DE4109032A1 - Verfahren und vorrichtung zur hochspannungs-behandlung von kathodenstrahlroehren - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur hochspannungs-behandlung von kathodenstrahlroehrenInfo
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Hochspannungs
behandlung für Kathodenstrahlröhren, bei dem eine
Hochspannung von den Röhrenfußanschlüssen aufge
bracht wird, um gute dielektrische Eigenschaften
zu verleihen, und eine Vorrichtung zum Durchführen
der Behandlung.
Fig. 13 zeigt einen Querschnitt durch den Hals
einer Kathodenstrahlröhre.
In der Figur umfaßt die Kathodenstrahlröhre 10 einen
Hals 1, wobei ein freies Ende des Halses 1 von einem
Röhrenfuß 2 abgeschlossen ist und der Hals eine
Elektronenkanone 20 aufnimmt. Die Elektronenkanone 20
umfaßt eine Halsvorrichtung 11, eine Kathode 12, ein
erstes Gitter 13, ein zweites Gitter 14, ein drittes
Gitter 15, das als Fokuselektrode dient, und ein viertes
Gitter 16, wobei diese Bauteile in der angegebenen
Reihenfolge angeordnet sind und in bestimmten
Abständen durch eine isolierende Glasstütze 17
gehalten werden.
Wenn beispielsweise eine 29 Zoll Farbkathodenstrahl
röhre betrieben wird, wird eine Hochspannung von
28 kV dem vierten Gitter 16 der Elektronenkanone 10
über einen inneren leitenden Film 3 und Kontakte 18
von einem externen Anodenknopf (nicht
dargestellt) zugeführt.
Eine Hochspannung von 6,7 kV wird gleichzeitig
dem dritter Gitter 15 über eine Buchse (nicht darge
stellt), den Röhrenanschluß 4a des dritten Gitters 15
und die innere Leitung 19 zugeführt. Weiterhin
wird eine Spannung von ungefähr 700 V an das
zweite Gitter 14 gelegt, eine Spannung von ungefähr
150 V wird der Kathode 12 zugeführt und eine Spannung
von 0 V liegt üblicherweise am ersten Gitter 13.
Bei diesen Betriebsbedingungen liegt eine Potential
differenz von ungefährt 6 kV zwischen dem dritten
Gitter 15 und dem zweiten Gitter 14. Wenn irgend
welche Grate oder Ablagerungen auf der Fläche des
dem dritten Gitter 15 gegenüberliegenden Teil des
zweiten Gitters 14 vorhanden sind, die bei den
Formen der Elektrode oder bei der Herstellung der
Elektronenkanone 10 erzeugt worden sind, oder wenn
Schmutz oder Staub im Inneren der Kathodenstrahlröhre
anhaftet, kann eine Streuemission von nicht gewünschten
Elektronen auftreten.
Diese nicht gewünschten Elektronen gehen durch das
vierte Gitter 16, bestrahlen die Fläche der Kathoden
strahlröhre und bewirken unnötigerweise, daß sie
fluoresziert. Dieses unnötige Leuchten tritt
darüber hinaus auf, selbst wenn der Bildschirm
dunkel ist und führt zu einer Verschlechterung
der Bildqualität.
Um diese Emissionen von nicht gewünschten Elektronen
zu verhindern, wird von außen eine Spannung ent
sprechend dem Vier- bis Fünffachen der Betriebs
spannung der Kathodenstrahlröhre, d. h. eine Hoch
spannung von ungefährt 30 kV während der Herstellung
der Kathodenstrahlröhre 20 an den Röhrenfußanschluß
4a des dritten Gitters 15 und die anderen Röhren
fußanschlüsse 4b angelegt, wie in Fig. 14 gezeigt.
Wenn diese Hochspannungsbehandlung angewendet wird,
tritt eine Bogenentladung zwischen dem zweiten
Gitter 14 und dem dritten Gitter 15 auf, die Grate
und Schmutz oder Staub vom zweiten Gitter 14 ent
fernt, wodurch die Emission der nicht gewünschten
Elektronen unterdrückt wird.
Wie in Fig. 15 gezeigt wird, sind allerdings die
Röhrenfußanschlüsse 4b des zweiten Gitters 14
und der Kathode 12 um den Röhrenfußanschluß 4a
des dritten Gitters 15 herum mit einem sehr
geringen Abstand angeordnet. Wenn daher eine
Hochspannung von dem Vier- bis Fünffachen der
Betriebsspannung an das dritte Gitter 15 angelegt
wird, tritt eine Kriechentladung zwischen den Röhren
fußanschlüssen 4a und 4b auf und es kann keine
zufriedenstellende Hochspannungsbehandlung erreicht
werden.
Fig. 16 zeigt eine vergrößerte perspektivische
Ansicht des Aufbaus einer siloartigen Grundplatte,
die zur Vermeidung einer derartigen Kriechentladung
verwendet wird. Die siloartige Grundplatte 30
weist Wände auf, die den Röhrenfußanschluß 4a
des dritten Gitters von den anderen Röhrenfuß
anschlüssen trennt, und ist an dem Röhrenfuß
2 über Silikongumme 31 befestigt. Eine Buchse,
wie in Fig. 17 gezeigt, wird zur Verbindung
mit der siloartigen Grundplatte 30 nach Fig. 16
verwendet, um eine Spannung von einer äußeren
Spannungsquelle der Kathodenstrahlröhre zuzuführen.
Unter Verwendung dieser siloartigen Grundplatte 30 und
der Buchse 32 kann die Durchschlagsspannung zwischen
dem Röhrenfußanschluß 4a und den anderen Röhrenfuß
anschlüssen 4b erhöht werden, aber eine Hochspannungs
behandlung unter Verwendung einer Spannung, die
vier bis fünf mal so hoch liegt wie die Betriebs
spannung, kann immer noch nicht mit voller Be
friedigung durchgeführt werden.
Um die obigen Probleme wurden andere Hochspannungs
behandlungen vorgeschlagen, wie beispielsweise in
der japanischen Offenlegungsschrift No. 1 01 255/1979
offenbart, bei der eine Hochspannung zugeführt wird,
während mindestens Röhrenfuß 2 der Kathodenstrahl
röhre 20 in einer Hochdruck-Gasatmosphäre gehalten
wird.
Bei dieser Art der Hochspannungsbehandlung wird der
Röhrenfuß der Kathodenstrahlröhre 20 in einen
abgedichteten Behälter 21 eingeschlossen und ein
Hochdruck-Gas G wird dem Behälter von außen gemäß
Fig. 18 zugeführt, so daß die Schwellenspannung,
bei der eine Kriechentladung an den Röhrenfußan
schlüssen 4a, 4b beginnt, erhöht wird.
Unter Verwendung dieses Verfahrens kann die
Kriechentladungsschwellenspannung von ungefähr
23 kV in dem konventionellen Verfahren auf ungefähr
40 kV erhöht werden.
Bei dem obigen Verfahren der Hochspannungsbehandlung
unter Verwendung von Hochdruck-Gas ist die
Kriechentladungs-Schwellenspannung allerdings
nicht immer konstant bei Produktionslinien, die
kontinuierlich große Stückzahlen von Kathodenstrahl
röhren herstellen und so treten manchmal Kriech
entladungen an den Röhrenfußanschlüssen auf. In
solchen Fällen tritt keine zufriedenstellende Ent
ladung zwischen den Elektroden des zweiten und
dritten Gitters auf, die dielektrischen Eigenschaften
sind nicht konsistent und Schäden können an den
Buchsen durch die Energie der Entladung auftreten.
