DE4141077A1

DE4141077A1 - Nachwachsvorrichtung in einer schlichtanlage

Info

Publication number: DE4141077A1
Application number: DE4141077A
Authority: DE
Inventors: Richard Nehling
Original assignee: Gebr Sucker and Franz Mueller & Co 4050 Moenchengladbach De GmbH; Sucker & Franz Mueller GmbH
Current assignee: Sucker Mueller Hacoba GmbH and Co
Priority date: 1991-12-13
Filing date: 1991-12-13
Publication date: 1993-06-17
Also published as: ITMI922655A1; ITMI922655A0; IT1256059B

Description

Die Erfindung betrifft eine Nachwachsvorrichtung in einer Schlichtanlage zwischen deren Trockner und Trockenteilfeld zum dosierten Aufbringen einer fließenden Applikationssub stanz, wie Öl, Wachs oder Kaltschlichte, auf eine geschlich tete und getrocknete, flächig geführte Fadenschar mit Hilfe einer in einen Pflatschtrog tauchenden Pflatschwalze .

Vorrichtungen dieser Art dienen in der Praxis dazu einsei tig auf die nach dem eigentlichen Schlichten aus dem Trock ner kommende Fadenschar größenordnungsmäßig 0,2 bis 1 Gew.-% (bezogen auf das Gewicht der Fadenschar) Wachs, Öl, Kalt schlichte oder dergleichen durch Pflatschen zu applizieren . Die Menge der aufgebrachten Substanz hängt unter anderem ab von der Tauchtiefe der Pflatschwalze, das heißt von der Höhe des Niveaus der aufzubringenden Substanz relativ zur Walze im Pflatschtrog. Aus diesem Grunde wird bei in der Textilindustrie vorhandenen Geräten dieser Art das Niveau im Pflatschtrog gemessen und dem Meßergebnis entsprechend auto matisch auf einen vorgegebenen Wert geregelt. Der entspre chende Aufwand zur Niveauregelung ist erheblich.

Die Nachwachsvorrichtung wird innerhalb einer Schlichtanlage zwischen dem Trockner, insbesondere Zylindertrockner, und das dem Webbaum vorausgehende Trockenteilfeld eingefügt. In letzterem wird die im Trockner zum Teil verklebte Fadenschar in Einzelfäden unterteilt. Dabei entstehen erhebliche Mengen an Staub sowie Faser- bzw. Flusenflug. Diese Schmutzmengen werden durch das dem Trockner zugeordnete Absauggebläse zum Teil angezogen und dadurch unmittelbar an der Nachwachsvor richtung vorbeigeleitet.

Im Ergebnis gelangen erhebliche Mengen an Staub sowie Fasern bzw. Flusen usw. unmittelbar oder durch Haften an der Pflatschwalze in den Pflatschtrog. Die im Pflatschtrog vorhandene fliegende Applikationssubstanz wird dadurch mit der Zeit immer mehr von Staub, Fasern und Flusen durchsetzt so daß sich die Fließeigenschaften entsprechend ändern und die Menge der auf die Fadenschar applizierten Substanz all mählich entsprechend von einem anfangs eingestellten Soll wert abweichen kann.

Die im Trog als Flocken, Faserklumpen oder dergleichen ver dichteten Schmutzteilchen können auch über die Pflatschwalze auf die Fadenschar appliziert werden. Dadurch können neben einanderliegende Fäden verkleben. Solche Verbindungen wie derum können im Kamm der Schlichtanlage oder in den Litzen der Webmaschine, auf der die Fadenschar später verwertet wird, zu Fadenbrüchen führen.

Aus diesen Gründen soll bei den in der Praxis eingeführten Nachwachsvorrichtungen von Zeit zu Zeit der Pflatschtrog völlig ausgeleert, gereinigt und mit neuer Applikations substanz gefüllt werden.

