DE4108989C2 - Integrierter Multisensor zum Erfassen eines statischen und eines Differenzdruckes - Google Patents
Integrierter Multisensor zum Erfassen eines statischen und eines DifferenzdruckesInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen integrierten Multisensor,
der bei einem Druck- und einem Differenzdruck-Übertrager
zum Erfassen eines Durchflusses oder einer Durchflußmenge oder eines
Drucks bei einer chemischen Anlage oder ähnlichem verwendet wird, und bei dem
die Eigenschaft eines Sensors für statischen Druck bei einer Differenzdrucklast
verbessert ist, und betrifft auch einen Differenzdruck-Übertrager und
eine Regelungseinrichtung für eine vorbestimmte Durchflußmenge
m einer Rohrleitung, die einen derartigen integrierten Multisensor verwenden.
Bei dem herkömmlichen Sensor, der in einem Erfassungsteil eines intelligenten
Differentialdruck-Übertragers verwendet wird, sind Sensoren für einen Differenzdruck,
einen statischen Druck und eine Temperatur auf einem Substrat vorgesehen,
und die drei Sensorarten kompensieren sich gegenseitig, um einen Differenzdruck
mit hoher Präzision zu messen. Beispielsweise ist in dem US-Patent 4 530 244
eine Struktur vorgeschlagen worden, bei der ein Sensor zum Erfassen der Einflüsse
der Temperatur und des statischen Drucks an einem Abschnitt großer Stärke
des Substrats und ein Sensor zum Erfassen eines Differenzdrucks an
einer Membran vorgesehen ist. Auch in der JP-B-62-22 272 ist die Kombination eines
Sensors zum Entfernen des Einflusses eines Sensors für statischen Druck und eines Sensors für einen Differenzdruck
offenbart, aber der Einfluß des Differenzdrucks, der auf den
Sensor für statischen Druck einwirkt, ist nicht diskutiert. Es ist nämlich bekannt,
daß bei dem herkömmlichen integrierten Multisensor die jeweiligen Ausgänge dieser
Sensoren sich gegenseitig
beeinflussen können.
Der herkömmliche Differenzdruck-Übertrager bestimmt eine Druckdifferenz oder
einen Differenzdruck ΔP, wenn eine Flüssigkeit, die durch eine Druckpumpe
übertragen wird, durch eine Öffnung geht, die in einem Rohr einer chemischen
Anlage oder ähnlichem vorgesehen ist, wodurch die Quantität des Durchflusses Q
gemäß der folgenden Gleichung erfaßt wird:
wobei k eine Konstante ist, die durch die Reynoldsche Zahl und den Durchmesser
der Öffnung bestimmt ist. Oben ist erwähnt, daß der Ausgang eines Differenzdrucksensors
durch den statischen Druck Ps und die Temperatur T beeinflußt
ist. Deshalb verursacht bei der Messung der Durchflußmenge der statische
Druck Ps, der auf das Rohr ausgeübt wird, und ein Wechsel der Umgebungstemperatur
eine Störung auf den integrierten Multisensor, und daher sollten
diese Einflüsse möglichst vollständig entfernt sein.
Bei einem Differenzdruck-Übertrager, der den herkömmlichen integrierten
Multisensor verwendet, werden statischer Druck, eine Temperatur und ein
Differenzdruck durch einzelne Sensoren erfaßt. Oben ist erwähnt, daß jeder
Sensor eine entsprechende Veränderung erfaßt, die die anderen Veränderungen auf
addierte Weise enthält. Deshalb wird ein kompliziertes Korrekturverfahren
ausgeführt, um die Einflüsse der anderen Veränderungen zu entfernen.
Auch gibt es in dem Fall, wo eine Differenzdruck-Erfassungsmembran und eine
Membran, die einen statischen Druck erfaßt, in einem Halbleitersubstrat vorgesehen
sind, das Problem, daß der Abstand zwischen beiden Membranen eng wird
(während eines Ätzprozesses), wodurch die Haftungslänge gegenüber einer
befestigenden Basis abnimmt, die das Halbleitersubstrat trägt.
Weiterhin gibt es in dem Fall, wo eine Differenzdruck-Erfassungsmembran mit
einer zentralen steifen Platte durch Anwenden eines anisotropen Ätzens gebildet
ist, das Problem, daß ein viereckiger zentraler steifer Körper, der von <111<
Seiten umgeben ist, am leichtesten ausgebildet wird, mit dem Ergebnis, daß die
Belastung an jedem Kantenabschnitt konzentriert ist, wodurch die Druckbeständigkeit
(Spannfähigkeit) abnimmt.
Darüber hinaus gibt es, wenn eine Differenzdruck-Erfassungsmembran und eine
Membran, die einen statischen Druck erfaßt, die gleiche Plattendicke aufweisen,
das Problem, daß, wenn die Größe des Halbleitersubstrats klein gemacht werden
muß, die den statischen Druck erfassende Membran zu klein wird, wodurch es
schwierig wird, einen Meßwiderstand bzw. Meßwiderstände an dieser
Membran anzuordnen.
Aus der US-PS 4 528 855 ist ein integrierter Multisensor mit mehreren
Differenzdruck-Sensoren und einem Sensor für statischen Druck mit
einem spannungsempfindlichen Meßelement, das auf einer Membran zum
Erfassen des statischen Drucks separat von der Membran des Differenzdruck-Sensors
angeordnet ist, bekannt. Eine Vielzahl von Differenzdruck-Membranen
mit verschiedenen Durchmessern mit entsprechenden Differenzdruck-Sensoren
sind vorgesehen, um verschiedene Empfindlichkeitsbereiche
für Differenzdruckmessungen zu schaffen.
Aus der DE-OS 39 28 542 ist ein integrierter Multisensor mit einem
Differenzdruck-Sensor und einem Sensor für statischen Druck mit einem
spannungsempfindlichen Meßelement, das auf einem festen Abschnitt des
Halbleitersubstrats angeordnet ist, bekannt. Durch zwei unterschiedliche
Befestigungsplatten für das Halbleitersubstrat, deren longitudinale Elastizitätsmodule
und lineare Ausdehnungskoeffizienten in bestimmten Größenverhältnissen
zu den entsprechenden Eigenschaften des Halbleitersubstrats
stehen, wird ein Signal für den statischen Druck mit hohem Pegel
erhalten, ohne die gegenseitige Beeinflussung des statischen Drucksignals
und des Differenzdrucksignals zu beeinträchtigen.