Diese Erfindung wurde entwickelt, um die obigen
Probleme zu lösen. Der Erfindung liegt somit die
Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung
zur Hochspannungsbehandlung von Kathodenstrahlröhren
zu schaffen, bei denen eine stabile Kriechentladungs-
Schwellenspannung aufrechterhalten bleibt und
die Hochspannungsbehandlung sicher und wirksam
in einer Hochdruck-Gasatmosphäre durchgeführt werden
kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kenn
zeichnenden Merkmale des Hauptanspruchs und der
Nebenansprüche gelöst.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Hochspannungs
behandlung einer Kathodenstrahlröhre mit einem von
einem Röhrenfuß abgeschlossenen Hals, der eine
Elektronenkanone und Röhrenfußanschlüsse für eine
Fokuselektrode und für andere Elektroden
der Elektronenkanone aufnimmt, wird eine Hochdruck-
Gasatmosphäre um den Hals herum hergestellt
und eine Spannung, die ausreichend höher ist als
die Betriebsspannung der Kathodenstrahlröhre,
an die Röhrenfußanschlüsse angelegt, wenn die
Hochdruck-Gasatmosphäre hergestellt ist. Die
Temperatur des Teils des Röhrenfußes, an dem die
Röhrenfußanschlüsse vorgesehen sind, wird während
der Spannungsbeaufschlagung über der Temperatur
der Hochdruck-Gasatmosphäre gehalten. Da der Teil
des Röhrenfußes, an dem die Röhrenfußanschlüsse
vorgesehen sind, auf eine höhere Temperatur als
die des umgebenden Gases aufgeheizt wird, erhöht
sich der Druck des Sattdampfes in dem Bereich
um den Hals herum, die Kondensation wird erschwert
und eine konsistente Kriechentladungs-Schwellen
spannung kann aufrechterhalten werden, wobei eine
Kriechentladung aufgrund der an die Röhrenfuß
anschlüssen angelegten Spannung vermieden wird.
In einem anderen Aspekt der Erfindung wird der
Taupunkt der Hochdruck-Gasatmosphäre nicht höher
als 25°C gesetzt, wodurch die Kondensation ver
hindert wird und eine konsistente Kriechentladungs-
Schwellenspannung erhalten wird, wobei eine
Kriechentladung aufgrund der an die Röhrenfußan
schlüsse angelegten Spannung in gleicher Weise
vermieden wird.
In einem weiteren Aspekt der Erfindung ist ein
Behälter mit einem offenen Ende vorgesehen, der
mit einer Buchse auf seinem Boden und mit einer
Dichtungsanordnung versehen ist. Die Dichtungsanordnung
umfaßt ein hohles ringförmiges Dichtungselement
aus elastischem Material, das an der inneren
Umfangsfläche des offenen Endes des Behälters
angeordnet ist. Der Behälter wird in Richtung
der Kathodenstrahlröhre derart verschoben, daß
der Behälter den Hals umgreift und die Buchse im
Behälter mit den Röhrenfußanschlüssen des Halses
verbunden wird. Komprimierte Luft wird in das
hohle ringförmige Dichtungselement eingelassen,
wodurch sein innerer Durchmesser verringert und
es gegen die äußere Umfangsfläche des Halses
gedrückt wird und eine luftdichte Abdichtung
zwischen der äußeren Umfangsfläche des Halses und
dem offenen Ende des Behälters bildet. Ein Hochdruck-
Gas wird in den Behälter eingeleitet, während die
luftdichte Abdichtung zwischen der äußeren Umfangs
fläche des Halses und dem offenen Ende des Behälters
aufrechterhalten wird und eine Spannung, die aus
reichend höher als die Betriebsspannung der Kathoden
strahlröhre zwischen den Röhrenfußanschlüssen für
die erste und die zweite Elektrode ist, wird über
die Buchse an die Röhrenfußanschlüsse angelegt,
während der Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben wird.
Bei einem weiteren Aspekt der Erfindung ist ein
Behälter mit einem offenen Ende vorgesehen, der
auf seinem Boden mit einer ersten Buchse mit Druck
kontaktanschlüssen und an seinem offenen Ende mit
einem Dichtungselement aus elastischem Material
versehen ist. Eine zweite Buchse mit Druckkontakt
anschlüssen wird mit den Röhrenfußanschlüssen des
Halses der Kathodenstrahlröhre verbunden. Der Behälter
wird in Richtung der Kathodenstrahlröhre bewegt,
derart,daß das Dichtungselement gegen den trichter
förmigen Teil der Kathodenstrahlröhre gedrückt wird
und eine luftdichte Abdichtung zwischen dem offenen
Ende des Behälters und dem trichterförmigen Teil
gebildet wird. Dabei werden die Druckkontakt
anschlüsse der ersten Buchse mit denen der zweiten
Buchse in Kontakt gebracht und bilden eine
elektrische Verbindung. Hochdruck-Gas wird in den
Behälter eingeleitet, während die luftdichte
Abdichtung aufrechterhalten wird und es wird
eine Hochdruck-Gasatmosphäre um den Hals herum
hergestellt. Eine Spannung, die ausreichend höher
ist als die Betriebsspannung der Kathodenstrahlröhre
zwischen den Röhrenfußanschlüssen für die erste und
zweite Elektrode, wird über die Druckkontaktanschlüsse
an die Röhrenfußanschlüsse angelegt, während der
Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben wird.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der
Zeichnung dargestellt und werden in der nachfolgenden
Beschreibung näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung zur
Beschreibung des Verfahrens der Hoch
spannungsbehandlung mit einer entsprechen
den Vorrichtung gemäß einem ersten Aus
führungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 2 eine Kennlinie des saturierten
Dampfdrucks von Wasser,
Fig. 3 einen vergrößerten Teilschnitt einer be
stimmten Anordnung einer Vorrichtung zur
Hochspannungsbehandlung der Kathoden
strahlröhre nach der Erfindung,
Fig. 4 und 5 schematische Darstellungen zur Be
schreibung der Verfahren der Hoch
spannungsbehandlung entsprechend
unterschiedlichen Ausführungsbeispielen
der Erfindung,
Fig. 6 eine schematische Darstellung, die eine
andere Anordnung für die Hochspannungs
behandlung der Kathodenstrahlröhre
gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt,
Fig. 7 eine schematische Darstellung zur
Beschreibung des Verfahrens der Hoch
spannungsbehandlung der Kathodenstrahl
röhre gemäß einem weiteren Ausführungs
beispiel der Erfindung,
Fig. 8 eine schematische Darstellung einer
experimentellen Vorrichtung, die zur
Bestimmung der Beziehung zwischen dem
Taupunkt und der Kriechentladungs-
Schwellenspannung verwendet wird,
Fig. 9 eine Kennlinien-Darstellung der Be
ziehung zwischen dem Taupunkt und der
Kriechentladungs-Schwellenspannung,
Fig. 10 eine Schnittdarstellung einer Vorrichtung
zur Befestigung und zum Lösen des
luftdichten Behälters an und von der
Kathodenstrahlröhre bei einer Vorrich
tung zur Hochspannungsbehandlung nach
einem weiteren Ausführungsbeispiel der
Erfindung,
Fig. 11 eine Schnittdarstellung einer Vor
richtung zum Befestigen und Lösen
entsprechend einem weiteren Aus
führungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 12 eine perspektivische Ansicht, die
den Aufbau einer Buchse bei einem
Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 17
zeigt,
Fig. 13 einen Schnitt des Halses einer Farb
kathodenstrahlröhre,
Fig. 14 eine schematische Darstellung eines
Verfahrens der Hochspannungs
behandlung gemäß dem Stand der
Technik,
Fig. 15 eine Darstellung der Anordnung der
Röhrenfußanschlüsse bei einer
Farbkathodenstrahlröhre,
Fig. 16 eine vergrößerte perspektivische
Ansicht des Aufbaus einer siloartigen
Grundplatte gemäß dem Stand der
Technik,
Fig. 17 eine vergrößerte perspektivische
Ansicht der Buchse für die silo
artige Grundplatte nach Fig. 16, und
Fig. 18 eine schematische Darstellung zur
Beschreibung eines Verfahrens der
Hochspannungsbehandlung gemäß dem
Stand der Technik.
