DE4228551C2 - Verfahren und Anwendung des Verfahrens zur reinigenden Behandlung von Oberflächen mit einem Niederdruckplasma - Google Patents
Verfahren und Anwendung des Verfahrens zur reinigenden Behandlung von Oberflächen mit einem NiederdruckplasmaInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein
Verfahren zur reinigenden Behandlung von mit fettig-öligen
und oxidischen Verunreinigungen verschmutzten Werkstückoberflächen
mit einem Niederdruckplasma, das aus einer Basisgasmischung bei
Drücken unterhalb 100 mbar erzeugt wird.
Zur effizienten Reinigung von Materialoberflächen aller Art
(metallisch, Kunststoff, Glas . . . ) sind z. B. naßchemische und
Halogen-Kohlenwasserstoff-chemische Verfahren bekannt. Aus
Umweltschutzgründen - da einerseits mit Ölen und Fetten ver
schmutzte Abwässer und Abgase auftreten und andererseits die
bekannte, ozonzerstörende und den Treibhauseffekt fördernde
Wirkung von FKW′s und FCKW′s gegeben ist - besteht jedoch
zunehmend das Bedürfnis, diese Oberflächenreinigungsverfahren
durch umweltfreundlichere Verfahren zu ersetzen. Eine prinzi
pielle Möglichkeit hierzu scheint die Behandlung oder Beauf
schlagung von Werkstücken mit Niederdruckplasmen zu sein, da
dabei oberflächenreinigende Effekte auftreten. Unter Plasma
ist ein unter anderem Ionen, Radikale, Elektronen und Photo
nen enthaltender Zustand eines Gases zu verstehen, der bei
spielsweise durch Niederdruckbedingungen - Druck < 100 mbar -
und Energiezufuhr - z. B. Mikrowellen - erzeugbar ist. Die
reinigende Wirkung des Plasmas beruht auf der Auslösung und
Unterstützung von chemischen Reaktionen sowie auf der mecha
nischen Initiierung der Ablösung von Teilchen vom Werkstück.
Auf dem Fachgebiet des Lötens von bestückten Leiterplatten
ist diese Problematik in der DE-PS 39 36 955 angesprochen.
Ein Problem bei der Reinigung mit Plasmen besteht jedoch
darin, daß oft unterschiedlichste Verunreinigungen - bei
spielsweise adhesiv gebundene Fettschichten einerseits und
chemisch gebundene Oxide andererseits - von einem zu reini
genden Werkstück zu entfernen sind. Dazu werden bekannter
maßen aus einem Basisgas gebildete Plasmen, z. B. aus O₂
oder CF₄ gebildete Plasmen, angewendet. Bekannt und gängig
ist auch der Einsatz von Plasmagasmischungen aus O₂ und
CF₄ (siehe nochmals DE-PS 39 36 955, z. B. Anspruch 3). Oft, und gerade bei "gemischt" verunreinigten Werkstücken
treten jedoch mit diesen Plasmen unbefriedigende
Reinigungsergebnisse auf, dies insbesondere bei zwar gemischten,
aber einerseits stark fettig-öligen Verschmutzungen oder andererseits
massiven oxidischen Beschichtungen.
Wiederum auf dem Gebiet des Lötens von Leiterplatten und hierbei
insbesondere bei den Lötverfahren mit vorgeschalteter Plasmabehandlung
der Leiterplatten ist bereits vor dem Anmeldetag vorliegender
Erfindung ein erfolgreiches Verfahren für ausgewogen fettig-oxidisch verschmutzte Teile vorgeschlagen worden. Es wird bei der Plasmavorbehandlung hierbei ein
Ausgangsgasgemisch bestehend aus
0,5 bis 10 Vol-% O₂,
80 bis 20 Vol-% H₂ sowie
20 bis 80 Vol-% CF₄
80 bis 20 Vol-% H₂ sowie
20 bis 80 Vol-% CF₄
eingesetzt. Mit derart zusammengesetzten Gasmischungen gelingt es,
üblich verunreinigte, zu verlötende Teile vorteilhaft auf den Lötprozeß vorzubereiten
und insbesondere zugehörige, adsorptiv gebundene, oxidierbare Substanzen (Fette,
Öle) sowie simultan auch oxidische Oberflächenbeschichtungen zu
entfernen bzw. aufzubrechen (EP-A 0 557 756). Extrem fettig oder
oxidisch beaufschlagte Werkstücke bereiten jedoch auch hier noch
Schwierigkeiten.
