DE4022319A1 - Beschichtungsmasse fuer ein elektrophotographisches lichtempfindliches element und verfahren zur bildung eines beschichtungsfilms eines solchen elements unter deren verwendung - Google Patents

Beschichtungsmasse fuer ein elektrophotographisches lichtempfindliches element und verfahren zur bildung eines beschichtungsfilms eines solchen elements unter deren verwendung

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Description

Die Erfindung betrifft eine Beschichtungsmasse für ein elektro­ photographisches lichtempfindliches Element bzw. Aufzeichnungs­ material, die ein flüchtiges Egalisiermittel enthält, und ein Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elektropho­ tographischen lichtempfindlichen Elements.
Lichtempfindliche bzw. photoempfindliche Schichten elektropho­ tographischer lichtempfindlicher Elemente werden nach dem Ver­ fahren zu ihrer Bildung im allgemeinen in zwei Typen eingeteilt, und zwar in einen Typ, der durch Beschichtung aus dem flüssigen, breiigen oder pastenförmigen Zustand (nachstehend kurz als "Be­ schichtung" bezeichnet), und einen Typ, der durch Aufdampfung gebildet wird. Für die Verwendung als Material für lichtempfind­ liche Schichten elektrophotographischer lichtempfindlicher Ele­ mente, das nicht teuer ist, keine Verschmutzung verursacht und leicht synthetisierbar ist, sind verschiedene organische Verbin­ dungen umfassend untersucht worden. Die meisten der eine organi­ sche Verbindung enthaltenden lichtempfindlichen Schichten elek­ trophotographischer lichtempfindlicher Elemente werden durch Be­ schichtung gebildet. Die Beschichtungsmassen für die lichtemp­ findlichen Schichten werden im allgemeinen aus einer organi­ schen Verbindung wie z.B. einer photoleitfähigen organischen Substanz hergestellt, die in einem Bindemittelharz dispergiert wird. Bei der Herstellung elektrophotographischer lichtempfind­ licher Elemente unter Verwendung einer solchen Beschichtungsmas­ se für lichtempfindliche Schichten wird nach dem Auftragen der Beschichtungsmasse das Lösungsmittel, das in der Beschichtungs­ masse enthalten ist, im allgemeinen durch Trocknen unter Erhit­ zen entfernt. Die Durchführung des Trocknens unter Erhitzen ist nicht auf die lichtempfindlichen Schichten beschränkt, sondern erfolgt auch bei der Bildung von elektrisch leitenden Schichten und Unterschichten, die wahlweise zwischen einer lichtempfindli­ chen Schicht und einem elektrisch leitenden Träger gebildet wer­ den, sowie von Oberflächenschutzschichten.
Lichtempfindliche Schichten werden beispielsweise unter Anwen­ dung eines Meyer-Stabes, einer Rakel, eines Messers, einer Wal­ ze oder eines feinmaschigen Siebes, durch Tauchen, durch Auf­ spritzen bzw. Aufsprühen oder unter Anwendung eines Strahles bzw. eines Stabes ("beam coating") aufgetragen.
Aufgetragene Filme, die durch solch ein Beschichtungsverfahren gebildet worden sind, können Fehler wie z.B. Spritznarben bzw. eine apfelsinenschalenartige Oberfläche, Löcher und Blasen auf­ weisen. Insbesondere neigen Beschichtungsmassen mit einem dis­ pergierten Pigment zu Oberflächenfehlern wie z.B. zum Auseinan­ dergehen der Farbe, zum Hochgehen und zur Kraterbildung, was zu Unebenheit bzw. Ungleichmäßigkeit, weißen Flecken und schwar­ zen Flecken in den Bildern führt. Es ist bekannt, daß die Bil­ dung dieser Fehler dadurch vermieden wird, daß der Beschich­ tungsmasse eine sehr geringe Menge eines Egalisiermittels wie z.B. einer anionischen, kationischen oder nichtionogenen ober­ flächenaktiven Substanz, eines fluorierten Polyolefins, eines Polyvinylbutyrals, eines Polyacrylats oder eines Siliconöls zu­ gesetzt wird.
