KR100643063B1 - 감광성 페이스트, 이를 사용한 플라즈마 디스플레이패널용 기판, 및 이 기판의 제조방법 - Google Patents

감광성 페이스트, 이를 사용한 플라즈마 디스플레이패널용 기판, 및 이 기판의 제조방법 Download PDF

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미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩춰링 캄파니
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Abstract

본 발명은 PDP용 기판(10)의 제조에 있어서, 개선된 품질의 리브(16)를 용이하게 형성하는 것을 가능케하는 감광성 페이스트(30)를 제공한다. 이 페이스트는 작용기 함유의 실란 커플링제를 지닌 광경화성 결합제와 세라믹 분말을 포함하여 조사 중합된 것이다.
감광성 페이스트

Description

감광성 페이스트, 이를 사용한 플라즈마 디스플레이 패널용 기판, 및 이 기판의 제조방법{PHOTOSENSITIVE PASTE, SUBSTRATE FOR PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME, AND METHOD OF PRODUCTION OF THE SUBSTRATE}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(이하 PDP로 지칭함) 기판의 제조에 사용되는 감광성 페이스트, PDP용 기판, 및 그 기판의 제조방법에 관한 것이다.
얇고 큰 화상 디스플레이로서 사용되는 PDP에는 일반적으로 PDP용 기판이 장착되어 있다. 이러한 기판은 전형적으로 한쌍의 유리 평판과 리브로 구성되어 있다. 여기서 리브는 규정된 높이와 너비를 가지는 것으로, 이 리브는 배리어 리브, 파티숀(partition) 또는 배리어라고도 지칭되기도 한다. 또한 상기의 유리 평판은 리브를 통하여 규칙적인 간격을 두고 서로 대향하고 있다. 이러한 구성에 의해, 리브는 기밀(氣密)상태에서 한쌍의 유리 평판 사이의 공간을 양분하여 플라즈마 방전에 의해 빛을 방출할 수 있는 다수의 방전 디스플레이 셀(방전 공간)을 형성한다.
방전 디스플레이 셀의 리브는 예컨대 일본 공개 특허 공보 제9-265905에 개시된 소위 전달 방법에 의해 제조가능하다. 즉, 이 방법은 첫단계로 유리 또는 세라믹 분말, 유기 첨가제 함유의 결합제, 및 유기 실리케이트 화합물로 이루어진 혼합물을 주형에 넣고 열 경화반응 또는 광경화 반응을 시행하여 성형한 후, 두번째 단계로, 산출된 성형품을 주형에서 분리하여 유리 평판상에 옮기고, 이후 세번째 단계로 옮긴 성형품을 하소하여 유리 평판과 일체형으로 결합시키면 바람직한 리브가 제조되는 방법이다.
상술한 바와 같이, 열경화 반응으로 성형하는 경우에 있어서, 유리 평판이 대형 PDP에서 요구하는 대규모의 면적을 지닐때, 열 분포는 상당히 불균일해져 열 조절이 매우 어려워진다. 또한, 광경화 반응으로 성형을 하는 경우에도, 감광성 페이스트는 일반적으로 납 유리를 함유하고 있기 때문에 용적 흡수 계수가 커 광을 흡수하게 되므로써 경화를 효율적으로 진행시키지 않는다는 단점이 있다.
더욱이, 유기 첨가제를 함유하는 결합제는 유리 평판에 부착될 최종 제품인 리브에는 바람직하지 않기 때문에 500℃의 높은 하소 온도에서 이 첨가제를 제거하는 것이 통상적이다. 일반적으로 리브는 유리 프릿(glass frit)의 용융을 필요로 하므로, 용융시 하소 온도보다 높은 온도가 필요하다. 그러나, 이러한 고온의 하소 온도는 유리 평판에 상당히 심한 열적 비틀림을 일으킬 확률이 높다. 또 결합제를 하소시켜 제거한다 하더라도, 세라믹 분말 사이에는 공극이 형성되므로 리브는 다공성 구조를 지닌다. 그 결과 리브의 강도는 감소된다. 이러한 강도의 감소는 리브의 품질면에서 볼 때 바람직하지 않은 것이다.