Aus der DE-OS 33 45 988 ist ein integrierter Multisensor mit einem
Differenzdruck-Sensor und einem Temperaturerfassungssensor bekannt, der
auf einem festen Abschnitt des Substrats angeordnet ist.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen integrierten Multisensor zu
schaffen, bei dem der
Einfluß eines Differenzdrucks, der auf den Sensor für statischen Druck beim
Anlegen des Differenzdrucks einwirkt, entfernt wird, und einen intelligenten
Differenzdruck-Übertrager zu schaffen, der einen solchen integrierten Multisensor
verwendet, um das Erfassen eines Differenzdrucks mit befriedigender Präzision
durch eine einfache Operation zu erlauben.
Ferner soll ein Verfahren zum
Herstellen eines integrierten Multisensors geschaffen werden, das ein Bearbeiten einer
Differenzdruck-Erfassungsmembran enthält, um ihre Plattendicke dünner zu
machen als jene einer Membran, die einen statischen Druck erfaßt, ein Entwickeln
des Verfahrens eines Ätzens oder Begrenzens der Unreinheitskonzentration eines
Siliziumsubstrats, um die Erfassungspräzision eines integrierten Multisensors zu
verbessern.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch einen
integrierten Multisensor gemäß Ansprüchen 1 bis 14,
und ein
Verfahren gemäß Ansprüchen 15 und 16 gelöst.
In einem integrierten Multisensor mit einem Differenzdruck-Sensor und einem
Sensor für statischen Druck, die auf dem gleichen Substrat gebildet sind, wird,
wenn ein Differenzdruck angelegt wird, eine Belastung an den Sensor für statischen
Druck angelegt, und zwar unter dem Einfluß des Differenzdrucks. In dem Fall,
in dem der Sensor für statischen Druck nahe dem Differenzdruck-Sensor angeordnet ist,
ist der an den Sensor für statischen Druck angelegte Druck abhängig von einer
Beanspruchung, bezogen auf einen Abstand von dem Differenzdruck-Sensor.
Wenn eine Mehrzahl von Sensoren für statischen Druck ohne Beachtung
der obigen Beziehung vorgesehen werden, werden die Sensoren für statischen Druck
Ausgänge erzeugen, die durch Differenzdrücke beeinflußt sind, die unterschiedliche
Größen aufweisen. Deshalb wird bei der vorliegenden Erfindung ein
statischer Druck mit einem Aufbau gemessen, bei dem Sensoren für statischen Druck
so angeordnet sind, daß Beanspruchungen, die durch Differenzdrücke erzeugt
sind, einander gleich werden, und die Sensoren für statischen Druck werden so
geschaltet, daß der Einfluß der Differenzdrücke, die auf die Sensoren für
statischen Druck einwirken, eliminiert wird. Jedoch folgt bei dem
Aufbau, bei dem die Einflüsse der Differenzdrücke eliminiert werden, daß statische
Drücke ähnlich gegeneinander kompensiert werden und keine Ausgangsspannung
erhalten wird. Daher sind zwei Arten von Meßwiderständen vorgesehen, die einen
Meßwiderstand enthalten, der an einem festen Abschnitt angeordnet ist, um einen
statischen Druck unter Verwendung einer Differenz beim Elastizitätsmodul einer
befestigenden Basis zu erfassen, und einen Meßwiderstand, der an einer Membran
angeordnet ist, die einen statischen Druck erfaßt, um einen absoluten Druck zu
erfassen, so daß ein statischer Druck unter Eliminierung des Einflusses des Differenzdrucks,
unter Verwendung der Tatsache erfaßt wird, daß der Meßwiderstand,
der an der Membran angeordnet ist, eine größere Widerstandsänderung
aufweist als der Meßwiderstand, der an dem festen Abschnitt angeordnet
ist, wo der statische Druck einwirkt.
Weitere Vorteile und Anwendungsmöglichkeiten bzw. Weiterbildungen
der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der
nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Zeichnung:
Fig. 1 ist ein systematisches Diagramm eines Anlagensystems, bei dem ein
intelligenter Differenzdruck-Übertrager mit einem integrierten Multisensor gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet wird;
Fig. 2 ist eine Ansicht, die den Aufbau des gesamten intelligenten Differenzdruck-Übertragers
zeigt;
Fig. 3A bis 3E sind Ansichten zum Erklären des Prinzips eines Verfahrens, das
einen statischen Druck erfaßt, in einem integrierten Multisensor der
vorliegenden Erfindung;
Fig. 4 ist eine Kurve, die die Widerstandsänderungsraten von Meßelementen zeigt,
die einen statischen Druck erfassen, wenn sich ein Differenzdruck
ändert;
Fig. 5A bis 5C sind Ansichten, die den Aufbau eines gesamten Ausführungsbeispiels
eines integrierten Multisensors gemäß der vorliegenden Erfindung
zeigen;
Fig. 6 ist eine Ansicht, die ein weiteres Ausführungsbeispiel eines integrierten
Multisensors gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt;
Fig. 7 ist eine Ansicht zum Erklären eines weiteren Ausführungsbeispiels eines
integrierten Multisensors gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 8 ist eine Ansicht zum Erklären eines Verfahrens zum Herstellen eines
integrierten Multisensors gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 9A und 9B sind Ansichten, die ein weiteres Ausführungsbeispiel eines
integrierten Multisensors gemäß der vorliegenden Erfindung zeigen;
Fig. 10A und 10B sind Ansichten, die ein weiteres Ausführungsbeispiel eines
integrierten Multisensors gemäß der vorliegenden Erfindung zeigen;
Fig. 11 ist eine Kurve, die eine Beziehung zwischen der Störstellenkonzentration
und der Ätzrate eines Sensorsubstrats zeigt;
Fig. 12 ist ein Blockdiagramm einer Signalverarbeitungsschaltung gemäß der
vorliegenden Erfindung;
Fig. 13A und 13B sind Blockdiagramme zum Erfassen eines Differenzdrucks;
Fig. 14 ist eine Ansicht, die den Datenverarbeitungsfluß zeigt;
Fig. 15 ist eine Ansicht zum Erklären eines Differenzdrucks, der
auf einen Sensor für statischen Druck der vorliegenden Erfindung einwirkt;
und
Fig. 16 ist eine Kurve, die eine Beziehung zwischen der Position des Meßelementes
für statischen Druck und der Belastung zeigt.