Zum Beschlichten von Stoffbahnen, nicht Fadenscharen, mit einer Flüssigkeit wird in der DE-OS 39 40 344 eine Pflatsch- Wanne mit Überlauf in ein eine Niveaukontrolle aufweisendes Niveaugefäß vorgeschlagen. Der Boden des Niveaugefäßes ist über eine Pumpe mit dem Boden der Pflatsch-Wanne verbunden Die Niveaukontrolle macht die bekannte Vorrichtung aufwen dig Mittel zum Reinhalten der Flüssigkeit fehlen im Bekann ten völlig.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Niveauregelung und die Reinhaltung der im Pflatschtrog vorhandenen Applika tionssubstanz zu vereinfachen. Die Lösung besteht für die eingangs genannte Nachwachsvorrichtung darin, daß der Pflatschtrog einen Überlauf für die Applikationssubstanz zu einem Auffangbehälter besitzt, daß der Auffangbehälter mit einem Sieb zum Abtrennen von Schmutzteilchen, wie Fasern, Flusen und Schlichtestaub, aus der überlaufenden Applika tionssubstanz abgedeckt ist, daß zwischen Auffangbehälter und Pflatschtrog eine eine gegebenenfalls zurück in den letzteren fördernde Pumpe enthaltende Leitung für die Appli kationssubstanz vorgesehen ist und dar die Pumpe auf eine den Verbrauch an der Pflatschwalze übersteigende Förderleistung für die Applikationssubstanz ausgelegt ist Durch den erfindungsgemäßen Überlauf des Nachwachs- bzw. Pflatschtrogs wird im Trog selbsttätig ein konstantes Niveau der Applikationssubstanz gehalten. Dadurch, daß der Überlauf auf ein Sieb gerichtet wird, das in der Applikationssubstanz enthaltene Fasern, Flusen, Schlichtestaub und sonstigen Schmutz zurückhält, gelangt die Applikationssubstanz gereinigt in den Auffangbehälter. Die gereinigte Substanz wird im Kreislauf über eine Leitung mit Hilfe einer Pumpe zurück in den Pflatschtrog gefördert. Für eine permanente Fixierung des Niveaus im Pflatschtrog und für eine ebenso permanente Reinigung der Applikationssubstanz ist es hierbei sehr vorteilhaft, wenn die Pumpe ständig mehr - vorzugsweise 25 bis 50% mehr -Applikationssubstanz in den Pflatschtrog fördert, als über die Pflatschwalze an die zu behandelnde Fadenschar abgegeben wird.

Die Menge der mit Hilfe der Pflatschwalze auf die Fadenschar übertragenen Applikationssubstanz kann - wie üblich - durch Einstellen der Umdrehungszahl der Pflatschwalze bzw. gemäß weiterer Erfindung durch Heben oder Senken des Pflatsch trogs relativ zur Pflatschwalze erfolgen. Um die Belastung des über dem Auffangbehälter vorgesehenen Siebs zu vermin dern, kann es günstig sein, wenn der Pflatschtrog bis auf für den Substanztransport auf der Oberfläche der Pflatschwalze gerade ausreichende Spalte sowie bis auf den Überlauf im wesentlichen staubdicht abgedeckt bzw. ver schlossen wird. In den Pflatschtrog gelangen dann nur noch die Schmutzteilchen, die sich auf dem der zu behandelnden Fadenschar zugewandten Umfangssektor der Pflatschwalze ab setzen.

In der erfindungsgemäßen Vorrichtung wird die von der behan delten Fadenschar abtransportierte Menge an Applikationssub stanz zweckmäßig durch Nachfüllen des Auffangsbehälters er gänzt. Vorzugsweise wird daher dem Auffangbehälter ein Nach füll-Reservoir zugeordnet aus diesem Nachfüll-Reservoir muß nicht ständig Applikationssubstanz übergeleitet werden. Es genügt vielmehr, wenn der Auffangbehälter bei Erreichen ei nes Minimal-Niveaus nachgefüllt wird.