즉, 본 발명의 목적은 감광성 페이스트(이 페이스트는 개선된 품질의 리브를 용이하게 형성하는 것을 가능케 함), 이를 사용하여 제조한 PDP용 기판, 및 이 기판을 제조하는 방법을 제공한다.
본 발명의 한 관점에 따라, 작용기 함유의 실란 커플링제로 이루어지고 조사에 의해 중합된 광경화성 결합제 및 세라믹 분말을 포함하는 감광성 페이스트가 제공된다.
본 발명의 다른 관점에 따라, 플라즈마 방전에 의해 빛을 방출할 수 있는 방전 공간을 형성하는 리브를 포함한 플라즈마 디스플레이 패널용 기판이 제공되는데, 여기서 리브는 본 발명의 감광성 페이스트의 결합제를 하소시켜 형성한 하소된 무기 성분을 감광성 페이스트의 분말 사이에 배치시켜 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 관점에 따라, 투명한 평판 상에 리브가 제공되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널용 기판을 제조하는 방법이 제공되는 데, 이 방법은 a) 리브의 형태에 대응하는 오목부를 갖는 주형과 유리 평판 사이에 본 발명의 감광성 페이스트를 배치하여 감광성 페이스트로 주형의 오목부를 충진하는 단계, b) 감광성 페이스트를 조사 노출시켜 감광성 페이스트의 결합제를 경화하므로써 성형된 제품을 형성하는 단계, c) 평판과 일체형으로 결합되어 있는 성형된 제품을 주형으로부터 분리하는 단계 및 d) 경화된 성형품을 하소시켜 본 발명의 감광성 페이스트의 결합제로 형성한 하소된 무기 성분을 감광성 페이스트 분말 사이에 배치시키는 단계를 포함한다.
도1은 본 발명에 따라 PDP용 기판의 한 구체화를 도시한 확대된 투시 단면도이며,
도2는 도1에 나타난 PDP용 기판을 제조하는 방법을 일련의 순서로 도시한 단면도이고,
도3은 실시예 1에서 제조한 성형된 제품의 리브 표면의 직조 상태를 도시한 축소 사진(SEM)이며,
도4는 비교 실시예 1에서 제조한 성형된 제품의 리브 표면의 직조 상태를 도시한 축소 사진(SEM)이고,
도5는 비교 실시예 2에서 제조한 성형된 제품의 리브 표면의 직조 상태를 도시한 축소 사진(SEM)이다.
본 발명은 다음과 같이 후술하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
도1은 본 발명의 PDP용 기판의 한 구체화를 도시한 확대 투시도인데, 여기서 PDP용 기판(10)은 AC 시스템의 경우를 도시한 것으로서 이 기판에는 규칙적인 간격을 두고 서로 대향하고 있는 투명한 평판 한쌍, 즉 이면판(12)과 정면판(14)이 장착되어 있다. 이 판은 유리로 쉽게 만들어 질 수있는 것이다. 이면판(12)과 정면판 (14) 사이에 위치한 리브(16)는 규정된 높이와 너비를 가지며, 그 리브는 이들 플판 사이의 공간을 양분하므로써 다수의 방전 디스플레이 셀(18)을 형성한다. 또한, 각각의 방전 디스플레이 셀(18)에는 리브(16)를 따라 이면판(12) 상의 어드레스 전극(20)이 배치된다. 정면판(14) 상에는 ITO(산화 주석 인듐)로 이루어진 투명한 부스 전극(22)이 리브(16)와 수직으로 배치되어 있다. 더욱이, 이들 전극(20, 22)사이를 희귀 기체가 밀봉하고 있어 방전에 따른 빛의 방출이 가능해진다. 각각의 어드레스 전극(20)상에는 형광층(24)이 일정 순서로 형성되어 칼러 디스플레이를 수행한다. 정면판(14) 및 부스 전극(22)상에는 투명한 유전층(24)이 배치되어 부스 전극(22)을 피복시키므로서 전극의 스퍼터링을 억제하여 PDP의 수명 증가를 가져온다.
