DE4030808A1 - Flaechenhelles quellenfeld - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein flächenhelles Quellen­ feld bzw. eine Quellenplatte, die bei einer flächenhellen Quelleneinrichtung zur Anwendung kommt, die in einer Viel­ zahl von Beleucht- bzw. Ausleuchtanwendungsfällen zum Ein­ satz kommt, welche Hintergrundbeleuchtungen unter Verwen­ dung von Flüssigkristallen für von hinten einfallendes Licht Anzeigeteile und Anzeigetafeln mit einschließen.

Es wurde eine flächenhelle Quelleneinrichtung vorgeschlagen, die mit einer Lichtquelle versehen ist, die auf einer End­ fläche eines flächenhellen Quellenfeldes angeordnet ist, wo­ bei eine solche Einrichtung übliche Leuchtquelleneinrichtun­ gen der Bauart ersetzen kann, die eine große Anzahl von fluo­ reszierenden Lichtquellen hat, die auf der Rückseite einer unregelmäßigen Reflektorseite angeordnet sind.

Obgleich diese bekannte flächenhelle Quelleneinrichtung sich in einer sehr dünnen und kompakten Form realisieren läßt, hat sie den Nachteil, daß sie nicht das Vermögen hat, eine gleich­ mäßig verteilte spezifische Helligkeit bereitzustellen. Um diese Schwierigkeit zu überwinden, ist in der japanischen, erstveröffentlichten Patentanmeldung (Tokkai) No. 57-1 28 383 eine unregelmäßige Reflexionsschicht vorgeschlagen, die von einer weißen Farbe gebildet wird und ein Reflexionsvermögen hat, welches eine gleichmäßige Verstärkung mit dem Abstand von der Oberfläche hat. In der japanischen, erstveröffent­ lichten Patentanmeldung (Tokkai) No. 60-2 05 576 ist eine vor­ derseitige, unregelmäßige Reflexionsschicht aus einem trans­ parenten Substrat angegeben, das von einer weißen Farbe ge­ bildet wird, und an dem Glasperlen angebracht sind. In der japanischen, erstveröffentlichten Patentanmeldung (Tokkai) No. 62-902 ist eine mehrlagige Auslegung von flächenhellen Quellenfeldern hingegen angegeben, die jeweils eine unregel­ mäßige Reflexionsschicht haben.

Da mit allen diesen Maßnahmen die vorstehend genannte Proble­ matik nicht vollständig überwunden werden kann, haben die Er­ finder in der japanischen Patentanmeldung (Tokugan) No. 663- 2 08 670 eine unregelmäßige Reflexionsschicht vorgeschlagen, die auf einer Oberfläche eines transparenten Substrats angeordnet ist, wobei der horizontale Querschnittsbereich der Reflexions­ schicht stetig mit dem Abstand von der Lichtquelle längs der Schicht zunimmt, und wobei die Reflexionsschicht von einer großen Anzahl von sehr kleinen unregelmäßigen Reflexionsteilen gebildet wird, welche in Form von sovielen Punkten oder Strei­ fen realisiert sind, daß diese mit einem Verhältnis von 30 bis 65 Streifenlinien pro cm angeordnet sind, indem ein Siebdruc­ ken zur Anwendung kommt, bei dem eine Tinte mit niedriger Kon­ zentration und einem Feststoffgehalt von 13 bis 30 Gew.-% zur Anwendung kommt, um eine geringe Lichtdurchlässigkeit zu erhal­ ten. Wenn eine unregelmäßige Reflexionsschicht gemäß dem vor­ stehend angegebenen Dokument in Verbindung mit einem 8W fluo­ reszierenden Licht eingesetzt wird, das an der gegenüberliegen­ den Endfläche angeordnet ist, um ein flächenhelles Quellenfeld mit einer Größe von DIN A4 zu bilden, so ergibt sich eine spezi­ fische Helligkeit in der Größenordnung von 2000 nit.

Obgleich ein flächenhelles Quellenfeld der von den Erfindern vorgeschlagenen Weise, welches zuvor beschrieben worden ist, für eine flächenhelle Quelleneinrichtung eingesetzt werden kann, die für eine Vielzahl von praktischen Anwendungsfällen ausrei­ chend ist, bleibt jedoch der Nachteil einer ungleichmäßigen spezifischen Helligkeit erhalten, die man in der Nähe der Lichtquelle feststellen kann, wenn sie als eine Flüssigkristall­ einrichtung für ein von hinten einfallendes Licht einer trans­ portablen Textverarbeitungseinrichtung, eines Rechners oder ei­ ner Fernseheinrichtung eingesetzt wird.

