DE4114281C2 - Verfahren zur Herstellung eines Chemisorptionsfilters und Vorrichtung zur Durchführung eines derartigen Verfahrens - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines Chemisorptionsfilters und Vorrichtung zur Durchführung eines derartigen Verfahrens

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Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Chemisorptionsfilters aus einem Trägermaterial und einem in das Trägermaterial eingebrachten Absorbens, bei dem das Absorbens mittels einer Trägerflüssigkeit in Form einer Suspension oder Emulsion in das Trägermaterial eingebracht wird, und auf eine Vorrichtung zur Durchführung des vorstehend genannten Verfahrens.
Aus der DE 32 17 299 C2 ist ein Verfahren zur Herstellung eines Chemisorptionsfilters bzw. eine Vorrichtung zur Durch­ führung eines derartigen Verfahrens bekannt, bei der ein Chemisorptionsfilter aus einem Trägermaterial und einem in das Trägermaterial eingebrachten Absorbens gebildet wird. Das Absorbens wird hierbei mittels einer Trägerflüssigkeit in Form einer Suspension oder Emulsion in das Trägerma­ terial eingebracht. Nach dem Einbringen der Suspension oder Emulsion erfolgt eine Trocknung, bei der das die Suspension oder Emulsion enthaltende Trägermaterial auf eine bestimmte Temperatur gebracht wird.
Der Flüssigkeitsentzug bei dieser Trocknung erfolgt aus­ schließlich an der Oberfläche, so daß die das Absorbens enthaltende Trägerflüssigkeit an diese Oberfläche gelangen muß, um dort zu verdunsten. Es kommt demgemäß zu einer star­ ken Migration der Trägerflüssigkeit zu den oberflächennahen Bereichen des Trägermaterials hin. Das Absorbens ist damit nach Beendigung des Flüssigkeitsentzugs nicht gleichmäßig im Trägermaterial verteilt, wie es für eine wirkungsvolle Chemisorption mit hohem Wirkungsgrad der Chemisorptions­ massen erforderlich wäre. Durch den zeitlich langen Flüs­ sigkeitsentzug in Verbindung mit der Migration kommt es zu Aufkonzentrierungen in den oberflächennahen Außenbereichen des Trägermaterials. Da die Absorbensteilchen sich im ver­ stärkten Maße im oberflächennahen Bereich des Trägerma­ terials befinden, werden diese vom durchgesetzten zu reini­ genden Gasstrom mitgenommen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung eines Filters bzw. einer Filtermatte bzw. eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens zu schaffen, bei denen einerseits die chemisorptive Wirkung der für den Filter bzw. die Filtermatte verwendeten Chemisorptionsmassen besser ausgenutzt wird und bei denen andererseits eine un­ erwünschte Partikelbelastung in dem zu reinigenden Gasstrom reduziert oder überhaupt vermieden wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das mit dem Absorbens versehene Trägermaterial derart mindestens einem Hochfrequenzfeld ausgesetzt wird, daß die Teilchen des Absorbens in und auf dem Trägermaterial in feiner, gleich­ mäßiger Verteilung verbleiben und daß die in der das Träger­ material umgebenden Atmosphäre aufgenommene Feuchtigkeit während der Hochfrequenzbehandlung mit einem Kühlluftstrom abgeführt wird. Die erfindungsgemäß durch die Einwirkung des Hochfrequenzfeldes erfolgende Bildung der feinen, gleich­ mäßig verteilten, chemisorbierenden Teilchen kann mit einer sehr hohen Leistungsdichte je Flächeneinheit des Trägerma­ terials erfolgen. Die Hochfrequenzenergie wird durch Strah­ lung gleichmäßig im gesamten getrennten Trägermaterialvo­ lumen erzeugt. Hierdurch ergibt sich eine Bildung von sehr vielen, gleichmäßig im Trägerkörpervolumen verteilten, klei­ nen Absorbensteilchen mit sehr gutem Haftvermögen zum Trä­ germaterial. Das Ergebnis der erfindungsgemäßen Verfahrens­ weise ist demgemäß ein Filter bzw. eine Filtermatte mit sehr hoher chemisorptiver Wirkung und mit einem fest anhaftenden, gleichmäßig verteilten Absorbens mit einer großen äußeren Oberfläche. Die Feuchtigkeit, die sich aufgrund der Ein­ wirkung des Hochfrequenzfeldes in der das Trägermaterial um­ gebenden Atmosphäre bildet, kann in einfacher Weise durch einen ohnehin vorhandenen Kühlluftstrom vom Trägermaterial entfernt werden, um so den Trocknungsvorgang ohne unmittel­ bare Einwirkung auf das die Trägerflüssigkeit enthaltende Trägermaterial zu unterstützen.