본 구체화에 있어서, 리브(16)는 이면판(12) 및 정면판(14) 중 적어도 하나에 일체형으로 부착되어 있는 성형품(도시되지 않음)을 하소하여 얻은 것으로 구성된다. 좀 더 구체적으로 언급하자면, 이러한 성형품은 열이 아닌 자외선 또는 가시 광선 또는 전자 빔 같은 빛에 의한 조사에 의해 감광성 페이스트를 경화시켜 얻는다. 열 경화의 경우, 열의 조절은 일반적으로 매우 어렵다. 그러나, 본 발명에 따른 본 구체화는, 성형시 열 조절을 실질적으로 불필요하게 한다. 따라서, 이면판(12) 및 정면판(14)의 열에 의한 영향이 감소될 뿐 아니라 리브(16)의 품질 또한 균일하게 된다.
상술한 감광성 페이스트는 기본적으로 (1) 세라믹 분말(예, 알루미나, 실리카 또는 월나이트) 및 (2) 감광성 결합제를 함유하고 있으며, 조사에 의해 중합되고, 또한 통상의 감광성 페이스트 처럼 독성도 높지 않고, 또한 질량 흡수 계수가 높은 납을 함유하고 있지도 않다, 여기서 상기 (2) 성분인 결합제는 메타크릴 기 같은 작용기를 갖는 실란 커플링 제제를 함유하는데, 이러한 예로는 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시-실란, γ-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시 실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 또는 γ-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란 등이 있다, 본 발명에 사용된 감광성 페이스트는 UV를 효율적으로 전달할 수 있으며, 수백 마이크로미터(㎛)의 두께로 존재한다하더라도 이 조사를 거의 감소시키기 않는다. 이것은 약 200㎛의 높이를 요구하는 PDP용 리브를 생성하는 데 매우 유리한 것이다.
또한, 이러한 감광성 페이스트는 결합제 중에 유기 첨가제를 거의 또는 전혀 함유하고 있지 않기 때문에, 통상의 절차에서 사용하는 온도보다 낮은 온도에서 하소되는 것이 가능하다. 따라서, 이면판 또는 정면판으로서 값이 비싼 고 연화점 유리 대신에 소다 석회 유리와 같이 낮은 연화점을 지닌 값이 싼 유리로 만든 평판을 사용하는 것도 가능하다. 이러한 감광성 페이스트는 전술한 바와 같이 비용만을 감소시키는 것은 아니다, 즉, 감광성 페이스트중에 함유된 실란 커플링제의 중합체는 약 450℃ 내지 500℃의 하소 온도에서 실리카 등과 같은 무기성 하소 성분으로 전환하되, 이 때에, 하소된 성분은 알루미나와 같은 세라믹 분말사이에서 존재하여 이들 성분을 밀착 결합시키는 결합 매체로서 기능을 하므로 하소 후 성형된 제품에 강도를 증가시키는 밀집 구조를 형성한다. 그 결과, 하소후 성형된 제품은 약 1%의 수축율과 높은 가공 정밀도를 지닌다.
유용성 면에서 고려해볼 때, 결합제를 구성하는 실란 커플링제는 분자량이 약 232 내지 290인 것이 바람직하다. 감광성 페이스트는 필요하다면 계면활성제 또는 광산을 함유하며, 또한 약 1 x 104 내지 1 x 106 cps의 점도를 가진다. 이러한 점도로 인해 주형 내에서 페이스트를 충진하여 정밀도가 높은 리브를 형성하는 것이 가능하다.