Andererseits sind einige Substanzen, die für eine Beschich­ tungsmasse für ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element verwendet werden, nicht hitzebeständig und können sich durch Wärme bei verlängertem Trocknen bei einer hohen Tempera­ tur verschlechtern, so daß die elektrophotographischen Eigen­ schaften beeinträchtigt werden. Das Trocknen wird deshalb im allgemeinen in den meisten Fällen etwa 1 h lang bei einer Tempe­ ratur von nicht mehr als 200°C durchgeführt. Unter solchen Trocknungsbedingungen kann z.B. ein polymeres Siliconöl mit ei­ nem Durchschnittsmolekulargewicht von 10 000 bis 100 000 nicht entfernt werden, sondern bleibt in dem Beschichtungsfilm. Ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element dient zur Erzeugung eines Bildes durch Ausnutzung des Transports von La­ dungsträgern, die durch die Wirkung von Licht durch eine licht­ empfindliche Schicht erzeugt worden sind. Das Vorhandensein ei­ nes Hindernisses für die Bewegung der Ladungsträger, beispiels­ weise einer Potentialschwelle und einer Fangstelle (Trap) be­ einträchtigt deshalb die elektrophotographischen Eigenschaften und verursacht beispielsweise eine Abnahme des Speichervermö­ gens, einen Anstieg des Restpotentials und eine Verschlechte­ rung der Haltbarkeit.
Obwohl durch die Verwendung eines Beschichtungs-Egalisiermit­ tels ein Beschichtungsfilm ohne Oberflächenfehler erhalten wird, kann folglich das in dem Beschichtungsfilm zurückgebliebene Ega­ lisiermittel die elektrophotographischen Eigenschaften beein­ trächtigen, so daß Egalisiermittel hinsichtlich ihrer Art und der zu verwendenden Menge in hohem Maße eingeschränkt sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Beschichtungs­ masse für ein elektrophotographisches lichtempfindliches Ele­ ment bzw. Aufzeichnungsmaterial, bei dem der aus der Beschich­ tungsmasse gebildete Beschichtungsfilm eine glatte Oberfläche hat und das auch nach wiederholter Anwendung zufriedenstellende elektrophotographische Eigenschaften hat, bereitzustellen.
Ferner soll durch die Erfindung ein Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms für ein elektrophotographisches lichtempfind­ liches Element bzw. Aufzeichnungsmaterial unter Verwendung der vorstehend erwähnten Beschichtungsmasse bereitgestellt werden.
Eine Ausgestaltung der Erfindung besteht in einer Beschichtungs­ masse für ein elektrophotographisches lichtempfindliches Ele­ ment, die ein flüchtiges Egalisiermittel enthält.
Eine weitere Ausgestaltung der Erfindung besteht in einem Ver­ fahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elektrophoto­ graphischen lichtempfindlichen Elements, bei dem eine Beschich­ tungsmasse für das elektrophotographische lichtempfindliche Ele­ ment, die ein flüchtiges Egalisiermittel enthält, aufgetragen und die Beschichtungsmasse durch Erhitzen unter Verflüchtigung des Egalisiermittels getrocknet wird, um einen Beschichtungs­ film zu bilden.
Die bevorzugte Ausführungsform der Erfindung wird nachstehend näher erläutert.
Selbst in dem Fall, daß das Egalisiermittel bei der Bildung ei­ nes Beschichtungsfilms im Rahmen der Erfindung in einer großen Menge verwendet wird, verflüchtigt es sich vollständig, oder es wird in einem derartigen Ausmaß entfernt, daß keine Verschlech­ terung der elektrophotographischen Eigenschaften, z.B. kein An­ stieg des Restpotentials, verursacht wird. Des weiteren dient das Egalisiermittel zur Verminderung der Oberflächenspannung während der Verdampfung des Lösungsmittels aus der Beschich­ tungsmasse und zur Verlangsamung der Konvektion in der Beschich­ tungsmasse, was dazu führt, daß ein gleichmäßiger Beschichtungs­ film ohne Oberflächenfehler erhalten wird.