Die Verteilung der spezifischen Helligkeit einer derartigen flächenhellen Quelleneinrichtung hat im allgemeinen gekrümmte Linien, welche flach oder sogar gerade werden, wenn die unre­ gelmäßige Reflexionsschicht sehr nahe an einem Rand des trans­ parenten Substrats angeordnet wird.

Obgleich ein derartiges flächenhelles Quellenfeld praktisch ei­ ne gleichmäßige Verteilung der spezifischen Helligkeit bereit­ stellt, kann eine geringfügige Ungleichmäßigkeit der spezifi­ schen Helligkeit sofort den Gesamteffekt des Feldes nachteilig beeinflussen, und zwar insbesondere dann, wenn es bei einer Vor­ richtung zum Einsatz kommt, bei der die Gleichförmigkeit der spezifischen Helligkeit eine absolut zwingende Notwendigkeit ist.

Die Erfindung zielt daher darauf ab, ein flächenhelles Quellen­ feld bereitzustellen, bei dem die vorstehend genannten Schwie­ rigkeiten überwunden sind, und bei dem in zuverlässiger Weise eine äußerst gleichmäßige Verteilung der spezifischen Hellig­ keit erreicht wird, um auch sehr strengen Anforderungen zu ge­ nügen.

Aufgrund von eingehenden Versuchen, die von den Erfindern durch­ geführt wurden, hat sich gezeigt, daß die kurvenförmige Vertei­ lung der spezifischen Helligkeit eines üblichen flächenhellen Quellenfeldes durch die Tatsache verursacht wird, daß das von der Lichtquelle und auf das transparente Substrat auftreffende Licht nicht notwendigerweise einen geraden Verlauf hat, son­ dern einen geneigten Verlauf haben kann, um parallel zu den Diagonalen zu verlaufen, so daß die Strahlen des auftreffen­ den Lichts an dem gekrümmten Bereich zwischen den gegenüber­ liegenden Enden der Lichtquelle konzentriert werden, daß ein flächenhelles Quellenfeld, das eine Reflexionsschicht hat, de­ ren horizontaler Flächenbereich stetig mit dem Abstand von der Lichtquelle zunimmt, nicht effektiv die ungleichmäßige Ver­ teilung der spezifischen Helligkeit infolge des konzentrierten, einfallenden Lichts kompensieren kann, da die gleichmäßige Zu­ nahme des horizontalen Flächenbereichs immer ein paralleles Muster zeigt, und daß, wenn eine fluoreszierende Lampe einge­ setzt wird, die herabgesetzte spezifische Helligkeit an oder in der Umgebung der beiden gegenüberliegend angeordneten Basis­ teile die ungleichmäßige Verteilung der spezifischen Helligkeit verstärken kann.

Auch hat sich gezeigt, daß ein flächenhelles Quellenfeld, das mit einer unregelmäßigen Reflexionsschicht versehen ist, die in der Nähe eines Randes des transparenten Substrats angeordnet ist, unter dem direkten Einfluß der Lichtquelle steht, der sich nicht durch das parallele Muster aufheben läßt.

Auf der Basis dieser Feststellungen wird nach der Erfindung ein flächenhelles Quellenfeld bereitgestellt, das eine unregelmä­ ßige Reflexionsschicht hat, die auf der Oberfläche eines trans­ parenten Substrats angeordnet ist, wobei die Reflexionsschicht ein paralleles Musterteil hat, das ein Flächenverhältnis be­ sitzt, das gleichmäßig mit dem Abstand von einer Lichtquelle längs der Oberfläche des Feldes zunimmt, und ein regulierendes Musterteil hat, das sich in der Nähe der Lichtquelle befindet und teilweise durch das parallele Musterteil umgeben ist, wo­ bei das regulierende Musterteil eine hügelförmige Kontur hat, die von dem Rand in der Nähe der Lichtquelle ausgeht und ein Flächenverhältnis hat, das allmählich mit dem Abstand von der Lichtquelle kleiner wird.