본 구체화의 PDP용 기판의 제조방법은 도2에서 단계 순서로 진행된다.
본 명세서에 자세히 설명되어 있진 않지만, 첫번째로 감광성 페이스트는 물과 같은 매질을 알루미늄 또는 실리카 분말 및 규정된 분자량과 메타크릴 기를 갖는 실란 커플링제와 혼합하여 제조한다. 대안으로서, 물 대신에 염화수소산 또는 황산과 같은 광산을 이들과 혼합하고, 실란 커플링제를 가수분해하는 것에 의해 졸을 형성할 수도 있다. 이 경우, 감광성 페이스트는 건조후에 겔화를 일으키지 않으며 분말이 그 안에 균일하게 분산되게 한다. 이 점도는 가해진 물의 양에 따라 변화하지 않고 일정하게 유지되므로 바람직한 제품을 형성한다.
이후에, 생산할 PDP용 기판의 리브 형상에 상응하는 오목부(26)를 지닌 주형(28)을 제조하고, 이 오목부(26)에 감광성 페이스트를 넣어 충진시키기 위해서 주형(28)에 상기 페이스트를 넣는다(단계 (A)). 이 때에, 오목부(26)는 사다리꼴 횡단면을 가질 수 있다. 대안으로서, 도시하지는 않았지만, 박리제(releasant)를 주형 표면상에 도포하여 주형(28)에 대한 높은 박리도를 부여할 수있다. 다음에, 오목부(26)내로 쏟아지지 않은 주형(28)상의 과량의 감광성 페이스트(30)를 스크레이퍼로 제거하여 주형(28)의 표면을 평활하게 만든다(단계 (B)).
감광성 페이스트(30)로 주형(28)의 오목부(26)를 충진시킨 후, 투명한 이면판(12)을 주형(28)에 넣어 오목부(30)의 감광성 페이스트와 접촉시켰다(단계 (c)). 이후에, 단계(C)에서 화살표로 도시된 바와 같이, 오목부(26)의 감광성 페이스트(30)를 이면판(12)을 통하여 상기 조사에 노출시켰다. 이 때에, 오목부(26)의 감광성 페이스트(30)는 단일 노출 단계에 의해 쉽게 경화하여 성형된 제품(32)을 형성하는 데, 이는 상술한 바와 같이, 높은 UV 투과도를 가지기 때문이다. 즉, 본 발명의 제조 방법은 제조 단계를 단순화시키는 것이 가능하다. 감광성 페이스트의 적층과 조사에 의한 노출(도시 안됨)을 반복하여 리브를 형상하는 스크린 프린팅 단계와 비교했을때 명백히 알 수 있는 바와 같이, 제조 단계들이 이보다 더 단순화 되는 것은 본 발명에 의해서 가능하다.
UV 조사 노출후, 일체형으로 결합된 성형품(32)을 주형(28)으로부터 분리한다(단계 (D)). 이후에, 성형된 제품(32)이 부착된 이면판(12)을 하소용 노(도시 안됨)에 넣고, 이면판과 성형된 제품이 열적으로 변형되지 않는 온도인 약 400℃ 내지 500℃의 비교적 낮은 온도에서 하소시키면 리브(16)가 생성된다(단계 (E)).
이후에, 도시되지는 않았지만, 이면판 상의 리브 사이에 어드레스 전극을 형성하고, 필요하다면 형광층을 어드레스 전극상에 제공할 수 있다. 이어서, 예전에 형성된 부스 전극상에 투명한 정면판을 리브를 통하여 배치시켜 정면판 및 이면판을 서로 대향하게 한다. 다음에, 정면판 및 이면판의 주변부를 밀봉 물질(도시 안됨)을 사용하여 기밀상태로 밀봉하고, 방전 디스플레이 셀을 정면판과 이면판 사이에 형성한다. 방전 디스플레이 셀을 진공으로 추출한 후, 헬륨, 네온등과 같은 희귀성 기체를 유입하면 PDP용 기판이 제조된다.