Vorteilhaft sind der Trägerflüssigkeit Mittel zur Dotation des Absorbens zugegeben bzw. werden in dieser gelöst, um dessen Wirkung zu erhöhen.
Das Absorbens wird als feinkörniger Staub zur Suspensions­ bildung verwendet, so daß nach Einwirkung des Hochfrequenz­ feldes das mit hoher Stoffdichte eingebrachte Absorbens feinhomogen verteilt in dem Trägermaterial verbleibt und keinerlei Stoffverschiebungen erfolgen. Das Absorbens weist vorzugsweise eine Körnung im Mikrometer-Bereich auf.
Um die erwünschte hohe Stoffdichte zu erzielen, wird vorge­ schlagen, die Trägerflüssigkeit zur Benetzung und Suspensions­ bzw. Emulsionserzeugung einer Ultraschallbehandlung zu unter­ ziehen.
Der Trägerflüssigkeit können Suspensions- bzw. Emulsionsbild­ ner zugesetzt werden. Auch kann der Trägerflüssigkeit ein Haftvermittler beigegeben werden, um die Haftwirkung der Ab­ sorbensteilchen in und am Trägermaterial zu erhöhen.
Als besonders wirksam hat sich die Hochfrequenzbehandlung des getränkten Trägermaterials erwiesen, wenn zur Erzeugung des Hochfrequenzfelds eine Mikrowellenvorrichtung verwendet wird.
Es ist möglich, das mit der Suspension bzw. der Emulsion ge­ tränkte Trägermaterial in einen örtlichen Bereich zu transpor­ tieren, in dem es dann mindestens einem stationären Hochfre­ quenzfeld ausgesetzt wird. Bei dieser Verfahrensweise ergibt sich eine konstruktiv vergleichsweise einfache Ausgestaltung der zur Erzeugung des Hochfrequenzfelds eingesetzten Vor­ richtung.
Für die Herstellung großer Mengen Filter bzw. Filtermatten ist es vorteilhaft, wenn das mit der Suspension bzw. der Emulsion getränkte Trägermaterial durch jedes stationäre Hochfrequenzfeld hindurchgeführt wird. Hierdurch kann eine kontinuierliche Herstellung von Filtern bzw. Filtermatten erfolgen.
Zur weiteren Erhöhung der Kapazität des erfindungsgemäßen Her­ stellungsverfahrens kann das mit der Suspension bzw. der Emulsion getränkte Trägermaterial in zeitlicher Aufeinander­ folge zumindest zweimal jedem Hochfrequenzfeld ausgesetzt werden.
Falls durch einen Wärmeübergang von den sich erwärmenden flüssigen Bestandteilen der die Chemisorptionsmassen ent­ haltenden Suspension bzw. Emulsion auf das Trägermaterial dennoch im Einzelfall zu hohe Trägermaterialtemperaturen auftreten sollten, kann das getränkte Trägermaterial, nachdem es einem Hochfrequenzfeld ausgesetzt worden ist, einer Zwi­ schenabkühlung unterzogen werden, bevor es noch einmal dem­ selben oder einem anderen Hochfrequenzfeld ausgesetzt wird. Die Hochfrequenzbeaufschlagung des mit der Suspension bzw. der Emulsion getränkten Trägermaterials erfolgt demgemäß stufenweise unter Zwischenabkühlung.