Fig. 1 ist eine schematische Darstellung zur Er
klärung eines Verfahrens der Behandlung von
Kathodenstrahlröhren mit Hochspannung entsprechend
einem Ausführungsbeispiel der Erfindung. In dieser
Figur weist die Kathodenstrahlröhre 20 einen Hals
1 auf, der eine Elektronenkanone 10 aufnimmt.
Eine Buchse 33 wird verwendet, um Spannung von
außen der Elektronenkanone 10 der Kathodenstrahlröhre
20 zuzuführen. Ein abgedichteter Behälter 21 ist
zur Bildung einer Hochdruck-Gasatmosphäre um den
Hals 1 der Kathodenstrahlröhre 20 herum vorgesehen,
wie später genauer beschrieben wird. Ein Kompressor
22 erzeugt komprimierte Luft, und ein Heizofen 23
mit einem darin angeordneten Heizelement 24 ist
vorgesehen.
Das Verfahren der Hochspannungsbehandlung dieses
Ausführungsbeispiels wird im folgenden beschrieben.
Der Hals 1 der evakuierten Kathodenstrahlröhre 20
wird in den Ofen 23, wie in Fig. 1a) gezeigt wird,
gesteckt und ein elektrischer Strom wird durch
das Heizelement 24 geschickt, damit der Hals
aufgeheizt wird. Die Umgebungstemperatur im Ofen 23
wird auf 160°C festgelegt. Indem der Hals 1 der
Kathodenstrahlröhre 20 für fünf Minuten der hohen
Temperatur ausgesetzt ist, erhöht sich die Ober
flächentemperatur des Halses, insbesondere des Teils
des Fußes, an dem die Anschlüsse vorgesehen sind
und der einen Durchmesser von 29 mm aufweist,
auf ungefähr 90°C.
Anschließend wird der Hals 1 in den abgedichteten
Behälter 21, wie in Fig. 1(b) gezeigt, eingesetzt
und die Hochspannungs-Behandlung wird in der Hochdruck
Gasatmosphäre durchgeführt. Zu diesem Zweck
wird von dem Kompressor 22 erzeugte komprimierte
Luft mit etwa 2 atm dem abgedichteten Behälter 21
zugeführt, wodurch eine Hochdruck-Gasatmosphäre
von ungefähr 2 atm erzeugt wird. Danach wird eine
hohe Gleichspannung von ungefähr 30 kV für ungefähr
5 Minuten an den Anschluß 4a des dritten Gitters,
das als Fokuselektrode dient, und die Anschlüsse 4b
der anderen Elektroden gelegt.
Wenn beispielsweise die Außentemperatur 40°C
und die relative Feuchtigkeit 95% betragen, dann
ist die Feuchtigkeit des abgedichteten Behälters 21
größer als 100% und innerhalb des Behälters 21
und auf der Oberfläche der Kathodenstrahlröhre 20
tritt Kondensation auf. Da der Hals 1 auf 90°C
aufgeheizt ist, eine Temperatur, die sehr viel
höher als die Temperatur der Atmosphäre im Behälter
ist, ist somit die relative Feuchtigkeit in der
Gegend des Halses ungefähr 9%, wie aus der Kurve
des gesättigten Dampfdrucks nach Fig. 2 zu sehen ist.
Daher überschreitet die relative Feuchtigkeit
nicht 100%, obwohl der Luftdruck im Behälter 21
2 atm ist, und eine Kondensation tritt nicht auf.
In Fig. 3 ist eine schematische Darstellung eines
Ausführungsbeispiels einer Vorrichtung dargestellt,
die für die Hochspannungs-Behandlung der Kathoden
strahlröhre nach dem obigen Ausführungsbeispiel
verwendet wird. Die Vorrichtung umfaßt eine Buchse 33,
eine in der Buchse 33 angeordnete Heizvorrichtung 34,
ein in der Heizvorrichtung 34 angeordnetes Heiz
element 35, eine Hochspannungsquelle HV zum Anlegen
einer Hochspannung an die Elektroden der Elektronen
kanone über die Buchse 33 und eine Heizquelle 40 zum
Aufheizen des Heizelementes 35.
Die Funktionsweise dieses Ausführungsbeispiels
wird im folgenden beschrieben.
Um die Temperatur in der Heizvorrichtung 34 auf
ungefähr 160°C zu halten, fließt ständig ein
elektrischer Strom durch das Heizelement 35 der
Heizvorrichtung 34 in der Buchse 33. Anschließend
wird der Hals 1 der Kathodenstrahlröhre 20 in
den abgedichteten Behälter 21 eingesetzt und
die Buchse 33 wird mit den Röhrenfußanschlüssen 4a
und 4b verbunden. Die Anordnung wird in diesem
Zustand für 5 Minuten gehalten, um die Temperatur
des Halses 1 auf ungefähr 90°C zu erhöhen und
die Atmosphäre im Behälter 21 wird in eine Hochdruck-
Gasatmosphäre von ungefähr 2 atm geändert. Durch
Ändern der Atmosphäre im Behälter 21 in eine Hochdruck
atmosphäre würde das Auftreten der Kondensation
gefördert werden, aber in dieser Vorrichtung ist
eine Heizvorrichtung zum Aufheizen des Halses 1
vorgesehen. Der Druck des Sattdampfes im Bereich
des Halses 1 steigt daher, eine Kondensation tritt
an der Buchse 33, der die Hochspannung zugeführt
wird, nicht auf und eine stabile Kriechentladungs
spannung wird aufrechterhalten.
In dem obigen Ausführungsbeispiel wird der Hals 1
durch eine Heizvorrichtung 34 im Ofen 23 aufgeheizt,
der vor dem Einführen des Halses in den abgedichteten
Behälter 21 entfernt wird. Die Erfindung ist aller
dings nicht auf diese Anordnung begrenzt.
In Fig. 4 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung dargestellt. In Fig. 4(a) ist
eine Heizspannungsquelle 41 für die Elektronen
kanone vorgesehen. Eine Spannung von der Heiz
spannungsquelle 41 wird der Heizvorrichtung
der Elektronenkanone zugeführt. Wenn beispiels
weise der Hals 1 einen Durchmesser von 29 mm
aufweist, sind die Betriebsdaten der Heizvorrich
tung 6,3 V-680 mA und eine Spannung von 8 V
wird der Elektronenkanone für ungefähr 5 Minuten
zugeführt, wobei die Oberflächentemperatur des
Halses 1 auf ungefähr 90°C steigt.
In diesem Ausführungsbeispiel wird der Hals 1
aufgeheizt, unmittelbar bevor er in die Hochdruck-
Gasatmosphäre eingebracht wird. Wenn die Temperatur
des Halses 1 während der Hochspannungsbehandlung
graduell fällt und die Behandlung für einen langen
Zeitraum durchgeführt wird, kann sich graduell
eine Kondensation bilden. Wenn beispielsweise
ein auf 90°C aufgeheizter Hals bei 25°C in
einer Atmosphäre mit einem Druck von 2 atm
gehalten wird, so fällt die Oberflächentemperatur
des Halses 1 auf 35°C.
