DE4343121A1 - Verfahren zur Herstellung einer Gießkeramik - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer Gießkeramik

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Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer Gießkeramik gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.
Gießkeramiken finden bei der Fertigung von elektrischen Iso­ lationen eine Anwendung. Sie sind jedoch auch für die Her­ stellung von Bauteilen wie Gehäusen und Schaltern geeignet. Bei der Gießkeramik handelt es sich um eine niederviskose Mischung aus einer hochalkalischen kalium- oder natriumhal­ tigen Wasserglasphase und einem alumosilikatischen Pul­ vergemisch, das Silizium und Aluminium in einem Verhältnis aufweist, dessen Wert zwischen 2 und 5 liegt. Die Gießkeramik bindet bei Temperaturen unter 100°C innerhalb von 2 bis 6 Stunden in einer Polykondensationsreaktion zum Festkörper ab. Bei der Abbindereaktion wird bis zu 20 Gew.-% Wasser abgespalten, das in einem Trocknungsprozeß bei maximal 200°C entfernt werden muß. Die Gießkeramik ist anorganisch und kann nach der Aushärtung und einer Trocknung dauerhaft hohen Temperaturen ausgesetzt werden. Von Nachteil bei der Trocknung ist jedoch, daß das abgespaltene Wasser eine durchgehende offene Porosität von bis zu 30% hinter­ läßt. In den offenen Poren kann sich auf Grund von Kapillar­ wirkungen und der hykroskopischen Eigenschaften der Ober­ fläche, welche die Gießkeramik aufweist, bei feuchter Umgebung Wasser anlagern, das zu einer Verschlechterung der Isolationseigenschaften führt. Die durchgehende Porosität verringert die Durchschlagfestigkeit der Gießkeramik, wo­ durch ihre Eigenschaften als Isolator gemindert wird.
In der DE-A-41 10 223 wird vorgeschlagen, zur Beseitigung der Porosität die Poren mit einer Flüssigkeit auszufüllen, die anschließend ausgehärtet wird. Dieser Prozeß ist relativ aufwendig und bei großen Bauteilen nur schwer durchzuführen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung einer Gießkeramik aufzuzeigen, bei der die Porosität vernachlässigbar klein ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale des Patentanspruches 1 gelöst.
Gegenüber organischen Kunststoffen, die als Isolatoren oder zur Fertigung von Gehäusen verwendet werden, bietet die Gießkeramik den Vorteil, der höheren Temperaturbeständig­ keit, der Nichtbrennbarkeit sowie der Resistenz gegen UV- Strahlung, wobei weiterhin die bei Kunststoffen üblichen Fertigungsverfahren angewendet werden können. Gegenüber gesinterten Keramiken weist die Gießkeramik den Vorteil auf, daß auf die hohen Sintertemperaturen verzichtet werden kann, so daß ein geringer Energiebedarf für die Herstellung erfor­ derlich ist. Ferner erlaubt die Fertigung eine wesentlich höhere Meßgenauigkeit, da beim Härten eine im Vergleich nur sehr geringe Schrumpfung von weniger als 1% auftritt. Erfin­ dungsgemäß wird der Gießkeramik vor dem Aushärten ein ver­ netzungsfähiges, dünnflüssiges organisches Harz, vorzugs­ weise ein Epoxidharz auf der Basis von Bisphenol-A beige­ mischt. Das Mischungsverhältnis beträgt 70 Gew.-% Gießkeramik und maximal 30 Gew.-% Epoxidharz bezogen auf das Gesamtgewicht der Gießkeramik. Weitere Zusätze in der Größenordnung kleiner/gleich 5% können vorzugsweise zugegeben werden.
