DE4024600A1 - Elektrochemische synthese von organosiliciumverbindungen - Google Patents
Elektrochemische synthese von organosiliciumverbindungenInfo
- Publication number
- DE4024600A1 DE4024600A1 DE4024600A DE4024600A DE4024600A1 DE 4024600 A1 DE4024600 A1 DE 4024600A1 DE 4024600 A DE4024600 A DE 4024600A DE 4024600 A DE4024600 A DE 4024600A DE 4024600 A1 DE4024600 A1 DE 4024600A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- compound
- groups
- atoms
- group
- value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 11
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 title claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 46
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 4
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 3
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910000971 Silver steel Inorganic materials 0.000 claims 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229920003257 polycarbosilane Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 abstract description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 abstract 1
- -1 organogermanium compound Chemical class 0.000 description 36
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 12
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 8
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 7
- ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N chloro-(chloromethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCl ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCl OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 5
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 5
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- SWSOIFQIPTXLOI-HNQUOIGGSA-N (e)-1,4-dichlorobut-1-ene Chemical compound ClCC\C=C\Cl SWSOIFQIPTXLOI-HNQUOIGGSA-N 0.000 description 1
- ICSWLKDKQBNKAY-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3,5,5-hexamethyl-1,3,5-trisilinane Chemical compound C[Si]1(C)C[Si](C)(C)C[Si](C)(C)C1 ICSWLKDKQBNKAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKDNLUGVHCNUTB-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-disiletane Chemical compound C[Si]1(C)C[Si](C)(C)C1 JKDNLUGVHCNUTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COSWCAGTKRUTQV-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-trimethylurea Chemical compound CNC(=O)N(C)C COSWCAGTKRUTQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PASYEMKYRSIVTP-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichlorosiletane Chemical compound Cl[Si]1(Cl)CCC1 PASYEMKYRSIVTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQQFFTNDQFUNHB-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylsiletane Chemical compound C[Si]1(C)CCC1 YQQFFTNDQFUNHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGGHNGKHRCJLL-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1CCl FMGGHNGKHRCJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWTUEMKLYAGTNQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethene Chemical group BrC=CBr UWTUEMKLYAGTNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVTRVYIELYPWQM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4-tetramethylsiletane Chemical compound CC1(CC([SiH2]1)(C)C)C QVTRVYIELYPWQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYTGRMZNKJWWBE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenyl(dimethyl)silane Chemical compound BrC(=C[SiH](C)C)Br NYTGRMZNKJWWBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)-n,n-bis[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]ethanamine Chemical compound COCCOCCN(CCOCCOC)CCOCCOC XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BFLIHMZBIRUXDK-UHFFFAOYSA-N 2-trichlorosilylacetic acid Chemical compound OC(=O)C[Si](Cl)(Cl)Cl BFLIHMZBIRUXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIFBMBZYGZSWQE-UHFFFAOYSA-N 4-[dichloro(methyl)silyl]butanenitrile Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCC#N UIFBMBZYGZSWQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKFFSWPNFCXGIQ-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;tetraethylazanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 QKFFSWPNFCXGIQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016467 AlCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- UFGHYRMVKCEZHO-UHFFFAOYSA-N C[SiH]([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C Chemical compound C[SiH]([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C UFGHYRMVKCEZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000267722 Genidens Species 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N Trichloro(chloromethyl)silane Chemical compound ClC[Si](Cl)(Cl)Cl FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006621 Wurtz reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- XRBZWUQAUXLFDY-UHFFFAOYSA-N benzyl(dichloro)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)CC1=CC=CC=C1 XRBZWUQAUXLFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWAXDPWQPGZNIO-UHFFFAOYSA-N benzylsilane Chemical class [SiH3]CC1=CC=CC=C1 UWAXDPWQPGZNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006278 bromobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- GRADOOOISCPIDG-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diyne Chemical group [C]#CC#C GRADOOOISCPIDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LOZIVUPXZAKVDI-UHFFFAOYSA-N butyl-(chloromethyl)-dimethylsilane Chemical compound CCCC[Si](C)(C)CCl LOZIVUPXZAKVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- BWROMPNXPAWQEP-UHFFFAOYSA-N chloro(chloromethyl)silane Chemical class ClC[SiH2]Cl BWROMPNXPAWQEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNCMJXWEXABNHN-UHFFFAOYSA-N chloro(dichloromethyl)silane Chemical compound Cl[SiH2]C(Cl)Cl UNCMJXWEXABNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJPCYQFRJQEXSL-UHFFFAOYSA-N chloro(trichloromethyl)silane Chemical compound Cl[SiH2]C(Cl)(Cl)Cl HJPCYQFRJQEXSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJLJNLUARMMMLW-UHFFFAOYSA-N chloro-(3-chloropropyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCCCl BJLJNLUARMMMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXDJZYHLNMELOZ-UHFFFAOYSA-N chloro-(dichloromethyl)-methylsilane Chemical compound C[SiH](C(Cl)Cl)Cl WXDJZYHLNMELOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXVPUKPVLPTVCQ-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(C)Cl HXVPUKPVLPTVCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJZNZOXALZKPEA-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(C)C1=CC=CC=C1 OJZNZOXALZKPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002484 cyclic voltammetry Methods 0.000 description 1
- JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N dichloro-(chloromethyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCl JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWADKGYQSVGONA-UHFFFAOYSA-N dichloromethyl(dimethyl)silane Chemical compound C[SiH](C)C(Cl)Cl CWADKGYQSVGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N dichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)Cl UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000000262 haloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000006410 propenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004354 sulfur functional group Chemical group 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- FQDIANVAWVHZIR-OWOJBTEDSA-N trans-1,4-Dichlorobutene Chemical compound ClC\C=C\CCl FQDIANVAWVHZIR-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-chloropropyl)silane Chemical compound ClCCC[Si](Cl)(Cl)Cl OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZHYQYMXVMIXEP-UHFFFAOYSA-N trimethyl(4-trimethylsilylbut-1-enyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCC=C[Si](C)(C)C SZHYQYMXVMIXEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000009482 yaws Diseases 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0825—Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
- C07F7/0827—Syntheses with formation of a Si-C bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0801—General processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/122—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/127—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions not affecting the linkages to the silicon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B3/00—Electrolytic production of organic compounds
- C25B3/20—Processes
- C25B3/25—Reduction
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein elektrochemisches Verfahren zur
Synthese von Organosiliciumverbindungen, insbesondere von
Polycarbosilanverbindungen.
