DE60024425T2

DE60024425T2 - Herstellungsverfahren eines substrats für plasma-anzeigetafel und in diesem verfahren angewendete giessform

Info

Publication number: DE60024425T2
Application number: DE60024425T
Authority: DE
Inventors: Chikafumi Kawasaki-shi YOKOYAMA
Original assignee: Minnesota Mining and Manufacturing Co
Current assignee: 3M Co
Priority date: 1999-03-25
Filing date: 2000-02-16
Publication date: 2006-08-03
Anticipated expiration: 2020-02-17
Also published as: KR100721728B1; CN1345455A; CN1280862C; EP1166310B1; AU2997700A; EP1166310A1; KR20020009581A; DE60024425D1; WO2000058990A1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren eines Substrats für eine Plasma-Anzeigetafel (nachstehend ebenfalls als „PDP" bezeichnet) und eine in diesem Verfahren angewendete Gießform.
HINTERGRUND
Die PDP ist vorgesehen, um als eine dünne Großbildanzeigeeinheit verwendet zu werden. Generell ist die PDP mit einem so genannten Substrat für PDP ausgerüstet. Typisches Substrat für PDP setzt sich aus einem Paar Glasflachplatten zusammen, die sich in einem Abstand gegenüber liegen, dies über eine Rippe mit einer vorbestimmten Dimension (ebenfalls als eine Sperrrippe, Abtrennung oder Sperre bezeichnet). In diesem Fall trennt eine derartige Rippe auf luftdichte Weise den Raum zwischen einem Paar Glasplatten in Zellen, um mehrere Entladungsanzeigezellen zu bilden, die fähig sind, ein Entladungsgas wie Neon, Helium oder Xenon zu enthalten.
Es wurden verschiedene Vorschläge gemacht, um die Rippe herzustellen und bereit zu stellen und es ist beispielsweise ein Verfahren bekannt, das eine Gießform verwendet. Gemäß dieses Verfahrens wird generell eine Formmasse in die Gießform gefüllt und in einen Formling umgewandelt, der zur Übertragung zu einer plattenförmigen Basis durch eine thermische oder optische Wirkung fähig ist. Durch Entfernen der Gießform von der Rippe wird die Rippe fast kontinuierlich mit verhältnismäßig hoher Genauigkeit hergestellt und bereit gestellt.
Im Falle eines allgemeinen Substrats für PDP wird beispielsweise eine Basis aus Glas oder Keramik und eine Rippe verwendet. Eine Gießform für ein typisches Substrat für PDP ist andererseits aus Metall, Glas oder Keramik, wie beispielsweise in der Patentschrift JP-A 9-12336 offenbart wird. Demgemäß verfügen die Basis und die Rippe beinahe über dieselbe Härte wie die Gießform oder über eine niedrigere Härte als die Gießform. Wenn die Gießform von der Rippe entfernt wird, besteht infolgedessen die Gefahr, dass der Bruch der Basis oder der Rippe hervorgerufen wird, oder der Bruch der Gießform selbst. Ein derartiger gravierender Bruch tritt häufig auf, wenn die Rippe durch Verwenden einer Gießform aus Glas, Keramik oder Metall ausgeformt wird, wie es in der Patentschrift JP-A-9-283017 offenbart wird. Die Gießform wird wiederholt für Massenproduktion verwendet. Es ist nicht bevorzugt, die gebrochene Rippe in der Gießform zu lassen, da die Gießform jedes Mal gespült werden muss, wenn die Rippe gemacht wird, wodurch die Produktivität reduziert wird.
Die Patentschrift JP-A-9-134676 offenbart ebenfalls, dass eine Gießform, die aus einem Silikonharz gemacht ist, das über eine Härte verfügt, die niedriger als die von Glas oder Keramik ist, verwendet wird.
Das Silikonharz ist generell jedoch brüchig. Demgemäß kann nicht vorgesehen werden, die Gießform aus Silikonharz wiederholt für die Massenproduktion zu verwenden.
Die Patentschrift WO-A-99/10909 und die entsprechende Patentschrift EP-A-0 935 275 offenbaren einen Herstellungsprozess einer Plasma-Anzeigetafel, die eine Basis und eine Rippe aufweist, wobei eine Gießform, die aus Silikon gebildet ist, mit einer Sperrrippenmasse gefüllt wird und mit einer Basis in Berührung gebracht wird. Anschließend wird die Gießform entfernt und der Rippenpräkursor befeuert.
Die Patentschrift EP-A-0 196 033 beschreibt die Foto herstellung von Meister-Reliefhöhen unter Verwendung eines Werkstoffes mit einer Fotoaushärtungskomponente und einem Fotoaushärtungsinitiator.