Die Aufgabenstellung bei der vorliegenden Erfindung bestand daher
darin, hochwirksame Plasmareinigungsmethoden anzugeben, die extreme
und dennoch gemischte Oberflächenverschmutzungen entfernen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
innerhalb von Grenzen, die durch
innerhalb von Grenzen, die durch
0,5 bis 25 Vol-% O₂,
80 bis 0,5 Vol-% H₂,
10 bis 65 Vol-% eines Halogenkohlenwasserstoff (HKW) oder SF₆ und
0 bis 40 Vol-% Ar, He oder N₂
80 bis 0,5 Vol-% H₂,
10 bis 65 Vol-% eines Halogenkohlenwasserstoff (HKW) oder SF₆ und
0 bis 40 Vol-% Ar, He oder N₂
gegeben sind -
bei hohem Verschmutzungsgrad mit Kohlenstoffverbindungen (fettig- ölige Verschmutzung) zur Plasmareinigung eine Basisgasmischung mit relativ hohem O₂-Gehalt (nämlich ca. 15 bis 20 Vol-%) und relativ hohem HKW- bzw. SF₆-Gehalt (ca. 60 Vol-%) angewandt wird,
und daß im Falle, daß im wesentlichen eine Oxidschicht von Werk stücken zu entfernen ist, der reduzierend wirkende Wasserstoffanteil der Basisgasmischung bei gleichzeitig niedrigem O₂-Gehalt (nur wenige Vol-% O₂) betont wird (ca. 70 Vol-% H₂-Gehalt), wobei im übrigen ca. 15 Vol-% HKW bzw. SF₆ vorzusehen sind.
bei hohem Verschmutzungsgrad mit Kohlenstoffverbindungen (fettig- ölige Verschmutzung) zur Plasmareinigung eine Basisgasmischung mit relativ hohem O₂-Gehalt (nämlich ca. 15 bis 20 Vol-%) und relativ hohem HKW- bzw. SF₆-Gehalt (ca. 60 Vol-%) angewandt wird,
und daß im Falle, daß im wesentlichen eine Oxidschicht von Werk stücken zu entfernen ist, der reduzierend wirkende Wasserstoffanteil der Basisgasmischung bei gleichzeitig niedrigem O₂-Gehalt (nur wenige Vol-% O₂) betont wird (ca. 70 Vol-% H₂-Gehalt), wobei im übrigen ca. 15 Vol-% HKW bzw. SF₆ vorzusehen sind.
Die vorgeschlagenen Gasmischungen, die ein Hauptelement der
vorliegenden Erfindung darstellen, weisen eine besonders
günstige Kombination von Wirkungen auf. So sorgt der vorge
sehene Sauerstoffanteil für den Abbau von Stoffen, die durch
Oxidation (kalte Oxidation) entfernbar sind. Beispielsweise
betrifft dies fettige oder ölige Rückstände, wie sie häufig in
Produktionsabläufen auf Werkstücken abgelagert werden. Teil
weise gleiche Wirkungsrichtung, also eine eine chemische
Reaktion auslösende und/oder unterstützende Wirkung, besitzen
auch die HKW- oder SF6-Anteile im beschriebenen Basisgas, da
im Plasma hieraus hochreaktive Radikale entstehen, die mit
verschiedensten Verunreinigungen, insbesondere auch mit lang
kettigen Kohlenwasserstoffen, reagieren können. Andererseits
ist bei diesen Verbindungen aufgrund der relativ großen Masse
der Moleküle auch ein Abreinigungseffekt allein durch mecha
nische Stöße gegeben. Diesen mechanischen Wirkmechanismus
weisen auch die optionsweise zumischbaren Inertgase auf, wobei
zusätzlich zum Teil auch durch Lichtemissionen (UV-Photonen
insbesondere von Ar) bedingte Wirkungen vorhanden sind. Zum
anderen Stabilisieren die Inertgase ein aktiviertes, brennen
des Plasma in seiner Wirkung. Schließlich bewirkt die Wasser
stoffkomponente einen Hauptteil der reduzierenden Fähigkeit
des erfindungsgemäßen Plasmas, trägt also hauptverantwortlich
zur Beseitigung eventuell vorhandener Oxidschichten bei.