Das flüchtige Egalisiermittel, das im Rahmen der Erfindung ver­ wendet wird, hat vorzugsweise einen Siedepunkt von nicht mehr als 300°C und ein Durchschnittsmolekulargewicht (Massemittel) von nicht mehr als 1000 und vorzugsweise nicht mehr als 600.
Das Egalisiermittel, das im Rahmen der Erfindung verwendet wird, ist vorzugsweise ein Siliconöl mit einer Siloxanstruktur und insbesondere ein Siliconöl mit einer Struktur, die durch die allgemeine Formel (I) oder (II) ausgedrückt wird:
worin R1 bis R10 jeweils eine Alkylgruppe wie z.B. eine Methyl- oder Ethylgruppe, eine Arylgruppe wie z.B. eine Phenylgruppe oder eine Alkoxygruppe wie z.B. eine Methoxy- oder Ethoxygruppe bedeuten, die z.B. durch einen anderen Substituenten oder ein Halogenatom substituiert sein können, und m und n jeweils eine ganze Zahl bedeuten.
Von diesen Siliconölen werden diejenigen besonders bevorzugt, bei denen die Gruppen R1 bis R10 aus der Methyl-, der Ethyl-, der Methoxy- und der Ethoxygruppe ausgewählt sind, m eine gan­ ze Zahl von 2 bis 4 ist und n eine ganze Zahl von 4 bis 6 ist.
Nachstehend sind einzelne Beispiele für flüchtige Siliconöle an­ gegeben, die im Rahmen der Erfindung verwendet werden:
Verbindungsbeispiel (1)
Verbindungsbeispiel (2)
Verbindungsbeispiel (3)
Verbindungsbeispiel (4)
Verbindungsbeispiel (5)
Verbindungsbeispiel (6)
Je höher das Molekulargewicht des Egalisiermittels ist, um so stärker ist die gezeigte Egalisierwirkung und um so geringer ist entsprechend die Flüchtigkeit.
In dieser Hinsicht ist das cyclische Siliconöl, das durch die allgemeine Formel (II) ausgedrückt wird, vorteilhaft, weil es im Verhältnis zu seinem Molekulargewicht eine höhere Flüchtig­ keit zeigt.
Die flüchtigen Egalisiermittel, die im Rahmen der Erfindung ver­ wendet werden, zeigen selbst in dem Fall, daß ihr Molekularge­ wicht niedrig ist, eine ausreichende Egalisierwirkung, wenn sie in einer genügenden Menge zugesetzt werden.
Die flüchtigen Egalisiermittel, die im Rahmen der Erfindung ver­ wendet werden, sind für jede Beschichtungsmasse für ein elektro­ photographisches lichtempfindliches Element wirksam und sind be­ sonders wirksam für Beschichtungsmassen für ein elektrophotogra­ phisches lichtempfindliches Element, die ein dispergiertes Pig­ ment enthalten, beispielsweise für Beschichtungsmassen für eine Ladungsträger erzeugende Schicht und für Beschichtungsmassen für eine elektrisch leitende Schicht.
Das Egalisiermittel, das im Rahmen der Erfindung verwendet wird, kann der Beschichtungsmasse in derselben Weise wie übliche Ega­ lisiermittel entweder in dem Schritt der Formulierung der Be­ schichtungsmasse oder nach der Beendigung der Formulierung der Beschichtungsmasse zugesetzt werden.
Die Menge des flüchtigen Egalisiermittels, die der Beschich­ tungsmasse für das elektrophotographische lichtempfindliche Ele­ ment zuzusetzen ist, beträgt vorzugsweise 0,05 bis 3 Masse% und insbesondere 0,1 bis 1 Masse%, bezogen auf die Masse des Mate­ rials, das den Beschichtungsfilm für das elektrophotographische lichtempfindliche Element bildet.