Die Patentschrift WOA-99/60446 offenbart ein Herstellungsverfahren eines Substrats für eine Plasma-Anzeigetafel, das eine fotosensible Rippenmasse und eine Kunststoff-Gießform verwendet.
KURZDARSTELLUNG DER ERFINDUNG
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Herstellungsverfahren eines Substrats für PDP bereit zu stellen, das fähig ist, wiederholt eine Gießform zu verwenden, und dabei den Bruch einer Basis oder einer Rippe zu verhindern, und eine in diesem Verfahren angewendete Gießform.
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist ein Herstellungsverfahren eines Substrats für eine Plasma-Anzeigetafel bereit gestellt, indem eine Rippe auf einer Basis bereit gestellt wird, das jeweils die Schritte der Ansprüche 1 und 2 aufweist. Die abhängigen Ansprüche beziehen sich auf einzelne Ausführungsformen des Verfahrens.
Der Begriff „Absorptionskante", der in der vorliegenden Spezifizierung verwendet wird, bezieht sich auf einen Wellenlängen-Abschnitt, worin ein Absorptionsvermögen in einem kontinuierlichen Lichtabsorptionsspektrum eines Objektes drastisch abnimmt und es transparent wird, wenn die Wellenlänge länger als der Wellenlängen-Abschnitt wird.
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist ebenfalls eine Gießform für ein Substrat für eine Plasma-Anzeigetafel mit den Merkmalen von Anspruch 8 bereit gestellt. Die abhängigen Ansprüche beziehen sich auf einzelne Ausführungsformen der Gießform.
KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Es zeigen:
1 eine partiell auseinander gezogene Perspektivansicht, die eine Ausführungsform des Substrats für PDP zeigt.
2 ein Fließschema, das die Schritte des Herstellungsverfahrens des Substrats für PDP gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
Die vorliegende Erfindung wird anhand der folgenden Ausführungsformen beschrieben, schränkt sich jedoch nicht auf diese ein, wie es für den normalen Fachmann ersichtlich ist. In den Zeichnungen wird dieselbe Bezugszahl an denselben oder äquivalenten Abschnitt angewandt.
In einer partiell auseinander gezogenen Perspektivansicht in 1 wird eine Ausführungsform des Substrats für PDP gemäß der vorliegenden Erfindung schematisch gezeigt. Dieses Substrat 10 für PDP ist das verwendete so genannte AC-PDP und ist vorzugsweise mit transparenten Flachplatten aus leicht erhältlichem Natronkalkglas ausgerüstet, die sich mit einem Abstand gegenüber liegen, d.h. eine Hinterplatte 12 und eine Vorderplatte 14. Zwischen der Hinterplatte 12 und der Vorderplatte 14 sind mehrere Rippen 16 mit einer vorbestimmten Dimension bereit gestellt, um den Raum zwischen den Platten in Zellen zu trennen, wodurch es möglich gemacht wird, mehrere Entladungsanzeigezellen 18 zu bilden.
Die Rippe 16, die in der Zeichnung gezeigt wird, ist aus einer fotosensiblen Masse (Rippenpräkursor) gebil det. Vorzugsweise fotosensible Masse enthält eine erste Fotoaushärtungskomponente als eine Bindekomponente, einen Fotoaushärtungsinitiator mit einer ersten Absorptionskante und ein Keramikpulver und, sofern not wendig, ein Glaspulver. Das Keramikpulver wird verwendet, um der Rippe eine feste Form zu bieten, und ist vorzugsweise aus Aluminiumoxid, Siliziumoxid, Titanoxid oder Wollastonit mit hoher Festigkeit.
Die erste Fotoaushärtungskomponente ist fotopolymerisiert in der Anwesenheit des Fotoaushärtungsinitiators mit einer ersten Absorptionskante, wodurch es möglich gemacht wird, die Form der Rippe 16 zurück zu halten. Die erste Fotoaushärtungskomponente ist nicht besonders eingeschränkt, ist jedoch vorzugsweise ein Acrylharz. Die erste Fotoaushärtungskomponente kann beispielsweise ebenfalls aus einem Acrylmonomer oder -oligomer sein, oder einem Silankopplungsmittel mit einer Methacrylgruppe. Insbesondere HEMA (Hydroxyethyl-Methacrylat), HEA (Hydroxyethyl-Acrylat), Bis GMA (Bisphenol-A-Diglycidylether-Methacrylat) oder Triethylenglykol-Dimethacrylat-Monomer oder -Oligomer davon usw. können vorzugsweise verwendet werden.