Fig. 5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel,
bei dem diese Nachteile vermieden werden. Dabei
bleibt die Heizspannungsquelle 41 mit der Heiz
vorrichtung der Elektronenkanone verbunden,
während gleichzeitig die Hochspannung von der
Hochspannugnsquelle HV an die Röhrenfußanschlüsse
für das dritte Gitter und die anderen Elektroden
angelegt wird. Damit wird sichergestellt, daß
die Temperatur des Halses der Kathodenstrahlröhre
über die Hochspannungsbehandlung auf dem ge
wünschten Wert gehalten wird.
Fig. 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung, bei dem eine Heiz
vorrichtung 34 mit einem Heizelement 35 in
dem abgedichteten Behälter 21 angeordnet ist.
Anstelle des beispielsweise aus einem Draht einer
Chrom und Eisen enthaltenden Nickel-Basis-Legierung
bestehenden Heizelementes kann auch eine Strahl
heizvorrichtung mit einer infraroten Lampe ver
wendet werden.
In den oben beschriebenen Ausführungsbeispielen
wurde komprimierte Luft als Hochdruckgas verwendet.
Das Gas muß allerdings nicht unbedingt Luft sein
und andere Gase, beispielsweise ein nicht brennbares
Gas wie Stickstoff, können verwendet werden.
Wenn darüber hinaus eine Entfeuchtung vor dem
Einleiten von Hochdruckgas in den Behälter durchge
führt wurde, fällt der Taupunkt und die Temperatur,
bis zu der der Hals erhitzt werden muß, kann
niedriger sein.
Fig. 7 zeigt eine Zeichnung zur Beschreibung der
Hochspannungsbehandlung nach diesem Verfahren.
In der Figur in ein Trockner 25, der mit einem
molekularen Sieb oder dergleichen gepackt ist,
vorgesehen, um die komprimierte Luft zu trocknen.
Weiterhin ist ein Taupunkt-Hygrometer 26 zur Messung
des Taupunktes der durch den Trockner hindurchgegangenen
komprimierten Luft vorgesehen, wobei Ventile 27a,
27b zur Steuerung des Gasstromes dienen.
Im folgenden wird die Betriebsweise beschrieben.
Atmosphärische Luft wird durch den Kompressor 22 bis
ungefähr 2 atm komprimiert und Wasserdampf wird
durch den Trockner 25 entfernt. Die von dem
Trockner 25 getrocknete komprimierte Luft wird
über das Ventil 27b dem Taupunkt-Hygrometer 26 zuge
führt und ihr Taupunkt gemessen. Der Taupunkt wird
bei atmosphärischem Druck gemessen. Die komprimierte
Luft, deren Taupunkt von dem Hygrometer 26 als
nicht höher als 25°C bestimmt wurde, wird dem
Behälter 21 über das Ventil 27 zugeführt und
wenn der Behälter 21 den hohen Druck aufweist,
wird eine hohe Gleichspannung von ungefähr 30 kV
für ungefähr 5 Minuten an das dritte Gitter und
die anderen Elektroden angelegt. Da die Buchse
von einer Hochdruck-Gasatmosphäre ohne Kondensation
umgeben ist, ist die Kriechentladung-Schwellen
spannung nicht weniger als 35 kV. Es tritt daher
eine Entladung zwischen dem dritten und dem
zweiten Gitter auf und Überzüge, Grate und Schmutz
werden von dem zweiten Gitter entfernt, wodurch
eine Kathodenstrahlröhre mit zufriedenstellenden
dielektrischen Eigenschaften erzielt wird und
unnötige Elektronenemissionen von dem zweiten
Gitter unterdrückt.
Der Grund, warum der Taupunkt nicht höher als 25°C
festgelegt wird, wird im folgenden beschrieben.
Es wurde festgestellt, daß bei Massenproduktions
linien die Kriechentladungs-Schwellenspannung
im Röhrenfußanschlußbereich dazu neigte, abzunehmen,
insbesondere während der Regensaison mit hohen
Temperaturen und hoher Feuchtigkeit und daß es sehr
wirksam war, die Feuchtigkeitsmenge in der Hochdruck-
Gasatmosphäre zu reduzieren.
Fig. 8 zeigt eine Experimentiervorrichtung zum
Zwecke, experimentell die Beziehung zwischen
Taupunkt und Kriechentladungs-Schwellenspannung
aufzustellen. In der Figur ist ein Befeuchter 28
mit einer Heizvorrichtung 29 vorgesehen, um den
Befeuchtungsgrad zu steuern. Der Taupunkt kann
frei festgesetzt werden, indem die Temperatur
des Hochdruckgases mit der Heizvorrichtung 29
eingestellt wird.
Fig. 9 zeigt die Ergebnisse der experimentellen
Studie der Beziehung zwischen dem Taupunkt und
der Kriechentladungs-Schwellenspannung in dem
Röhrenfußanschlußbereich unter Verwendung der
Experimentiervorrichtung. Wie zu erkennen ist,
liegt die Kriechentladungs-Schwellenspannung
nur bei ungefähr 18 kV, wenn der Taupunkt 30°C
beträgt und wenn die Raumtemperatur 40°C
und der Druck im Behälter 21 2 atm ist. Wenn
der Taupunkt 25°C oder weniger ist, steigt
allerdings die Kriechentladungs-Schwellenspannung
und bei 20°C oder darunter stabilisiert sie sich
bei 40 kV.
Wenn darüber hinaus der Druck innerhalb des Behälters
21 auf 4 atm festgelegt wird, wird der gewünschte
Effekt erzielt, wenn der Taupunkt 15°C oder
weniger beträgt.
Wenn die Raumtemperatur in der Größenordnung
von 20°C wie im Winter war, mußte der Taupunkt
10°C oder weniger sein. Wenn weiterhin der Luftdruck
in dem Behälter 21 1,3 atm betrug, gab es keine
Besserung der Kriechentladungs-Schwellenspannung,
selbst wenn der Taupunkt niedriger gesetzt wurde.
Fig. 10 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel
der Erfindung und betrifft eine Befestigungs/Löse
vorrichtung für den luftdichten, die Kathoden
strahlröhre umfassenden Behälter. In der Figur
dient die Anordnung 50 zum Befestigen und zum
Lösen eines Behälters 21a und umfaßt eine Vor
richtung 51 zum Vorschieben und Zurückziehen,
die durch einen nicht dargestellten Antrieb
angetrieben wird und die den Behälter 21 in
die Richtungen A vorwärts und rückwärts bewegt,
wobei der Behälter 21a an dem Arm 51a der Vor
richtung 51 zum Vorschieben und Zurückziehen
befestigt ist und ein offenes Ende aufweist.
Eine Buchse 33 ist am Boden des Behälters 21a
angeordnet und eine Dichtungsanordnung 52 ist
an der inneren Umfangsfläche des offenen Endes
des Behälters 21a vorgesehen. Die Dichtungsan
ordnung 52 umfaßt ein Stützglied 53 mit zylindrischer
Wand 53a, das an der inneren Umfangsfläche des
offenen Endes des Behälters 21 befestigt ist,
einen ersten und zweiten Flansch 53b und 53c,
die sich von der ersten und zweiten (untere und
obere, wie in der Figur gesehen) Kante der
zylindrischen Wand 53a nach innen erstrecken,
um eine ringförmige Öffnung zwischen den inneren
Kanten des ersten und zweiten Flansches 53b und 53c
zu bilden. Die Dichtungsanordnung 52 umfaßt weiter
hin ein hohles kreisförmiges Dichtungselement
54 aus elastischem Material, wie Gummi, das
innerhalb des Stützgliedes 53 befestigt ist.