본 발명은 PDP용 AC 기판을 참고로 하여 기술되었다. 그러나, 본 발명은 PDP 용 DC 기판에도 적용될 수있다. PDP용 DC/AC 기판과 무관하게, 리브를 형성하기 전에 전극을 먼저 형성할 수있다.
하기의 실시예는 본 발명을 좀더 구체화하는 것이지만 이것에 의해서는 발명의 영역이 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
제1단계로서, 감광성 페이스트를 다음과 같이 제조하였다. 실란 커플링제로서 4g의 γ-메틸크릴옥시프로필디메틸디메톡시실란(Nippon Yunicar Co, Ltd), 0.1N 질산 수용액과 에탄올의 혼합 용액(1:2) 2.7g을 가하였다. 이 혼합물은 70℃에서 12 시간동안 충분히 교반하여 반응시켰다. 반응 생성물은 실온에서 진공 건조하여 10cps의 점도를 갖는 점성 액체를 제공하였다.
이러한 점성 액체에, 0.5㎛의 평균 입경을 지닌 14g의 α-알루미나를 가하고, 광경화 개시제로서 0.05g의 Dyrocure(상표명)1173(2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온), 계면활성제로서 POCA(포스페이트 폴리옥시알킬 폴리올) 0.04g을 가하여 감광성 페이스트를 얻었다. 이 때에, γ-메타크릴옥시프로필디메틸디메톡시실란의 모든 메톡시기가 점성 액체중에서 가수분해되는 것으로 추정했을 때, 이 페이스트는 고형분이 86 중량%인 무기 성분을 지닌다.
다음에, 전술한 바와 같이 감광성 페이스트를 리브 형상에 대응하는 오목부를 지닌 플라스틱 주형에 넣어 이 오목부를 감광성 페이스트로 채웠다. 이 오목부는 PDP용 기판을 생성하도록 디자인된 것으로서 셀 피치가 230㎛이고, 리브 높이가 200㎛이며, 셀 상단 표면의 개구 크기가 80㎛ 이고, 셀 바닥 크기가 110㎛이다.
이후에, 소다 석회 유리로 만든 이면판을 주형에 넣어 이것을 오목부의 감광성 페이스트와 접촉하게 하였다. Ushio Denki Co. Ltd에 의해 제조한 UV 광원(상표명:Unicure)을 사용하여, 오목부의 감광성 페이스트를 200 내지 450nm의 피장을 갖는 UV 노출원으로 30초간 경화시켜 주형 제품을 제조하였다.
이후에, 이면판과 일체형으로 결합된 성형품을 주형으로부터 꺼내고, 성형된 제품을 450℃ 내지 550℃의 규정된 온도에서 하소하여 리브를 얻었다. 이 경우에 있어서, 성형된 제품의 변형은 관찰되지 않았다. 또한, 성형된 제품의 수축율은 가공 정밀도를 형성하기에 충분히 낮은 것이었다, 즉, 성형된 제품의 수축률은 450℃에서 하소시 0.35%인 반면, 550℃에서의 하소시 수축율은 1.5%이었다.
450℃에서 하소된 리브의 표면을 SEM 관찰하여 얻은 축소 사진이 도3에 제시되어 있다. 도3의 SEM으로 부터, 실란 커플링제의 하소를 통해 얻은 실리카(SiO2)는 알루미나(Al2O3) 입자들간에 존재하므로 이의 결합제 입자 같은 결합 매체를 형성하므로써 리브는 밀집 구조를 제공하는 것으로 관찰되었다. 또한, 이 리브는 손압에 의한 변형을 견딜 수 있을 정도로 강도가 충분했음도 밝혀졌다.
비교 실시예 1
다음과 같이 감광성 페이스트를 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1에 기재된 것과 실질적으로 동일한 방식과 조건에 따라 리브를 제조하였다.