Besonders wenn die erste Fotoaushärtungskomponente aus einem Silankopplungsmittel mit einer Methacrylgruppe ist, wird durch Fotopolymerisation der Methacrylgruppe ein Netzwerk gebildet, wodurch es möglich gemacht wird, Keramikpulver zurück zu halten und zu enthalten. Zusätzlich bildet die erste Fotoaushärtungskomponente des Silankopplungsmittels polymeres Siliciumdioxid mit einem hohen Schmelzpunkt durch Kalzinieren. Dieses Netzwerk aufgrund des Silankopplungsmittels wird im Wesentlichen durch Siliciumdioxidereignis bei verhältnismäßig hoher Temperatur nach dem Kalzinieren zurück gehalten, wodurch es möglich gemacht wird, das Keramikpulver oder Glaspulver zurück zu halten. Ein derartiges Silankopplungsmittel ist vorzugsweise γ-Methacryloxypropyl-Methyltrimethoxysilan, γ-Methacryloxypropyl-Me thyldimethoxysilan, γ-Methacryloxypropyl-Triethoxysilan oder γ-Methacryloxypropyl-Methyldiethoxysilan mit einem Molekulargewicht von 232 bis 290 im Hinblick auf Verfügbarkeit.
Das Glaspulver wird verwendet, um die Festigkeit zu erhöhen, indem der Rippe eine dichte Struktur geboten wird. Das Glaspulver wird grundsätzlich in ausreichender Menge verwendet, um den kleinen Raum zu füllen, zwischen dem Netzwerk aus Siliciumdioxid und dem Keramikpulver, das mit dem Netzwerk umgeben ist. Wenn das Netzwerk nicht existiert, ist es nicht notwendig, dass das Glaspulver keinen großen Raum zwischen Keramikpulvern füllt. Infolgedessen kann die Festigkeit der Rippe durch eine verhältnismäßig kleine Menge des Glaspulvers erhöht werden. Zum Beispiel, selbst wenn das Glaspulver ausschließlich Blei mit einem hohen Massenabsorptionskoeffizienten enthält, wird die Rate der Fotoaushärtung kaum beeinflusst. Die Verwendung des Glaspulvers aus teurem Glas mit einem niedrigen Schmelzpunkt kann ebenfalls verhindert werden. Grundsätzlich ist das Glaspulver in der Menge von 10 bis 70 Volumen-% enthalten. Vorzugsweise ist das Glaspulver in der Menge von 20 bis 50 Volumen-% enthalten, wodurch ferner die Festigkeit der Rippe erhöht wird.
Wenn dieses Netzwerk gemeinsam mit dem Glaspulver erwärmt wird, wird das Netzwerk zurück gehalten solange Siliciumdioxid, durch das es gebildet wird, nicht den Schmelzpunkt von Siliciumdioxid erreichet, um somit im Wesentlichen keine Volumenänderung zu bewirken. Falls irgendeine Volumenänderung auftritt, ist der Grad gering.
Wenn die Vorderplatte 14 oder die Hinterplatte 12 beispielsweise aus Glas mit einem Glühpunkt von 550°C ist, hat das Glaspulver vorzugsweise einen Erweichungspunkt von 450–550°C, der niedriger als der Glühpunkt der Platten ist. Selbst wenn das Glaspulver mit einem derartigen Erweichungspunkt gemeinsam mit der Vorderplatte oder der Hinterplatte des Glases, das in einen Spalt fließen soll, erwärmt wird, kann einer thermischen Verformung der Vorderplatte 14 oder der Hinterplatte 12 vorgebeugt werden. Das Glaspulver besteht aus Bleiglas mit Bor, Zink, Phosphorsäure, Blei, Titan oder einer Kombination davon, Aluminumphosphatglas, Bortitanglas, Bismuthglas oder Zinkglas. Um die Zeit der Fotoaushärtung des Rippenpräkursors zu reduzieren, ohne einen hohen Massenabsorptionskoeffizienten in Betracht zu ziehen, ist vorzugsweise Bor, Zink, Phosphorsäure, Titan oder eine Kombination davon enthalten. In diesem Fall ist jede Zusammensetzung nicht besonders eingeschränkt.