Weiterhin ist ein Luftkanal 55 in Verbindung mit
dem Dichtungselement 54 vorgesehen, um komprimierte
Luft zuzuführen. Wenn komprimierte Luft in das
Dichtungselement 54 eingelassen wird, wird sein
innerer Durchmesser reduziert, wodurch das Dichtungs
element 54 gegen den Hals 51 gedrückt wird,
wenn dieser eingelassen ist, um eine luftdichte
Dichtung zwischen ihnen zu bilden. Wenn die
komprimierte Luft aus dem Dichtungselement 54
abgelassen wird, vergrößert sich sein innerer
Durchmesser und der Hals wird von dem Dichtungs
element 54 getrennt und die luftdichte Dichtung
zwischen ihnen ist aufgehoben.
Die Funktionsweise wird nun beschrieben. Um die
Hochspannungsbehandlung durchzuführen, wird der
Behälter 21a zur Kathodenstrahlröhre 20 bewegt,
um diese zu umschließen, wobei die Buchse 33
mit den Anschlüssen verbunden wird und keine
komprimierte Luft dem Dichtungselement 54 zuge
führt wird. Da das Dichtungselement 54 nicht
aufgebläht wird, ist die Einführung einfach.
Dann wird komprimierte Luft über den Kanal 55
in das Dichtungselement 54 geleitet, um dieses
aufzublähen, d. h. um seinen inneren Durchmesser
zum Hals 1 zu reduzieren und eine luftdichte
Verbindung zwischen Hals 1 und Dichtungselement 54
herzustellen. Anschließend wird Gas unter hohem
Druck in den Behälter 21a eingelassen. Bei diesem
Vorgang ist es wünschenswert, daß der Luftdruck
in dem Dichtungselement 54 höher ist als der
Druck des Gases in dem Behälter 21a.
Der Behälter 21a wird in Richtung zur Kathodenstrahl
röhre durch die Vorrichtung 51 zum Vorschieben
und Zurückziehen gedrückt, so daß er sich nicht
vom Hals löst. Unter diesen Bedingungen wird
eine Hochspannung von vier- bis fünfmal der Betriebs
spannung der Kathodenstrahlröhre von außen über
die Buchse 33 zwischen das dritte Gitter 15 und
andere Elektroden (einschließlich zweites Gitter
14) angelegt, um Grate oder Ablagerungen oder
Schmutz zu entfernen. Die komprimierte Luft
in dem Dichtungselement 54 wird dann entfernt,
um das Element zu entleeren und die Vorrichtung
51 zum Vorschieben und Zurückziehen wird zurück
gezogen, um den Behälter 21a von der Kathodenstrahl
röhre 20 zu lösen.
Bei diesem Ausführungsbeispiel muß der Behälter
21a nur die Buchse 33, den Röhrenfuß 2 und ein
Teil des Halses 1 umfassen. Die Vorrichtung kann
daher sehr kompakt ausgebildet sein, der auf die
Gesamtheit des Behälters 21a wirkende Druck ist
geringer und es besteht eine geringere Gefahr
der Explosion.
Weiterhin kann die Anordnung abgedichtet oder nicht
abgedichtet werden, indem komprimierte Luft zu
dem Dichtungselement zugeführt oder von diesem
entfernt wird. Die Befestigung und das Lösen
des Behälters 21a ist daher leicht und die
Vorgänge sind einfach durchzuführen. Die Dichtungs
anordnung 52 kann in alternativer Weise derart
ausgebildet sein, daß ein Magnet für das Dichten
verwendet wird. Da aber in diesem Fall der Hals
nahe dem Massepotential liegt, besteht eine hohe
Gefahr, daß die Glasisolierung des Halses während
der Hochspannungsbehandlung zusammenbricht.
Wenn, wie im obigen Ausführungsbeispiel, kompri
mierte Luft verwendet wird, besteht allerdings
diese Gefahr nicht und eine sichere Vorrichtung
wird zur Verfügung gestellt.
In Fig. 11 ist ein Ausführungsbeispiel der Vorrichtung
zum Befestigen und Lösen des Behälters in einer
Vorrichtung zur Hochspannungsbehandlung eines
weiteren Ausführungsbeispiels der Erfindung und
Fig. 12 zeigt den Aufbau der Buchse in diesem
Ausführungsbeispiel.
In der Figur ist ein Dichtungselement 56 aus
elastischem Material, wie Gummi,an der Fläche
des offenen Endes des Behälters 21a befestigt,
das von der Vorrichtung 50 zum Vorschieben und
Zurückziehen gegen das trichterförmige Teil 5
der Kathodenstrahlröhre 20 gepreßt wird, um
den Behälter 21a luftdicht abzudichten. Eine
erste Buchse 33a ist an dem Röhrenfuß 2 der
Kathodenstrahlröhre 20 und eine zweite Buchse 33b
an dem Boden des Behälters 21a angeordnet. Diese
Buchsen sind beide mit Druckkontaktanschlüssen 33c
versehen, derart, daß,wenn der Behälter durch die
Vorrichtung 51 zum Vorschieben und Zurückziehen
gegen den trichterförmigen Teil 5 zum Abdichten
des Raumes dazwischengedrückt wird, gegenüber
liegende Paare der Druckkontaktanschlüsse in
elektrischen Kontakt gebracht werden, so daß
von einer externen Quelle über sie Spannung zu
den Röhrenfußanschlüssen an dem Hals 1 zugeführt
werden kann.
Die Funktionsweise wird im folgenden beschrieben.
Der Behälter 21a wird durch die Vorrichtung 51
zum Vorschieben und Zurückziehen vorgeschoben,
um den Hals 1 der Kathodenstrahlröhre 20, der schon
mit der zweiten Buchse 33 versehen wurde, zu um
schließen. Gleichzeitig wird das Dichtungselement 56
gegen den trichterförmigen Teil 5 zur Bildung einer
luftdichten Dichtung gedrückt und die Druckkontakt
anschlüsse 33c der ersten Buchse 33a und der
zweiten Buchse 33b werden in Kontakt gebracht.
Anschließend wird Gas hohen Drucks dem Behälter 21a
zugeführt und wenn der bestimmte Gasdruck erreicht
wird, wird eine Spannung von vier- bis fünfmal
der Betriebsspannung der Kathodenstrahlröhre
zwischen dem dritten Gitter 15 und anderen
Elektroden (einschließlich dem zweiten Gitter 14)
über die erste Buchse 33b angelegt, um Grate
und Ablagerungen zu entfernen. Das Gas hohen
Drucks wird dann aus dem Behälter 21a abgelassen,
die Vorrichtung 51 zum Vorschieben und Zurückziehen
wird zurückgezogen und der Behälter 21a von der
Kathodenstrahlröhre 20 gelöst.
In den beschriebenen Ausführungsbeispielen sind
vier Gitter in der Elektronenkanone der Kathoden
strahlröhre vorgesehen und die Hochspannung wird
zwischen dem dritten Gitter und anderen Elektroden
angelegt. Bei einer anderen Art von Kathodenstrahl
röhre ist die Elektrone mit sechs Gittern versehen
und das dritte und fünfte Gitter sind miteinander
verbunden, um als Fokuselektrode zu dienen. In
einer derartigen Kathodenstrahlröhre wird die
Hochspannung einerseits an das dritte und fünfte
Gitter und andererseits an andere Elektroden angelegt.
Der Term "erste Elektrode" und "zweite Elektrode",
wie in den Patentansprüchen benutzt, sollte nicht
mit dem ersten Gitter und zweiten Gitter in der
Beschreibung der Ausführungsbeispiele verwechselt
werden.