Das Trocknen durch Erhitzen der erfindungsgemäßen Beschichtungs­ masse für das elektrophotographische lichtempfindliche Element wird vorzugsweise nicht länger als 1 h bei einer Temperatur von nicht mehr als 200°C und insbesondere 5 min bis 1 h lang bei einer Temperatur von 50 bis 150°C durchgeführt.
Das elektrophotographische lichtempfindliche Element, das unter Verwendung der erfindungsgemäßen Beschichtungsmasse für elek­ trophotographische lichtempfindliche Elemente hergestellt wird, wird nachstehend beschrieben.
Zu elektrisch leitenden Trägern, die verwendet werden können, gehören z.B. Aluminium, Messing und nichtrostender Stahl, aus denen ein Zylinder oder eine Folie gebildet worden ist, sowie Papier und Kunststoffe, auf die durch Aufdampfen oder-Laminie­ ren z.B. Aluminium, Zinnoxid, Antimonoxid oder Indiumoxid aufge­ bracht worden ist.
Auf dem elektrisch leitenden Träger wird manchmal eine elek­ trisch leitende Schicht gebildet, um Kratzer oder Fehler zu be­ decken oder um eine Injektion von Ladungsträgern aus dem Träger zu verhindern. Die elektrisch leitende Schicht kann gebildet werden, indem eine Beschichtungsmasse für elektrisch leitende Schichten, die durch Dispergieren eines elektrisch leitenden Ma­ terials wie z.B. eines Metallpulvers aus z.B. Aluminium, Silber, Gold, Nickel oder Kupfer oder von pulverförmigem Kohlenstoff, Zinnoxid, Antimonoxid oder Indiumoxid in einem Harz wie z.B. ei­ nem Phenolharz, einem Polyurethan, einem Epoxidharz oder einem Alkydharz in einem geeigneten Lösungsmittel hergestellt worden ist, aufgetragen und dann durch Erhitzen getrocknet wird. Die Dicke der elektrisch leitenden Schicht beträgt vorzugsweise 10 bis 50 pm und insbesondere 15 bis 40 pm.
Zwischen dem elektrisch leitenden Träger oder der elektrisch leitenden Schicht und der photoleitfähigen Schicht kann eine Un­ terschicht gebildet werden, die eine Sperrschichtfunktion und eine Klebefunktion hat.
Die Unterschicht kann gebildet werden, indem eine Beschichtungs­ masse für eine Unterschicht, die durch Auflösen von z.B. Casein, Polyvinylalkohol, Nitrocellulose, Ethylen-Acrylat-Copolymer, Po­ lyamid (wie z.B. PA 6, PA 66, PA 610, Copolymer-Polyamid oder al­ koxymethyliertem Polyamid) oder Polyurethan in einem geeigneten Lösungsmittel hergestellt worden ist, aufgetragen und danach durch Erhitzen getrocknet wird.
Die Dicke der Unterschicht beträgt vorzugsweise 0,1 bis 5 µm und insbesondere 0,3 bis 3 µm.
Die Unterschicht hat vorzugsweise einen spezifischen Widerstand von nicht weniger als 107Ω cm, damit sie ihre Funktion erfüllt.
Die lichtempfindliche Schicht kann gebildet werden, indem eine Beschichtungsmasse für lichtempfindliche Schichten aufgetragen und dann durch Erhitzen getrocknet wird.
Die lichtempfindliche Schicht kann entweder einen laminierten bzw. zweischichtigen Aufbau haben, d.h, aus einer Ladungsträ­ ger erzeugenden Schicht und einer Ladungsträger transportieren­ den Schicht bestehen, oder einen einschichtigen Aufbau haben.