Aus dem vorgenannten Grunde wird es gemäß weiterer Erfindung bevorzugt, wenn der Auffangbehälter mit einem auf ein (Aus laß-)Ventil oder dergleichen des Nachfüll-Reservoirs ge schalteten Minimal-Niveau-Fühler derart ausgestattet wird, daß immer dann, vorzugsweise selbsttätig, nachgefüllt wird, wenn die Oberfläche der Applikationssubstanz im Auffangbe hälter das Minimal-Niveau erreicht. In dieser Phase des Be triebs kann aus dem Nachfüll-Reservoir eine bestimmte Menge an Applikationssubstanz in den Auffangbehälter gegeben wer den, so daß das Niveau im Auffangbehälter gerade einen dort maximal zulässigen Stand erreicht alternativ kann in dem Auffangbehälter auch ein Maximal-Niveau-Fühler vorgesehen werden, der gegebenenfalls das Abschalten des Nachfüllvor gangs, z. B. durch Schließen des vorgenannten Ventils, selbsttätig veranlaßt. Anstelle eines Ventils kann zwischen Nachfüllreservoir und Auffangbehälter auch eine Pumpe oder dergleichen vor gesehen werden.

Anhand der schematischen Darstellung eines Ausführungsbei spiels werden Einzelheiten der Erfindung erläutert. Es zeigen:

Fig 1 eine Prinzipdarstellung einer Schlichtanlage mit zwischen Trockner und Trockenteilfeld eingeschalteter Nachwachsvorrichtung; und

Fig 2 eine vergrößert im vertikalen Schnitt darge stellte Nachwachsvorrichtung erfindungsgemäßer Art.

Eine Schlichtanlage der hier interessierenden Art besteht beispielsweise aus einem Zettelbaumgestell 1, einer Schlichtvorrichtung 2 im engeren Sinne, einem Trockner 3, einer Nachwachsvorrichtung 4, einem Trockenteilfeld 5 und einem Webbaum 6 Die einzelnen Teile der Elemente 1 bis 3 sowie 5 und 6 gehören nicht zur vorliegenden Erfindung, sie können in irgendeiner in der Praxis üblichen Weise ausgebil det werden In Fig 2 wird die Nachwachsvorrichtung 4 selbst im vergrö ßerten vertikalen Schnitt dargestellt. Die flächig geführte Fadenschar 7 wird in der Nachwachsvorrichtung 4 so gleitend an einer angetriebenen Pflatschwalze 8 vorbeigeführt, daß die einzelnen Fäden der Fadenschar 7 mit einem gewissen Sektor 9, von z. B. 10 bis 300 Mittelpunktswinkel, der Ober-ß fläche 10 der Pflatschwalze 8 in Berührung kommen.

Die beispielsweise in Drehrichtung 11, das heißt in der Transportrichtung 12 wie die Fadenschar 7 angetriebene Pflatschwalze 8 taucht in eine in einem Pflatschtrog 13 be findliche Applikationssubstanz 14 und transportiert diese Substanz in Form eines in seiner Dicke von der Viskosität, Umdrehungsgeschwindigkeit und der Tauchtiefe 32 abhängigen Films 15 längs der Oberfläche 10 der Pflatschwalze 8 zur vorbeigleitenden Fadenschar 7. Dadurch wird ständig Applikationssubstanz 14 aus dem Pflatschtrog 13 abgeführt Wenn ein bestimmtes Niveau 16 relativ zur Pflatschwalze 8 im Pflatschtrog 13 eingehalten werden soll, muß also permanent Applikationssubstanz nachgefüllt werden.

Erfindungsgemäß wird der Pflatschtrog 13 mit einem Überlauf 17, z. B. auch in Form einer Öffnung in der Trogwand, ausge stattet, derart, daß das Niveau 16 die Höhe des Überlaufs 17 nicht überschreiten kann. Die überlaufende Substanzmenge 18 gelangt erfindungsgemäß durch ein zum Auffangen von Fasern, Flusen, Schlichtestaub oder dergleichen vorgesehenes Sieb 19 hindurch in einem Auffangbehälter 20. Der für das Einhalten des Niveaus 16 erforderliche Kreislauf der Applikationssub stanz wird durch eine Leitung 21 mit darin eingeschalteter Pumpe 22 vervollständigt; die Pumpe 22 soll die im Auffang behälter 20 vorhandene Applikationssubstanz in den Pflatsch trog 13 zurückfördern.