In diesem Ausführungsbeispiel muß die erste
Buchse 33a vorher an der Kathodenstrahlröhre
befestigt werden. Der Behälter 21a kann aller
dings in einem einzigen Vorgang an dem Hals 1
befestigt oder von diesem gelöst werden, und
eine Vorrichtung zur Hochspannungsbehandlung,
die einfach zu handhaben ist, wird somit
erhalten.
Wenn gemäß einem Gesichtspunkt der Erfindung
die Hochspannungsbehandlung in der Hochdruck-
Gasatmosphäre durchgeführt wird, wird die
Temperatur eines Teils des Röhrenfußes, an dem
die Röhrenfußanschlüsse vorgesehen sind, über
die Temperatur des Gases hohen Drucks erhöht.
Der Abfall der Kriechentladungs-Schwellen
spannung kann daher sehr einfach vermieden
werden und eine Kathodenstrahlröhre von
gleichbleibender Qualität kann erhalten werden.
Zusätzlich können Schäden an der Buchse
vermieden werden und die Produktivität erhöht
werden.
Gemäß einem anderen Gesichtspunkt der Erfindung
ist der Taupunkt der Hochdruck-Gasatmosphäre nicht
höher als 25°C und die gleichen Wirkungen wie
die oben beschriebenen können erzielt werden.
Gemäß einem weiteren Gesichtspunkt der Erfindung
ist eine Buchse an dem Boden des Behälters mit
einem offenen Ende angeordnet, dieser Behälter
wird von einer Vorrichtung zum Vorschieben und
Zurückziehen getragen, die den Behälter bewegt,
um den Hals der Kathodenstrahlröhre abzudecken
und die entsprechenden Röhrenfußanschlüsse in
Kontakt mit der Buchse zu bringen. Komprimierte
Luft wird dann dem hohlen ringförmigen Dichtungs
element, das an der inneren Umfangsfläche des
offenen Endes des Behälters befestigt ist, zuge
führt, um eine luftdichte Dichtung mit der äußeren
Umfangsfläche des Halses zu bilden, Gas hohen
Drucks wird dann in den Behälter geleitet und
anschließend wird die Hochspannungsbehandlung
durchgeführt. Die komprimierte Luft wird anschließend
zum Lösen der Dichtung entfernt und die Vorrichtung
zum Vorschieben und Zurückziehen wird betätigt,
um den Behälter zu lösen. Dies erlaubt eine wirksame
Befestigung und ein wirksames Lösen der Vor
richtung zur Hochspannungsbehandlung vom Hals
der Kathodenstrahlröhre.
In einem weiteren Aspekt der Erfindung ist das offene
Ende des Behälters mit einem Dichtungselement
versehen, der Hals der Kathodenstrahlröhre wird
mittels der Vorrichtung zum Vorschieben und Zurück
ziehen durch den Behälter umschlossen und das
Dichtungselement wird gegen den trichterförmigen
Teil gedrückt, um eine luftdichte Dichtung zu bilden.
Zur gleichen Zeit werden die Röhrenfußanschlüsse
und die Anschlüsse einer externen Spannungsquelle
über eine Buchse mit Druckkontaktanschlüssen
in Kontakt gebracht. Somit wird eine einfache
Vorrichtung zur Hochspannungsbehandlung zur
Verfügung gestellt.
Claims (15)
1. Verfahren zur Hochspannungsbehandlung einer
Kathodenstrahlröhre mit einem von einem Röhrenfuß
abgeschlossenen Hals, der eine Elektronenkanone
mit mindestens einer ersten und einer zweiten
Elektrode und ersten und zweiten Röhrenfuß
anschlüssen für die erste und zweite Elektrode
aufnimmt,
dadurch gekennzeichnet,
daß um den Hals herum eine Hochdruck-Gasatmosphäre hergestellt wird,
daß eine Spannung, die ausreichend höher ist als die Betriebsspannung der Kathodenstrahlröhre, an den ersten und zweiten Röhrenfußanschluß angelegt wird, wenn die Hochdruck-Gasatmosphäre hergestellt ist, und
daß die Temperatur des Teils des Röhrenfußes, an dem der erste und zweite Röhrenfußanschluß vorgesehen ist, während der Spannungsbeaufschlagung über der Temperatur der Hochdruck-Gasatmosphäre gehalten wird, wodurch eine Kriechentladung aufgrund der an den ersten und zweiten Röhrenfußanschluß ange legten Spannung vermieden wird.
daß um den Hals herum eine Hochdruck-Gasatmosphäre hergestellt wird,
daß eine Spannung, die ausreichend höher ist als die Betriebsspannung der Kathodenstrahlröhre, an den ersten und zweiten Röhrenfußanschluß angelegt wird, wenn die Hochdruck-Gasatmosphäre hergestellt ist, und
daß die Temperatur des Teils des Röhrenfußes, an dem der erste und zweite Röhrenfußanschluß vorgesehen ist, während der Spannungsbeaufschlagung über der Temperatur der Hochdruck-Gasatmosphäre gehalten wird, wodurch eine Kriechentladung aufgrund der an den ersten und zweiten Röhrenfußanschluß ange legten Spannung vermieden wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Anlegen der Spannung zum Bewirken
einer Bogenentladung zwischen den Elektroden dient,
um Grate oder Schmutz, die an den Elektroden
vorhanden sein können, zu entfernen.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß eine Spannung angelegt wird,
die das Vier- bis Fünffache der während des
Betriebes der Kathodenstrahlröhre an den
Elektroden liegenden Spannung beträgt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die erste Elektrode eine Fokus
elektrode ist;
daß die Elektronenkanone eine Mehrzahl von anderen als die Fokuselektrode umfaßt,
daß der Hals zusätzlich zu dem ersten und zweiten Röhrenfußanschluß Röhrenfußanschlüsse für die anderen Elektroden aufweist, und
daß die Spannung zwischen erstem Röhrenfußanschluß und den Röhrenfußanschlüssen für die anderen Elektroden angelegt wird.
daß die Elektronenkanone eine Mehrzahl von anderen als die Fokuselektrode umfaßt,
daß der Hals zusätzlich zu dem ersten und zweiten Röhrenfußanschluß Röhrenfußanschlüsse für die anderen Elektroden aufweist, und
daß die Spannung zwischen erstem Röhrenfußanschluß und den Röhrenfußanschlüssen für die anderen Elektroden angelegt wird.
5. Verfahren zur Hochspannungsbehandlung einer
Kathodenstrahlröhre mit einem von einem Röhrenfuß
abgeschlossenen Hals, der eine Elektronenkanone
mit einer ersten und einer zweiten Elektrode und
einen ersten und zweiten Röhrenfußanschluß für die
erste und zweite Elektrode aufnimmt,
dadurch gekennzeichnet,
daß um den Hals herum eine Hochdruck-Gasatmosphäre hergestellt wird,
daß eine Spannung, die ausreichend höher ist als die Betriebsspannung der Kathodenstrahlröhre, an den ersten und zweiten Röhrenfußanschluß angelegt wird, wenn die Hochdruck-Gasatmosphäre hergestellt ist, und
daß der Taupunkt der Hochdruck-Gasatmosphäre nicht höher als auf 25°C gesetzt wird, wobei eine Kriechentladung aufgrund der an den ersten und zweiten Röhrenfußanschluß angelegten Spannung vermieden wird.
daß um den Hals herum eine Hochdruck-Gasatmosphäre hergestellt wird,
daß eine Spannung, die ausreichend höher ist als die Betriebsspannung der Kathodenstrahlröhre, an den ersten und zweiten Röhrenfußanschluß angelegt wird, wenn die Hochdruck-Gasatmosphäre hergestellt ist, und
daß der Taupunkt der Hochdruck-Gasatmosphäre nicht höher als auf 25°C gesetzt wird, wobei eine Kriechentladung aufgrund der an den ersten und zweiten Röhrenfußanschluß angelegten Spannung vermieden wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Anlegen der Spannung zum
Bewirken einer Bogenentladung zwischen den
Elektroden dient, um Grate oder Schmutz,
die an den Elektroden vorhanden sein können,
zu entfernen.