Es wird anhand der Fig. 1 bis 5 ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung erklärt.
Fig. 1 zeigt ein Beispiel eines Rohrleitungssystems, in dem ein Durchflußmeßgerät
eingebaut ist, das einen Differenzdruck-Übertrager
verwendet.
Ein Differenzdruck ΔP, der zwischen entgegengesetzten Enden einer Öffnung 560
erzeugt wird, die in dem Verlauf einer Rohrleitung 550 einer chemischen Anlage
oder ähnlichem vorgesehen ist, wird durch einen Differenzdruck-Übertrager 300
gemessen, um die Durchflußmenge in der Rohrleitung
zu bestimmen, und ein Durchflußmengensignal wird zu einer Steuervorrichtung 500
übertragen. In der Steuervorrichtung 500 wird eine Pumpe zum Anlegen eines
Drucks an ein Fluid in der Rohrleitung gemäß der gemessenen Durchflußmenge
gesteuert, so daß eine geeignete Durchflußmenge geliefert wird. Ein Kommunikator
400 ist eine Eingabe/Ausgabevorrichtung, durch die eine Person die Zustände des
Systems überwacht, um Instruktionen für die Änderung einer zu steuernden Größe
zu geben.
Bei dem vorliegenden System kann, wenn ein Differenzdruck genau gemessen
werden kann, die Präzision einer Erfassung der Durchflußmenge verbessert werden,
und die Anlage kann effektiver betrieben werden.
Der Differenzdruck-Übertrager 300 hat einen Aufbau,
wie in Fig. 2 gezeigt. In der Figur ist ein integrierter Multisensor 16 durch einen
Differenzdruck-Sensor, einen Sensor für statischen Druck und einen Temperatursensor
aufgebaut. Eine zentrale Membran 102 isoliert eine Hochdruckseite und
eine Niedrigdruckseite voneinander. Abdichtmembrane 103a und 103b isolieren
jeweils die äußere Umgebung und ein Druckübertragungsmedium (wie ein Silikonöl)
in dem Übertrager voneinander und werden mit einem äußeren Druck beaufschlagt,
und ein Übertragungskörper 104 kann aus SUS oder ähnlichem hergestellt
sein. Weiterhin ist gezeigt: Druckeinführöffnungen 105a und 105b und eine Signalverarbeitungsschaltung
106, die Sensorausgänge verstärkt und eine Operation für eine
Datenverarbeitung durchführt.
Somit enthält der Differenzdruck-Übertrager ein Druckaufnahmetor mit zwei
Flüssigkeitskammern. Ein statischer Druck Ps, der von der Hochdruck- oder
Niedrigdruckseite angelegt ist, ist größer als 100 at. Deshalb wird sogar in dem
Fall, wo Drücke, die von der Hochdruckseite und der Niedrigdruckseite angelegt
sind, zueinander gleich sind, ein sehr kleiner Differenzdruck erzeugt aufgrund
einer Differenz in der Menge der Abdichtflüssigkeit zwischen den zwei Flüssigkeitskammern
oder der Beeinträchtigung des Druckaufnahmeteils, wodurch der Ausgang
des Differenzdrucksensors verändert wird. Diese Veränderung ist ein Fehler, der
Einfluß eines statischen Drucks genannt wird, und ein Sensor zum unabhängigen
Erfassen eines statischen Drucks ist notwendig, um den Einfluß des statischen
Drucks zu entfernen. Bei dem herkömmlichen Sensor für statischen Druck wird
jedoch der Sensor für statischen Druck selbst durch den Einfluß eines Differenzdrucks
beeinflußt und es ist notwendig, den Einfluß des Differenzdrucks zu
kompensieren. Da ein Sensor für statischen Druck oder ein Differenzdruck-Sensor
leicht durch Temperaturänderungen beeinflußt wird, ist es weiterhin
notwendig, eine Veränderung zu kompensieren, die durch die Temperaturänderungen
verursacht ist. Daher wird ein Aufbau verwendet, wie in
den Fig. 3A bis 3E gezeigt, der einen integrierten Multisensor realisiert, der einen
genauen statischen Druck erfassen kann, während der Einfluß eines Differenzdrucks
entfernt wird, der einem statischen Druck zugeführt ist und der den
Differenzdruck durch eine einfache Verarbeitung bestimmen kann, wie es später
beschrieben wird.
In der Fig. 3A erfaßt Meßwiderstand 6 den statischen
Druck, der an der den statischen Druck messenden Membran 12 anliegt,
und Meßwiderstand 5 den statischen Druck,
der an einer befestigenden Basis und parallel zu dem Meßwiderstand 6
anliegt. In der Fig. 3E erfaßt Meßwiderstand 8
den statischen Druck, der an dem festen Abschnitt gebildet ist, ähnlich zu dem
Meßwiderstand 5, aber er ist rechtwinklig zu dem Meßwiderstand 6 ausgerichtet.
Jeder der Meßwiderstände 5 und 8 ist zu einer
Differenzdruck-Erfassungsmembran 9 näher als der Meßwiderstand 6 angeordnet.
Wenn die Meßwiderstände 5 und 6 von der Differenzdruck-Membran 9 gleich
beabstandet sind, wie in Fig. 15 gezeigt, wird eine Kraft F, die mit einer
Differenzdrucklast verbunden ist, von einem Querschnitt A-A′ bei der Position
des Meßwiderstands 5 und von einem Querschnitt B-B′ aufgenommen, der kleiner
als der Querschnitt A-A′ ist, bei der Position des Meßwiderstands 6. Deshalb
empfängt der Meßwiderstand 6 an der Membran, die einen statischen Druck
erfaßt, eine große Belastung verglichen mit dem Meßwiderstand 5 an dem festen
Abschnitt.
