DE53120T1 - Phosphorsilikatmasse zum Behandeln von Gießereiformen und -produkten - Google Patents
Phosphorsilikatmasse zum Behandeln von Gießereiformen und -produktenInfo
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Claims (1)
- PatentansprüchePhosphorsilikatmasse zum Behandeln von Gießereiformen und -produkten, umfassend ein Gemisch aus: etwa 5 bis etwa 55 Gew.-% eines Sols von. kolloidalem Siliziumdioxid, das mindestens 15 % SiO2 enthält, etwa 2 bis etwa 60 Gew.-% eines Alkylsilikates, das mindestens 28 % SiO2 enthält,etwa 20 bis etwa 40 Gew„-% eines mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittels undetwa 5 bis etwa 45 Gew.-% Phosphorsäure in einer Konzentration von mindestens 50 %.2,, Masse zum Behandeln von Gießereif qrmen -und;-p.roduk ten, . ,,· umfassend: ■,-.:.■., . .·.■· >■,: . ■·■ ...·, ;: ~ :,(a). etwa 10 bis, etwa 25. Gew.-% einer .:,Pho;spho;rsilikatnuisso ... nach Anspruch -1 und . ;i;· T1,- μ ; ■ ,/ .<■■■!■:;(b) als Rest einen hitzebeständigen Zuschlagsstoff.,3-. Masse ,nach Anspruch 2., .. d a d u r. C h .-. g e k e η η zeich net,, daß ,der hitzebestiändige^ iZuschlacfsstof f ausgewählt ist aus Zirkoniumdioxid, Siliziumdioxid, Aluminiumsilikaten,·.. Graphit, pyrogenem ,Siliziumdioxid, Aluminiumoxid, j Ghromit, f aserf örmigen Alurniniumsiilikaten, Magnesiumoxid und deren Kombinationen. .·χ:, \4. Masse zum Behandeln von Gießereiformen und -produkten,, umfassend: ' !-! ■ · ;: i; :I(a) etwa 10 bis etwa 25 Gew.~4 der Phosphorsilikatmasse : ; · " nach Anspruch 1, : ;.ί:; = ;;>; .·:..·■ ■,:·..-.■ ·..-.■·. . ■.·.(b) bis zu 3 Gew.-% eines Additivs, ausgewählt aus PoIyvinylacetat und■ Polyvinyl aiköhOl,':und ' ! -'(c) als'Rest einen hitzebestandige^^Zuschlagsstoff.5' i Masse ·' zum Behandeln von Gieße rel-förmefr :und ^-produkten, erhalten durch: .::.<.·...■(a) Vermischen von ! ' ; ''etwa 20 bis etwa 40 Gew.-% : eirie's';;mit Wasser misch- : baren' organisehen Lösungsmittels,etwa 5 bis etwa 55 Gew.-% eines Sols von kolloidalem Siliziumdioxid, das' mindestens' etwa 15 % SiO^ ent- ;''■■'-"■'' 'hältv und ' '"'■ :; ■' ■' '"' " ' -' : ■'■' ■'■"1 ·■'■■· etwa 2 bis etwa" "60 Gew.;-%' ^eines' 'Älky'lsilikates, das ,,,;..,; ..;.■·,■,., mindestens etwa '2'8 ;%!'verfügbares SlO2 enthält, und' (b)'; Umsetzen vori "; ""' ' '■'· ' -. .,, .·..·.■·> ■■■■■:,.■.,etwa 5 bis etwa '45 GewY-'% Phbs'phof säure mit einer Konzentration von etwa 50 bis etwa 90 % mit 'der nach Stufe Ca) erhaltenen Mischung, um eine Phospiorsilikatmasse zu ergebert.6. Masse nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , daß das Alkylsilikat ausgewählt ist aus Äthylpolysilikat, Äthylenglyco1-Monoäthylathersilikat, Pröpylsilikat, Butylsilikat und Methylpolysilikat.7. Masse nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , daß das Phösphorsilikät ein Silicyl^ metaphosphat der folgenden Formel ist:"~ OH Ö OH """"I I >OH- Si - G - P - 0 - Si - OH! 1 1OH 0 OH" ti,worin η = 1, 2, 3 oder 4 ist.8. Masse zum Behandeln von Gießereiforitieh und -produkten, umfassend:ein Gemisch eines Phosphorsilikates gemäß Anspruch 5 und eines hitzebeständigen Zuschlagsstoffes.9. Masse zum Behandeln von Gießereiformen und -produkten, umfassend:(a) etwa 10 bis etwa 25 Gew.-% eines Phosphorsilikates gemäß Anspruch 5 und(b) als Rest einen hitzebeständigeh Zusohlagsstoff.10. Masse nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichne t> daß der hitzebeständige Zuschlagsstoff ausgewählt ist aus Zirkoniumdioxid, Siliziumdioxid, Aluminiutnsilikäten, Graphit, pyrogehem Siliziumdioxid, Aluminiumoxid/ Chromit, Magnesiumoxid, faserförmigen Aluminiumsilikaten und deren Kombinationen.11. Verfahren zum Herstellen einer Gießereiform oder von Gießereiprodukten durchVermischen eines zerkleinerten hitzebeständigen Materials mit dem Phosphorsilikat nach Anspruch 5 undFormen der erhaltenen Mischung zu einer