Gemäß einer zweiten bevorzugten Ausführungsform nach der Erfin­ dung wird ein flächenhelles Quellenfeld bereitgestellt, das ei­ ne unregelmäßige Reflexionsschicht aufweist, die in der Nähe ei­ nes Querrandes eines transparenten Substrats angeordnet ist, wo­ bei die unregelmäßige Reflexionsschicht ein paralleles Muster­ teil, das ein Flächenverhältnis hat, das gleichmäßig mit dem Ab­ stand von einer Lichtquelle längs der Oberfläche des Feldes zu­ nimmt, und ein regulierendes Musterteil hat, das in der Nähe des Querrandes angeordnet ist, und eine parallele oder hügelförmige Kontur hat, und wobei das regulierende Musterteil ein herabge­ setztes Flächenverhältnis hat.

Da bei einem flächenhellen Quellenfeld nach der Erfindung die unregelmäßige Reflexionsschicht des Teils des Feldes, an dem das einfallende Licht eine hohe Konzentration der Lichtstrah­ len hat oder dem Teil, das direkt durch das einfallende Licht beeinflußt wird, einen beträchtlich herabgesetzten Flächenbe­ reich einnimmt, stellt die unregelmäßige Reflexion des Lichts an dem regulierenden Musterteil eine ausreichende Lichtaus­ breitung in der Trennfläche und zugleich eine gleichmäßige spe­ zifische Helligkeit dadurch sicher, daß ein Zusammenarbeiten mit dem parallelen Musterteil gegeben ist, um die Lichtstrah­ lung durch die unregelmäßige Reflexion an der unregelmäßigen Reflexionsfläche zu unterdrücken.

Weitere Einzelheiten, Merkmale und Vorteile der Erfindung erge­ ben sich aus der nachstehenden Beschreibung von bevorzugten Aus­ führungsformen unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung. Darin zeigt:

Fig. 1 eine perspektivische Ansicht einer Textverar­ beitungseinrichtung, bei der eine bevorzugte Ausführungsform eines flächenhellen Quellen­ feldes nach der Erfindung vorgesehen ist,

Fig. 2 eine perspektivische Ansicht der Hauptteile der in Fig. 1 gezeigten Textverarbeitungsein­ richtung in auseinandergezogener Darstellung,

Fig. 3 eine Draufsicht auf eine Bildaufnahmeeinrich­ tung, für die die vorliegende Erfindung be­ stimmt sein kann,

Fig. 4 eine Draufsicht auf eine dünne Diffusionsplat­ te, die bei der Ausführungsform nach Fig. 3 verwendet wird, und

Fig. 5 und 6 Draufsichten von flächenhellen Quellenfeldern gemäß zwei unterschiedlichen bevorzugten Aus­ führungsformen.

Zuerst unter Bezugnahme auf Fig. 1 ist mit dem Bezugszeichen 1 insgesamt eine Textverarbeitungseinrichtung bezeichnet, die ei­ nen Hauptkörper aufweist, der eine Tastatur 3 auf seiner Ober­ seite hat, und ein hochstehendes Anzeigeteil 5 hat, das auf den Hauptkörper 5 zum vereinfachten Lagern und Transportieren ge­ klappt werden kann.

Das klappbare Anzeigeteil 5 ist in Form einer dünnen und brei­ ten Platte verwirklicht, die eine Dicke von etwa 1 cm oder ein Drittel von jener aller bisher vorhandenen ähnlichen Anzeige­ einrichtungen hat, bei denen diese Dicke sich normalerweise der Größe von 3 cm nähert. Das Anzeigeteil 5 hat eine Anzeigeflä­ che 7, die von einem Flüssigkristallfeld 9 gebildet wird, das durch eine transparente Schutzplatte 8 geschützt ist.

Auf der Rückseite des Flüssigkristallfeldes 9 des klappbaren Anzeigeteils 5 ist eine flächenhelle Quelleneinrichtung 10 angeordnet.