Wenn die Intensität bei der Behandlung des Trägermaterials zeitlich aufeinander folgender Hochfrequenzfelder geringer wird, kann ebenfalls eine zu große Aufheizung des Träger­ materials im Verlauf des Durchlaufs durch mehrere Hochfre­ quenzfelder verhindert werden.
Wenn das mit der Suspension bzw. der Emulsion getränkte Trä­ germaterial kontinuierlich durch zumindest zwei hintereinander angeordnete Hochfrequenzfelder hindurchgeführt wird, ergibt sich, insbesondere wenn darüber hinaus das getränkte Träger­ material stromab der einmal durchlaufenen Hochfrequenzfelder umgelenkt und erneut durch die Hochfrequenzfelder geführt wird, eine besonders intensive Ausnutzung der zur Herstellung der Hochfrequenzfelder verwendeten Hochfrequenzvorrichtung.
Eine in konstruktiv einfacher Weise ausgestaltete Vorrichtung zur Durchführung des vorstehend geschilderten Verfahrens hat eine Speichereinrichtung, in der das Trägermaterial gespei­ chert ist, eine Tränkungseinrichtung, zu der das Trägerma­ terial aus der Speichereinrichtung geführt wird und in der das Trägermaterial mit der Chemisorptionsmasse enthaltenden Trägerflüssigkeit tränkbar ist, und eine der Tränkungsein­ richtung nachgeschaltete Hochfrequenzvorrichtung, in der das getränkte Trägermaterial zumindest einem Hochfrequenzfeld ausgesetzbar ist, wobei der Hochfrequenzvorrichtung eine Kühlvorrichtung zugeordnet ist, die einen Kühlluftstrom er­ zeugt, mittels dem die in der das Trägermaterial umgebenden Atmosphäre aufgenommene Feuchtigkeit abführbar ist.
Vorteilhaft ist die Hochfrequenzvorrichtung als Mikrowellen­ gerät ausgebildet.
Zur Herstellung eines kontinuierlichen Durchflusses des ge­ tränkten Trägermaterials kann der Hochfrequenzvorrichtung eine Fördervorrichtung zugeordnet sein, mittels der das ge­ tränkte Trägermaterial durch die Hochfrequenzvorrichtung hin­ durch förderbar ist.
Wenn zur Fördervorrichtung eine Umlenkeinrichtung gehört, mit­ tels der das Trägermaterial nach einem Durchlaufen der Hoch­ frequenzvorrichtung so umlenkbar ist, daß es mittels der För­ dervorrichtung erneut durch die Hochfrequenzvorrichtung ge­ fördert werden kann, wird der Ausnutzungsgrad der Hochfrequenz­ vorrichtung beträchtlich erhöht.
Zur Erhöhung ihrer Kapazität bzw. zu ihrer besseren Anpaßbar­ keit an das zu behandelnde, getränkte Trägermaterial kann die Hochfrequenzvorrichtung mehrere aufeinander folgende Hoch­ frequenzfelder aufweisen.
Um eine Überhitzung des Trägermaterials in jedem Fall zu ver­ meiden, können zwischen aufeinander folgenden Hochfrequenzfel­ dern Zwischenkühlzonen angeordnet sein.
Je nach Art des verwendeten Trägermaterials können die auf­ einander folgenden Hochfrequenzfelder der Hochfrequenzvorrich­ tung eine unterschiedliche Leistungsdichte aufweisen, wobei die Leistungsdichte jedes Hochfrequenzfelds in gewünschter Weise einstellbar sein kann.
Eine besonders vorteilhafte Wirkung auf das Trägermaterial ergibt sich, wenn die Leistungsdichte der aufeinander folgen­ den Hochfrequenzfelder in Förderrichtung des Trägermaterials abnimmt.