Die Förderleistung der Pumpe 22 soll - vorzugsweise 25 bis 50% größer sein als die von der Fadenschar 7 aus dem Film 15 abgeführte Menge an Applikationssubstanz. Dadurch wird erreicht, daß nicht nur das Niveau 16 permanent eingestellt bleibt, sondern daß eine nennenswerte Menge überlaufender Substanz ständig durch das Sieb 19 gereinigt wird. Das Sieb 19 selbst kann vorzugsweise so ausgebildet werden, daß es einen dem Strahl der überlaufenden Substanzmenge 18 zugewen deten abgeschrägten Bereich 23 besitzt. Ein zumindest teil weise schräg zur Horizontalen stehendes Sieb hat den Vor teil, daß auf der Sieboberfläche angesammelte Schmutzteil chen oder -klumpen nach unten gespült werden, so daß die von dem Überlaufstrahl getroffene Zone des Siebs relativ lange sauber bleibt. Grundsätzlich macht die Reinigung des Siebs beim Betrieb der erfindungsgemäßen Vorrichtung aber keine Probleme, denn ein vorübergehendes Demontieren des Siebs, z. B. um dieses abzuwaschen, bedeutet lediglich, daß vorüber gehend die überlaufende Applikationssubstanz nicht gereinigt wird.

Da aus dem Kreislauf ständig Applikationssubstanz, durch Ab gabe an die Fadenschar 7, abgeführt wird, sinkt das Niveau in dem Auffangbehälter 20 mit der Zeit. Wenn die Leitung 21 am Boden 24 oder in der Nähe des Bodens 24 des Auffangbehäl ters 20 angesetzt, kann das Niveau im Auffangbehälter zwar um einen erheblichen, durch einen Doppelpfeil 25 dargestellten, Betrag schwanken, es soll aber ein Minimalniveau 26 wegen der Pumpenleitung 21 und ein Maximalniveau 27 wegen des Siebs 19 nicht unter- bzw. überschritten werden.

Die Einhaltung dieser Niveau-Schranken des Auffangbehälters kann vom Bedienungspersonal der Maschine durch Augenschein überwacht und durch Nachgießen von Applikationssubstanz ga rantiert werden. Wenn auch an dieser Stelle eine Automatik gewünscht wird, genügt es, das untere Niveau mit einem Mini malfühler 28 und gegebenenfalls das obere Niveau mit einem Maximalfühler 29 zu überwachen. Beide Fühler können ein- bzw. ausschaltend auf ein Betätigungsmittel, z. B. ein Ventil oder eine Pumpe 30, eines Nachfüll-Reservoirs 31 geschaltet werden (auf die gestrichelten Pfeillinien wird verwiesen).

Die auf die Fadenschar 7 übertragene Menge an Applikations substanz pro Zeiteinheit und/oder pro Flächeneinheit kann durch Regeln der Umfangsgeschwindigkeit der Pflatschwalze 8 und/oder durch Regeln der Tauchtiefe 32 der Pflatschwalze 8 vorgegeben werden. Erfindungsgemäß läßt sich die Tauchtiefe 32 durch Anheben oder Absenken des Pflatschtrogs 13 relativ zur Platschwalze 8, z. B. mit Hilfe einer den Pflatschtrog 13 tragenden Teleskopanordnung 33 einstellen.

Die an der Stelle einer Schlichtanlage, an der die Nach wachsvorrichtung im allgemeinen unterzubringen ist, auf tre tenden Schmutzmengen können, insbesondere wegen des Ansaug effekts der Absaugung 35 (Fig 1) des vorgeschalteten Trock ners 3 so erheblich sein, daß es zweckmäßig wird, den Pflatschtrog 13 beiderseits der Pflatschwalze 8 mit Hilfe von Abdeckblechen 34 so zuzudecken, daß nur noch ein schma ler Längsstreifen der Pflatschwalze 8 unbedeckt bleibt; die Breite dieses Längsstreifens wird im wesentlichen dadurch bestimmt, daß die Fadenschar 7 nur den Umfang der Pflatsch walze 8, nicht aber die Abdeckbleche 34 berühren soll. Die von dem Trockenteilfeld 5 aus zum Trockner 3 bzw. dessen Ab saugung 35 an der Nachwachsvorrichtung vorbeiströmenden Schmutzteile können sich dann im wesentlichen nur noch auf einem relativ schmalen freien Streifen der Pflatschwalze 8 absetzen. Selbstverständlich kann auch der Auffangbehälter 20 einschließlich des Strahls der überströmenden Substanzmenge 18 gegen das Absetzen von Schmutz aus der um gebenden Atmosphäre abgedeckt werden.