Diese flächenhelle Quelleneinrichtung 10 weist eine transpa­ rente unregelmäßige Reflexionsplatte 11, die aus einer milchi­ gen, weißen Polyesterfolie besteht, ein flächenhelles Quellen­ feld 12 und eine Reflexionsrückplatte 13 auf, die auch aus ei­ ner milchig weißen Polyesterfolie hergestellt ist, wobei diese Teile in Form von mehreren Lagen, ausgehend von der Vordersei­ te angeordnet sind. Die Einrichtung 10 weist auch eine Licht­ quelle 14 auf, die von einer fluoreszierenden Lampe gebildet wird, die an dem Boden der Einrichtung angeordnet ist, und sie weist ein endseitiges Reflektorteil 15 auf, das aus einem wei­ ßen Band hergestellt ist und die drei Kanten des flächenhellen Quellenfeldes 12, abgesehen von der Kante umgibt, an der die Lichtquelle 14 angeordnet ist.

Die Lichtquelle 14, die von der fluoreszierenden Lampe gebil­ det wird, ist bei dieser bevorzugten Ausführungsform in Form einer sogenannten zylindrischen Schlitzröhre verwirklicht, die einen in Längsrichtung verlaufenden, durchlässigen Schlitz­ bereich hat, welcher dem flächenhellen Quellenfeld 12 gegen­ überliegend angeordnet ist, und der restliche Bereich ist mit­ tels eines nicht-reflektierenden Materials an der Innenseite oder Außenseite abgedeckt, um möglichst viel Licht aus das flä­ chenhelle Quellenfeld zu richten.

Das flächenhelle Quellenfeld 12 erhält man unter Verwendung eines transparenten Substrats 16 aus einem transparenten Acrylharz mit Quer- und Längsabmessungen von 130 × 240 mm und einer Dicke von 6 mm, dessen Rückseite mit einer unregelmä­ ßigen Reflexionsschicht 17 beschichtet ist, welche in dichten Maschen vorgesehen ist.

Die unregelmäßige Reflexionsschicht 17 weist ein paralleles Musterteil 18 und ein regulierendes Musterteil 19 auf, wo­ bei das parallele Musterteil 18 die gesamte unregelmäßige Re­ flexionsschicht 17, abgesehen von dem Teil bedeckt, die von dem regulierenden Musterteil 18 eingenommen wird, und das auch derart ausgebildet ist, daß das Flächenverhältnis gleichmäßig im Abstand von der Lichtquelle in eine Richtung parallel zur Querfläche der Schicht 17 zunimmt. Bei dieser bevorzugten Aus­ führungsform wird die gleichmäßige Zunahme des Flächenverhält­ nisses an einer Stelle am größten, die geringfügig in Richtung zu dem oberen Endreflektorteil 15, ausgehend von der Mitte des flächenhellen Quellenfeldes 12 zwischen der Lichtquelle 14 und dem oberen Reflexionsteil 15, verschoben ist, um eine Gleichmä­ ßigkeit des parallelen Musterteils 18 dadurch sicherzustellen, daß verhindert wird, daß der Bereich in der Nähe des Endreflek­ torteils 15, das von der Lichtquelle am weitesten entfernt liegt, eine zu große spezifische Helligkeit infolge des Lichts erhält, das durch das Endreflektorteil 15 reflektiert wird.

Andererseits ist das regulierende Musterteil 19 derart ausgebil­ det, daß es eine hügelförmige Kontur hat, die von dem Bodenrand der unregelmäßigen Reflexionsschicht 17 ausgeht, die der Licht­ quelle 14 zugewandt ist, und die von dem parallelen Musterteil 18 umgeben wird, um das Flächenverhältnis des Teils des paral­ lelen Musterteils 18 weiter zu reduzieren, das das regulierende Musterteil 19 umgibt.

Das Herabsetzen des Flächenverhältnisses des regulierenden Mu­ sterteils 19 stellt sich zweckmäßigerweise zwischen einigen Prozenten und 15% ein. Das Flächenverhältnis relativ zu dem um­ gebenden parallelen Musterteil 18 nimmt zweckmäßigerweise ste­ tig zu. Wenn dies der Fall ist, ist die Zunahme des Flächenver­ hältnisses visuell praktisch von der Außenseite des flächen­ hellen Quellenfeldes 12 her nicht wahrnehmbar.

Obgleich eine unregelmäßige Reflexionsschicht 17, die ein pa­ ralleles Musterteil 18 und ein regulierendes Musterteil hat, mit Hilfe der Siebdrucktechnik hergestellt werden kann, die in der japanischen Patentanmeldung No. 63-2 08 670 von den Er­ findern der vorliegenden Erfindung angegeben ist, oder mittels eines weiß bedruckten Filmes oder unter Einsatz einer bekannten Schockblastechnik hergestellt werden kann, wird es bevorzugt, diese unregelmäßige Reflexionsschicht entweder mittels Sieb­ drucktechnik oder durch Anwenden eines Filmes herzustellen, da diese beiden Methoden eine hohe Präzision sicherstellen und es sich bei der vorstehend beschriebenen Verfahrensweise um ei­ ne einfache und sichere Verfahrensweise handelt.