7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß eine Spannung angelegt wird,
die das Vier- bis Fünffache der während des
Betriebes der Kathodenstrahlröhre an den
Elektroden liegenden Spannung beträgt.
8. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß die erste Elektrode eine
Fokuselektrode ist;
daß die Elektronenkanone eine Mehrzahl von anderen als die Fokuselektrode umfaßt,
daß der Hals zusätzlich zu dem ersten und zweiten Röhrenfußanschluß Röhrenfußanschlüsse für die anderen Elektroden aufweist, und
daß die Spannung zwischen erstem Röhrenfußanschluß und den Röhrenfußanschlüssen für die anderen Elektroden angelegt wird.
daß die Elektronenkanone eine Mehrzahl von anderen als die Fokuselektrode umfaßt,
daß der Hals zusätzlich zu dem ersten und zweiten Röhrenfußanschluß Röhrenfußanschlüsse für die anderen Elektroden aufweist, und
daß die Spannung zwischen erstem Röhrenfußanschluß und den Röhrenfußanschlüssen für die anderen Elektroden angelegt wird.
9. Verfahren nach Ansrpuch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Hochdruck-Gas aufgeheizt wird,
bevor es der Umgebung des Halses zugeführt
wird.
10. Vorrichtungzum Durchführen der Hochspannungs
behandlung nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
gekennzeichnet durch
einen Behälter (21) mit einem offenen Ende, der mit einer Buchse (33) auf seinem Boden versehen ist,
eine Vorrichtung (51) zum Vorschieben und Zurückziehen, die den Behälter trägt und ihn längs der Achse der Kathodenstrahlröhre (20) vorbewegt, bis der Behälter (21) den Hals (1) umschließt oder zurückbewegt, um den Behälter (21) vom Hals (1) zu lösen,
eine Dichtungsanordnung (52), die ein hohles ringförmiges Dichtungselement (54) aus elastischem Material aufweist, das an der inneren Umfangsfläche des offenen Endes des Behälters (21) angeordnet ist und dessen innerer Durchmesser verringert wird, wenn komprimierte Luft in sein Inneres geleitet wird, wobei es gegen die äußere Umfangsfläche des Halses (1) gedrückt wird und eine luftdichte Abdichtung zwischen der äußeren Umfangsfläche des Halses (1) und dem offenen Ende des Behälters (21) bildet,
Mittel zum Einführen eines Hochdruck-Gases in den Behälter (21), wenn die luftdichte Abdichtung zwischen der äußeren Umfangsfläche des Halses (1) und dem offenen Ende des Behälters (21) gebildet ist, und
Mittel zum Aufbringen einer Spannung über die Buchse an die Röhrenfußanschlüsse, wenn der Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben wird.
einen Behälter (21) mit einem offenen Ende, der mit einer Buchse (33) auf seinem Boden versehen ist,
eine Vorrichtung (51) zum Vorschieben und Zurückziehen, die den Behälter trägt und ihn längs der Achse der Kathodenstrahlröhre (20) vorbewegt, bis der Behälter (21) den Hals (1) umschließt oder zurückbewegt, um den Behälter (21) vom Hals (1) zu lösen,
eine Dichtungsanordnung (52), die ein hohles ringförmiges Dichtungselement (54) aus elastischem Material aufweist, das an der inneren Umfangsfläche des offenen Endes des Behälters (21) angeordnet ist und dessen innerer Durchmesser verringert wird, wenn komprimierte Luft in sein Inneres geleitet wird, wobei es gegen die äußere Umfangsfläche des Halses (1) gedrückt wird und eine luftdichte Abdichtung zwischen der äußeren Umfangsfläche des Halses (1) und dem offenen Ende des Behälters (21) bildet,
Mittel zum Einführen eines Hochdruck-Gases in den Behälter (21), wenn die luftdichte Abdichtung zwischen der äußeren Umfangsfläche des Halses (1) und dem offenen Ende des Behälters (21) gebildet ist, und
Mittel zum Aufbringen einer Spannung über die Buchse an die Röhrenfußanschlüsse, wenn der Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben wird.
11. Verfahren zur Hochspannungsbehandlung einer
Kathodenstrahlröhre mit einem von einem
Röhrenfuß abgeschlossenen Hals, der eine
Elektronenkanone mit einer ersten und einer
zweiten Elektrode und einem ersten und zweiten
Röhrenfußanschluß für die erste und zweite
Elektrode aufnimmt,
gekennzeichnet durch
folgende Schritte:
Vorsehen eines Behälters mit einem offenen Ende, der mit einer Buchse an seinem Boden versehen ist und der eine Dichtungsanordnung mit einem hohlen ringförmigen Dichtungselement aus elastischem Material aufweist, das an der inneren Umfangsfläche des offenen Endes des Behälters angeordnet ist,
Vorschieben des Behälters zur Kathodenstrahlröhre derart, daß er den Hals umschließt und die Buchse im Behälter mit dem ersten und zweiten Röhrenfußanschluß des Halses verbunden wird,
Zuführen von komprimierter Luft in das hohle ringförmige Dichtungselement zur Reduzierung seines inneren Durchmessers, wobei es gegen die äußere Umfangsfläche des Halses gedrückt wird und eine luftdichte Abdichtung zwischen der äußeren Umfangsfläche des Halses und dem offenen Ende des Behälters bildet,
Einführen eines Hochdruck-Gases in den Behälter,
während die luftdichte Abdichtung zwischen der äußeren Umfangsfläche des Halses und dem offenen Ende des Behälters aufrechterhalten wird,
Aufbringen einer Spannung, die ausreichend höher ist als die Betriebsspannung der Kathodenstrahl röhre zwischen dem ersten und zweiten Röhrenfuß anschluß der ersten und zweiten Elektroden, über die Buchse an die Röhrenfußanschlüsse, wenn der Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben ist.
Vorsehen eines Behälters mit einem offenen Ende, der mit einer Buchse an seinem Boden versehen ist und der eine Dichtungsanordnung mit einem hohlen ringförmigen Dichtungselement aus elastischem Material aufweist, das an der inneren Umfangsfläche des offenen Endes des Behälters angeordnet ist,
Vorschieben des Behälters zur Kathodenstrahlröhre derart, daß er den Hals umschließt und die Buchse im Behälter mit dem ersten und zweiten Röhrenfußanschluß des Halses verbunden wird,
Zuführen von komprimierter Luft in das hohle ringförmige Dichtungselement zur Reduzierung seines inneren Durchmessers, wobei es gegen die äußere Umfangsfläche des Halses gedrückt wird und eine luftdichte Abdichtung zwischen der äußeren Umfangsfläche des Halses und dem offenen Ende des Behälters bildet,
Einführen eines Hochdruck-Gases in den Behälter,
während die luftdichte Abdichtung zwischen der äußeren Umfangsfläche des Halses und dem offenen Ende des Behälters aufrechterhalten wird,
Aufbringen einer Spannung, die ausreichend höher ist als die Betriebsspannung der Kathodenstrahl röhre zwischen dem ersten und zweiten Röhrenfuß anschluß der ersten und zweiten Elektroden, über die Buchse an die Röhrenfußanschlüsse, wenn der Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben ist.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Behälter von der Kathoden
strahlröhre zurückgezogen wird, bis das Dichtungs
element des Behälters von dem trichterförmigen
Teil getrennt wird und die Druckkontaktanschlüsse
der ersten Buchse von den Druckkontaktanschlüssen
der zweiten Buchse getrennt werden.