Bei der lichtempfindlichen Schicht mit zweischichtigem Aufbau kann die Ladungsträger erzeugende Schicht gebildet werden, in­ dem eine Beschichtungsmasse für eine Ladungsträger erzeugende Schicht, die durch Dispergieren einer Ladungsträger erzeugenden Substanz, beispielsweise eines Azopigments wie z.B. Sudanrot, Dian Blue oder Janusgrün B (C.I. 11050), eines Chinonpigments wie z.B. Algolgelb, Pyrenchinon oder Indanthrenbrillantviolett RRP, eines Chinocyaninpigments, eines Perylenpigments, eines In­ digopigments wie z.B. Indigo oder Thioindigo, eines Bisbenzimid­ azolpigmente wie z.B. Indian Fast Orange Toner, eines Phthalo­ cyaninpigments wie z.B. Kupferphthalocyanin oder eines Chinacri­ donpigments in einem Bindemittelharz wie z.B. einem Polycarbo­ nat, einem Polyester, einem Polystyrol, einem Polyvinylbutyral, einem Polyamid, einem Acrylharz, einem Polyacrylat, einem Po­ lyvinylpyrrolidon, einer Methylcellulose, einem Polyacrylester oder einem Celluloseesterharz in einem geeigneten Lösungsmittel hergestellt worden ist, aufgetragen und dann durch Erhitzen ge­ trocknet wird. Die Filmdicke der Ladungsträger erzeugenden Schicht beträgt vorzugsweise 0,01 µm bis 1 µm und insbesondere 0,05 µm bis 0,5 µm.
Bei der lichtempfindlichen Schicht mit zweischichtigem Aufbau kann die Ladungsträger transportierende Schicht gebildet werden, indem eine Beschichtungsmasse für Ladungsträger transportieren­ de Schichten, die durch Dispergieren einer Ladungsträger trans­ portierenden Substanz wie z.B. einer Hydrazonverbindung, einer Pyrazolinverbindung, einer Styrylverbindung, einer Carbazolver­ bindung oder einer Triarylaminverbindung in einem der nachste­ hend erwähnten Bindemittelharze in einem geeigneten Lösungsmit­ tel hergestellt worden ist, aufgetragen und dann durch Erhitzen getrocknet wird.
Zu Beispielen für das Bindemittelharz gehören ein Polycarbonat, ein Polymethacrylester, ein Polyamid, ein Polyarylat, ein Poly­ styrol, ein Polyester, ein Polysulfon, ein Styrol-Acrylnitril- Copolymer und ein Styrol-Methylmethacrylat-Copolymer. Die Dicke der Ladungsträger transportierenden Schicht beträgt vorzugswei­ se 5 bis 30 µm und insbesondere 10 bis 20 µm.
Die lichtempfindliche Schicht mit einschichtigem Aufbau kann ge­ bildet werden, indem eine Beschichtungsmasse für lichtempfindli­ che Einzelschichten, die durch Dispergieren einer Ladungsträger erzeugenden Substanz und einer Ladungsträger transportierenden Substanz in einem der vorstehend erwähnten Bindemittelharze in einem geeigneten Lösungsmittel hergestellt worden ist, aufgetra­ gen und dann durch Erhitzen getrocknet wird.
Färbende Substanzen, Pigmente und Ladungsträger transportieren­ de organische Substanzen beispielsweise sind z.B. gegen Ultra­ violettlicht, Ozon, Beschmutzung mit Öl und Metallspäne weniger beständig, weshalb nötigenfalls eine Schutzschicht gebildet werden kann. Die Schutzschicht hat vorzugsweise einen spezifi­ schen Oberflächenwiderstand von wenigstens 1011 Ω cm, damit dar­ auf ein elektrostatisches Ladungsbild erzeugt werden kann.