Der Ausdruck Organosiliciumverbindungen, wie er hier verwen
det wird, bezeichnet solche Verbindungen, in denen mindestens
eine organische Gruppe an ein Siliciumatom über eine Si-C-
Bindung gebunden ist. Diese Verbindungen schließen Silane
ein, die ein Siliciumatom haben und mindestens einen organi
schen Substituenten, der an das Siliciumatom über eine Sili
cium-Kohlenstoff-Bindung gebunden ist, und Carbosilanverbin
dungen, die mindestens zwei Silicumatome aufweisen, die über
eine Gruppe R verbunden sind, die eine divalente Kohlenstoff-
oder Kohlenwasserstoffgruppe bezeichnet, die substituiert
sein kann, die jeweils an ein Siliciumatom über eine Si-C-
Bindung gebunden ist. Diese Carbosilane schließen Silane der
allgemeinen Formel -Si-R-Si- und Polycarbosilane mit minde
stens zwei Einheiten der allgemeinen Struktur -(R-Si)-, worin
R wie oben definiert ist, ein.
Die Bildung von Si-C und Si-CH2-Si-Bindungen wird üblicher
weise über Grignard- oder Wurtzreaktionen erhalten unter Ver
wendung von Metallen, wie Magnesium, Natrium und Lithium.
Diese Verfahren sind kompliziert und teuer und erfordern den
Schutz jeglicher zusätzlicher funktioneller Gruppen, die an
den Reagenzien vorhanden sein können.
Elektrochemische Synthese ist bekannt und wird in der organi
schen Chemie seit einiger Zeit verwendet. Kürzlich wurde ge
zeigt, daß die Silylierung bestimmter Verbindungen mit Tri
methylchlorsilan über elektrochemische Synthese möglich ist.
Shono et al (Chem. Letters 1985, Seiten 463 bis 466) zeigten,
daß die elektrochemische Reduktion von Benzyl- und Allylhalo
geniden in Gegenwart von Trimethylchlorsilan die entsprechen
den Benzylsilane und Allylsilane ergibt. Sie zeigen auch die
Elektroreduktion von 1,4-Dichlorbuten unter Bildung von
1,4-bis(Trimethylsilyl)buten. P. Pons et al (J. Organo
metallic Chemistry 1988, Seiten 31 bis 37) offenbaren die
Elektroreduktion von Tetrachlorkohlenstoff, Chloroform und
Methylenchlorid mit Trimethylchlorsilan unter Bildung der
entsprechenden trimethylsilylsubstituierten Verbindungen in
Gegenwart einer Opferelektrode. Sie erläutern auch die Elek
troreduktion von Trimethylchlormethylsilan mit Trimethyl
chlorsilan, um Hexamethylsilmethylen zu erhalten.
Es wurde nun gefunden, daß es möglich ist, die elektrochemi
sche Synthese für die Herstellung von Organosilicumverbindun
gen, wie sie oben definiert wurden, zu verwenden, indem man
Dihalogensilane, Trihalogensilane, Tetrahalogensilane oder
Halogencarbohalogensilane verwendet.
Erfindungsgemäß wird ein Verfahren zur Herstellung von
Organosilicumverbindungen, die mindestens eine silicumgebun
dene organische Gruppe, die an das Silicumatom über eine
Si-C-Bindung gebunden ist, aufweist, durch Elektroreduktion
einer Verbindung (I), die einen Substituenten der allgemeinen
Formel -RX aufweist, worin R eine divalente Kohlenstoff- oder
Kohlenwasserstoffverbindung, die substituiert sein kann, be
zeichnet und X ein Halogenatom ist, in Gegenwart von (II)
eines Silans der allgemeinen Formel R′4-a-bSiXa(RX)b,
worin R′ ausgewählt ist aus Wasserstoff, Kohlenwasserstoff
gruppen, Gruppen, die H-, C- und O-Atome, S-Atome und/oder
P-Atome enthalten, und Gruppen, die aus C-, H- und N-Atomen
und gegebenenfalls O-Atomen bestehen, worin N nicht Teil
einer Aminogruppe ist, X und R wie oben definiert sind, a
einen Wert von 1, 2, 3 oder 4 hat, b einen Wert von 0, 1, 2
oder 3 hat und a + b einen Wert von 2, 3 oder 4 hat, zur Ver
fügung gestellt.
Die Verbindung (I) zur Verwendung in dem erfindungsgemäßen
Verfahren kann jede Verbindung sein, die ein halogensubsti
tuiertes Kohlenstoffatom aufweist. Das Halogenatom ist vor
zugsweise Chlor, Brom oder Iod, wobei letzteres am reaktiv
sten ist. Aus Gründen der Verfügbarkeit und aus Kostengrün
den sind jedoch Chlor und Brom bevorzugt. Das Halogenatom ist
an eine Verbindung gebunden, die rein organisch sein kann
oder die eine Verbindung sein kann, die sowohl organische als
auch anorganische Anteile aufweist, z. B. eine Organosilici
umverbindung oder eine Organogermaniumverbindung. Die Gruppe
R, an die das Halogenatom gebunden ist, ist eine divalente
Kohlenstoff- oder Kohlenwasserstoffgruppe, die substituiert
sein kann. Kohlenstoffgruppen schließen z. B. Acetylen und
1,3-Butadiynylen ein. Kohlenwasserstoff-R-Gruppen können von
Methylengruppen bis sehr großen Kohlenwasserstoffgruppen
variieren. Diese können gesättigte Alkylengruppen sein, z. B.