Wenn beispielsweise eine unregelmäßige Reflexionsschicht 17 mittels Siebdruck ausgebildet wird, läßt sich ein paralleles Musterteil 18 und ein regulierendes Musterteil 19 auf einem zweiten Negativfilm herstellen, indem man diesen einem ultra­ violetten Licht zur Projektion eines unregelmäßigen Refle­ xionsmusters aussetzt.

Fig. 3 der beigefügten Zeichnung zeigt eine photographische Vorrichtung 20 zur Herstellung eines zweiten Negativfilms 31. In Fig. 3 ist mit der Bezugsziffer 21 ein Lichtkasten, mit 22 eine Ausleuchtlampe, mit 23 eine milchig weiße Glasplatte für die unregelmäßige Reflexion an der oberen Seite des Lichtka­ stens 21, mit 24 ein Gestellrahmen, der auf seiner oberen Flä­ che eine transparente Glasplatte 25 trägt, und mit 26 eine Ka­ mera bezeichnet.

Die Bildaufnahmen unter Verwendung eines zweiten Negativfilms 31 werden mittels Photographie dadurch erhalten, daß ein Ne­ gativfilm 27, der ein Maschenmuster darauf hat und von Retra Japan erhältlich ist, und eine viereckige Diffusionsplatte 28, die aus einer milchig weißen Polyesterfolie besteht, in sehr vielen Lagen angeordnet werden.

Zum Zeitpunkt der Bildaufnahme wird zusätzlich eine weitere Diffusionsplatte 29, die aus einer milchig weißen Polyester­ folie hergestellt ist und mit einem ausgeschnittenen Bereich 30 versehen ist, welcher der Form des regulierenden Muster­ teils 19 entsprechend Fig. 4 entspricht, zusätzlich unter den Negativfilm 27 zwischen die transparente Glasplatte 25 und den Negativfilm 27 gelegt.

Da das parallele Muster auf dem Negativfilm 27 auf den zweiten Negativfilm mit Hilfe der Diffusionsplatte 29 kopiert wird, erreichen die Lichtstrahlen, die auf den ausgeschnittenen Be­ reich treffen, direkt den Negativfilm 27, während die Licht­ strahlen, die auf den restlichen, abgedeckten Bereich treffen, zu dem Negativfilm gelangen, nachdem sie durch die Diffusions­ platte 29 gegangen sind und daher geringfügig hinsichtlich ih­ rer Intensität abgeschwächt sind, so daß das Bildmuster auf den zweiten Negativfilm 31 aufgezeichnet wird.

Da die Intensität der durch den ausgenommenen Bereich 30 gehen­ den Lichtstrahl größer als jene der Strahlen von dem abgedeck­ ten Bereich ist, breiten sich die erstgenannten Strahlen, wenn sie hinter die Maschen des Negativfilms 27 gelangen, aus, um das Flächenverhältnis der jeweiligen Maschen bzw. Gitterteile zu reduzieren, wenn sie aufgezeichnet werden, so daß sowohl das parallele Musterteil 18 als auch das regulierende Musterteil 19 gleichzeitig auf dem zweiten Negativfilm aufgezeichnet werden.

Da die Diffusionsplatte 28 auf dem Negativfilm 27 gleichmäßig das Ausleuchtlicht streut und zugleich eine ungleichmäßige Ver­ teilung der Intensität des Ursprungslichtes beibehält, wird die Grenzlinie des ausgenommenen Bereiches 30 der unteren Dif­ fusionsplatte 29 verschwommen, so daß das parallele Musterteil 28 gleichmäßig in das regulierende Musterteil 19 übergeht.

Wenn andererseits der ausgenommene Bereich der unteren Diffu­ sionsplatte 29 durch eine transparente Platte ersetzt wird, kann man ein dazwischenliegendes, hell gefärbtes Abdeckteil zwischen dem ausgenommenen Teil oder die transparente Platte und dem Abdeckteil legen, um die Gleichmäßigkeit des Über­ gangs von dem parallelen Musterteil 18 zu dem regulierenden Musterteil 19 und umgekehrt zu verbessern.