Diese sollen unter anderem eine Beschleunigung der Ver­ netzung, eine Verbesserung der Verarbeitbarkeit und eine Verbesserung der Feuchtigkeitsbeständigkeit bewirken. Für die Beschleunigung der Vernetzung werden vorzugsweise ter­ tiäre Amine, beispielsweise Dimethyl-Benzyl-Amine verwendet. Eine verbesserte Verarbeitbarkeit der Gießkeramik läßt sich durch die Zusätze von mehrwertigen Alkoholen bewirken. Hier­ für eignet sich besonders Glyzerin. Die Feuchtigkeitsbestän­ digkeit wird durch den Zusatz von lösungsmittelfreiem Sili­ konharz erzielt. Es hat sich gezeigt, daß es von Vorteil sein kann, 25 bis 30 Gew.-% des obenerwähnten Epoxidharzes durch lösungsmittelfreies Silikonharz zu ersetzen. Hiermit kann eine Gießkeramik hergestellt werden, die eine sehr hohe Temperaturbeständigkeit und eine starke Hydrophobierung auf­ weist, auch dann noch, wenn die Porosität der Gießkeramik über 10% beträgt. Die Gießkeramik wird zur Fertigstellung nach dem Vermischen mit den möglichen Zusätzen einem Formge­ bungsprozeß bei Raumtemperatur unterzogen und daraufhin aus­ gehärtet. Die Aushärtung erfolgt durch Wärmebehandlung 2 bis 6 Stunden lang bei 80°C und anschließend 8 bis 15 Stunden lang bei 160°C. Die Gießkeramik bindet wie alle bereits be­ kannten Gießkeramiken ab, während die Epoxidharzketten so­ wohl untereinander als auch zum Teil mit der Oberfläche der Gießkeramik vernetzen. Die Vernetzung des Epoxidharzes erfolgt durch Polyaddition der Makromoleküle dieses Harzes. Die Vernetzung wird durch die als Katalysator dienende Gießkeramik bewirkt. Das vernetzte Epoxidharz bildet ein zu­ sammenhängendes Netzwerk in der Gießkeramik, das die durch­ gehende offene Porosität verschließt und zum größten Teil ausfüllt. Das bei der Kondensation der Gießkeramik an­ fallende Wasser wird zum Teil bei der Harzvernetzung ver­ braucht. Der Rest wird nach außen abgeschieden. Die so hergestellte Gießkeramik weist eine offene Porosität auf, die unter 15% liegt. Je nach Verarbeitungstechnik kann sie kleiner als 2% sein. Die erfindungsgemäße Gießkeramik kann bis zu Temperaturen von 250° bis 300°C dauerbelastet werden.
Die Durchschlagfestigkeit ist größer als 6 kV/mm. Sie beträgt meistens 8 bis 15 kV/mm. Der spezifische Widerstand beträgt bei Raumtemperatur 10¹⁵ Ohm × cm. Der elektrische Verlustfaktor beträgt bei 50 Hz 0,006 bis 0,02. Die er­ findungsgemäße Gießkeramik läßt sich vielseitig weiterverar­ beiten. Sie kann zu Bauteilen vergossen, gespritzt oder gepreßt werden. Zusätzlich kann sie mit Fasern verstärkt und zu Laminaten verarbeitet werden. Die erfindungsgemäße Gieß­ keramik eignet sich besonders zur Herstellung von Abstand­ haltern und Isolationen für Transformatoren und Schaltern, zur Fertigung von Bauteilen für die Mittel- und Niederspan­ nungstechnik, sowie zur Fertigung von Gehäusen, Funkenkam­ mern, Brandschutzeinrichtungen, Hausisolationen, Verteiler­ dosen, Steckdosen, Mittelspannungsschaltern und Fassungen. Sie kann zudem als Ersatz für herkömmliche Werkstoffe wie Epoxidharze, Polyester oder Polyurethan oder gesinterte Ke­ ramiken, wie Porzellan, verwendet werden.
Weitere erfindungswesentliche Merkmale sind in den Unteran­ sprüchen gekennzeichnet.
Zur Herstellung der Gießkeramik wird von einer niedervisko­ sen Mischung bestehend aus 40 Gew.-% Wasserglas ausgegangen, das 25 Gew.-% K₂O und 16 Gew.-% SiO₂ sowie einen ph-Wert von 15 und eine Viskosität von 15 mPa·s aufweist. Diesem Wasserglas werden 60 Gew.-% einer Pulvermischung zugesetzt. Dieses ent­ hält SiO₂ und Al₂O₃ sowie eine kristalline Na₂SiF₆-Phase mit einem Anteil von 20%. Das Verhältnis SiO₂:Al₂O₃ wird zwi­ schen 4 und 6 gewählt. Die Korngröße des Pulvers beträgt 1 bis 10 µm. Das Gemisch aus Pulver und Wasserglas wird mit­ tels Rühren und Kühlen auf 10°C hergestellt. Um eine Gießke­ ramik herzustellen, deren Porosität unter 15% liegt, werden dem obenbeschriebenen Gemisch aus Wasserglas und Pulver 17 Gew.-% Epoxidharz auf der Basis von Bisphenol-A beigemischt. Um eine Gießkeramik zu erhalten, die eine Temperaturbestän­ digkeit bis zu 300°C aufweist, werden diesem Gemisch zusätz­ lich 5 Gew.-% eines lösungsmittelfreien Silikonharzes zuge­ setzt. Die Angaben bezüglich der Gew.-% beziehen sich auf das Gesamtgewicht der Gießkeramik. Die noch nicht ausgehärtete Gießkeramik kann nun zur Fertigung von Bauteilen verwendet werden, die beispielsweise gegossen werden. Hierfür wird diese Gießkeramik in eine Form gegossen und 4 Stunden bei 80°C ausgehärtet. Da nach dieser ersten Wärmbehandlung der Epoxidharzanteil noch teilweise flüssig ist, schließt sich eine weitere Temperaturbehandlung bei 160°C während 8 Stun­ den an. Nach dieser zweiten Wärmebehandlung ist das Bauteil vollkommen trocken und weist eine offene Porosität von nur noch 11% auf.