Eine Belastung, die auf einen Meßwiderstand einwirkt, hängt jedoch sehr stark von
seiner Entfernung von der Differenzdruck-Membran ab, wie es in der Fig. 16
gezeigt ist. Wenn der Meßwiderstand 5 an dem festen Abschnitt der Differenzdruck-Erfassungsmembran näher ist als der Meßwiderstand 6 an der
Membran, die den statischen Druck erfaßt, und zwar unter Verwendung der in
Fig. 16 gezeigten Beziehung, so daß die Meßwiderstände 5 und 6 an Positionen
angeordnet sind, die jeweils um r₁ und r₂ von der Differenzdruckmembran beabstandet sind und auf die die
gleiche Belastung einwirkt, ist eine Änderungsrate des Widerstands, wie in Fig. 4
gezeigt, gegeben. In Fig. 4 zeigen die Widerstandswerte der Meßwiderstände
5 und 6 die gleiche Änderung mit dem gleichen Vorzeichen und der Widerstandswert
des Meßwiderstands 8 zeigt eine Änderung mit einem Vorzeichen,
das umgekehrt zu dem des Meßwiderstands 6 ist. Entsprechend wird der Einfluß
des Differenzdrucks durch Verbinden der Meßwiderstände 5 und 6 in Serie mit
einer Konstantstromquelle 24 eliminiert, wie in Fig. 3B gezeigt, um Spannungen
V₂ und V₁ über den Meßwiderständen 5 und 6 zu errichten, und durch
Verwenden eines Subtrahierers 25, wie in Fig. 3C gezeigt. Andererseits ist in dem
Fall, in dem ein statischer Druck angelegt ist, eine Widerstandsänderung des
Meßwiderstands 5 bemerkenswert klein, verglichen mit jener des Meßwiderstands
6. Deshalb wird, sogar wenn die Subtraktion durchgeführt ist, ein Ausgang
aufgrund eines statischen Drucks erzeugt, der der Widerstandsänderung des
Meßwiderstands 6 entspricht. Wenn der Meßwiderstand 5 in Fig. 3B durch den
Meßwiderstand 8 ersetzt ist, der in der Fig. 3E gezeigt ist, zeigen V₁ und V₂
auch nach einem Anlegen eines Differenzdrucks Änderungen, die einander in der
Größe gleich sind, aber zueinander ein entgegengesetztes Vorzeichen aufweisen.
Demgemäß kann in diesem Fall der Einfluß des Differenzdrucks eliminiert
werden unter Verwendung eines Addierers 26, wie es in der Fig. 3D
gezeigt ist.
Die obige Operation wird mathematisch erklärt. Der Sensor für statischen Druck
ist aus den Meßwiderständen 5 und 6 zusammengesetzt, die verbunden sind, wie
es in der Fig. 3B gezeigt ist. Wenn der Sensor für statischen Druck durch einen
konstanten Strom I erregt wird, liefert der Sensor für statischen Druck einen
Ausgang v, dargestellt durch
v=I · (R₅₀-R₆₀+ΔR₅-ΔR₆) (1)
wobei R₅₀ und R₆₀ Widerstandswerte darstellen, wenn ein Differentialdruck ΔP und
ein statischer Druck Ps beide Null sind, und ΔR₅ und ΔR₆ Veränderungen
darstellen, wenn der Differenzdruck und der statische Druck angelegt sind. Die Änderungsraten werden dargestellt durch
ΔR₅/R₅₀=g(x, Ps)+f(r, ΔP) (2)
ΔR₆/R₆₀=G(x′, Ps)+F(r′, ΔP) (3)
wobei r und r′ Entfernungen von der Mitte der Differenzdruck-Membran 9 zu
den Mitten der Meßwiderstände 5 und 6 für statischen Druck darstellen und x und x′
Entfernungen zu den Meßwiderständen 5 und 6 von der Mitte einer Membran eines
Sensors für statischen Druck darstellen. Der Grund, warum der erste Ausdruck
g(x, Ps) für R₅ in der Gleichung (2) und der erste Ausdruck G(x′, Ps) für R₆ in
der Gleichung (3) unterschiedlich sind, ist, daß R₅, der an dem festen Abschnitt
angeordnet ist, ein Widerstand ist, der den statischen Druck erfaßt, der eine
Differenz des Elastizitätsmoduls benutzt, und R₆, der an der Membran gebildet ist,
die den statischen Druck erfaßt, ein Meßwiderstand ist, der den statischen Druck
erfaßt, der einen absoluten Druck erfaßt. Es gibt eine Beziehung: g(x, Ps)«G(x′, Ps).
Wenn die Meßwiderstände 5 und 6 gebildet sind, um R₅₀=R₆₀ (=R₀) in den
Gleichungen (2) und (3) zu genügen, und an Positionen von r=r₁ und r′=r₂
angeordnet sind, wie es in den Fig. 16 und 4 gezeigt ist, werden die zweiten
Ausdrücke in den Gleichungen (2) und (3), die von dem Differenzdruck ΔP
abhängen, eliminiert, da sie einander gleich sind. Danach kann die
Gleichung (1) wie folgt geschrieben werden:
Wie zuvor erwähnt, sind ∂g/∂Ps|Ps=0 und ∂G/∂Ps|Ps=0 für den statischen Druck
Ps stark unterschiedlich zwischen dem Fall, daß der Meßwiderstand an der
Membran angeordnet ist, die den statischen Druck erfaßt, und dem Fall, wo er
an dem festen Abschnitt angeordnet ist. Wie oben erwähnt, werden die zweiten
Ausdrücke in der Gleichung (2), (3), die Ausdrücke f(R, ΔP) und F(r′, ΔP) für
einen Differenzdruck-Einfluß sind, entfernt unter Zurücklassen von Ausdrücken
für einen Einfluß eines statischen Drucks, wie es durch die Gleichung (5) gezeigt
ist. Als Ergebnis ist es möglich, einen Sensor für statischen Druck zu bauen, der
frei von dem Einfluß des Differenzdrucks ist. Als nächstes wird der genaue
Aufbau des oben erwähnten integrierten Multisensors anhand der Fig. 5A bis 5C
erklärt.