Ethylen, Isopropylen, Hexylen und Octadecylen, ungesättigte
aliphatische Gruppen, z. B. Alkenylen oder Alkynylen, z. B.
Vinylen, Propenylen, Butadienylen, Hexynylen, Propynylen und
1,4-Octadecenylen, aromatische Gruppen, z. B. Phenylen,
Benzylen, Tolylen und Phenylethylen. Substituierte Kohlen
wasserstoffgruppen sind solche, in denen die Kohlenstoff
atome einen oder mehrere Substituenten aufweisen, wobei der
Substituent jede Gruppe sein kann, die nicht mit den Halogen
gruppen der Verbindung (II) unter Reaktionsbedingungen rea
giert. Solche Substituenten schließen Fluor, Cyanogruppen,
Nitrogruppen, Oxyethylengruppen, Silylgruppen, Siloxangrup
pen und Carbosilylgruppen ein. Beispiele solcher substituier
ten Kohlenwasserstoffgruppen schließen Hexafluorpropylen,
Oxyethylen, oxypropylensubstituierte Gruppen, acetylsubsti
tuierte Gruppen, ethersubstituierte Gruppen und estersubsti
tuierte Gruppen ein. Es ist bevorzugt, daß die Gruppe R ein
aromatisch ungesättigter, aliphatisch ungesättigter oder ali
phatisch gesättigter Kohlenwasserstoffrest ist, z. B. Ben
zylen, Propenylen, Isopentylen, Butylen, Propylen, Ethylen
oder Phenylen. Am meisten bevorzugt sind Methylen und Viny
len. Die Gruppe R kann an der anderen Seite an irgendein
Atom oder irgendeine Gruppe gebunden sein. Dies schließt
Wasserstoffatome, Kohlenwasserstoffgruppen, Organosilicium
gruppen, organofunktionelle Gruppen, z.B. Schwefel enthal
tende Gruppen, Phosphor enthaltende Gruppen und sogar Halo
genatome ein. Vorzugsweise ist die Gruppe R an der anderen
Seite der X-Gruppe an ein Wasserstoffatom oder ein Halogen
atom gebunden. Beispiele der Verbindung (I) schließen Kohlen
wasserstoffhalogenide, z.B. Methylhalogenide, z.B. Methyl
chlorid, Dichlormethan, Benzylhalogenide, z.B. Benzyl
chlorid, Phenylhalogenide, Vinylhalogenide, 1,4-Dichlor-2-
buten, Dibromethylen, 1,2-bis-Chlormethylbenzol, Silane, z.
B. Trimethylchlormethylsilan, Dimethylchlormethylchlorsilan,
Siloxane, z.B. solche, die mindestens eine Einheit der all
gemeinen Formel
aufweisen, worin R′ wie oben definiert ist, aber vorzugswei
se Wasserstoff, ein Kohlenwasserstoffrest, z. B. Alkyl, Aryl,
Alkenyl oder Alkaryl, oder eine Gruppe, die C-, H- und gege
benenfalls N- oder O-Atome enthält, ist, x einen Wert von 0, 1
oder 2 hat, y einen Wert von 1, 2 oder 3 hat und x+y nicht
mehr als 3 ist, wobei weitere Einheiten, wenn vorhanden, die
Durchschnittsformel
haben, worin R′ wie oben definiert ist und z einen Wert von
0, 1, 2 oder 3 hat, oder solche, die mindestens eine Einheit
der allgemeinen Formel
aufweisen, worin R, R′, x und y wie oben definiert sind, ein.
Bevorzugt werden Siloxane vermieden, da es schwierig ist,
die Art des Reaktionsproduktes zu kontrollieren.
Die Verbindung (II) zur Verwendung in dem erfindungsgemäßen
Verfahren ist ein Silan, das mindestens zwei Halogen enthal
tende Substituenten aufweist, von denen mindestens einer ein
silicumgebundenes Halogenatom ist. Iod ist das reaktivste
Halogen, aber aus Gründen der Verfügbarkeit und aus Kosten
gründen sind Chlor und Brom bevorzugt. Nicht silicumgebunde
ne Halogenatome sind an das Siliciumatom über eine Gruppe R,
die wie oben für Verbindung (I) definiert ist, gebunden. Bei
spiele dieser Halogen enthaltenden Substituenten sind Halo
genalkyl-, z.B. Chlormethyl-, Chlorisopropyl-, Bromheptyl-,
Halogenalkenyl-, z.B. Chlorvinyl-, Brompropenyl-, Halogen
arylgruppen, z.B. Chlorphenyl- und Brombenzylgruppen. Nicht
Halogen enthaltende Substituenten R′ schließen, wenn vorhan
den, Wasserstoff, Kohlenwasserstoffgruppen, z.B. Alkyl,
Aryl, Alkaryl, Aralkyl, Alkenyl, Alkynyl, Gruppen, die C-, H-
und O-Atome enthalten, z.B. Carboxylgruppen enthaltende Sub
stituenten, C=O enthaltende Gruppen, Aldehyd enthaltende
Gruppen und Epoxy enthaltende Gruppen, Ether enthaltende
Gruppen, Schwefel enthaltende Gruppen oder Gruppen, die C-,
H- und N-Atome enthalten, worin N nicht Teil einer Amino
gruppe ist, z.B. Cyanogruppen enthaltende Substituenten und
NO2 enthaltende Substituenten ein. Beispiele solcher Grup
pen sind Methyl, Ethyl, Propyl, Phenyl, Phenylethyl, Tolyl,
Vinyl, Allyl, Hexenyl, Ethynyl, Butadiynyl, Stearyl, Lauryl,
Ethoxy, Methoxy, Polyoxyethyl und Benzyl. Vorzugsweise ist R′
Wasserstoff, Alkyl oder Aryl, am meisten bevorzugt Methyl
oder Phenyl. Es ist bevorzugt, daß der Wert von a+b=2,
wobei dann zwei R′-Gruppen, die unabhängig einen Substituen
ten, wie oben beschrieben, bezeichnen, vorhanden sind. Die
Werte für a und b sind vorzugsweise entweder 1 und 1 bzw. 2
und 0. Beispiele von Verbindungen (II) schließen Dimethyldi
chlorsilan, Dimethylchlormethylchlorsilan, Methyltrichlor
silan, Carboxymethyltrichlorsilan, Phenylmethyldichlorsilan,
Diphenyldichlorsilan, Methylcyanopropyldichlorsilan, Methyl
dichlorsilan, Dichlorsilan, Methyl-bis(chlormethyl)chlorsilan
und Methylglycidoxypropychlormethylchlorsilan ein.