erwünschten Gestalt in einer Form.12. Verfahren zum Behandeln von Gießereiformen und -produkten, die aus zusammengepreßten zerkleinerten hitzebeständigen Materialien gebildet sind, durch Überziehen mindestens eines vorbestimmten Oberflächenabschnittes der Form mit der Masse nach Anspruch■9, wobei dieser Oberflächenabschnitt mit hitzebeständigem Zuschlagsstoff überzogen ist und das Phosphorsilikat den genannten Oberflächenabschnitt imprägniert.13. Verfahren zum Behandeln von Gießereiformen und -produkten, die aus gepreßten zerkleinerten hitzebeständigen Materialien gebildet sind, durch Überziehen mindestens eines vorbestimmten Oberflächenabschnittes der Form mit der Masse nach An-' spruch 9, wobei dieser Oberflächenabschnitt mit hitzebeständigem Zuschlagsstoff bis zu einer Tiefe von etwa 0,35 bis etwa 0,75 mm überzogen ist und das Phosphorsilikat den Oberflächenabschnitt bis zu einer Tiefe von etwa 5 cm imprägniert.14. Masse zum Behandeln von Gießereiformen und -produkten, umfassend:(a) etwa 10 bis etwa 25 Gew.-% eines Phosphorsilikates nach Anspruch 5,(b) bis zu etwa 3 Gew.-% eines Additivs aus Polyvinylacetat und Polyvinylalkohol und(c) als Rest einen hitzebeständigen .Zuschlagsstoff.15. Masse nach Anspruch 14, dadurch g e k e η η zeichnet, daß der hitzebeständige Zuschlagsstoff ausgewählt ist aus Zirkoniumdioxid, Siliziumdioxid, Aluminiumsilikaten, Graphit, pyrogenem Siliziumdioxid, Aluminiumoxid, Chromit, Magnesiumoxid, faserförmigen Aluminiumsilikaten und deren Kombinationen.,;- 0053Ί2016:.. Masse nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet , daß der hitzebeständige Zuschlagsstoff aus Teilen besteht, deren Durchmesser im Bereich von etwa 10 bis etwa 3000 ,um liegt.17. Verfahren zum Behandeln von Gießereiformen und -produkten,: ,die gebildet; sind aus gepreßten zerkleinerten hitzebestän-. ; digen Materialien, durch Überziehen mindestens eines vor- : . .bestimmten Oberflächenabschnittes der zu behandelnden Oberfläche mit einem Hybridsilikät, anschließendes Aufbringen auf die so behandelte Oberfläche einer Mischung aus etwa . 50: bis 90 % einer hochkonzentrierten Phosphorsäure und etwa :: 10, bis 50 % mit Wasser mischbarem Alkohol zur Bildung eines Silieylmetaphosphates auf der behandelten Oberfläche.18. Verfahren nach"Anspruch 17, d a d u r c h g e k e η η - : ζ e i C'h nie t , daß das Hybridsilikat das Produkt eines. i i Gemisches von:etwa 7 bis etwa 9 Gew'.-% Alkylsilikat, das mindestens 28 % verfügbares SiO- enthält, von etwa 45 bis etwa 55 Gew.-% eines sauren Sols von kolloidalem Siliziumdioxid, das mindestens 28 % verfügbares SiO- enthält, von "etwa ·35 bis etwa45 Gew.-% Glycoläther und von etwa 4 bis etwa 6 Gew.-% eines mit Wasser mischbaren Alkohols ist.19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekehn-■ .■-,■■·■■■■:ζ e i' c h■ "n e t , daß der Alkohol Äthanol oder Isopropanolist.
.20. Gießereiföriri/ behandeltnach demVerfahren nach Anspruch 19, dadurch gekenn- ·: z ei c h η e t , daß das auf der behandeiten Oberfläche ·■: gebildetö Silicylmetäphösphat sich bis zu einer Tiefe von etwa 5 cm unterhalb der genannten Oberfläche erstreckt.. Ma;sse zum Behandeln von Gießereiformen und -produkten, umfassend die Masse nach Anspruch 1 und bis zu 1 Gew.-% einer Ammoniumverbindung als Gelierungskatalysator, ausgewählt aus Ammoniumhydroxid und Ammoniumkarbonat.-G-22. Verfahren zum Herstellen einer Gießereiform oder von Gießereiprodukten durch Vermischen eines zerkleinerten hitzebeständigen Materials mit der Masse nach Anspruch 21 und Formen der erhaltenen Mischung zu der erwünschten Gestalt in einer Form.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US15806580 | 1980-06-09 | ||
| US8001055 | 1980-08-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE53120T1 true DE53120T1 (de) | 1982-10-28 |
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