Der Schritt des Siebdruckens unter Verwendung eines PVA-Films, der mit Hilfe des zweiten Negativfilms 31 belichtet wurde, kann auf dem transparenten Substrat 16 gemäß einer üblichen Methode unter Verwendung einer Tinte erfolgen, die in der japanischen Patentanmeldung No. 63-2 08 670 angegeben ist.

Eine flächenhelle Quelleneinrichtung 10, die eine erste bevor­ zugte Ausführungsform des flächenhellen Quellenfeldes 12 nach der Erfindung aufweist, kann in effektiver Weise jegliche Än­ derungen der spezifischen Helligkeit infolge der Konzentration des auftreffenden Lichtes, welche man bei üblichen ähnlichen Einrichtungen dieser Art beobachtet, eliminieren, und daher er­ hält man eine gleichmäßige und helle Hintergrundbeleuchtung eines Flüssigkristallfeldes 9 durch das von der Lichtquelle 14 einfallende Licht.

Fig. 6 der beigefügten Zeichnung zeigt eine bevorzugte Ausfüh­ rungsform des flächenhellen Quellenfeldes 32 gemäß einer zwei­ ten Ausführungsform nach der Erfindung. Ähnliche Teile wie bei der ersten beschriebenen bevorzugten Ausführungsform sind mit den gleichen Bezugszeichen versehen und diese bevorzugte Aus­ führungsform ist für eine Hintergrundbeleuchtung einer Flüssig­ kristall-Anzeigeeinrichtung bestimmt, die zwei Lichtquellen 14 hat, die an gegenüberliegenden Enden des Feldes angeordnet sind.

Wie bei der ersten bevorzugten Ausführungsform wird eine unre­ gelmäßige Reflexionsschicht 33 mit Hilfe der Siebdrucktechnik auf einem transparenten Substrat 16, abgesehen von den Rändern in der Nähe der jeweiligen Lichtquellen 14 ausgebildet. Die un­ regelmäßige Reflexionsschicht 33 weist ein paralleles Muster­ teil 34 mit Maschen auf, deren Flächenverhältnis allmählich mit dem Abstand von den Lichtquellen 14 längs der Oberfläche des Feldes zunimmt, wobei das maximale Flächenverhältnis im Bereich der Mitte zwischen den beiden Lichtquellen liegt, und zwei re­ gulierende Musterteile 35 auf, die in der Nähe und im wesent­ lichen parallel zu den jeweiligen Querrändern mit einem vermin­ derten Flächenverhältnis angeordnet sind. Die regulierenden Mu­ sterteile 35 werden unter Verwendung von Diffusionsplatten mit einer verschmälerten Breite an den beiden Querrändern gebildet, wenn der zweite Negativfilm mit Licht belichtet wird, während der Mittelbereich abgedeckt wird, so daß die beiden Querränder einer direkten Belichtung ausgesetzt sind. Ansonsten wird das flächenhelle Quellenfeld 32 auf genau die gleiche Weise wie bei der ersten bevorzugten Ausführungsform hergestellt, so daß wei­ tere Erläuterungen entfallen können.

Diese bevorzugte Ausführungsform des flächenhellen Quellenfel­ des 32 ist auch frei von jeglichen Änderungen der spezifischen Helligkeit, die man normalerweise feststellt, wenn eine unre­ gelmäßige Reflexionsschicht in der Nähe der Querränder des Fel­ des angeordnet ist, und somit wird eine gleichmäßige und helle Hintergrundbeleuchtung eines Flüssigkristallfeldes in zuver­ lässiger Weise erzielt.

Obgleich die voranstehend beschriebenen bevorzugten Ausführungs­ formen unter Verwendung von ein oder mehreren Diffusionsplatten verwirklicht werden, kann die unregelmäßige Reflexionsschicht, die ein paralleles Musterteil und ein regulierendes Musterteil aufweist, eines flächenhellen Quellenfeldes nach der Erfindung alternativ dadurch gebildet werden, daß man ein Muster mit Hilfe eines Rechners auslegt und modifiziert, das dann realisiert wird, wenn der Negativfilm erstellt wird. In diesem Fall sind dann natürlich die unteren Diffusionsplatten nicht erforder­ lich.