Abhängig davon, welche Organosiliciumverbindung man syntheti
sieren möchte, sollten bestimmte Arten der Verbindungen (I)
und (II) ausgewählt werden. Zusätzliche Verbindungen können
auch zugegeben werden. Organosilicumverbindungen, die durch
das erfindungsgemäße Verfahren hergestellt werden können,
schließen Silane ein. Silane werden gebildet, wenn (I) eine
reine organische Verbindung ist, die kein Siliciumatom in
ihrer Struktur hat, und wenn nur eine -RX-Gruppe in (I) vor
handen ist oder, wenn mehr als eine -RX-Gruppe in (I) vorhan
den ist, nur eine solche Menge an (II) zur Verfügung gestellt
wird, daß die Reaktion nur mit einer -RX-Gruppe von (I)
stattfindet. Entstehende Silane schließen z. B. Methyltri
chlorsilan, Dimethyldichlorsilan, Trimethylchlorsilan, Tetra
methylsilan, Chlormethyltrimethylsilan, Chlormethyldimethyl
butylsilan, Dibromvinyldimethylsilan und viele andere ein.
Carbosilane, wie sie oben definiert wurden, können geliefert
werden durch die elektrochemische Reaktion einer Verbindung
(I) mit mehr als einer -RX-Gruppe oder einer Verbindung I der
Formel XRX mit einer genügenden Menge der Verbindung (II), um
mit mindestens zwei dieser -RX-Gruppen oder X-Atomen, die an
R gebunden sind, zu reagieren, oder Bereitstellung von einer
genügenden Menge der Verbindung (I) mit nur einer -RX-Gruppe
und einer Verbindung (II), die mehr als ein siliciumgebunde
nes Halogenatom aufweist, oder die Bereitstellung bestimmter
Silicium enthaltender Verbindungen (I), z. B. solche, die
eine -RX-Gruppe und eine SiX-Gruppe haben, zur Reaktion mit
einer Verbindung (II), die die gleiche sein kann. Als allge
meine Regel wird der Wert von a+b in Verbindung (II) in den
meisten Fällen den allgemeinen Charakter des hergestellten
Carbosilans bestimmen. Wenn a+b 2 ist, wird die Verwendung
einer solchen Verbindung (II) die Kettenlänge der hergestell
ten Organosilicumverbindung verlängern, wogegen dann, wenn
a+b einen Wert von 3 oder 4 hat, ein gewisser Anteil an Ver
zweigung in die Organosilicumverbindung eingeführt wird, was
in manchen Fällen zu einer dreidimensionalen Struktur führt.
Eine Mischung von Verbindung (II), worin a+b 2 ist, und einer
Verbindung (II), worin a+b 3 oder 4 ist, kann zu im wesent
lichen linearen Carbosilanen mit geringer Verzweigung führen,
wogegen ein Anheben der Menge der Verbindung (II) mit einem
Wert von 3 oder 4 den Anteil an Verzweigung erhöht, was ge
gebenenfalls zu einem harzartigen Carbosilanreaktionsprodukt
führt.
Abhängig von der Art der gewünschten Carbosilanverbindung,
kann jeweils eine Art jeder Verbindung (I) und (II) mitein
ander umgesetzt werden oder eine Mischung verschiedener Arten
der Verbindung (I) und/oder Verbindungen (II) kann miteinan
der umgesetzt werden. Es ist auch möglich, dasselbe Reagenz
für Verbindung (I) und Verbindung (II) zu verwenden, z.B.
ein Silan mit einem oder mehreren siliciumgebundenen Halogen
atomen und einer oder mehreren Gruppen -RX. Z.B. fallen
Chlormethylchlorsilane unter die Definition beider Verbindun
gen (I) und (II) und können miteinander reagieren. Solche
Reaktionen führen zur Bildung eines Polycarbosilans mit sich
wiederholenden Einheiten der Formel
-[Si(R′)₂CH₂]-.
Diese Verbindungen können linear oder cyclisch sein oder eine
Mischung von linearen und cyclischen Organosiliciumverbindun
gen. Wenn lineare Polycarbosilane gewünscht sind, kann es be
vorzugt sein, andere Verbindungen zuzugeben, z.B. end
blockierende Verbindungen, die Silane der Formel R′3SiX
sein können, worin R′ und X wie oben definiert sind. Z. B.
sollten die Reagenzien, um ein lineares Polymer der allgemeinen
Formel
R′[Si(R′)₂-R]mSiR′₃
zu erhalten, sowohl Verbindungen
(I) und (II) als auch ein Silan der allgemeinen
Formel R′3SiX in genügender Menge, um als Endblocker eines
Polymers der gewünschten Kettenlänge zu dienen, einschließen.
Es ist jedoch bevorzugt, relativ kleine Moleküle herzustel
len, z.B. Polycarbosilane mit 2 oder 3 Silicumatomen, die
dann als Vorläufer für Materialien mit höherem Molekularge
wicht unter Verwendung z.B. üblicher Polymerisationstechni
ken verwendet werden können.