Die Schutzschicht kann gebildet werden, indem eine Beschich­ tungsmasse für Schutzschichten, die durch Auflösen eines Harzes wie z.B. eines Polyvinylbutyrals, eines Polyesters, eines Poly­ carbonats, eines Acrylharzes, eines Methacrylharzes, eines Poly­ amids, eines Polyimids, eines Polyarylats, eines Polyurethans, eines Styrol-Butadien-Copolymers, eines Styrol-Acrylat-Copoly­ mers oder eines Styrol-Acrylnitril-Copolymers in einem geeigne­ ten Lösungsmittel hergestellt worden ist, aufgetragen und dann durch Erhitzen getrocknet wird. Die Dicke wird geeigneterweise in dem Bereich von 0,05 bis 20 µm festgelegt. Die Schutzschicht kann zum Beispiel eine teilchenförmige elektrisch leitende Sub­ stanz oder ein UV-Absorptionsmittel enthalten.
In der Oberflächenschutzschicht oder in dem Fall, daß die licht­ empfindliche Schicht keine Oberflächenschutzschicht hat, auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht kann ein festes Schmiermittel wie ein pulverförmiges Fluorpolymer einschließ­ lich z.B. PTFE, PFA und PVDF und z.B. MoS2, WS2 und BN disper­ giert werden, um der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht Schmierfähigkeit zu verleihen, oder es können z.B. Al₂O₃, TiO₂ oder SiO2 dispergiert werden, um der Schicht Festigkeit zu ver­ leihen.
Die elektrisch leitende Schicht oder die Ladungsträger erzeugen­ de Schicht kann auch durch Aufdampfen gebildet werden.
Zu den Lösungsmitteln, die für die Beschichtungsmassen für elek­ trophotographische lichtempfindliche Elemente verwendbar sind, gehören Alkohole wie z.B. Methanol, Ethanol und Ieopropanol; Ke­ tone wie z.B. Aceton, Methylethylketon und Cyclohexanon; Amide wie z.B. N,N-Dimethylformamid und N,N-Dimethylacetamid; Sulfoxi­ de wie z.B. Dimethylsulfoxid; Ether wie z.B. Tetrahydrofuran, Dioxan und Ethylenglykolmonomethylether; Ester wie z.B. Methyl­ acetat und Ethylacetat; aliphatische halogenierte Kohlenwasser­ stoffe wie z.B. Chloroform, Methylenchlorid, Dichlorethylen, Te­ trachlorkohlenstoff und Trichlorethylen und aromatische Verbin­ dungen wie z.B. Benzol, Toluol, Xylol, Ligroin, Chlorbenzol und Dichlorbenzol.
Für das Verfahren zum Auftragen der Beschichtungsmasse für elek­ trophotographische lichtempfindliche Elemente gibt es keine be­ sondere Einschränkung.
Die aufgetragene Beschichtungsmasse kann zunächst bei Raumtem­ peratur bis zur Klebfreiheit bei Berührung getrocknet werden und danach durch Erhitzen getrocknet werden.
In den nachstehenden Beispielen sind unter Teilen jeweils Masse­ teile zu verstehen.
Beispiel 1
110 Teile Titanoxid, dessen Oberfläche mit Aluminiumoxid be­ handelt worden war, 110 Teile Titanoxid, dessen Oberfläche mit Sb2O3 behandelt worden war, 100 Teile (als Feststoff) eines Phenolharzes, 68 Teile Methanol, 68 Teile Methylcellosolve und 0,32 Teile eines cyclischen Siliconöls, und zwar des Verbin­ dungsbeispiels (4) (Molekulargewicht: 296) als flüchtiges Ega­ lisiermittel wurden mit Hilfe einer Sandmühle 2 h lang disper­ giert, um eine elektrisch leitende Beschichtungsmasse herzustel­ len. Die Beschichtungsmasse war durch Methanol und Methylcello­ solve unter Erzielung einer Viskosität von 150 mPa · s verdünnt.
Die Beschichtungsmasse wurde dann durch Tauchen auf die Oberflä­ che eines Aluminiumzylinders mit einem Durchmesser von 80 mm und einer Länge von 360 mm aufgetragen und durch 30minütiges Erhitzen bei 140°C getrocknet, wodurch eine 20 µm dicke elek­ trisch leitende Schicht erhalten wurde.