13. Vorrichtung zum Durchführen der Hochspannungs
behandlung nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
gekennzeichnet durch
einen Behälter (21) mit einem offenen Ende, der mit einer Buchse (33b) mit Druckkontakt anschlüssen (33c) an seinem Boden versehen ist und dem Hochdruck-Gas in sein Inneres zuführbar ist,
ein Dichtungselement (56) aus elastischem Material, das an dem offenen Ende des Behälters (21) angeordnet ist,
eine Vorrichtung (51) zum Vorschieben und Zurückziehen, die den Behälter (21) trägt und ihn längs der Achse der Kathodenstrahlröhre vorbewegt, bis das Dichtungselement (56) des Behälters gegen den trichterförmigen Teil (5) der Kathodenstrahlröhre (20) gepreßt wird und eine luftdichte Abdichtung zwischen dem offenen Ende des Behälters und dem trichter förmigen Teil bildet, wobei die Druckkontakt anschlüsse in dem Behälter in Kontakt mit Druck kontaktanschlüssen gebracht werden, die vorher mit den Röhrenfußanschlüssen des Halses verbunden wurden, oder zurückbewegt, bis das Dichtungselement des Behälters von dem trichterförmigen Teil getrennt wird und die Druckkontaktanschlüsse der Buchse von den mit den Röhrenfußanschlüssen verbundenen Druckkontaktanschlüssen getrennt werden,
Mittel zum Einführen eines Hochdruck-Gases in den Behälter, wenn die luftdichte Abdichtung hergestellt ist, und
Mittel zum Aufbringen einer Spannung über die Druckkontaktanschlüsse an die Röhrenfußanschlüsse, wenn der Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben wird.
einen Behälter (21) mit einem offenen Ende, der mit einer Buchse (33b) mit Druckkontakt anschlüssen (33c) an seinem Boden versehen ist und dem Hochdruck-Gas in sein Inneres zuführbar ist,
ein Dichtungselement (56) aus elastischem Material, das an dem offenen Ende des Behälters (21) angeordnet ist,
eine Vorrichtung (51) zum Vorschieben und Zurückziehen, die den Behälter (21) trägt und ihn längs der Achse der Kathodenstrahlröhre vorbewegt, bis das Dichtungselement (56) des Behälters gegen den trichterförmigen Teil (5) der Kathodenstrahlröhre (20) gepreßt wird und eine luftdichte Abdichtung zwischen dem offenen Ende des Behälters und dem trichter förmigen Teil bildet, wobei die Druckkontakt anschlüsse in dem Behälter in Kontakt mit Druck kontaktanschlüssen gebracht werden, die vorher mit den Röhrenfußanschlüssen des Halses verbunden wurden, oder zurückbewegt, bis das Dichtungselement des Behälters von dem trichterförmigen Teil getrennt wird und die Druckkontaktanschlüsse der Buchse von den mit den Röhrenfußanschlüssen verbundenen Druckkontaktanschlüssen getrennt werden,
Mittel zum Einführen eines Hochdruck-Gases in den Behälter, wenn die luftdichte Abdichtung hergestellt ist, und
Mittel zum Aufbringen einer Spannung über die Druckkontaktanschlüsse an die Röhrenfußanschlüsse, wenn der Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben wird.
14. Verfahren zur Hochspannungsbehandlung einer
Kathodenstrahlröhre mit einem von einem Röhren
fuß abgeschlossenen Hals, der eine Elektronen
kanone mit erster und zweiter Elektrode und einem
ersten und zweiten Röhrenfußanschluß für die
erste und zweite Elektrode aufnimmt,
gekennzeichnet durch
die folgenden Schritte:
Vorsehen eines Behälters mit einem offenen Ende, der mit einer ersten Buchse mit Druckkontakt anschlüssen an seinem Boden versehen ist, und ein Dichtungselement aus elastischem Material aufweist, das an seinem offenen Ende angeordnet ist,
Verbinden einer zweiten Buchse mit Druckkontakt anschlüssen mit dem ersten und zweiten Röhrenfuß anschluß an dem Hals der Kathodenstrahlröhre,
Vorschieben des Behälters zur Kathodenstrahlröhre, derart, daß das Dichtungselement gegen den trichter förmigen Teil der Kathodenstrahlröhre gedrückt wird und eine luftdichte Abdichtung zwischen dem offenen Ende des Behälters und dem trichterförmigen Teil bildet, wobei die Druck kontaktanschlüsse der ersten und zweiten Buchse zum Herstellen einer elektrischen Verbindung in Kontakt gebracht werden,
Einführen eines Hochdruck-Gases in den Behälter, während die luftdichte Abdichtung zur Her stellung einer Hochdruck-Gasatmosphäre um den Hals herum aufrechterhalten wird,
Aufbringen einer Spannung, die ausreichend höher ist als die Betriebsspannung der Kathodenstrahl röhre zwischen dem ersten und zweiten Röhrenfuß anschluß der ersten und zweiten Elektrode, über die Druckkontaktanschlüsse an die Röhrenfußanschlüsse, während der Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben ist.
Vorsehen eines Behälters mit einem offenen Ende, der mit einer ersten Buchse mit Druckkontakt anschlüssen an seinem Boden versehen ist, und ein Dichtungselement aus elastischem Material aufweist, das an seinem offenen Ende angeordnet ist,
Verbinden einer zweiten Buchse mit Druckkontakt anschlüssen mit dem ersten und zweiten Röhrenfuß anschluß an dem Hals der Kathodenstrahlröhre,
Vorschieben des Behälters zur Kathodenstrahlröhre, derart, daß das Dichtungselement gegen den trichter förmigen Teil der Kathodenstrahlröhre gedrückt wird und eine luftdichte Abdichtung zwischen dem offenen Ende des Behälters und dem trichterförmigen Teil bildet, wobei die Druck kontaktanschlüsse der ersten und zweiten Buchse zum Herstellen einer elektrischen Verbindung in Kontakt gebracht werden,
Einführen eines Hochdruck-Gases in den Behälter, während die luftdichte Abdichtung zur Her stellung einer Hochdruck-Gasatmosphäre um den Hals herum aufrechterhalten wird,
Aufbringen einer Spannung, die ausreichend höher ist als die Betriebsspannung der Kathodenstrahl röhre zwischen dem ersten und zweiten Röhrenfuß anschluß der ersten und zweiten Elektrode, über die Druckkontaktanschlüsse an die Röhrenfußanschlüsse, während der Hals von dem Hochdruck-Gas umgeben ist.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Behälter von der Kathoden
strahlröhre zurückgezogen wird, bis das
Dichtungselement des Behälters von dem trichter
förmigen Teil getrennt wird und die Druck
kontaktanschlüsse der ersten Buchse von den
Druckkontaktanschlüssen der zweiten Buchse
getrennt werden.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7137890 | 1990-03-20 | ||
JP7757190 | 1990-03-27 | ||
JP2270741A JPH0817074B2 (ja) | 1990-03-20 | 1990-10-08 | 陰極線管の高電圧処理方法およびその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4109032A1 true DE4109032A1 (de) | 1991-09-26 |
DE4109032C2 DE4109032C2 (de) | 1994-06-30 |
Family
ID=27300625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19914109032 Expired - Fee Related DE4109032C2 (de) | 1990-03-20 | 1991-03-15 | Verfahren und Vorrichtung zur Hochspannungsbehandlung einer Kathodenstrahlröhre |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR930010600B1 (de) |
DE (1) | DE4109032C2 (de) |
NL (1) | NL192647C (de) |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licenses declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |