=C-Bindung durchmacht.
Die theoretischen Werte wurden aus der konventionellen Molekularstruktur
des polymerisierten Allylglycidylethers berechnet.
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Tabelle
2 – Elementaranalyse
von Allylglycidylether-Beschichtungen, wie durch XPS bestimmt
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Typische
Fehler von ± 2%
bei den gemessenen Werten.
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Es
ist zu beachten, dass die Schlüsselparameter
für die
gepulste Ablagerung die folgenden sind: Einschaltzeit = 20 μs, Ausschaltzeit
= 20 ms, Spitzenlieferleistung = 40 W.
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Die
Charakterisierung jedes Films wird nun in größerem Detail diskutiert.
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Film A - abgelagert durch
ein 3W kontinuierliches Wellenverfahren
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Der
durch das kontinuierliche Wellenverfahren abgelagerte Film zeigte
im Bezug zum theoretischen Wert eine Erschöpfung des Sauerstoffgehalts.
Es wurde kein Si(2p)-Peak von dem Glassubstrat beobachtet, was anzeigt,
dass ein Film von angemessener Dicke produziert wurde. Das C(1s)-XPS-Spektrum
des Films ist in 7 dargestellt. Die Spektren
sind durch einen starken Kohlenwasserstoff-Peak (285,0 eV) gekennzeichnet,
jedoch sind andere Funktionalitäten
erkennbar, wie etwa C-O (286,5 eV) und C=O (288,2 eV). Die letztgenannte
Funktionalität
ist im Monomer nicht vorhanden und könnte auf die Umordnung des
Moleküls
in der Plasmaumgebung zurückzuführen sein.
Das IR-Spektrum (8) zeigt die Anwesenheit von
C=O-Gruppen (1728 cm–1) an, während eine
kleine Menge an Epoxy-Funktionalität erhalten
bleibt, angezeigt durch kleine Peaks bei 1259 cm–1 und
848 cm–1.
Der C=O-Peak überlappt
mit dem C=C-Peak, der nicht verschwunden ist.
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Diese
Daten zeigen an, dass kontinuierliche Wellenablagerung Filme dazu
veranlasst, derart abgelagert zu werden, dass das meiste der Epoxy-Funktionalität entfernt
wird. Dies ist nicht erwünscht,
um die die Ziele der amtlich vorliegenden Erfindung zu erreichen.
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Filme B und
C - abgelagert durch das gepulste Verfahren
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Die
gepulste Plasmatechnik erbrachte sehr langsame Ablagerungsgeschwindigkeiten,
wie durch das Vorkommen von Si-Peaks in den XPS-Spektren beider
Filme B und C belegt. Die C(1s)-Hülle zeigte einen funktionalisierten
Kohlenstoff mit der Anwesenheit sowohl von C-O- als auch von C=O-Gruppierungen.
Dies zeigt an, dass einige der Epoxy-Funktionalitäten verloren
gegangen sind. Die IR-Spektren der Filme B und C waren sehr gering
(wofür
ein Beispiel in 8 zu sehen ist).
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Diese
Arbeit zeigt, dass das Verfahren der vorliegenden Erfindung unerwartete
Vorteile gegenüber
der Arbeit von Timmons aufweist. Das kontinuierliche Wellenverfahren
und das gepulste Verfahren, die den Allylglycidylether verwenden,
erzeugen Filme, bei denen eine wesentliche Menge der Epoxy-Funktionalität verloren
gegangen ist. Weiterhin ist das Ablagerungsverfahren unter Verwendung
der gepulsten Technik inakzeptabel langsam. Das Verfahren der vorliegenden
Erfindung leidet unter keinem der Probleme, an denen ein analoges
Verfahren, das Allylglycidylether verwendet, leidet.
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Vergleichsbeispiel 5
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Die
Methodik aus Beispiel 1 wurde für
den Versuch verwendet, Filme aus Butadienmonoxid (Struktur VI) abzulagern.
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Die
Ergebnisse der XPS-Analyse sind in Tabelle 3 zusammengefasst. Dies
zeigt, dass keiner der abgelagerten Filme molekulare Strukturen
aufweist, die man bei dem polymerisierten Monomer erwarten würde, wenn
das Monomer eine konventionelle Polymerisation durchmacht. Die theoretischen
Werte wurden aus den konventionellen molekularen Strukturen des
polymerisierten Butadien-Monoxids berechnet. Tabelle
3 – Elementaranalyse
von Butadienmonoxid-Beschichtungen, wie durch XPS bestimmt
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Typische
Fehler von ± 2%
bei den gemessenen Werten.
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Es
ist zu beachten, dass die Schlüsselparameter
für die
gepulste Ablagerung die folgenden sind: Einschaltzeit = 20 μs, Ausschaltzeit
= 20 ms, Spitzenlieferleistung = 40 W.
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Die
Charakterisierung jedes Films wird nun in größerem Detail diskutiert.
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Film D - abgelagert durch
ein 3W kontinuierliches Wellenverfahren
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Der
durch das kontinuierliche Wellenverfahren abgelagerte Film zeigte
im Bezug zum theoretischen Wert eine Erschöpfung des Sauerstoffgehalts.
Es wurde kein Si (2p)-Peak von dem Glassubstrat beobachtet, was
anzeigt, dass ein Film von angemessener Dicke produziert wurde.
Das IR-Spektrum (9) zeigt die Anwesenheit von
C=O-Gruppen (ca. 1730 cm–1) an. Es ist schwer,
zu bestimmen, ob eine kleine Menge an Epoxy-Funktionalität erhalten
geblieben ist; diese würde
durch das Vorliegen von Peaks bei ca. 1259 cm–1 und
848 cm–1 angezeigt.
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Diese
Daten zeigen, dass kontinuierliche Wellenablagerung Filme dazu veranlasst,
derart abgelagert zu werden, dass das meiste, wenn nicht alles der
Epoxy-Funktionalität
entfernt wird. Dies ist unter den gegebenen Zielen der amtlich vorliegenden
Erfindung nicht wünschenswert.
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Film E - abgelagert
durch das gepulste Verfahren
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Die
gepulste Plasmatechnik erbrachte sehr langsame Ablagerungsgeschwindigkeiten,
wie durch das Vorkommen von Si-Peaks in den XPS-Spektren von Film
E belegt. Das IR-Spektrum von Film E war sehr schwach (siehe 9).
Dies steht in Übereinstimmung
mit dem Vorliegen einer sehr dünnen
Beschichtung.
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Diese
Arbeit zeigt, dass das Verfahren der vorliegenden Erfindung unerwartete
Vorteile gegenüber
der Arbeit von Timmons aufweist. Das kontinuierliche Wellenverfahren
unter Verwendung des Butadienmonoxids erzeugt Filme, bei denen eine
wesentliche Menge der Epoxy-Funktionalität verloren gegangen ist. Weiterhin ist
das Ablagerungsverfahren bei Verwendung der gepulsten Technik inakzeptabel
langsam. Das Verfahren der vorliegenden Erfindung leidet unter keinem
der Probleme, an denen ein analoges Verfahren, das Butadienmonoxid
verwendet, leidet.