Insgesamt werden daher mit den beschriebenen Basisgasen in den
verschiedensten Anwendungsfällen gute Reinigungsergebnisse
erzielt, wobei darüber hinaus - aufgrund der niedrigen Gesamt
flußmengen an Gas bei diesem Verfahren - nur geringste Mengen
an umweltschädigend zu bewertenden Verbindungen umgesetzt bzw.
freigesetzt werden.
Erfindungsgemäß angewandte Halogenkohlenwasserstoffe (HKW′s)
sind beispielsweise CF₄, HCF₃ oder H₂C₂F₄.
In einer Variante der Erfindung wird das Basisgas
auch noch im Verlaufe einer Behandlung in seiner Zusammen
setzung variiert und so z. B. zunächst verstärkt ein Abtrag von
fettig-öligen Schichten bewirkt (Oxidation) während in späte
ren Behandlungsphasen durch Erhöhung der Reduktionsfähigkeit
die Oxidentfernung forciert wird.
Eine vorteilhafte Grundvariante der Erfindung besteht jedoch
darin, daß das Basisgas als fertig gemischtes Liefergas zur
Verfügung gestellt und angewandt wird. Dabei sind vor Ort
keine komplizierten Gasmischsysteme und Prozeßkontrollen
vorzusehen.
Die Anwendung des Verfahrens richtet sich vorwiegend auf zu
reinigende Werkstücke oder Werkstückteile aus verschiedensten
Reinmetallen oder Legierungen, beispielsweise aus Stahl,
Messing, Kupfer, Bronze, Aluminium etc.
Anhand der Figur wird die Erfindung im folgenden beispielhaft
näher erläutert.
Die Figur zeigt einen Anlagenaufbau für die Durchführung des
erfindungsgemäßen Verfahrens mit Mischmöglichkeit vor Ort.
Eine Behandlungskammer 1, welche mit einem mit zu behandeln
den Teilen zu befüllenden Werkstückkorb 2 ausgestattet ist,
steht auf der einen Seite mit einer Gasversorgung über eine
Gasleitung 3 in Verbindung. Die Gasversorgung besteht im
einzelnen aus drei Gasspeicherbehältern 5, 6, 7, die mit
einem Gasmischer 8 verbunden sind, an den sich wiederum die
Gasleitung 3 anschließt. Die Gasspeicherbehälter enthalten die
für die Erfindung wesentlichen Gase, nämlich Sauerstoff,
Wasserstoff und Tetrafluormethan. Optionsweise kann hier ein
weiterer Speicherbehälter mit Inertgas zusätzlich vorgesehen
werden. Auf der anderen Seite ist die Behandlungskammer 1 an
eine Pumpe 11 angeschlossen, die für die Erzeugung des für die
Plasmareinigung erforderlichen Niederdrucks sowie generell für
die Absaugung von Abgasen zuständig ist.
Ausgangsseitig kann die Pumpe 11 zusätzlich an eine Abgas
reinigungseinrichtung 12, z. B. einen Aktivkohlefilter ange
schlossen sein. Dies ist jedoch nach heute geltenden, gesetz
lichen Vorschriften aufgrund der nur geringen, auftretenden
Gas- und Schadstoffmengen in aller Regel nicht erforderlich.
Die schädlichen Bestandteile der Abgase bestehen einerseits
aus von den Werkstücken abgereinigten Stoffen und anderer
seits aus den Halogenkohlenwasserstoffen des Basisgases und
deren im Prozeß entstehende Reaktionsprodukte. In der Behand
lungskammer 1 der Anlage ist schließlich noch eine Energie
quelle für die Plasmabildung, beispielsweise ein Hochfrequenz
wellengenerator 4, angeordnet.