Bezugszeichenliste

1 Zettelbaumgestell
2 Schlichtvorrichtung im engeren Sinne
3 Trockner
4 Nachwachsvorrichtung
5 Trockenteilfeld
6 Webbaum
7 Fadenschar
8 Pflatschwalze
9 Sektor (8)
10 Oberfläche (8)
11 Drehrichtung (8)
12 Transportrichtung (7)
13 Pflatschtrog
14 Applikationssubstanz
15 Film
16 Niveau
17 Überlauf
18 Überlaufende Substanzmenge
19 Sieb
20 Auffangbehälter
21 Leitung
22 Pumpe
23 Abgeschrägter Bereich (19)
24 Boden (20)
25 Doppelpfeile
26 Minimalniveau
27 Maximalniveau
28 Minimalfühler
29 Maximalfühler
30 Betätigungsmittel
31 Nachfüll-Reservoir
32 Tauchtiefe
33 Teleskopanordnung
34 Abdeckblech
35 Absaugung

Claims

1. Nachwachsvorrichtung (4) in einer Schlichtanlage zwischen deren Trockner (3) und Trockenfeld (5) zum dosierten Auf bringen einer fließenden Applikationssubstanz (14), wie Öl, Wachs oder Kaltschlichte, auf eine bereits geschlichtete und schon getrocknete, flächig geführte Fadenschar (7) mit Hilfe einer in einen Pflatschtrog (13) tauchenden Pflatschwalze (8;), dadurch gekennzeichnet, daß der Pflatschtrog (13) einen Überlauf (17) für die Appli kationssubstanz (14) zu einem Auffangbehälter (20) besitzt,
daß der Auffangbehälter (20) mit einem Sieb (19) zum Abtren nen von Schmutzteilchen, wie Fasern, Flusen und Schlicht staub, aus der überlaufenden Applikationssubstanz (18) abge deckt ist, daß zwischen Auffangbehälter (20) und Pflatsch trog (13) eine eine zurück zu dem letzteren führende Pumpe (22) enthaltende Leitung (21) für die Applikationssubstanz vorgesehen ist, und daß die Pumpe (22) auf eine den Ver brauch an der Pflatschwalze (8) übersteigende Förderleistung für die Applikationssubstanz ausgelegt ist.

2 Nachwachsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dem Auffangbehälter (20) ein Nachfüll-Reservoir (31) zu geordnet ist.

3. Nachwachsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet daß der Auffangbehälter (20) einen auf ein Auslaßventil (30) oder dergleichen des Nachfüll-Reservoirs (31) geschalteten Minimal-Niveau-Fühler (28) besitzt.

4. Nachwachsvorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Auffangbehälter (20) einen auf ein Auslaßventil (30) oder dergleichen des Nachfüll-Resevoirs (31) geschalteten Maximal-Niveau-Fühler (29) besitzt.

5. Nachwachsvorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Pflatschtrog (13) bis auf für den Substanztransport auf der Oberfläche (10) der Pflatschwalze (8) gerade ausrei chenden Spalte und bis auf den Überlauf (17) im wesentlichen staubdicht abgedeckt bzw. verschlossen ist.

6. Nachwachsvorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß Pflatschwalze (8) und Pflatschtrog (13) relativ zu ein ander höhenverstellbar gelagert sind.

7. Nachwachsvorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet daß für den Rücktransport der Applikationssubstanz (14) vom Auffangbehälter (20) zum Pflatschtrog (13) vorgesehene Lei tung (21) vom Boden des Auffangbehälters (20) ausgeht und-/oder am Boden des Pflatschtrogs (13) mündet.

8. Nachwachsvorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Sieb (19) zumindest in dem Bereich (23), auf den der Strahl überlaufender Applikationssubstanz (18) gerichtet ist, schräg in Bezug auf die Horizontale gestellt ist.