Fig. 5A ist eine Draufsicht des integrierten Multisensors und Fig. 5B ist ein
Querschnitt entlang einer Linie VB-VB in Fig. 5A. Auch Fig. 5C zeigt ein Beispiel
einer Schaltung, wenn der oben erwähnte Sensor für statischen Druck und ein
Differenzdruck-Sensor verbunden sind. In Fig. 5A sind Meßwiderstände 1 bis
4, die einen Differenzdruck erfassen, durch Dotieren eines Halbleitersubstrats
10 aus monokristallinem Silizium mit einer Beimischung durch eine Ionimplantation
oder thermische Diffusion gebildet. Diese Meßwiderstände 1 bis 4 sind in dem
Bereich einer Membran 9 gebildet, die durch alkalisches Ätzen oder Trockenätzen
hergestellt ist. Meßwiderstände, die einen statischen Druck erfassen, sind mit 5
bis 8 bezeichnet. Der Meßwiderstand 6 ist an einer Membran 12a gebildet, die
einen statischen Druck erfaßt, und der Meßwiderstand 7 ist an einer Membran 12b
gebildet, die einen statischen Druck erfaßt, die getrennt von der Membran 12a
vorgesehen ist. Wenn ein Differenzdruck angelegt ist, werden bei den
Meßwiderständen 6 und 7 eine Biege- und eine Streckbelastung erzeugt. Die
Meßwiderstände 5 und 8 sind an Positionen gebildet, wo eine Streckbelastung eine
Größe aufweist, die gleich den Belastungen ist, die bei den Meßwiderständen 6
und 7 erzeugt werden. Der Meßwiderstand 30 ist ein Temperaturmeßelement, das
an einem festen Abschnitt angeordnet ist. Darüber hinaus ist das Temperaturmeßelement
30 in einer Richtung <100< angeordnet, die unempfindlich gegenüber
irgendeiner Belastung ist. Elektrodenanschlüsse sind mit 13a bis 13f bezeichnet.
Nachdem eine Schaltung wie in Fig. 5C gezeigt hergestellt worden ist, wird eine
konstante Spannung zwischen den Elektrodenanschlüssen 13a und 13b angelegt, so
daß zwischen den Elektrodenanschlüssen 13c und 13d ein Differenzdruckausgang
erhalten wird und zwischen den Elektrodenanschlüssen 13e und 13f ein statischer
Druck erhalten wird. Eine in Fig. 5B gezeigte befestigende Basis 11 stützt das
Halbleitersubstrat 10. Die befestigende Basis 11 ist aus Borsilikatglas hergestellt.
In dem Fall, wo ein Differenzdruck an diesen integrierten Multisensor angelegt
ist, zeigen die Widerstandswerte der Meßwiderstände 7 und 8 Änderungen, die
einen gleichen Wert, aber ein umgekehrtes Vorzeichen gegenüber den Widerstandswerten
der Meßwiderstände 5 und 6 aufweisen, wenn die Widerstandswerte der
Meßwiderstände 5 und 6 erhöht werden, wie es in der Fig. 4 gezeigt ist. Wenn
eine Brückenschaltung, wie in Fig. 5C gezeigt, verwendet wird, ist es demgemäß
möglich, einen Sensorausgang für einen statischen Druck zu erhalten, der keine
Veränderung enthält, die durch den Differenzdruck induziert ist. Auch in dem
Fall des herkömmlichen Sensors für statischen Druck, der eine Änderung beim
Elastizitätsmodul verwendet, ist eine Änderung des Widerstandswertes des Sensors
beim Anlegen eines statischen Drucks von etwa 100 at klein, wie etwa 0,5%. Da
ein Sensor für statischen Druck vom Typ für absoluten Druck enthalten ist, ist
es bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel jedoch möglich, die Änderung beim
Widerstandswert des Sensors bis zu 5% zu erhöhen, was etwa zehnmal so groß
wie jener des herkömmlichen Sensors für statischen Druck ist. Die Empfindlichkeit
des Sensors für statischen Druck des vorliegenden Ausführungsbeispiels
gegenüber statischem Druck kann nämlich zu etwa einem Zehnfachen verbessert
werden, verglichen mit dem herkömmlichen Sensor für statischen Druck, der eine
Änderung beim Elastizitätsmodul verwendet.
Da es möglich ist, den Durchmesser der Membran, die den statischen Druck
erfaßt, klein zu machen und der Einfluß eines Differenzdrucks, der auf den
statischen Sensor einwirkt, eliminiert werden kann, um eine genaue Messung des
Sensors für statischen Druck und des Differenzdrucks zu erlauben, kann gemäß
dem obigen Aufbau ein Differenzdruck-Detektor realisiert werden, der eine kleine
Größe und eine hohe Präzision aufweist.
Fig. 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines integrierten Multisensors gemäß
der vorliegenden Erfindung.
Bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel ist nur eine Sensormembran 12 für
statischen Druck vorgesehen, Meßwiderstände 6 und 7, die einen statischen Druck
erfassen, sind in der gleichen Richtung in der Membran 12, die einen statischen
Druck erfaßt, vorgesehen, und Meßwiderstände 5 und 8 sind an einem festen
Abschnitt vorgesehen, so daß sie näher der Mittellinie l₁ einer Membran 9, die
einen Differenzdruck erfaßt, positioniert sind, als die Meßwiderstände 6 und 7.
Ein Ausgang für statischen Druck dieser Meßwiderstände wird zwischen Elektrodenanschlüssen
13f und 13e durch Anlegen einer Spannung zwischen Elektrodenanschlüssen
13a und 13b erhalten. Mit einem derartigen Aufbau werden, da eine
Membran für einen statischen Druck ausreicht, das Arbeiten und Verdrahten
vereinfacht, verglichen mit dem in den Fig. 5A bis 5C gezeigten Ausführungsbeispiel,
wodurch es möglich gemacht wird, einen Sensor geringer Größe zu schaffen.
Bei der vorangehenden Erklärung des integrierten Multisensors ist kein Temperatursensor
erklärt worden, wie bei dem Beispiel der Fig. 5A bis
5C. Bei dem Ausführungsbeispiel der Fig. 6 und auch bei dem Ausführungsbeispiel
der Fig. 5A bis 5C ist jedoch ein Meßwiderstand, der ausschließlich zum
Messen einer Änderung eines Widerstandswertes benutzt wird, der durch eine
Temperaturänderung verursacht wird, auf dem Halbleitersubstrat 10 angeordnet.
Fig. 7 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines integrierten Multisensors gemäß
der vorliegenden Erfindung. Die Meßwiderstände
5 bis 8, die einen statischen Druck erfassen, sind in einer Richtung <110< relativ zu
einer Membran 9 angeordnet, die einen Differentialdruck erfaßt. Mit einem
derartigen Aufbau wirkt eine Belastung σ basierend auf einer Differenzdrucklast
auf die Meßwiderstände 5 bis 8 in einer schrägen Richtung von 45° ein. Eine
Änderung des Widerstands eines Meßelementes ist durch die folgende Gleichung
gegeben:
wobei πl einen Piezokoeffizienten in einer Längsrichtung darstellt, πt einen
Piezokoeffizienten in einer transversalen Richtung darstellt, σl eine
Belastung in Längsrichtung darstellt und σt eine Belastung einer transversalen
Richtung darstellt. In dem Fall des vorliegenden Ausführungsbeispiels, bei dem
die Meßgeräte in einer Richtung <10< angeordnet sind,
Dann ist die obige Gleichung auf ΔR/R=0 reduziert. Gemäß dem vorliegenden
Ausführungsbeispiel kann daher der Einfluß einer Differenzdrucklast auf einen
Sensor für statischen Druck eliminiert werden.