In jeder Entladungsanzeigezelle 18 ist eine Adress-Elektrode 20 auf einer Hinterplatte 12 an einer Rippe 16 entlang bereit gestellt. Auf einer Vorderplatte 14 ist eine transparente Bus-Elektrode 22 aus einem Indiumzinnoxid (ITO) senkrecht zu einer Rippe 16 bereit gestellt. Zusätzlich ist ein Entladungsgas wie Neon, Helium, Xenon oder ähnliches zwischen der Adress-Elektrode 20 und der Bus-Elektrode 22 enthalten, wodurch es möglich gemacht wird, Licht durch Entladung auszustrahlen. An jeder Adress-Elektrode 20 ist eine fluoreszierende Schicht 24 in einer vorbestimmten Ordnung bereit gestellt, wodurch es möglich gemacht wird, Farbanzeige auszuführen. An der Vorderplatte 14 und der Bus-Elektrode 22 ist eine transparente dielektrische Schicht 26 bereit gestellt, um die Bus-Elektrode 22 zu beschichten, wodurch es möglich gemacht wird, das Leben der PDP zu erweitern, und dies durch das Inhibieren der Zerstäubung der Bus-Elektrode 22.
Unter Bezugnahme auf ein Fließschema, das die Schritte der Herstellung des Substrats für PDP von 2 zeigt, wird nachstehend die Bildung einer Rippe und einer Vorrichtung dafür näher beschrieben.
Erst wird eine Gießform 30 mit einem konkaven Abschnitt 28, der der Form einer Rippe 16 entspricht, vorbereitet (siehe 2(A)). Der nicht in der Zeichnung dargestellte konkave Abschnitt 28 kann einen trapezförmigen Schnitt aufweisen. Der Gießform kann ebenfalls Reaktionsbereitschaft verliehen werden, indem die Fläche des konkaven Abschnitts mit einem Trennmittel beschichtet wird, was ebenfalls nicht in der Zeichnung dargestellt ist.
Diese Gießform 30 kann erhalten werden durch das Fotoaushärten einer zweiten Fotoaushärtungskomponente in Anwesenheit eines zweiten Fotoaushärtungsinitiators mit einer zweiten Absorptionskante. Als die zweite Fotoaushärtungskomponente kann ein Acrylmonomer oder -oligomer verwendet werden. Es kann besonders ein Acrylmonomer oder -oligomer, ein aliphatisches Urethanacrylat, im Handel von Henschel Co. unter dem Markennamen „Photomer 6010" erhältlich, oder 1,6-Hexanedioldiacrylat, das im Handel von Shin-Nakamura Chemical Co. erhältlich ist, vorzugsweise verwendet werden. Da die Gießform durch Fotopolymerisation geformt ist, ist das Schneiden der sich ergebenden Gießform 30 nicht notwendig. Da die Fotopolymerisation verhältnismäßig schnell erfolgt, kann die Gießform 30 leicht in kurzer Zeit erhalten werden.
Da eine derartige Gießform 30 über eine Härte verfügt, die niedriger als die von allgemeinem Glas oder Keramik ist, kann der Bruch von der Rippe und der Basis im Falle des Entfernens der Gießform vom Substrat verhindert werden. Infolgedessen kann die Gießform wiederholt verwendet werden, ohne gespült zu werden.
Wie weiter oben erwähnt wird die Fotopolymerisation der zweiten Fotoaushärtungskomponente in Anwesenheit des zweiten Fotoaushärtungsinitiators mit einer zweiten Absorptionskante ausgeführt, deren Wellenlänge kürzer als eine Wellenlänge ist, die der ersten Absorptions kante des ersten Fotoaushärtungsinitiators entspricht. Ein derartiger zweiter Fotoaushärtungsinitiator kann kein Licht absorbieren, dessen Wellenlänge länger als eine Wellenlänge ist, die der zweiten Absorptionskante entspricht. Andererseits, wenn der Rippenpräkursor durch Licht mit einer Wellenlänge, die länger als eine Wellenlänge ist, die der zweiten Absorptionskante entspricht, erstarrt wird, wird nur die erste Fotoaushärtungskomponente durch Fotopolymerisation erstarrt, wodurch es möglich gemacht wird, die gleichzeitige Fotopolymerisation von der zweiten Fotoaushärtungskomponente zu verhindern, selbst wenn eine unreagierte zweite Fotoaushärtungskomponente in der Gießform 30 geblieben ist. Vorzugsweiser Fotoaushärtungsinitiator enthält beispielsweise Aminoketonen (400–430 nm), Bisacylphosphinoxid (440 nm), Camphorquinon (500 nm), Metallocen-Hydroxyketon (500 nm) und Benzyl-Dimethylketal (380 nm) und sind im Handel von Ciba Geigy Co. unter dem Markennamen Irgacure 2959 (370 nm), Irgacure 184 (380 nm), Dalocure 1173 (380 nm), Irgacure 500 (380 nm), Irgacure 1000 (380 nm), Irgacure 651 (390 nm), Irgacure 907 (400 nm), Irgacure 149 (420 nm), Irgacure 1700 (440 nm), Irgacure 1850 (440 nm), Irgacure 819 (450 nm), Irgacure 369 (480 nm) und Irgacure 784 (500 nm) erhältlich. Demgemäß kann die Auswahl des ersten Fotoaushärtungsinitiators und des zweiten Fotoaushärtungsinitiators ausgeführt werden, indem zwei Arten von Fotoaushärtungsinitiatoren passend ausgewählt werden, die über verschiedene vorgenannte Absorptionskanten verfügen. Eine Kombination des ersten Fotoaushärtungsinitiators und des zweiten Fotoaushärtungsinitiators enthält beispielsweise Dalocure 1173 mit einer Absorptionskante an einer Wellenlänge, die 380 nm entspricht, und Irgacure 819 mit einer Absorptionskante an einer Wellenlänge, die 440–450 nm entspricht, Irgacure 1700 und Irgacure 1850, oder ähnliches.
Danach wird eine fotosensible Masse 32 an die Gießform 30 angewandt und der konkave Abschnitt 28 wird mit ihr gefüllt (siehe 2(B)). Die fotosensible Masse 32 verfügt vorzugsweise über eine Viskosität von 1 Pas bis 100 Pas (1 × 10³ bis 1 × 10⁵ cps). Durch das Verwenden der Viskosität innerhalb eines derartigen Bereiches, kann das Auffüllen der fotosensiblen Masse mit hoher Genauigkeit ausgeführt werden. Die fotosensible Masse, die ein Silankopplungsmittel als die erste Fotoaushärtungskomponente enthält, kann eine Mineralsäure wie Salzsäure, Salpetersäure oder ähnliches enthalten, um das Silankopplungsmittel zu hyrolisieren, wodurch eine fotosensible Masse in Form eines Sols bereit gestellt wird. Eine derartige fotosensible Masse wird nicht durch Trocknen geliert, wodurch es möglich gemacht wird, das Keramikpulver und das Keramikpulver zu dispergieren. Darüber hinaus hängt die Viskosität nicht von der Wassermenge ab.
Danach wird eine Hinterplatte 12 in Berührung mit der fotosensiblen Masse 32 gebracht (siehe 2(C)). Die vorgenannte zweite Fotoaushärtungskomponente kann der Gießform 30 Flexibilität auf Fotopolymerisation verleihen. In einem derartigen Fall wird die Gießform 30 in Berührung gebracht mit der fotosensiblen Masse 32 vom einen Ende, indem die Gießform gebogen wird. Demgemäß wird Luft zwischen der Hinterplatte 12 und der fotosensiblen Masse 32 effizient nach Außen entfernt und es wird ebenfalls die Luftinfiltration in die fotosensible Masse 32 verhindert.
Danach wird die erste Fotoaushärtungskomponente polymerisiert, durch Einwirkenlassen auf die fotosensible Masse 32 von Licht (UV) mit einer Wellenlänge, die länger als die von der zweiten Absorptionskante der zweiten Fotoaushärtungskomponente ist, wodurch ein Rippenformling 34 erhalten wird (siehe 2(C)). In diesem Fall wird die Polymerisation hauptsächlich nur durch Licht-Einwirkenlassen ausgeführt und erfordert keine Wärmeführung, deren Steuerung im Prinzip schwierig ist. Die zweite Fotoaushärtungskomponente der vorliegenden Ausführungsform kann der Gießform 30 ebenfalls Transparenz auf Fotopolymerisation verleihen. Wenn die Gießform 30 transparent ist, kann das Einwirkenlassen von Licht auf die fotosensible Masse 30 gleichzeitig von beiden Flächen ausgeführt werden, nicht nur durch die Hinterplatte 12 sondern ebenfalls durch die Gießform 30. Infolgedessen kann Licht den ersten Fotoaushärtungsinitiator und die erste Fotoaushärtungskomponente genügend erreichen, die in den Tiefen des konkaven Abschnitts 28 bestehen, und die unreagierte erste Fotoaushärtungskomponente verbleibt nicht am freien Ende des Formlings 34. Darüber hinaus wird dem Formling 34 im Wesentlichen uniforme mechanische Festigkeit geboten.
Licht, das zum Einwirkenlassen verwendet wird, verfügt über eine verhältnismäßig lange Wellenlänge und wird nur im ersten Fotoaushärtungsinitiator absorbiert. Demgemäß wird Licht nicht im Wesentlichen durch den zweiten Fotoaushärtungsinitiator absorbiert, und nur die Polymerisation der ersten Fotoaushärtungskomponente wird initialisiert, um den Formling 34 zu erhalten. Selbst wenn die unreagierte zweite Fotoaushärtungskomponente in der Gießform 30 verbleibt, ist es infolgedessen möglich, die unreagierte zweite Fotoaushärtungskomponente daran zu hindern, mit der ersten Fotoaushärtungskomponente zu reagieren. Dies bedeutet, dass der Formling 34 fähig ist, die Adhäsion an der Gießform 30 durch Fotopolymerisation zu verhindern.