Die Reaktion kann auf jedem üblichen Weg durchgeführt werden
unter Verwendung einer Zelle mit einer Kathode und einer
Anode. Die Zelle kann eine Einzelkammerzelle sein, aber es
ist bevorzugt, zwei Kammern zu haben, die durch eine Membran
getrennt sind, z.B. eine gesinterte Scheibe. Die Zelle wird
mit einem Potentiostaten und/oder einem Galvanostaten ver
sehen, um das Potential oder die Intensität des Stroms zu
regeln. Die Elektroden, die verwendet werden können als
Kathode oder Arbeitselektrode sind vorzugsweise aus einem
inerten Metall, wie Gold, Silber oder Platin, am meisten be
vorzugt aus Silber oder aus einem anderen Metall oder einer
Legierung, die ziemlich inert ist, z.B. rostfreier Stahl,
wogegen die Gegenelektrode (Anode) entweder inert ist oder zu
einem gewissen Ausmaß eine Opferelektrode sein kann. Die Aus
wahl der Gegenelektrode hängt manchmal von der gewünschten
Reaktion ab. In bestimmten Fällen ist eine relativ inerte Ge
genelektrode bevorzugt, wogegen in anderen Fällen eine Opfer
elektrode besser arbeitet. Geeignete Metalle für die Herstel
lung der Gegenelektrode schließen z.B. C, Al, Pt, Ni, Zn und
Mg ein, wobei C insbesondere als inerte Elektrode bevorzugt
ist und Al als Opferelektrode besonders bevorzugt ist.
Es ist bevorzugt, ein Komplexierungsmittel zusammen mit einer
Opfer-Al-Elektrode zu verwenden. Die Verwendung von Kom
plexierungsmitteln wirkt der katalytischen Aktivität der ge
bildeten Lewissäuren entgegen. Lewissäuren, z. B. AlCl3,
sind bekannte Katalysatoren für die Ringöffnung z.B. von
Tetramethylsilacyclobutan und sogar Tetrahydrofuran, das als
Lösungsmittel für das erfindungsgemäße Verfahren geeignet
ist. Geeignete Komplexierungsmittel sind dem Fachmann bekannt
und schließen tris(Dioxa-3,6-heptyl)amin und Hexamethyl
phosphoramid ein.
Die Zelle wird mit einer Lösung eines Elektrolyten gefüllt,
der irgendeiner sein kann, der im Handel erhältlich ist und
in dem Lösungsmittel, das für die Reagenzien verwendet wird,
löslich ist. Diese Elektrolyten sind Salze der allgemeinen
Formel M⁺Y⁻, worin M z.B. für Li, Na, NBu4, NMe4,
NEt4 steht, und Y z.B. ClO4, Cl, Br, I, NO3, BF4,
AsF6, BPh4, PF6, AlCl4, CF3SO3 und SCN bedeutet,
worin Bu, Me, Et bzw. Ph eine Butyl-, Methyl-, Ethyl- bzw.
Phenylgruppe bezeichnet. Beispiele geeigneter Elektrolyte
schließen Tetraethylammonium p-Toluolsulfonsäure, Tetra
butylammoniumhexafluorphosphat, Tetrabutylammoniumbromid,
Tetraethylammoniumtetrafluorborat, Lithiumchlorid und Magne
siumchlorid ein.
Üblicherweise werden Lösungsmittel angewendet, die sowohl die
Reagenzien als auch die Elektrolyten lösen. Geeignete Lö
sungsmittel sind solche, in denen das Reagenz zumindest teil
weise unter den Betriebsbedingungen bezüglich Konzentration
und Temperatur löslich ist. Sie schließen Tetrahydrofuran,
Acetonitril, γ -Butyrolacton, Dimethoxyethan mit Nitromethan,
1,3-Dioxolan, flüssiges SO2, Trimethylharnstoff und Di
methylformamid ein. Die elektrochemische Reaktion kann ausge
führt werden, indem die Intensität konstant auf einem vorbe
stimmten Level gehalten wird oder indem ein konstantes Poten
tial aufrechterhalten wird, das durch cyclische Voltametrie
bestimmt wurde. Elektrochemische Standardtechniken sind für
das erfindungsgemäße Verfahren anwendbar.
Es folgt nun eine Anzahl von Beispielen, die die Erfindung
erläutern, in denen alle Teile und Prozentangaben in Gewicht
ausgedrückt sind, wenn nicht anders angegeben.
Eine Einkammerzelle, die mit einem Stickstoffeinlaß, einer
Rührvorrichtung und einem Luftkühlungssystem ausgestattet
war, wurde mit 50 ml einer 0,2 molaren Lösung von Tetra
butylammoniumhexafluorphosphat in Tetrahydrofuran und 8,5 g
Chlormethyldimethylchlorsilan gefüllt. Eine konstante Strom
dichte von 125 mA wurde über einen Galvanostat/Potentiostat
unter Verwendung einer Aluminiumfolie als Anode und Silber
draht als Kathode zugeführt. Der Strom wurde über einen Zeit
raum von 22 Stunden eingesetzt, um 1,9 Faraday pro Mol
ClCH2 anzuwenden. Eine Reaktionsproduktmischung wurde er
halten, die durch Gaschromatographie/Massenspektrometrie
analysiert wurde, und es wurde gefunden, daß sie aus aus etwa
50% cyclischen Verbindungen bestand, von denen etwa 65% die
Formel
[(CH₃)₂Si-CH₂]₂
hatten, etwa 35% die Formel
hatten, etwa 35% die Formel
[(CH₃)₂Si-CH₂]₃
hatten, und etwa 50% linearer Verbindungen
der Formel
ClCH₂Si(CH₃)₂-[CH₂Si(CH₃)₂]nCl,
worin bei 84% der Wert für n=3 war, jeweils etwa 5 bis 8%
Verbindungen, worin n den Wert 2, 4 und 5 hatte, und Spuren
der Verbindung, worin n den Wert 1 hatte.
Ein 250 ml Kolben war mit einer Stickstoffspülung, einem mag
netischen Rührer, einer Kondensier- und Luftkühlungsvorrich
tung ausgestattet. 100 ml einer 0,2 molaren Lösung von Tetra
butylammoniumhexafluorphosphat in Tetrahydrofuran und 15,4 g
3-Chlorpropyldimethylchlorsilan wurden zugegeben. Eine
elektrochemische Reaktion wurde ausgeführt unter Verwendung
eines Potentiostat/Galvanostat Modell 362. Die Kathode war
ein Silberdraht (5 cm lang und 0,25 mm im Durchmesser) und
die Anode waren 4 Aluminiumstreifen (3×5×0,01 cm). Ein
konstanter Strom wurde 25 Stunden lang bei einer Temperatur
von 23°C angewendet (was 2,5 Faraday pro Mol Silan ergab).