In dem Fall, in dem die Membranen 12a und 12b, die einen statischen Druck erfassen, in
der Nähe der Seiten einer Membran 9 vorgesehen sind, die einen Differenzdruck
erfaßt, wie in Fig. 7 gezeigt, wird der Abstand d′ zwischen den Membranen 9 und
12 während einer Ätzarbeit klein, da die Ätzrate in der <100<-Richtung so hoch
ist, wie jene in Dickenrichtung. Hierdurch wird die
Klebelänge verringert, so daß die Festigkeit schlechter wird. Auch Dickeveränderungen
zwischen Chips in einem Plättchen werden groß in Abhängigkeit von der
Zusammensetzungsverteilung einer Ätzlösung.
Daher wird bei der vorliegenden Erfindung ein Arbeiten, wie in Fig. 8 gezeigt,
ausgeführt. Die Membranen 12a und 12b, die einen statischen Druck erfassen, werden
nämlich den <110<-ausgerichteten Seiten einer Membran 9 nächstliegend
angeordnet, die einen Differenzdruck erfaßt, wobei die Membran durch
anisotropisches Ätzen gebildet wird. Mit einer derartigen Anordnung kann ein
Abstand d′ zwischen der Membran 9, die den Differenzdruck erfaßt, und den
Membranen 12a und 12b, die den statischen Druck erfassen, durch ein Ätzen mit
hoher Präzision hergestellt werden. Demgemäß kann die Klebefläche zu der in
Fig. 5 gezeigten befestigenden Basis 11 konstant gehalten werden, wodurch die
Ausbeute verbessert wird.
Fig. 9A zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines integrierten Multisensors
gemäß der vorliegenden Erfindung. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist eine
Membran 9, die einen Differenzdruck erfaßt, mit einer zentralen steifen Platte
14 geschaffen, die eine Dicke aufweist, die im wesentlichen gleich der Dicke eines
Chips ist. Darüber hinaus sind die Membranen 9, 12a und 12b durch ein
anisotropes Ätzverfahren dünn gemacht, und die zentrale steife Platte 14 ist
in einem Oktogon ausgebildet. In dem Fall, wo ein anisotropes Ätzen
durchgeführt ist, wird eine quadratische zentrale steife Platte, umgeben von <111<
Seiten, wie in Fig. 9B gezeigt, sehr leicht gebildet. Aufgrund des Entwurfs einer
Ätzmaske kann jedoch eine zentrale Platte mit dem Aufbau eines Polygons
gebildet werden, das nicht weniger gewinkelt ist als ein Oktogon in dem Fall eines
Plättchens mit einer {100}-Ebene und nicht weniger als ein Hexagon in dem Fall
eines Plättchens mit einer {110}-Ebene. Durch eine solche Ausbildung des
zentralen steifen Körpers als Polygon, das nicht weniger als ein Hexagon
gewinkelt ist, kann die Konzentration einer Belastung an jedem Kantenabschnitt
reduziert werden, verglichen mit einer viereckigen zentralen steifen Platte, wodurch
die Druckbeständigkeit verbessert wird.
Fig. 10A ist eine Draufsicht auf ein weiteres Ausführungsbeispiel eines integrierten
Multisensors gemäß der vorliegenden Erfindung. Fig. 10B ist ein Querschnitt
entlang der Linie XB-XB in Fig. 10A. Bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel
ist eine Membran 9, die einen Differenzdruck erfaßt, auf solche Art dünn
gemacht, daß die Membran 9 von ihrer oberen Oberfläche aus geätzt ist, um einen
Bereich (oder Steg) zu lassen, der Differenzdruck-Meßelemente 1, 4 und 2, 3
miteinander verbindet. Die Empfindlichkeit eines Sensors wird im wesentlichen
durch (Fläche der Membran)/(Plattendicke des verdünnten Abschnitts)² bestimmt.
Daher steigt die Empfindlichkeit des Differenzdrucksensors, wenn die in den Fig. 10A
und 10B gezeigte Struktur angewandt wird. Deshalb wird die Membranfläche
klein. Durch Benutzen der Stegstruktur kann weiterhin die Nichtlinearität des
Differenzdrucksensors verringert werden.
Wenn ein isotropes nasses Ätzen für das Ätzen von der oberen Oberfläche aus
verwendet wird, können die obere und untere Oberfläche gleichzeitig geätzt
werden, wodurch die Bearbeitungszeit verkürzt wird.
Zusätzlich werden Kantenabschnitte nach einem anisotropen Ätzen durch das
isotrope Ätzen abgerundet, wodurch die Druckbeständigkeit verbessert wird.
Fig. 11 zeigt eine Beziehung zwischen der Störstellenkonzentration wie eine Borkonzentration
eines Substrats und der Ätzrate in dem Fall, in dem ein monokristallines Silizium mit
einer {100}-Fläche anisotrop geätzt wird. Es ist aus Fig. 11 offensichtlich, daß,
wenn die Störstellenkonzentration nicht größer als 10¹⁸/cm³ ist,
ein Ätzen hoher Geschwindigkeit erreicht werden kann, wodurch
die Zeit zum Herstellen eines Sensors verkürzt wird.
Der oben beschriebene integrierte Multisensor ist in dem in Fig. 2 gezeigten
Differenzdruck-Übertrager enthalten, und eine Datenverarbeitung wird durch die
Signalverarbeitungsschaltung 106 durchgeführt, um die Durchflußmenge zu messen.
Das gemessene Durchflußmengensignal wird zu der in Fig. 1 gezeigten Steuervorrichtung
500 übertragen.