Die noch flüssige Gießkeramik mit einem Zusatz an Epoxidharz kann auch zum Spritzgießen verwendet werden. Hierfür werden ihr zusätzliche Füllstoffe beigemischt. Als Füllstoffe kön­ nen Oxidkeramikpulver in Form von Aluminiumoxid, Zirkonium­ dioxid, Magnesiumoxid, Siliziumdioxid oder Berylliumoxid sowie Nichtoxidpulver in Form von Aluminiumnitrid, Silizium­ nitrid, Siliziumcarbid, Wolframcarbid, Borcarbid, Titancar­ bid oder Molybdäncarbid mit einer mittleren Korngröße zwischen 1 und 500 µm eingesetzt werden. Als Füllstoffe können auch Kurzfasern beigemischt werden, deren Länge zwischen 0,15 und 50 mm beträgt, und die aus Glas, Alumi­ niumdioxid, Siliziumdioxid, Kohlenstoff oder Siliziumcarbid gefertigt sind. Hiermit lassen sich die Eigenschaften wie Viskosität, Festigkeit, Härte, Durchschlagfestigkeit vari­ ieren und die Porosität verringern.
Durch Einrühren von 28 Gew.-% Aluminiumdioxidpulver und 28 Gew.-% Fasern aus Aluminiumdioxid in 44% Gew.-% noch flüssige Gießkeramik mit einem Zusatz an Epoxidharz kann ebenfalls eine Spritzpreßmasse hergestellt werden. Das Aluminiumdi­ oxidpulver weist eine mittlere Korngröße von 18 µm. Die Fa­ sern aus Aluminiumdioxid haben eine Länge von 0,5 mm und einem Durchmesser von 0,01 mm. Alles wird unter Kühlung auf 10°C gründlich vermischt. Die so erhaltene pastöse Masse wird in eine Kolbenpresse (hier nicht dargestellt) gefüllt und mit Druck in eine evakuierte Form eingepreßt. Die Form wird 5 Stunden lang einer Wärmebehandlung bei 80°C unter­ zogen. Anschließend wird das Bauteil der Form entnommen und einer weiteren Wärmebehandlung bei 160°C 10 Stunden lang unterzogen. Das fertige Bauteil hat eine offene Porosität von nur noch 12%.
Zur Herstellung von Platten wird von der eingangs beschrie­ benen Gießkeramik mit einem Epoxidharzzusatz ausgegangen, wobei zusätzlich 33 Gew.-% lösungsmittelfreies Silikonharz zu­ gemischt werden. Das Material wird anschließend in eine Plattenform gegossen und bei 80°C 4 Stunden lang ausgehär­ tet. Anschließend wird die Platte der Form entnommen und mit einer Aufheizgeschwindigkeit von 1°C bis 2°C pro Minute auf 200°C aufgeheizt und daraufhin 2 Stunden lang bei 200°C getrocknet. Eine so hergestellte Platte weist eine offene Porosität von 12% auf und ist zudem wasserabweisend. Sie kann in Schaltern oder Funkenkammern als lichtbogenfeste Abschirmung bis über 300°C genutzt werden.
Mit der erfindungsgemäßen Gießkeramik können auch Laminate hergestellt werden. Hierfür wird von der flüssigen Gießke­ ramik mit dem oben angegebenen Epoxidharzanteil ausgegangen. Mit diesem noch flüssigen Gießkeramikgemisch werden bei­ spielsweise 8 Glasfasermatten getränkt, die eine Abmessung von 10 × 10 × 0,02 cm aufweisen. Die durchtränkten Glas­ fasermatten werden auf einandergelegt und zwischen 2 Stahl­ platten gepreßt. Unter ständiger Pressung wird das Laminat in 4 Stunden bei 80°C ausgehärtet und anschließend bei 160°C 10 Stunden lang nachgetrocknet. Das so hergestellte Laminat weist eine Dicke von 2 mm auf und eine offene Porosität von 15%. Es kann als Isolatorplatte, als Abstandhalter oder als Gehäuseelement bzw. Abdeckung eines Gehäuses verwendet wer­ den.