Vorteilhaft kann die Speichereinrichtung als Wickelspule aus­ gebildet sein, von der das bahnförmige Trägermaterial ab­ wickelbar ist.
Eine besonders intensive Tränkung des aus der Speicherein­ richtung stammenden Trägermaterials in der Tränkeinrichtung ergibt sich, wenn die Tränkeinrichtung als Tauchbad ausge­ bildet ist, in welchem Tauchbad das Trägermaterial in die Trägerflüssigkeit eingetaucht wird.
Ein gleichmäßiger Absorbensgehalt in dem das Tauchbad ver­ lassenden Trägermaterial kann dann erreicht werden, wenn zwischen der Tränkeinrichtung und der Hochfrequenzvorrichtung zwei Quetschwalzen angeordnet sind, durch deren Spalt das ge­ tränkte Trägermaterial geführt wird.
Im folgenden wird die Erfindung an Hand eines Ausführungsbei­ spiels unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert, die eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung eines Filters zeigt.
Eine Vorrichtung zur Herstellung von Filtern, z. B. von Filter­ matten, besteht im wesentlichen aus einer Speichereinrichtung 1, einer Tränkungseinrichtung 2 und einer Hochfrequenzvorrich­ tung 3.
Die Speichereinrichtung 1 ist im dargestellten Ausführungsfall als Wickelspule ausgebildet, auf der bahnförmiges Trägerma­ terial 4 aufgewickelt ist. Das Trägermaterial 4 selbst ist ein vliesartiges Gewebe bzw. ein vliesartiger Stoff. Sofern der Vorrat an Trägermaterial 4 auf der Wickelspule 1 er­ schöpft ist, wird die leere durch eine mit Trägermaterial 4 versehene neue Wickelspule 1 ersetzt.
Der Speichereinrichtung 1 ist die Tränkungseinrichtung 2 nachgeschaltet. Die Tränkungseinrichtung 2 ist ein Behälter 20, der noch oben offen ist und in dem eine Trägerflüssigkeit 21 in Form einer Suspension bzw. einer Emulsion enthalten ist, die ihrerseits die Chemisorptionsmassen für den herzu­ stellenden Filter enthält. Der Füllungsgrad des Behälters 20 mit der Trägerflüssigkeit 21 wird in bekannter, nicht darge­ stellter Weise überwacht und weitgehend konstant gehalten, indem entsprechend Trägerflüssigkeit 21 in den Behälter 20 nachgefüllt wird.
Zwischen der Tränkungseinrichtung 2 und der ihr nachgeschal­ teten Hochfrequenzvorrichtung 3 ist eine Quetscheinrichtung 5 angeordnet, die zwei Quetschwalzen 50, 51 enthält, die zwi­ schen sich einen Quetschspalt 52 ausbilden. Die Breite des Quetschspalts 52 ist durch eine aufeinander Zu- bzw. durch eine voneinander Wegbewegung der Quetschwalzen 50, 51 steuer­ bar, wozu die Quetschwalzen 50, 51 jeweils mit einem hydrau­ lischen Stellzylinder 53 bzw. 54 ausgerüstet sind.
Die der Tränkungseinrichtung 2 bzw. der Quetscheinrichtung 5 nachgeschaltete Hochfrequenzvorrichtung 3 hat ein Gehäuse 30, welches nach unten offen ist und in dem in Vertikalrichtung übereinander eine erste, eine zweite und eine dritte Hochfre­ quenzstufe 31, 32, 33 vorgesehen sind, die jeweils als Mikro­ wellengerät ausgebildet sein können. Die erste Hochfrequenz­ stufe 31 erzeugt ein erstes Hochfrequenzfeld 34, die zweite Hochfrequenzstufe 32 ein zweites Hochfrequenzfeld 35 und die dritte Hochfrequenzstufe 33 ein drittes Hochfrequenzfeld 36. Die Hochfrequenzfelder 34, 35 und 36 sind in ihrer Intensi­ tät bzw. Leistungsdichte steuerbar; sie können gleich oder unterschiedlich stark sein.