Fig. 12 zeigt ein Blockdiagramm der Signalverarbeitungsschaltung 106. Ein
integrierter Multisensor 16 gibt Änderungen beim Meßwiderstand aus, abhängig von
einem Differenzdruck, einem statischen Druck und einer Temperatur, und diese
Ausgänge werden selektiv in einen Multiplexer 17 genommen und durch einen
programmierbaren Verstärker 18 verstärkt. Als nächstes wird ein Ausgang des
Verstärkers 18 durch einen A/D-Wandler 19 in ein Digitalsignal gewandelt, das
in Folge zu einem Mikroprozessor 21 gesendet wird. Die Charakteristiken der
Sensoren für den Differenzdruck, den statischen Druck und die Temperatur
werden vorab in einem Speicher 20 gespeichert. Der Mikroprozessor 21 korrigiert
die Sensorausgänge unter Verwendung jener Daten, um einen Differenzdruck mit
einer hohen Präzision zu erfassen. Ein Ausgang des Mikroprozessors 21 wird durch
einen D/A-Wandler 22 in ein Analogsignal gewandelt, das in Folge zu der
Steuervorrichtung 500 durch einen Spannungs-/Stromwandler 23 ausgegeben wird.
Ein charakteristischer Teil des obigen Aufbaus ist der Speicher 20 und der
Mikroprozessor 21, der im nachfolgenden beschrieben wird. Die Kennlinien der
Sensoren für den Differenzdruck, den statischen Druck und die Temperatur
werden vorläufig als Kennlinienfeld in den Speicher 20 gespeichert. Das
Kennlinienfeld stellt einen Differenzdruck-Sensorausgang Ed, einen Sensorausgang
Es für statischen Druck und einen Sensorausgang Et für eine Temperatur
dreidimensional dar. Der Mikroprozessor 21 führt eine Verarbeitung in
Übereinstimmung mit einem in Fig. 13A gezeigten Verfahren durch. Ein statischer
Druck wird nämlich von einem Widerstand des Meßelementes für statischen Druck
erhalten, der an der Membran und dem oben erwähnten festen Abschnitt gebildet
ist. Als nächstes wird ein genauer statischer Druck durch einen Block 202
aus dem Ausgang eines Sensors für statischen Druck und dem Ausgang eines
Temperatursensors mittels der Korrekturkarte bestimmt und der Ausgang eines Differenzdrucksensors
wird durch Verwenden des bestimmten statischen Drucks korrigiert. Als
nächstes wird dieser korrigierte Differenzdruck-Sensorausgang in einem Block 203
mittels des Kennlinienfeldes temperatur-korrigiert, wodurch ein genauer Differenzdruckausgang
erhalten wird. Bei dem herkömmlichen integrierten Multisensor ist
es, da der Ausgang des statischen Drucks den Einfluß des Differenzdrucks
in starker Abhängigkeit enthält, schwierig, eine genaue Korrekturkarte
herzustellen. Daher ist ein kompliziertes Verarbeiten, wie in Fig. 13B gezeigt,
notwendig, um den Einfluß des Differenzdrucks zu entfernen (d. h. um den
Einfluß eines Differenzdrucks zu korrigieren, der auf einen Sensor für statischen
Druck einwirkt). Andererseits wird bei der vorliegenden Erfindung eine
Verarbeitung vereinfacht, da nur ein statischer Druck im wesentlichen herausgezogen
werden kann. Ein Druckübertrager, der bei dem Stand der Technik
vorgesehen ist, ist nicht notwendig, weil ein statisches Signal genau in einem
Durchflußsteuerungssystem der vorliegenden Erfindung ausgegeben wird, gezeigt in
Fig. 13A. Seine Funktion ist nämlich in einem Differenzdruck-Übertrager
vorgesehen. Ein Flußdiagramm der Korrektur wird in Fig. 14 gezeigt. Zuerst
werden im Schritt S₁ der Ausgang Es eines Sensors für statischen Druck und der
Ausgang Et eines Temperatursensors gelesen. Als nächstes wird im Schritt S₂ der
Wert Ekd eines Einflusses auf den Sensor für statischen Druck bestimmt. Danach
wird im Schritt S₃ der Ausgang Ed eines Differentialdrucksensors gelesen. Als
nächstes werden der Einflußwert Ekd, der im Schritt S₂ bestimmt ist, und der
Temperatursensorausgang Et von dem Differenzdruck-Sensorausgang Ed
subtrahiert, um einen genauen Differenzdruck-Ausgang Ed′ zu bestimmen (Schritte S₄ und S₅).
Wie aus dem vorangehenden offensichtlich ist, bewirkt die Verwendung eines
Differenzdruck-Übertragers gemäß der vorliegenden Erfindung, daß eine
Operationsverarbeitung vereinfacht wird, ein genauer Differenzdruck erfaßt werden
kann und ein Detektor geringen Ausmaßes für eine Durchflußerfassung bei einem
Anlagensystem geschaffen werden kann.
Gemäß der vorliegenden Erfindung kann der Einfluß eines Differenzdrucks, der
an einem Sensor für statischen Druck erscheint, auf etwa Null verringert werden.
Daher wird die Kennlinienkorrektur für den Einfluß des Differenzdrucks unnötig
und der Differenzdruck kann mit verbesserter Präzision gemessen werden.
Weiterhin gibt es eine Wirkung, daß ein Korrekturverfahren für statischen Druck
und Temperatur vereinfacht wird, und eine Verarbeitungszeit, die die Messung von
Kennlinien betrifft, kann verkürzt werden, wodurch die Steuerbarkeit einer
gesamten Anlage verbessert wird.
Weiterhin kann, wenn ein Sensorsubstrat-Bearbeitungsverfahren der vorliegenden
Erfindung verwendet wird, die Bearbeitung mit einer hohen Präzision ausgeführt
werden, wodurch es möglich gemacht wird, die Erfassungspräzision eines Sensors
zu verbessern.