Desweiteren kann die Gießkeramik zur Ausbildung von Isola­ torrohren oder isolierenden Schichten von Transformatoren verwendet werden. Hierfür werden Glasfaserrovings mit dem obenbeschriebenen flüssigen Gießharz getränkt, das neben dem Epoxidharz noch weitere Zusätze enthalten kann. Anschließend wird das Roving in mindestens 5 Lagen um einen Dorn ge­ wickelt. Jede Lage weist vorzugsweise eine Dicke von 0,1 bis 0,4 mm auf. Auf diese erste Isolationsschicht wird eine den Transformator bildende Drahtwicklung aufgebracht, an die sich wieder eine Isolationsschicht anschließt. Um die Po­ rosität der Gießkeramik noch weiter zu verringern, besteht die Möglichkeit, jede aufgebrachte Lage mittels einer Heiz­ vorrichtung (hier nicht dargestellt) vorzuhärten. Die auf den Dorn aufgewickelten Isolationsschichten werden vorzugs­ weise bei einer Temperatur zwischen 60°C und 90°C vorge­ trocknet. Um die Vorhärtung die Isolationsschichten zu beschleunigen, besteht die Möglichkeit, den Dorn selbst als Heizelement auszubilden und so von innen her die Isolations­ schichten zusätzlich aufzuheizen. Die Vernetzung des Epoxid­ harzes kann zudem durch Zugabe eines UV-empfindlichen Aktivators beschleunigt werden. Dieser bewirkt nach Bestrah­ lung mit UV-Strahlung eine beschleunigte Selbstvernetzung des Epoxidharzes bei niedrigen Temperaturen. Der Aktivator wird bereits bei der Herstellung der Gießkeramikmischung zugesetzt. Die Menge beträgt 1 bis 2 Gew.-% bezogen auf die Gesamtmenge der verwendeten Gießkeramik. Danach bleibt das Material noch 1 bis 2 Stunden verarbeitungsfähig bevor die Härtung einsetzt. Um die Wirkung der Isolationsschicht zu erhöhen, besteht die Möglichkeit, Glimmer- oder Kunst­ stoffolien in die Isolation einzubetten. Die hier beschrie­ benen Maßnahmen zur beschleunigten Aushärtung der Gieß­ keramik bzw. zur besseren Vernetzung des Epoxidharzes können auch bei allen anderen obenbeschriebenen Herstellungsverfah­ ren angewendet werden, so weit es die Fertigung erlaubt.

Claims (7)

1. Verfahren zur Herstellung einer Gießkeramik aus Was­ serglas und einem silizium- und aluminiumhaltigen Pulver, dadurch gekennzeichnet, daß der Gießkeramik zur Reduzierung der offenen Porosität Epoxidharz auf der Basis von Bisphe­ nol-A beigemischt wird, und daß die Gießkeramik anschließend wenigstens einer Wärmebehandlung unterzogen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der noch flüssigen Gießkeramik zur Reduzierung der of­ fenen Porosität höchstens 30 Gew.-% Epoxidharz auf der Basis von Bisphenol-A bezogen auf das Gesamtgewicht der Gießkera­ mik beigemischt werden.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erhöhung der Temperaturbeständigkeit und Feuchtigkeitsbeständigkeit der noch flüssigen Gießkera­ mik 5 Gew.-% lösungsmittelfreies Silikonharz beigemischt wer­ den.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der noch flüssigen Gießkeramik Oxidkera­ miken in Form von Aluminiumdioxid, Zirkoniumdioxid, Magne­ siumoxid, Siliziumdioxid oder Berylliumoxid sowie Nichtoxid­ pulver in Form von Aluminiumnitrid, Siliziumnitrid, Siliziumcarbid, Wolframcarbid, Borcarbid, Titancarbid oder Molybdäncarbid mit einer mittleren Korngröße zwischen 1 und 500 µm als Füllstoffe beigemischt werden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der noch flüssigen Gießkeramik Füll­ stoffe in Form von Kurzfasern aus Glas, Aluminiumdioxid, Si­ liziumdioxid, Kohlenstoff oder Siliziumcarbid beigemischt werden, deren Länge 0,15 bis 50 mm beträgt.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Gießkeramik zur Aushärtung und zur Vernetzung des Epoxidharzes 4 bis 5 Stunden lang einer er­ sten Wärmebehandlung bei 80°C bis 100°C und anschließend 8 bis 10 Stunden lang einer zweiten Wärmebehandlung bei 160° bis 200°C unterzogen wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß zu verbesserten Verarbeitbarkeit der Gießkeramik dieser wenigstens ein mehrwertiger Alkohol in Form von Glyzerin beigemischt wird.
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