Obgleich ein flächenhelles Quellenfeld nach der Erfindung äußerst zweckmäßig als eine flächenhelle Quelleneinrichtung eingesetzt werden kann, bei welcher hohe Präzision und eine Gleichmäßigkeit einer Hintergrundausleuchtung mittels Flüssig­ kristall gefordert werden, kann sie auch als eine flächenhelle Quelleneinrichtung für Anzeigeeinrichtungen unter Verwendung von Positivfilmen und ein von hinten einfallendes Licht oder für Innen- oder Außendekorationen als eine Quelle für von hin­ ten einfallendes Licht oder dergleichen eingesetzt werden.

Bei diesen Anwendungsfällen können zwei oder mehr als zwei flä­ chenhelle Quellenfelder in einer mehrlagigen Struktur mit da­ zwischen angeordneten unregelmäßigen Reflexionsfolien/durch­ lässigen Folien eingesetzt werden. Ein flächenhelles Quellen­ feld nach der Erfindung kann in zuverlässiger Weise derartige Erfordernisse erfüllen. Darüber hinaus kann ein flächenhelles Quellenfeld nach der Erfindung als eine Quelle für ein von vor­ ne einfallendes Licht sowie eine Ausleuchtung für ein von hin­ ten einfallendes Licht genutzt werden. Ferner soll auch noch erwähnt werden, daß ein flächenhelles Quellenfeld nach der Er­ findung auch mit einer gekrümmten Fläche verwirklicht werden kann.

Wie sich aus der vorstehenden Beschreibung ergibt, ist das flä­ chenhelle Quellenfeld nach der Erfindung nicht auf die Einzel­ heiten der beschriebenen bevorzugten Ausführungsformen be­ schränkt und es können Änderungen im Zusammenhang mit dem pa­ rallelen Musterteil und dem regulierenden Musterteil oder den regulierenden Musterteilen im Hinblick auf die Abmessungen, die Anzahl, die Form, die Ausgestaltungsform und die Anwendungs­ form vorgenommen werden, ohne den Erfindungsgedanken zu ver­ lassen.

Ein flächenhelles Quellenfeld nach der Erfindung ist voll­ ständig frei von irgendwelchen unerwünschten verstärkten spe­ zifischen Helligkeiten bei einer flächenhellen Quelleneinrich­ tung in der Nähe der Lichtquelle, und es wird eine äußerst gleichmäßig verteilte spezifische Helligkeit in zuverlässiger Weise erreicht, so daß man auch strengste Anforderungen bei einer Hintergrundbeleuchtung für eine Flüssigkristall-Anzeige­ einrichtung erfüllen kann.

Claims (2)

1. Flächenhelles Quellenfeld mit einer unregelmäßigen Reflexionsschicht, die auf der Oberfläche eines transparen­ ten Substrats angeordnet ist, dadurch gekennzeich­ net, daß die Reflexionsschicht (17; 33) ein paralleles Musterteil (18; 34), das ein Flächenverhältnis hat, das gleich­ mäßig mit dem Abstand von einer Lichtquelle (14) längs der Oberfläche des Feldes (12; 32) zunimmt, und ein regulierendes Musterteil (19; 35) hat, das in der Nähe der Lichtquelle (14) liegt und teilweise von dem parallelen Musterteil (18; 34) um­ geben ist, und daß das regulierende Musterteil (19; 35) eine hügelförmige Kontur, ausgehend von dem Rand in der Nähe der Lichtquelle (14) und ein Flächenverhältnis hat, das gleich­ mäßig mit dem Abstand der Lichtquelle (14) abnimmt.

2. Flächenhelles Quellenfeld mit einer unregelmäßigen Reflexionsschicht (17; 33), die in der Nähe eines Querrandes eines transparenten Substrates (16) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die unregelmäßige Refle­ xionsschicht (17; 33) ein paralleles Musterteil (18; 34), das ein Flächenverhältnis hat, das gleichmäßig mit dem Abstand von einer Lichtquelle (14) längs der Oberfläche des Feldes (12; 32) zunimmt, und ein regulierendes Musterteil (19; 35) hat, das in der Nähe des Querrandes angeordnet ist, und eine paral­ lele oder hügelförmige Kontur hat, und daß das regulierende Musterteil (19; 35) ein vermindertes Flächenverhältnis hat.