Danach wird der Formling 34 von der Gießform 30 entfernt, wodurch der Formling 34 integral zur Hinterplatte übertragen wird (siehe 2(D)). Wie vorstehend erwähnt, wird die Adhäsion des Formlings 34 an dem Gießform verhindert. Demgemäß kann ein derartiges Entfernen leicht ausgeführt werden, ohne den Bruch der Hinterplatte 12 oder des Formlings 34 oder dessen freien Endes hervorzurufen, wodurch es in der Gießform 30 gelassen wird. Infolgedessen wird es ermöglicht, die Gießform 30 wiederholt zu verwenden, ohne diese zu spülen, wodurch es möglich gemacht wird, die Produktivität des Substrats für PDP zu verbessern.
Danach werden sowohl der Formling 34 als auch die Hinterplatte 12 in einen Kalzinierofen (nicht dargestellt) gegeben und bei einer vorbestimmten Temperatur kalziniert, um eine Rippe 16 zu erhalten (siehe 2(E)). Vor und nach diesem Kalzinieren wird die Retention des vorgenannten Netzwerkes im Wesentlichen realisiert, wodurch die Schrumpfung des Formlings reduziert wird. Demgemäß ist es möglich, eine Rippe, die der Form des konkaven Abschnitts entspricht, mit guter Genauigkeit zu realisieren.
Sofern nötig, kann eine Adress-Elektrode ebenfalls zwischen Rippen an der Hinterplatte gebildet werden, und eine fluoreszierende Schicht kann an der Adress-Elektrode bereit gestellt werden. Danach kann eine transparente Vorderplatte, an der vorher eine Bus-Elektrode gebildet wurde, ebenfalls angeordnet sein, um der Hinterplatte über eine Rippe gegenüber zu liegen. Darüber hinaus können die peripheren Abschnitte der Vorderplatte und der Hinterplatte auf luftdichte Weise durch Verwenden eines Dichtungsmaterials, das nicht in der Zeichnung gezeigt wird, abgeschlossen sein, wodurch eine Entladungsanzeigezelle zwischen der Vorderplatte und der Hinterplatte gebildet wird. Danach kann die Entladungsanzeigezelle evakuiert werden und es kann ein Entladungsgas eingeführt werden, um ein Substrat für PDP zu bilden.
Obwohl die vorliegende Erfindung in Übereinstimmung mit dem AC-Substrat für PDP beschrieben wurde, ist es für einen normalen Fachmann verständlich, dass die vorliegende Erfindung ebenfalls an das DC-Substrat für PDP angewandt werden kann.
BEISPIELE
Beispiel 1
Eine fotosensible Masse wurde im folgenden Verfahren vorbereitet. Zuerst wurden 4 g γ-Methacryloxypropyl-Methyldimethoxysilan (von Nippon Unicar Co. hergestellt) als eine erste Fotoaushärtungskomponente vorbereitet. Zusätzlich wurde 1 g einer gemischten Lösung einer wässrigen 0,01 N Salpetersäurelösung und Ethanol in einem Molarverhältnis von 2:1 vorbereit. Nachdem diese Komponenten gemischt und genügend verrührt wurden, ging das Gemisch durch zwölfstündiges Stehenlassen bei 70°C eine Reaktion ein. Danach wurde das Reaktionsprodukt bei 70°C getrocknet und Wasser und Alkohol wurden durch Verdampfung entfernt.
Zu 4 g dieses getrockneten Reaktionsproduktes wurden 0,03 g des ersten Fotoaushärtungsinitiators und 16 g eines Keramikpulvers hinzugefügt. Als den ersten Fotoaushärtungsinitiator wurden bis(2,4,6-Trimethyilbenzoyl)-Phenylphosphinoxid, im Handel von Ciba Geigy Co. unter dem Markennamen Irgacure 819 erhältlich, verwendet. Dieser erste Fotoaushärtungsinitiator verfügt über eine Absorptionskante an einer Wellenlänge von 450 nm. Als das Keramikpulver wurde ein α-Aluminiumoxid, das im Handel von Showa Denko Co. unter dem Markennamen AJ-45-2 erhältlich ist, verwendet. Dieses α-Aluminiumoxid verfügt über einen durchschnittlichen Partikeldurchmesser von 2,1 μm.