Zwischen dem ersten Hochfrequenzfeld 34 und dem zweiten Hoch­ frequenzfeld 35 ist eine durch eine erste Kühleinrichtung 60 erzeugte erste Zwischenkühlzone 61 und zwischen dem zweiten Hochfrequenzfeld 35 und dem dritten Hochfrequenzfeld 36 eine durch eine zweite Kühleinrichtung 62 erzeugte zweite Zwischen­ kühlzone 63 ausgebildet.
Für den Transport des Trägermaterials 4 ist eine Fördervor­ richtung 7, 8 vorgesehen, die im dargestellten Ausführungs­ beispiel eine im oberen Bereich des Gehäuses 30 oberhalb des dritten Hochfrequenzfelds 36 angeordnete Umlenkwalze und eine außerhalb der Hochfrequenzvorrichtung 3 angeordnete Antriebs­ walze 8 aufweist. Mittels der Antriebswalze 8 kann das bahn­ förmige Trägermaterial 4 von der Wickelspule 1 durch die Tränkungseinrichtung 2, die Quetscheinrichtung 5 und die Hochfrequenzvorrichtung 3 gefördert werden. Stromab der An­ triebswalze 8 ist eine nicht dargestellte Weiterverarbeitungs­ station angeordnet.
Im Betrieb der vorstehend beschriebenen Vorrichtung wird das Trägermaterial 4 als ungetränktes Trägermaterial 41 von der Wickelspule 1 abgewickelt und mittels nicht dargestellter Um­ lenkeinrichtungen in einer Schleife 42 durch ein durch die Trägerflüssigkeit 21 im Behälter 20 ausgebildetes Tauchbad 22 der Tränkungseinrichtung 2 geführt. Dort nimmt das Trägerma­ terial 4 die die Chemisorptionsmassen enthaltende Trägerflüs­ sigkeit 21 auf und verläßt daraufhin das Tauchbad 22 als ge­ tränktes Trägermaterial 43.
Dieses getränkte Trägermaterial 43 durchläuft den zwischen den Quetschwalzen 50, 51 der Quetscheinrichtung 5 ausgebildeten Quetschspalt 52, in dem, je nach Einstellung der Breite des Quetschspalts 52 durch die Stellzylinder 53 und 54, die Menge der im Trägermaterial 43 aufgenommenen Trägerflüssigkeit 21 auf einem bestimmten Niveau weitgehend vergleichmäßigt wird.
Das derart vorbehandelte Trägermaterial 44 tritt durch das unten offene Gehäuse 30 in die Hochfrequenzvorrichtung 3 ein, in der es nacheinander das erste Hochfrequenzfeld 34, die erste Zwischenkühlzone 61, das zweite Hochfrequenzfeld 35, die zweite Zwischenkühlzone 63 und das dritte Hochfrequenz­ feld 36 durchläuft, bevor es durch die Umlenkwalze 7, die oberhalb des dritten Hochfrequenzfelds 36 im Gehäuse 30 an­ geordnet ist, um ca. 180 Grad umgelenkt wird und dann nach­ einander das dritte Hochfrequenzfeld 36, die zweite Zwischen­ kühlzone 63, das zweite Hochfrequenzfeld 35, die erste Zwi­ schenkühlzone 61 und das erste Hochfrequenzfeld 34 durch­ läuft, wonach das hochfrequenzbehandelte Trägermaterial 45 das Gehäuse 30 der Hochfrequenzvorrichtung 3 durch dessen offene Unterseite verläßt und mittels der Antriebswalze 8 der nicht dargestellten Weiterverarbeitungsstation zugeführt wird, wo es z. B. in einzelne Filtermatten od. dgl. aufgeteilt wird.