첫번째로, 평균 입경이 1㎛이고, 납 다량을 함유하고 있는 유리 2,5g(상표명:ASF 1273, Asahi Glass Co., Ltd에서 제조)을 평균 입경이 0.5㎛인 α-알루미나 5.7g을 3:7의 중량비로 혼합시켜 제조한 혼합물을 광경화 단량체로서 1g의 DMA(디메틸아크릴아미드)에 분산하여 페이스트를 제조하였다.
이 페이스트에, 광경화 개시제로서 0.02g의 Dyrocure 1173(상표명, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, Ciba Geigy Co. 에서 제조) 및 계면활성제로서 0.02g의 POCA(포스페이트 폴리옥시알킬 폴리올)을 가하여 감광성 페이스트를 얻었다.
실시예 1에서 사용된 것과 동일한 광원을 사용하여 감광성 페이스트를 경화하는 경우에 있어서, UV 노출이 3분간 수행되는 경우조차도, 주형의 표면으로부터 최대 100㎛ 깊이까지 존재하는 오목부의 감광성 페이스트만이 경화되었고, 좀 더 깊은 위치에 존재하는 감광성 페이스트는 경화되지 않았다.
부분적으로 경화된 성형품이 450℃에서 하소되는 경우라도, 이것은 충분히 소결되지 않았다. 450℃에서 부분적으로 경화된 성형품을 하소시켜 얻은 리브를 SEM 관찰하여 나타난 축소 사진이 도4에 도시되어 있다. 도4의 SEM으로부터, 불충분하게 용해된 납(PbO)유리는 알루미나(Al2O3)용 결합제와 같은 결합 매체로서의 기능을 하지 않는 것으로 나타났다. 이것은 리브가 매우 파열되기 쉬운 다공성 구조를 가진다는 것을 의미하는 것이다. 또한 이 리브는 쉽게 변형되어 손가락의 터치에도 부서지므로 성형품의 수축률의 측정은 불가능 했다.
비교 실시예 2
감광성 페이스트를 다음과 같이 제조한 것을 제외하고는 실시예 1에 기술된 것과 동일한 방식과 조건에 따라 리브를 제조하였다.
첫번째로, 평균 입경이 0.5㎛인 5g의 α-알루미나(Sumitomo Chemical Industries Co., Ltd에서 제조)를 광경화 단량체로서 1g의 DMMA(디메틸아크릴아미드)에 분산시켜 점성 액체를 얻었다.
이 액체에, 광경화 개시제로서 0.02g의 Dyrocure 1173(상표명, 2-히드록시-2-매틸-1-페닐-프로판-1-온, Ciba-Geigy Co. 에서 제조) 및 계면 활성제로서 0.02g의 POCA(포스페이트 폴리옥시알킬 폴리올)을 첨가하여 감광성 페이스트를 얻었다.
이후에, 소다 석회 유리로 만든 이면판을 주형 상에 배치하여 주형의 오목부를 이미 채우고 있는 감광성 페이스트와 접촉시켰다. 실시예 1에 사용된 것과 동일한 UV 광원을 사용하여, 오목부의 감광성 페이스트를 이면판을 통하여 UV(파장 200 내지 450nm) 노출을 30초간 수행하여 경화시키면 성형제품이 얻어졌다.
참고로, 1000℃에서 성형품만을 하소하여 리브를 제조하였다. 이 리브는 쉽게 변형되지 않고, 450℃의 하소 온도에서 얻어진 것과 비교해 볼 때 쉽게 파열되지도 않았다. 이 리브를 SEM 관찰한 축소 사진이 도5에 제시되어 있다, 이 도면으로부터, 본 실시예의 리브는 실시예 1의 리브와 비교해 볼 때, 알루미나(Al2O3) 입자 사이에서 DMAA를 하소시켜 형성한 공극을 함유하는 다공성 구조라는 것을 알았다. 또한, 1000℃에서의 하소 온도가 이면판을 변형시킬 확률이 높기 때문에 기밀성 전자 디스플레이 셀은 형성될 수 없으며, 이러한 페이스트는 유리 평판에 부착될 수 없어 유리 평판 상에서 리브를 형성하는 데 적합하지 않는 것으로 밝혀졌다.