Die entstehende Reaktionsmischung wurde durch Gaschromato
graphie/Massenspektrometrie analysiert. 83,7% war 1,1-Di
methyl-1-silacyclobutan, 8,1% war unreagiertes 3-Chlorpro
pyldimethylchlorsilan und 7,9% war Propyldimethylchlorsilan.
Ein 250 ml Kolben war mit einer Stickstoffspülung, einem mag
netischen Rührer, einer Kondensier- und Luftkühlungsvorrich
tung ausgestattet. 150 ml einer 0,2 molaren Lösung von Tetra
butylammoniumhexafluorphosphat in Tetrahydrofuran und 25,5 g
Chlormethyldimethylchlorsilan wurden zugegeben. Eine elektro
chemische Reaktion wurde wie im vorherigen Beispiel durchge
führt mit der Ausnahme, daß 2,8 Faraday pro Mol Silan bei
einer Temperatur von 30°C angewendet wurden. Die entstehende
Reaktionsmischung wurde wie oben analysiert. 62,6% war
1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-disilacylobutan und 31,4% war
1,1,3,3,5,5-Hexamethyl-1,3,5-trisilacyclohexan.
Ein 250 ml Kolben war mit einer Stickstoffspülung, einem
magnetischen Rührer, einer Kondensier- und Luftkühlungsvor
richtung ausgestattet. 100 ml einer 0,2 molaren Lösung von
Tetrabutylammoniumhexafluorphosphat in Tetrahydrofuran und
5,24 g α,α,o-Dichlorxylol und 4 g Dichlordimethylsilan wurden
zugegeben. Eine elektrochemische Reaktion wurde durchgeführt
wie im vorherigen Beispiel mit der Ausnahme, daß 4,8 Faraday
pro Mol o-Dichlorxylol angewendet wurden. Die entstehende
Reaktionsmischung wurde in Wasser gewaschen, mit Diethylether
extrahiert, getrocknet und wie oben analysiert. 65% hatte
die Formel
Ein 250 ml Kolben war ausgerüstet mit einer Stickstoffspü
lung, einem Magnetrührer, einer Kondensier- und Luftküh
lungsvorrichtung. 100 ml einer 0,2 molaren Lösung von Tetra
butylammoniumhexafluorphosphat in Tetrahydrofuran, 3,70 g
cis-Dichlorbuten und 4 g Dichlordimethylsilan wurden zugege
ben. Eine elektrochemische Reaktion wurde wie im vorherigen
Beispiel durchgeführt mit der Ausnahme, daß 2,13 Faraday pro
Mol cis-Dichlorbuten angewendet wurden. Die entstehende Re
aktionsmischung wurde analysiert und ergab 15% Dimethyl
silacyclopenten.
Ein 250 ml Kolben war ausgerüstet mit Stickstoffspülung,
Magnetrührer, Kondensier- und Luftkühlungsvorrichtung.
100 ml einer 0,2 molaren Lösung von Tetrabutylammoniumhexa
fluorphosphat in Tetrahydrofuran, 12,5 g Chlormethyltri
methylsilan und 6,5 g Dichlormethylsilan wurden zugegeben.
Eine elektrochemische Reaktion wurde wie im vorherigen Bei
spiel ausgeführt mit der Ausnahme, daß 2,3 Faraday pro Mol
Chlormethyltrimethylsilan angewendet wurden. Die entstehende
Reaktionsmischung wurde analysiert, und es ergaben sich 25%
bis(Trimethylsilyl)methylsilan.
Ein Schlenkrohr war ausgerüstet mit einem Aluminiumstab als
Anode (99,5% rein, 6,35 mm Durchmesser) und einem zylindri
schen Netz aus rostfreiem Stahl als Kathode (20 mesh,
30 cm2). Eine Lösung von 14,3 ml Tetrahydrofuran, 0,08 g
Tetraethylammoniumtetrafluorborat, 3,6 ml Hexamethylphosphor
amid und 0,1 ml Trimethylchlorsilan wurde 2 Stunden vorelek
trolysiert bei 100 mA. 2,28 g Chlormethyldimethylchlorsilan
wurden zugegeben. Eine elektrochemische Reaktion wurde durch
geführt durch Anwenden eines konstanten Stroms über 10 Stun
den (was 2,3 Faraday pro Mol Silan ergab) bei einer Tempe
ratur von 23°C. Die entstehende Reaktionsmischung wurde fil
triert und unter vermindertem Druck abgezogen, was 11,68 g
Destillat ergab. Die Analyse durch Gaschromatographie/Massen
spektrometrie ergab 69% 1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-disilacyclo
butan.
Unter Verwendung des Aufbaus von Beispiel 7 wurden 4,24 g
Chlorpropyltrichlorsilan zu dem Reaktionsprodukt des vorheri
gen Beispiels zugegeben und die Elektrolyse für etwa 6 Stun
den bei 200 mA fortgesetzt. Nach 3 1/2 Stunden wurde eine
maximale Umwandlung in Dichlorsilacyclobutan von 45% beob
achtet.
Der Aufbau von Beispiel 7 wurde verwendet mit der Ausnahme,
daß ein Kühler, der mit festem Kohlendioxid gekühlt wurde,
zugefügt wurde, um den Verlust an Reagenzien zu minimieren.
Eine Lösung von 8,45 ml Tetrahydrofuran, 0,08 g Tetraethyl
ammoniumtetrafluorborat, 2,1 ml Hexamethylphosphoramid,
6,4 ml Dichlormethan und 0,1 ml Trimethylchlorsilan wurde 2
Stunden bei 50 mA vorelektrolysiert. 3,03 ml Chlormethyldi
methylchlorsilan wurden zugegeben. Eine elktrochemische Re
aktion wurde durchgeführt, indem 53 Stunden ein konstanter
Strom bei einer Temperatur von 23°C angewendet wurde (was 4
Faraday pro Mol Silan ergab). Die entstehende Reaktionsmi
schung wurde durch Gaschromatographie/Massenspektrometrie
analysiert, was 74% Dimethyldichlormethylsilan ergab.