In den drei Hochfrequenzfeldern 34, 35, 36 wird gleichzeitig im gesamten Volumen des Trägermaterials 4 bzw. 44 eine feine, gleichmäßige Verteilung der in der Trägerflüssigkeit 21 ent­ haltenen Absorbensteilchen herbeigeführt, so daß sich im gesamten Volumen des aus dem getränkten bzw. vorbehandelten Trägermaterial 44 hergestellten Filters eine weitestgehend homogene Verteilung gleich großer Teilchen der Chemisorp­ tionsmassen ergibt. Durch die Zwischenkühlzonen 61, 63, die durch In- oder Außerbetriebsetzung der Kühleinrichtungen 60, 62 wahlweise zu- oder abschaltbar sind, kann bei entsprechend empfindlichem Trägermaterial 4 verhindert werden, daß sich die Temperatur des Trägermaterials 4 infolge des Wärmeübergangs aus der Lösung 21 auf das Trägermaterial 4 über eine zulässige Maximaltemperatur erhöht.
Im Gehäuse 30 der Hochfrequenzvorrichtung 3 ist eine nicht dargestellte Lüftereinrichtung angeordnet, mittels der in der das Trägermaterial 4 bzw. 44 umgebenden Atmosphäre ein Kühlluftstrom erzeugt wird, mit dem auch die in der das Trägermaterial 4 bzw. 44 umgebenden Atmosphäre enthaltene Feuchtigkeit aus dem Gehäuse 3 abgefördert wird.

Claims (27)

1. Verfahren zur Herstellung eines Chemisorptionsfilters aus einem Trägermaterial (4) und einem in das Trägermaterial (4) eingebrachten Absorbens, bei dem das Absorbens mittels einer Trägerflüssigkeit (21) in Form einer Suspension oder Emul­ sion in das Trägermaterial (4) eingebracht wird, dadurch gekennzeichnet, daß das mit dem Absorbens versehene Träger­ material (4) derart mindestens einem Hochfrequenzfeld (34) ausgesetzt wird, daß die Teilchen des Absorbens in und auf dem Trägermaterial in feiner, gleichmäßiger Verteilung ver­ bleiben, und daß die in der das Trägermaterial (4) umgeben­ den Atmosphäre aufgenommene Feuchtigkeit während der Hoch­ frequenzbehandlung mit einem Kühlluftstrom abgeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägerflüssigkeit (21) Mittel zur Dotation des Absorbens zu­ gegeben werden.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der Trägerflüssigkeit (21) Mittel zur Dotation des Absorbens gelöst werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß das Absorbens als feinkörniger Staub zur Suspensionsbildung verwendet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Absorbens eine Körnung im Mikrometer-Bereich aufweist.
6. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerflüssigkeit (21) einer Ultraschallbehandlung unterzogen wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägerflüssigkeit (21) Suspensions- bzw. Emulsionsbildner zugesetzt werden.
8. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägerflüssigkeit (21) Haftvermittler beigegeben werden.
9. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, bei dem das Hochfrequenzfeld (34) mittels einer Mikrowellen­ vorrichtung (31) erzeugt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß das mit der Trägerflüssigkeit (21) getränkte Trägermaterial (4) mindestens einem stationären Hochfrequenzfeld ausgesetzt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das mit der Trägerflüssigkeit (21) getränkte Trägermaterial (4) durch jedes stationäre Hochfrequenzfeld (34) hindurchge­ führt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß das mit der Trägerflüssigkeit (21) getränkte Trägermaterial (4) in zeitlicher Aufeinanderfolge zumindest zweimal jedem Hochfrequenzfeld ausgesetzt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß das getränkte Trägermaterial (4), nachdem es einem Hochfrequenzfeld ausgesetzt worden ist, einer Zwischenabkühlung unterzogen wird, bevor es noch einmal dem­ selben oder einem anderen Hochfrequenzfeld ausgesetzt wird.
14. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß die Intensität bei der Behandlung des Trägermaterials (4) zeitlich aufeinander folgender Hoch­ frequenzfelder geringer wird.
15. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß das mit der Trägerflüssigkeit (21) getränkte Trägermaterial (4) kontinuierlich durch zumindest zwei hintereinander angeordnete Hochfrequenzfelder (34, 35, 36) hindurchgeführt wird.
16. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der vorhergehenden, dadurch gekennzeichnet, daß das mit der Trägerflüssigkeit (21) getränkte Trägermaterial (4) stromab der durchlaufenen Hochfrequenzfelder (34, 35, 36) umgelenkt und durch die Hochfrequenzfelder (36, 35, 34) zurückgeführt wird.
17. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit einer Speichereinrichtung (1), in der das Trägermaterial (4) gespeichert ist, und einer Tränkungseinrichtung (2), zu der das Trägermaterial (4) aus der Speichereinrichtung (1) geführt wird und in der das Trä­ germaterial (4) mit der die Chemisorptionsmasse enthaltenden Trägerflüssigkeit (21) tränkbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Tränkungseinrichtung (2) eine Hochfrequenzvorrichtung (3) nachgeschaltet ist, in der das mit der Trägerflüssig­ keit (21) getränkte Trägermaterial (4) zumindest einem Hoch­ frequenzfeld (34, 35, 36) aussetzbar ist, und daß der Hoch­ frequenzvorrichtung (3) eine Kühlvorrichtung zugeordnet ist, die einen Kühlluftstrom erzeugt, mittels dem die in der das Trägermaterial (4) umgebenden Atmosphäre aufgenommene Feuch­ tigkeit abführbar ist.
18. Vorrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Hochfrequenzvorrichtung (3) als Mikrowellenvorrichtung ausgebildet ist.
19. Vorrichtung nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Hochfrequenzvorrichtung (3) eine För­ dervorrichtung (7, 8) zugeordnet ist, mittels der das ge­ tränkte Trägermaterial (4) durch die Hochfrequenzvorrichtung (3) hindurch förderbar ist.
20. Vorrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß zur Fördervorrichtung (7, 8) eine Umlenkeinrichtung (7) gehört, mittels der das Trägermaterial (4) nach einem Durchlaufen der Hochfrequenzvorrichtung (3) so umlenkbar ist, daß es mittels der Fördervorrichtung (7, 8) erneut durch die Hochfrequenzvorrichtung (3) förderbar ist.
21. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 17-20, dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb der Hochfrequenzvorrichtung (3) mehrere aufeinander folgende Hochfrequenzfelder (34, 35, 36) vorgesehen sind.
22. Vorrichtung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen aufeinander folgenden Hochfrequenzfeldern (34, 35, 36) Zwischenkühlzonen (61, 63) angeordnet sind.
23. Vorrichtung nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die aufeinander folgenden Hochfrequenzfelder (34, 35, 36) eine unterschiedliche Leistungsdichte auf­ weisen.
24. Vorrichtung nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Leistungsdichte der aufeinander folgenden Hoch­ frequenzfelder (34, 35, 36) in Förderrichtung des Träger­ materials (4) abnimmt.
25. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 17-24, dadurch gekennzeichnet, daß die Speichereinrichtung als Wickelspule (1) ausgebildet ist, von der das bahnförmige Trägermaterial (4) abwickelbar ist.
26. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 17-25, dadurch gekennzeichnet, daß die Tränkungseinrichtung (2) als Tauchbad (22) ausgebildet ist, in der das Trägermaterial (4) in die Trägerflüssigkeit (21) eingetaucht wird.
27. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 17-26, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Tränkungseinrichtung (2) und der Hochfrequenzvorrichtung (3) zwei Quetschwalzen (50, 51) angeordnet sind, durch deren Quetschspalt (52) das mit der Trägerflüssigkeit (21) getränkte Trägermaterial (4) geführt wird.
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