Der Betrieb der gezeigten Anlage ist nun wie folgt:
Für die Durchführung einer entsprechenden Reinigungsbehand lung ist zunächst eine geeignete Basisgasmischung festzulegen - in jedem Falle jedoch besitzt diese entsprechend erfin dungsgemäßer Auslegung sowohl reduzierende wie auch oxidie rende Wirkung. Für die weitere Bestimmung ist dann zunächst die Art des zu reinigenden Werkstücks - Metall, Metallsorte, eventuell auch Kunststoff, Keramik oder Glas - sowie dessen Verschmutzung - Kohlenwasserstoffverbindungen, Fette, Öle - Oxidschichten - näher zu definieren. Davon ausgehend erfolgt die engere Festlegung der geeigneten Basisgasmischung, wobei die wesentlichen Überlegungen für die letztendliche Fest legung im folgenden kurz dargestellt sind:
Für die Durchführung einer entsprechenden Reinigungsbehand lung ist zunächst eine geeignete Basisgasmischung festzulegen - in jedem Falle jedoch besitzt diese entsprechend erfin dungsgemäßer Auslegung sowohl reduzierende wie auch oxidie rende Wirkung. Für die weitere Bestimmung ist dann zunächst die Art des zu reinigenden Werkstücks - Metall, Metallsorte, eventuell auch Kunststoff, Keramik oder Glas - sowie dessen Verschmutzung - Kohlenwasserstoffverbindungen, Fette, Öle - Oxidschichten - näher zu definieren. Davon ausgehend erfolgt die engere Festlegung der geeigneten Basisgasmischung, wobei die wesentlichen Überlegungen für die letztendliche Fest legung im folgenden kurz dargestellt sind:
Weist die zu reinigende Oberfläche einen hohen Verschmut
zungsgrad an Kohlenstoffverbindungen auf, so ist eine Basis
gasmischung - im Rahmen der vorgegebenen Grenzen - mit relativ
hohem Sauerstoffgehalt und relativ hohem Gehalt eines Halogen
kohlenwasserstoffs anzuwenden, da insbesondere bei dieser
Gewichtung der Anteile die besagten Verschmutzungen effizient
entfernt werden. Eine Beispielmischung hierfür besteht in
einer
15% O₂, 60% CF₄, 5% H₂ und 20% Ar
enthaltenden Mischung. Ist dagegen im wesentlichen eine Oxid
schicht von einem Werkstück zu entfernen, so ist vor allem der
reduzierend wirkende Wasserstoffanteil der Basisgas
mischung zu betonen. Eine Basisgasmischung für diese Ziel
richtung besteht beispielsweise aus
1% O₂, 20% CF₄, 70% H₂ und 9% Ar,
vor allem jedoch
aus Gasmischungen mit unterhalb 20 Vol-% liegendem
Anteil an CF₄ und entsprechend höher liegenden Anteilen
an H₂ oder Inertgas.
Beispielhaft soll nun die Reinigung von überwiegend fettig und
ölig verschmutzten, aber auch von Oxiden zu befreienden, aus
Kupfer bestehenden Schaltkontakten beschrieben werden.
Diese relativ kleinen Werkstücke werden in großer Stückzahl
in die in der Figur gezeigte Behandlungskammer 1 und den
gezeigten Teilekorb 2 eingebracht. Nach Verschließen der
Kammer 1 erfolgt die Evakuierung der Kammer mit der Absaug
pumpe 11. Das Abpumpen der Luftatmosphäre erfolgt dabei zu
nächst so lange, bis ein unterer Grenzdruckwert von etwa 0.5
mbar erreicht ist. Darauf folgend wird die Zufuhr einer aus
10% O₂, 55% CF₄ und 35% H₂
enthaltenden Basisgasmischung über die Leitung 3 kommend, vom
Gasmischer 8 und den zugehörigen Gasspeichern 5, 6, 7, einge
schaltet. In der jetzt folgenden Behandlungsphase ist ein Gas
zufuhr-Gasabfuhr-Gleichgewicht derart einzuhalten, daß ein
Druckniveau von etwa 0.5 bis 2 mbar in der Behandlungskammer
aufrecht erhalten wird. Dabei ist Hochfrequenzwellengenerator 4
in Betrieb zu nehmen und mit geeigneter Energie zu betreiben.
Geeignete Werte bei einem Behandlungskammervolumen von ca. 40
bis 60 l sind etwa 500 bis 1000 W bei einer Frequenz von etwa
500 bis 1000 MHz. Die Gasmischung wird dabei über in der
Zeichnung nicht gezeigte Einstellglieder beim Gasmischer 8
eingestellt und über einen Mengenregler in der Gasleitung 3 der
Behandlungskammer 1 zugeführt. Zufuhrmenge und Pump
leistung sind dabei entsprechend einer günstigen Durchfluß
menge und entsprechend den erforderlichen Druckverhältnissen
einzustellen, wobei im vorliegenden Fall etwa 20 bis 60
Normalliter Gas pro Stunde (Litermenge bezogen auf Normalbe
dingungen hinsichtlich Druck und Temperatur) zugeführt wer
den. Mit diesen Maßgaben wird eine hochwertige Reinigung des
besagten Behandlungsgutes erzielt.