Danach wurde eine Gießform mit einem konkaven Abschnitt, der der Form einer Rippe entspricht, vorbereitet. Diese Gießform wurde aus einer zweiten Fotoaushärtungskomponente in Anwesenheit von 1 Gewichts-% eines zweiten Fotoaushärtungsinitiators gebildet. Als die zweite Fotoaushärtungskomponente wurde ein aliphatisches Urethanacrylat-Oligomer, das im Handel von Henschel Co. unter dem Markennamen Photomer 6010 er hältlich ist, verwendet. Als der zweite Fotoaushärtungsinitiator wurde 2-Hydroxy-2-methyl-l-phenyl-propan-l-on, das im Handel von Ciba Geigy Co. unter dem Markennamen Dalocure 1173 erhältlich ist, verwendet. Dieser Initiator verfügt über eine Absorptionskante an einer Wellenlänge, die 380 nm entspricht. Fotopolymerisation der zweiten Fotoaushärtungskomponente wurde durch das Einwirkenlassen von ultraviolettem Licht von 200 bis 450 nm von einer von Ushio Denki Co. hergestellten ultravioletten Lichtquelle (Markenname: Unicure) ausgeführt.
Der konkave Abschnitt der Gießform wurde mit der vorgenannten fotosensiblen Masse gefüllt. Danach wurde eine transparente Hinterplatte auf dieser Gießform angebracht, wodurch das In-Berührung-Bringen mit fotosensibler Masse im konkaven Abschnitt erfolgte. Unter Verwendung einer von Philips Co. hergestellten fluoreszierenden Lampe wurde die Fotopolymerisation der ersten Fotoaushärtungskomponente ausgeführt durch das Einwirkenlassen von Licht mit einer Wellenlänge von 400 bis 500 nm, und dies 30 Sekunden lang. Das Einwirkenlassen von Licht wurde gleichzeitig von beiden Seiten von der transparenten Gießform und dem transparenten Substrat ausgeführt. Danach wurde ein Formling gemeinsam mit der Hinterplatte von der Gießform entfernt. In diesem Fall konnte das Entfernen des Formlings von der Gießform ausgeführt werden, ohne den Bruch des Formlings oder der Hinterplatte hervorzurufen. Danach wurden der Formling und die Hinterplatte in einen Kalzinierofen bei 500°C gegeben, um eine Rippe zu erhalten.
VERGLEICHENDES BEISPIEL 1
In diesem Beispiel wurden dieselbe fotosensible Masse und dieselbe Gießform wie in Beispiel 1 verwendet. Die Fotopolymerisation der ersten Fotoaushärtungskomponente wurde jedoch ausgeführt, indem die vorgenannte ultra violette Lichtquelle anstelle einer von Philips Co. hergestellten fluoreszierenden Lampe verwendet. Infolgedessen konnte die Hinterplatte nicht von der Gießform gemeinsam mit der Hinterplatte entfernt werden, und dies aufgrund der starken Adhäsion zwischen der Gießform und dem Formling. Der Formling wurde gewaltsam von der Gießform entfernt, was zum Bruch des Formlings führte.
VERGLEICHENDES BEISPIEL 2
In diesem Beispiel wurden dieselbe fotosensible Masse und dieselbe Gießform wie in Beispiel 1 verwendet. Die Gießform in diesem Beispiel wurde jedoch realisiert, indem die zweite Fotoaushärtungskomponente und der erste Fotoaushärtungsinitiator von Beispiel 1 anstelle der zweiten Fotoaushärtungskomponente und des zweiten Fotoaushärtungsinitiators verwendet wurden. In diesem Fall wurde die Fotopolymerisation der zweiten Fotoaushärtungskomponente zum Erhalten der Gießform ausgeführt, indem die vorgenannte ultraviolette Lichtquelle verwendet wurde.
Nachdem der konkave Abschnitt der Gießform mit der vorgenannten fotosensiblen Masse gefüllt wurde, wurde die Fotopolymerisation der ersten Fotoaushärtungskomponente zum Erhalten eines Rippenpräkursors ausgeführt, indem die vorgenannte fluoreszierende Lampe verwendet wurde. Infolgedessen konnte die Hinterplatte nicht gemeinsam mit der Hinterplatte von der Gießform entfernt werden, und dies aufgrund der starken Adhäsion zwischen der Gießform und dem Formling. Der Formling wurde gewaltsam von der Gießform entfernt, was zum Bruch des Formlings führte.
WIRKUNG DER ERFINDUNG
Gemäß dem Herstellungsverfahren des Substrats für POP der vorliegenden Erfindung, wird der Bruch von der Basis und der Rippe verhindert und die Gießform kann wiederholt verwendet werden.