Claims (3)

  1. 납을 포함하지 않는 세라믹 분말 및
    작용기를 갖는 실란 커플링제를 포함하는 광경화성 결합제
    를 포함하며, 성형 가능하고, 조사에 의해 경화될 수 있으며, 500℃ 이하의 온도에서 하소 가능한 감광성 페이스트.
  2. 플라즈마 방전에 의해 빛을 방출할 수 있는 방전 공간을 형성하는 리브를 포함한 플라즈마 디스플레이 패널용 기판으로서, 상기 리브는 제1항의 감광성 페이스트의 결합제를 하소하여 얻은 하소된 무기 성분을 감광성 페이스트의 분말 사이에 삽입시킴으로써 구성된 것을 특징으로 하는 것인 플라즈마 디스플레이 패널용 기판.
  3. 투명한 평판에 리브가 제공되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널용 기판의 제조 방법으로서,
    리브의 형태에 해당하는 오목부를 갖는 주형 및 평판 사이에 제1항의 감광성 페이스트를 넣어 감광성 페이스트로 주형의 오목부를 채우는 단계;
    감광성 페이스트의 조사 노출에 의해 감광성 페이스트의 결합제를 경화시켜 성형품을 제조하는 단계:
    평판과 일체형으로 된 성형품을 주형으로부터 분리하는 단계: 및
    경화된 성형품을 하소시켜, 감광성 페이스트의 결합제로부터 형성되는 하소된 무기 성분을 제1항의 감광성 페이스트의 분말 사이에 삽입시키는 단계
    를 포함하는 방법.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2997700A (en) * 1999-03-25 2000-10-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of producing substrate for plasma display panel and mold used in the method
US6843952B1 (en) 1999-03-25 2005-01-18 3M Innovative Properties Company Method of producing substrate for plasma display panel and mold used in the method
US6306948B1 (en) 1999-10-26 2001-10-23 3M Innovative Properties Company Molding composition containing a debinding catalyst for making ceramic microstructures
US7176492B2 (en) 2001-10-09 2007-02-13 3M Innovative Properties Company Method for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold and articles formed by the method
US7033534B2 (en) 2001-10-09 2006-04-25 3M Innovative Properties Company Method for forming microstructures on a substrate using a mold
CN1448792A (zh) * 2002-03-29 2003-10-15 住友化学工业株式会社 光敏膏
JP4326190B2 (ja) 2002-07-10 2009-09-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 可とう性成形型及びその製造方法
CN101010772A (zh) 2004-08-26 2007-08-01 3M创新有限公司 用模板形成微结构的方法
US7478791B2 (en) 2005-04-15 2009-01-20 3M Innovative Properties Company Flexible mold comprising cured polymerizable resin composition
KR101038841B1 (ko) * 2009-03-13 2011-06-07 삼성전기주식회사 주파수 가변 기능을 갖는 전원 장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09134676A (ja) * 1995-09-06 1997-05-20 Kyocera Corp プラズマ表示装置用基板及びその製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0722179A3 (en) * 1994-12-05 1997-12-10 E.I. Du Pont De Nemours And Company Insulator composition, green tape, and method for forming plasma display apparatus barrier-rib
JPH08304784A (ja) * 1995-05-01 1996-11-22 Sony Corp プラズマ表示装置のバリアリブ形成方法
US6023130A (en) * 1995-09-06 2000-02-08 Kyocera Corporation Plasma display substrate and a production method thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09134676A (ja) * 1995-09-06 1997-05-20 Kyocera Corp プラズマ表示装置用基板及びその製造方法

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