Abschließend sei nochmals darauf hingewiesen, daß eine Viel
zahl von Materialien und Gegenständen mit dem beschriebenen
Verfahren gegebenenfalls unter Hinzunahme von vorausgehenden
oder nachgeordneten Schritten und unter Einhaltung hoher
Ansprüche an den Umweltschutz vorteilhaft gereinigt werden
kann. Dies wird insbesondere durch die an verschiedenste
Anspruchsprofile anpaßbare Basisgasmischung gewährleistet.
Claims (10)
1. Verfahren zur reinigenden Behandlung von mit fettig-öligen
und oxidischen Verunreinigungen verschmutzten Werkstückoberflächen,
- - bei dem die Werkstücke mit einem H₂, O₂ und HKW oder SF₆ enthaltenden Niederdruckplasma, das aus einer Basisgasmischung bei Drücken unterhalb 100 mbar erzeugt wird, behandelt werden
- - und bei dem im Falle, daß im wesentlichen eine Oxidschicht von den Werkstücken zu entfernen ist, der reduzierend wirkende Wasserstoff anteil der Basisgasmischung bei gleichzeitig niedrigem O₂-Gehalt betont wird, d. h. daß eine Basisgasmischung mit
wenigen Vol-% Sauerstoff,
ca. 70 Vol-% Wasserstoff
und ca. 15 Vol-% HKW oder SF₆
sowie im Verbleibenden Inertgas, das ausgewählt ist aus Argon, Helium oder Stickstoff, angewandt wird.
ca. 70 Vol-% Wasserstoff
und ca. 15 Vol-% HKW oder SF₆
sowie im Verbleibenden Inertgas, das ausgewählt ist aus Argon, Helium oder Stickstoff, angewandt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zur
Anwendung kommende Basisgasmischung in etwa
1 Vol-% O₂,
70 Vol-% H₂, sowie
mindestens 10, jedoch weniger als 20 Vol-% HKW oder SF₆ aufweist.
1 Vol-% O₂,
70 Vol-% H₂, sowie
mindestens 10, jedoch weniger als 20 Vol-% HKW oder SF₆ aufweist.
3. Verfahren zur reinigenden Behandlung von mit fettig-öligen
und oxidischen Verunreinigungen verschmutzten Werkstückoberflächen
- - bei dem die Werkstücke mit einem H₂, O₂ und HKW oder SF₆ enthaltenden Niederdruckplasma, das aus einer Basisgasmischung bei Drücken unterhalb 100 mbar erzeugt wird, behandelt werden
- - und bei dem bei einem hohen Verschmutzungsgrad mit Kohlenstoff verbindungen (fettig-ölige Verschmutzung) eine Basisgasmischung mit
ca. 15 Vol-% O₂,
ca. 60 Vol-% HKW oder SF6,
niedrigen Anteilen Wasserstoff
sowie im Verbleibenden Inertgas, das ausgewählt ist aus Argon, Helium oder Stickstoff, angewandt wird.
ca. 60 Vol-% HKW oder SF6,
niedrigen Anteilen Wasserstoff
sowie im Verbleibenden Inertgas, das ausgewählt ist aus Argon, Helium oder Stickstoff, angewandt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß sich die
Basisgasmischung in etwa aus
15 Vol-% O₂,
60 Vol-% CF4,
sowie 5 Vol-% H₂ und 20 Vol-% Inertgas zusammensetzt.
15 Vol-% O₂,
60 Vol-% CF4,
sowie 5 Vol-% H₂ und 20 Vol-% Inertgas zusammensetzt.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß das jeweilige Basisgas als Fertiggemisch bereitge
stellt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Basisgasgemisch vor Ort aus den genannten Kompon
enten gemischt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Basisgas im Laufe einer Behandlung variiert wird.
8. Anwendung der Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7 auf metal
lische Werkstücke, insbesondere aus Stahl, Messing, Kupfer, Bronze
oder Aluminium.
Priority Applications (3)
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DE19924228551 DE4228551C2 (de) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | Verfahren und Anwendung des Verfahrens zur reinigenden Behandlung von Oberflächen mit einem Niederdruckplasma |
PCT/EP1992/002941 WO1994005828A1 (de) | 1992-08-27 | 1992-12-17 | Verfahren zur reinigenden behandlung von oberflächen mit einem niederdruckplasma |
AU32569/93A AU3256993A (en) | 1992-08-27 | 1992-12-17 | Process for cleaning surfaces with a low-pressure plasma |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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ID=6466587
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