Claims

Verfahren zum Herstellen eines Substrats für eine Plasma-Anzeigetafel durch Bereitstellen einer Rippe auf einer Basis, das die folgenden Schritte aufweist: – enges In-Berührung-Bringen eines Rippenpräkursors (32) mit der Basis (12), wobei der Rippenpräkursor einen ersten Fotoaushärtungsinitiator mit einer ersten Absorptionskante und einer ersten Fotoaushärtungskomponente aufweist; – Füllen einer Gießform (30) mit dem Rippenpräkursor (32), wobei die Gießform erhalten wird durch das Fotoaushärten eines zweiten Fotoaushärtungsinitiators mit einer zweiten Absorptionskante, deren Wellenlänge kürzer als eine Wellenlänge ist, die der ersten Absorptionskante des ersten Fotoaushärtungsinitiators entspricht; – Einwirkenlassen von Licht auf den Rippenpräkursor (32), wobei das Licht eine Wellenlänge hat, die länger als eine Wellenlänge ist, die der zweiten Absorptionskante entspricht, wodurch der Rippenpräkursor (32) ausgehärtet wird; und – Entfernen der Gießform (30).
Verfahren zum Herstellen eines Substrats für eine Plasma-Anzeigetafel durch Bereitstellen einer Rippe auf einer Basis, das die folgenden Schritte aufweist: – Füllen einer Gießform (30) mit einem Rippenpräkursor (32), enthaltend einen ersten Fotoaushärtungsinitiator mit einer ersten Absorptionskante und einer ersten Fotoaushärtungskomponente, wobei die Gießform (30) erhalten wird durch das Fotoaushärten eines zweiten Fotoaushärtungsinitiators mit einer zweiten Absorptionskante, deren Wellenlänge kürzer als eine Wellenlänge ist, die der ersten Absorptionskante des ersten Fotoaushärtungsinitiators entspricht; – enges In-Berührung-Bringen des Rippenpräkursors (32) mit der Basis (12); – Einwirkenlassen von Licht auf den Rippenpräkursor (32), wobei das Licht eine Wellenlänge hat, die länger als eine Wellenlänge ist, die der zweiten Absorptionskante entspricht, wodurch der Rippenpräkursor (32) gesetzt wird; und – Entfernen der Gießform (30).
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Basis (12) und die Gießform (30) transparent sind und das Einwirkenlassen von Licht auf den Rippenpräkursor (32) über die Basis (12) und die Gießform (30) ausgeführt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Gießform (30) elastisch ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei der erste Fotoaushärtungsinitiator die erste Absorptionskante aufweist, die einer Wellenlänge von 400 bis 500 nm entspricht und wobei der zweite Fotoaushärtungsinitiator die zweite Absorptionskante aufweist, die einer Wellenlänge von 300 bis 400 nm entspricht.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die erste Fotoaushärtungskomponente und die zweite Fotoaushärtungskomponente Acrylharz sind.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 to 6, wobei der Rippenpräkursor (32) ein Pulver aus Keramik enthält und optional ein Pulver aus Glas enthält.
Aufbau einer Gießform zum Herstellen eines Substrats für eine Plasma-Anzeigetafel, aufweisend eine Basis (12) und Rippen (16), wobei die Gießform (30) konkave Abschnitte (28) und einen Rippenpräkursor (32) zum Bilden der Rippen (16) aufweist, wobei der Rippenpräkursor (32) auf den konkaven Abschnitten (28) der Gießform (30) angeordnet ist und einen ersten Fotoaushärtungsinitiator mit einer ersten Absorptionskante und eine erste Fotoaushärtungskomponente enthält, wobei die Gießform (30) erhalten wird durch das Fotoaushärten einer zweiten Fotoaushärtungskomponente in der Anwesenheit eines zweiten Fotoaushärtungsinitiators mit einer Absorptionskante, deren Wellenlänge kürzer als eine Wellenlänge ist, die der ersten Absorptionskante des ersten Fotoaushärtungsinitiators entspricht.
Aufbau nach Anspruch 8, wobei die Gießform (30) elastisch ist.
Aufbau nach Anspruch 8 oder 9, wobei die Gießform (30) transparent ist.
Aufbau nach einem der Ansprüche 7 bis 9, der ferner ein Glas-Substrat aufweist, das die Basis (12) des Substrats für die Plasma-Anzeigetafel bildet, wobei das Glas-Substrat den Rippenpräkursor (32) berührt, der auf den konkaven Abschnitten (28) der Gießform (30) angeordnet ist.