Der Aufbau von Beispiel 9 wurde verwendet. Eine Lösung von
9,16 ml Tetrahydrofuran, 0,08 g Tetraethylammoniumtetrafluor
borat, 2,29 ml Hexamethylphosphoramid, 1,28 ml Dichlormethan
und 0,1 ml Trimethylchlorsilan wurde 2 Stunden bei 50 mA vor
elektrolysiert. 7,27 ml Dimethyldichlorsilan wurden zugege
ben und die Elektrolyse wurde 24 Stunden bei 50 mA fortge
setzt (was 2,2 Faraday pro Mol Silan ergab). Die entstehende
Reaktionsmischung wurde durch Gaschromatographie/Massenspek
trometrie analysiert, was 81% (bezogen auf umgesetztes
Silan) Chlordimethylchlormethylsilan ergab.
Der Aufbau von Beispiel 9 wurde verwendet. Eine Lösung von
12,67 ml Tetrahydrofuran, 0,08 g Tetraethylammoniumtetra
fluorborat, 3,12 ml Hexamethylphosphoramid, 0,85 ml Dichlor
methan und 0,1 ml Trimethylchlorsilan wurde 2 Stunden bei 50 mA
vorelektrolysiert. 4,48 ml Methyltrichlorsilan wurden zu
gegeben und die Elektrolyse 12,5 Stunden bei 50 mA fortge
setzt (was 2,2 Faraday pro Mol Silan ergab). Die entstehende
Reaktionsmischung wurde durch Gaschromatographie/Massenspek
trometrie analysiert, was 62% Methyldichlorchlormethylsilan
und 13% Methylchlordichlormethylsilan zeigte.
Der Aufbau von Beispiel 9 wurde verwendet. Eine Lösung von
11,8 ml Tetrahydrofuran, 0,08 g Tetraethylammoniumtetrafluor
borat, 2,95 ml Hexamethylphosphoramid, 0,64 ml Dichlormethan
und 0,1 ml Trimethylchlorsilan wurde 2 Stunden bei 50 mA vor
elektrolysiert. 6,79 g Tetrachlorsilan wurde zugegeben und
die Elektrolyse 12,5 Stunden bei 50 mA fortgesetzt (was 2,2
Faraday pro Mol Silan ergab). Die entstehende Reaktionsmi
schung wurde durch Gaschromatographie/Massenspektrometrie
analysiert und ergab 58% Trichlorchlormethylsilan, 15% Di
chlordichlormethylsilan und 3% Chlortrichlormethylsilan.
Der Aufbau von Beispiel 9 wurde verwendet. Eine Lösung von
12,37 ml Tetrahydrofuran, 0,08 g Tetraethylammoniumtetra
fluorborat, 3,09 ml Hexamethylphosphoramid, 1,12 ml Phenyl
chlorid und 0,1 ml Trimethylchlorsilan wurde 2 Stunden bei
50 mA vorelektrolysiert. 4,48 g Methyltrichlorsilan wurde zu
gegeben und die Elektrolyse 12,5 Stunden bei 50 mA fortge
setzt (was 2,2 Faraday pro Mol Silan ergab). Die entstehende
Reaktionsmischung wurde durch Gaschromatographie/Massenspek
trometrie analysiert, wobei sich 65% Dichlorphenylmethyl
silan, 10% Methylchlordiphenylsilan und 6% Dichlormethyl
silphenylen zeigte.
Der Aufbau von Beispiel 9 wurde verwendet. Eine Lösung von
11,52 ml Tetrahydrofuran, 0,08 g Tetraethylammoniumtetra
fluorborat, 2,88 ml Hexamethylphosphoramid, 1,12 ml Phenyl
chlorid und 0,1 ml Trimethylchlorsilan wurde 2 Stunden bei
50 mA vorelektrolysiert. 6,79 g Methyltrichlorsilan wurde zu
gegeben und die Elektrolyse 12,5 Stunden bei 50 mA fortge
setzt (was 2,2 Faraday pro Mol Silan ergab). Die entstehende
Reaktionsmischung wurde durch Gaschromatographie/Massenspek
trometrie analysiert und lieferte 68% Trichlorphenylsilan,
10% Dichlordiphenylsilan und 8% Trichlorsilphenylen.