Claims (16)
1. Integrierter Multisensor mit Signalverarbeitungseinrichtung zum Erfassen
eines statischen Druckes und eines Differenzdruckes mit
einem Differenzdrucksensor mit einem spannungsempfindlichen Meßelement (1 bis 4), das auf einer Membran (9) zum Erfassen des Differenzdruckes positioniert ist, welche in einem Substrat (10) gebildet ist,
mindestens einem ersten Sensor für statischen Druck mit einem spannungsempfindlichen Meßelement (6, 7), das auf einer Membran (12, 12a, 12b) zum Erfassen des statischen Druckes positioniert ist, welche separat von der Membran zum Erfassen des Differenzdruckes in dem Substrat gebildet ist,
mindestens einem zweiten Sensor für statischen Druck mit einem spannungsempfindlichen Meßelement (5, 8), das auf einem festen Abschnitt des Substrats (10) positioniert ist, und
einer Signalverarbeitungseinrichtung (106; Fig. 5C) zum Verarbeiten der Ausgangssignale des mindestens einen ersten Sensors für statischen Druck und des mindestens einen zweiten Sensors für statischen Druck, wobei das spannungsempfindliche Meßelement des ersten Sensors und das spannungsempfindliche Meßelement des zweiten Sensors zu der Membran zum Erfassen des Differenzdruckes derart positioniert sind, daß ein Signal eines statischen Drucks unabhängig vom Differenzdruck erhalten wird.
einem Differenzdrucksensor mit einem spannungsempfindlichen Meßelement (1 bis 4), das auf einer Membran (9) zum Erfassen des Differenzdruckes positioniert ist, welche in einem Substrat (10) gebildet ist,
mindestens einem ersten Sensor für statischen Druck mit einem spannungsempfindlichen Meßelement (6, 7), das auf einer Membran (12, 12a, 12b) zum Erfassen des statischen Druckes positioniert ist, welche separat von der Membran zum Erfassen des Differenzdruckes in dem Substrat gebildet ist,
mindestens einem zweiten Sensor für statischen Druck mit einem spannungsempfindlichen Meßelement (5, 8), das auf einem festen Abschnitt des Substrats (10) positioniert ist, und
einer Signalverarbeitungseinrichtung (106; Fig. 5C) zum Verarbeiten der Ausgangssignale des mindestens einen ersten Sensors für statischen Druck und des mindestens einen zweiten Sensors für statischen Druck, wobei das spannungsempfindliche Meßelement des ersten Sensors und das spannungsempfindliche Meßelement des zweiten Sensors zu der Membran zum Erfassen des Differenzdruckes derart positioniert sind, daß ein Signal eines statischen Drucks unabhängig vom Differenzdruck erhalten wird.
2. Integrierter Multisensor nach Anspruch 1 mit einem Temperaturerfassungssensor
mit einem spannungsunempfindlichen Meßelement
(30), das auf dem festen Abschnitt des Substrats (10) getrennt von
dem Meßelement (5, 8) des zweiten Sensors für statischen Druck
positioniert ist.
3. Integrierter Multisensor nach Anspruch 1 oder 2, bei dem das
spannungsempfindliche Meßelement (5, 8) des zweiten Sensors näher
zu einer zentralen Linie der Membran (9) zum Erfassen des Differenzdruckes
positioniert ist als das spannungsempfindliche Meßelement
(6, 7) des ersten Sensors.
4. Integrierter Multisensor nach Anspruch 1 oder 2, bei dem das
spannungsempfindliche Meßelement (6, 7) des ersten Sensors und
das spannungsempfindliche Meßelement (5, 8) des zweiten Sensors
an Positionen angeordnet sind, an welchen die durch den Differenzdruck
erzeugte Belastung auf die Meßelemente gleich ist.
5. Integrierter Multisensor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem
die Dicke der Membran (9) zum Erfassen des Differenzdruckes im
wesentlichen gleich der Dicke der Membran (12, 12a, 12b) zum
Erfassen des statischen Druckes ist.
6. Integrierter Multisensor nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem
die spannungsempfindlichen Meßelemente (1 bis 8) Piezowiderstandselemente
sind.
7. Integrierter Multisensor nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem
die Signalverarbeitungseinrichtung eine Brückenschaltung ist.
8. Integrierter Multisensor nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem
die Membran (9) zum Erfassen des Differenzdrucks in dem Substrat
(10) in Form eines Polygons ausgebildet ist, das nicht geringer
gewinkelt ist als ein Hexagon, d. h. ein N-gon, bei dem N 6 ist.
9. Integrierter Multisensor nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei dem
das Substrat (10) aus monokristallinem Silizium besteht.
10. Integrierter Multisensor nach Anspruch 9, bei dem die Membran
(12, 12a, 12b) zum Erfassen des statischen Druckes in einer <110<-Richtung
von der Membran (9) zum Erfassen des Differenzdruckes
positioniert ist.
11. Integrierter Multisensor nach einem der Ansprüche 1 bis 10, bei
dem die Membran (12, 12a, 12b) zum Erfassen des statischen
Druckes auf einer diagonalen Linie des Substrats (10) angeordnet ist.
12. Integrierter Multisensor nach einem der Ansprüche 1 bis 11, bei
dem die Signalverarbeitungseinrichtung (106) den Einfluß einer
Temperaturveränderung auf das vom Differenzdruck unabhängige
Signal des statischen Drucks durch Verwendung des Ausgangssignals
des Temperaturerfassungssensors eliminiert und bei dem diese Signalverarbeitungseinrichtung
den Einfluß einer Veränderung des statischen
Drucks auf das Differenzdrucksignal durch Verwendung des
korrigierten statischen Drucksignals eliminiert.
13. Integrierter Multisensor nach einem der Ansprüche 1 bis 12, bei
dem die Signalverarbeitungseinrichtung (106) einen Speicher (20), in
dem eine Beziehung des statischen Drucks oder des Differenzdrucks
mit einer Temperaturänderung als dreidimensionale Kartendaten
aufgezeichnet sind, und einen Mikroprozessor (21) enthält, der ein
Ausgangssignal des Multisensors (16) auf der Basis der in dem
Speicher gespeicherten Daten verarbeitet.
14. Integrierter Multisensor nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß er
in einem Differenzdruck-Übertrager
eingesetzt ist.
15. Verfahren zum Herstellen eines integrierten Multisensors gemäß
einem der Ansprüche 1 bis 13 mit Membranen (9, 12, 12a, 12b)
zum Erfassen eines statischen Drucks und eines Differenzdrucks, bei
dem die Membranen durch anisotropes Ätzen eines monokristallinen
Siliziumplättchens (10) mit einer {100}-Ebene gebildet werden und
die Membran (12, 12a, 12b) zum Erfassen des statischen Drucks in
einer <100<-Richtung von der Membran (9) zum Erfassen des
Differenzdrucks positioniert wird.
16. Verfahren nach Anspruch 15, bei dem das monokristalline Siliziumplättchen
(10) eine Störstellenkonzentration aufweist, die nicht größer
als 2×10¹⁸/cm³ ist.
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