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen
mit mindestens einer siliciumgebundenen organischen Gruppe,
die an ein Siliciumatom über eine Si-C-Bindung gebunden ist,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Verbindung (I), die einen
Substituenten der allgemeinen Formel -RX aufweist, worin R
eine divalente Kohlenstoff- oder Kohlenwasserstoffverbindung
bezeichnet, die substituiert sein kann, und X ein Halogenatom
ist, einer Elektroreduktion unterworfen wird in Gegenwart von
(II), einem Silan der allgemeinen Formel
R′4-a-bSiXa(RX)b,worin R′ ausgewählt ist aus Wasserstoff, Kohlenwasserstoff
gruppen, Gruppen, die H-, C- und O-Atome, S-Atome und/oder
P-Atome enthalten und Gruppen, die aus C-, H- und N-Atomen
und gegebenenfalls O-Atomen bestehen, worin N nicht Teil
einer Aminogruppe ist, X und R wie oben definiert sind, a
einen Wert von 1, 2, 3 oder 4 hat, b einen Wert von 0, 1, 2
oder 3 hat und a+b einen Wert von 2, 3 oder 4 hat.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Gruppe R in Verbindung (I) ein aromatisch ungesättigter,
aliphatisch ungesättigter oder aliphatisch gesättigter Koh
lenwasserstoffrest ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß in Verbindung (II) R′ Wasserstoff, eine Alkyl- oder Aryl
gruppe ist.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß in Verbindung (II) der Wert von a+b
2 ist.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß es in einer Zelle mit zwei Kammern,
die durch eine Membran getrennt sind, durchgeführt wird, wo
bei die Kathode aus Silber oder rostfreiem Stahl hergestellt
ist und die Anode inert ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß es in einer Zelle mit zwei Kammern, die
durch eine Membran getrennt sind, ausgeführt wird, wobei die
Kathode aus Silber oder rostfreiem Stahl hergestellt ist und
die Anode in gewissem Ausmaß eine Opferanode ist.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß ein Komplexierungsmittel verwendet
wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB898917725A GB8917725D0 (en) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | Electrochemical synthesis of organosilicon compounds |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4024600A1 true DE4024600A1 (de) | 1991-03-07 |
Family
ID=10661077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4024600A Withdrawn DE4024600A1 (de) | 1989-08-03 | 1990-08-02 | Elektrochemische synthese von organosiliciumverbindungen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03150382A (de) |
CA (1) | CA2022184A1 (de) |
DE (1) | DE4024600A1 (de) |
FR (1) | FR2650599B1 (de) |
GB (1) | GB8917725D0 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5538618A (en) * | 1993-06-17 | 1996-07-23 | Wacker-Chemie Gmbh | Process for the electrochemical synthesis of organosilicon compounds, and an appliance for carrying out the process, and use thereof for preparing organosilicon compounds |
DE10223939A1 (de) * | 2002-05-29 | 2003-12-24 | Consortium Elektrochem Ind | Elektrochemisches Verfahren zur Herstellung von organofunktionellen Silanen |
CN103952716A (zh) * | 2014-05-16 | 2014-07-30 | 罗凯 | 一种电解合成硅氧烷的方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103924259A (zh) * | 2014-04-22 | 2014-07-16 | 浙江合盛硅业有限公司 | 一种室温制备聚二烷基硅氧烷混合环体的方法 |
KR101583278B1 (ko) * | 2014-04-23 | 2016-01-11 | 김경도 | 등산용 스틱 |
-
1989
- 1989-08-03 GB GB898917725A patent/GB8917725D0/en active Pending
-
1990
- 1990-07-27 CA CA002022184A patent/CA2022184A1/en not_active Abandoned
- 1990-08-01 FR FR9009826A patent/FR2650599B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-02 DE DE4024600A patent/DE4024600A1/de not_active Withdrawn
- 1990-08-03 JP JP2205309A patent/JPH03150382A/ja active Pending
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Chemistry Letters, 1985, S.463-466 * |
J. Organomet. Chem. 358, S.31-37 (1988) * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5538618A (en) * | 1993-06-17 | 1996-07-23 | Wacker-Chemie Gmbh | Process for the electrochemical synthesis of organosilicon compounds, and an appliance for carrying out the process, and use thereof for preparing organosilicon compounds |
DE10223939A1 (de) * | 2002-05-29 | 2003-12-24 | Consortium Elektrochem Ind | Elektrochemisches Verfahren zur Herstellung von organofunktionellen Silanen |
CN103952716A (zh) * | 2014-05-16 | 2014-07-30 | 罗凯 | 一种电解合成硅氧烷的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2650599A1 (fr) | 1991-02-08 |
CA2022184A1 (en) | 1991-02-04 |
JPH03150382A (ja) | 1991-06-26 |
GB8917725D0 (en) | 1989-09-20 |
FR2650599B1 (fr) | 1993-06-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4204305C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Platinkomplexen und ihre Verwendung | |
DE1493384A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen | |
DE1187613B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiloxanen mit Stickstoff enthaltenden, Si-gebundenen organischen Resten | |
EP0646616B1 (de) | Organopolysiloxane mit bifunktionellen endständigen Siloxaneinheiten | |
DE102015009129B4 (de) | Verfahren zur Spaltung von Silicium-Silicium-Bindungen und/oder von Silicium-Chlor-Bindungen in Mono-, Poly- und/oder Oligosilanen | |
DE4024600A1 (de) | Elektrochemische synthese von organosiliciumverbindungen | |
DE1242614B (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilangemischen | |
DE1264442B (de) | Verfahren zum Austausch von Si-gebundenen Wasserstoff- und Chloratomen in Silanen | |
DE60130776T2 (de) | Verfahren zur herstellung von silikonölen durch hydrosilylierung von sauerstoff-enthaltenden zyklischen kohlenwasserstoffen in anwesenheit von metallkomplexen | |
DE1032251B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen | |
EP0629718B1 (de) | Verfahren zur elektrochemischen Synthese von Organosiliciumverbindungen sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und ihre Verwendung zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen | |
DE102014203770A1 (de) | Verfahren zur Hydrosilylierung unter Zusatz organischer Salze | |
GB2234511A (en) | Electrochemical synthesis of organosilicon compounds | |
DE3741947A1 (de) | Verfahren zur herstellung von polysilanen | |
DE1929902A1 (de) | Reduktion halogenhaltiger Siliciumverbindungen | |
DE602004010411T2 (de) | Herstellung eines halosilylierten kettenförmigen kohlenwasserstoffs | |
WO2005123811A1 (de) | Verfahren zur elektrochemischen knüpfung von silicium-kohlenstoff- und silicium-wasserstoff-bindungen unter verwendung einer wasserstoff-elektrode | |
DE10223939A1 (de) | Elektrochemisches Verfahren zur Herstellung von organofunktionellen Silanen | |
DE3208829C2 (de) | ||
DE3728801C2 (de) | (2-Phenylpropan-2-yl) silan-Verbindungen und ein Verfahren zu deren Herstellung | |
EP0980870A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Silanen mit einer tertiären Kohlenwasserstoff-Gruppe in alpha-Position zum Silicium-Atom | |
DE2012683A1 (de) | Verfahren zur Reinigung von Gemischen von Organochlorsilanen | |
DE3809614A1 (de) | Verfahren zur herstellung von keramikmaterial | |
DE1643905C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organolithium oder Organomagnesium aminosihciumverbindungen | |
Uhlig et al. | Darstellung und Reaktivität von Phenylthiosubstituierten Oligosilanen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8130 | Withdrawal |