Auf die elektrisch leitende Schicht wurde durch Tauchen eine Be­ schichtungslösung aufgetragen, die durch Auflösen von 10 Teilen eines Copolymer-Polyamids in einer aus 60 Teilen Methanol und 40 Teilen Butanol bestehenden Lösungsmittelmischung hergestellt worden war, wodurch eine 1 µm dicke Unterschicht gebildet wurde.
10 Teile eines durch die nachstehende Formel ausgedrückten Bis­ azopigments:
6 Teile eines Celluloseacetatbutyratharzes und 60 Teile Cyclo­ hexanon wurden separat mit Hilfe einer Sandmühle unter Verwen­ dung von Glasperlen (Durchmesser: 1 mm) 20 h lang dispergiert.
Dieser flüssigen Dispersion wurden 100 Teile Methylethylketon zugesetzt, und die Mischung wurde durch Tauchen auf die vorste­ hend erwähnte Unterschicht aufgetragen und durch 10minütiges Er­ hitzen bei 100°C getrocknet, wodurch eine 0,1 µm dicke Ladungs­ träger erzeugende Schicht gebildet wurde.
Dann wurden 10 Teile einer Hydrazonverbindung mit der nachste­ henden Strukturformel:
und 15 Teile eines Polymethylmethacrylats in 80 Teilen Dichlor­ methan gelöst. Die Lösung wurde auf die vorstehend erwähnte La­ dungsträger erzeugende Schicht aufgetragen und 1 h lang mit Heißluft bei 100°C getrocknet, wodurch eine 20 m dicke La­ dungsträger transportierende Schicht gebildet wurde. Auf diese Weise wurde ein elektrophotographisches lichtempfindliches Ele­ ment hergestellt, das als "lichtempfindliches Element 1" be­ zeichnet wird.
Vergleichsbeispiel 1
Ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element wurde in derselben Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch in der Beschichtungsmasse für die elektrisch leitende Schicht an­ stelle des Verbindungsbeispiels (4) 0,03 Teile eines Siliconöls (eines linearen Polymethylsiloxans) mit einem Durchschnittsmole­ kulargewicht von 10 000 verwendet wurden. Das erhaltene Element wird als "lichtempfindliches Element 2" bezeichnet.
Das hierbei verwendete Siliconöl ist in dem Schritt des Trock­ nens durch Erhitzen der Beschichtungsmasse nicht flüchtig.
Beispiel 2
Ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element wurde in derselben Weise und aus denselben Materialien wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei das Auftragen jedoch durch Aufspritzen bzw. Aufsprühen erfolgte.
Das erhaltene Element wird als "lichtempfindliches Element 3′′ bezeichnet.
Vergleichsbeispiel 2
Ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element wurde in derselben Weise und aus denselben Materialien wie in Vergleichs­ beispiel 1 hergestellt, wobei das Auftragen jedoch durch Auf­ spritzen bzw. Aufsprühen erfolgte.
Das erhaltene Element wird als "lichtempfindliches Element 4" bezeichnet.
Die lichtempfindlichen Elemente 1 bis 4 wurden Haltbarkeitsprü­ fungen unterzogen, bei denen unter Anwendung eines Kopiergeräts (NP3525, hergestellt von Canon K.K.) 50 000 Blatt kopiert und elektrophotographische Eigenschaften gemessen wurden. Die Ergeb­ nisse sind nachstehend gezeigt. "VD" bedeutet das Potential ei­ nes dunklen Bereichs, während "VL" das Potential eines hellen Bereichs bedeutet.
Anfangswerte
Werte nach Kopieren von 50 000 Blatt
Beispiel 3
Ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element wurde in derselben Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch in der Beschichtungsmasse für die elektrisch leitende Schicht an­ stelle des Verbindungsbeispiels (4) 0,32 Teile eines anderen flüchtigen Egalisiermittels, und zwar des Verbindungsbeispiels (5) (Molekulargewicht: 370), verwendet wurden. Das erhaltene Element wird als "lichtempfindliches Element 5" bezeichnet.
Beispiel 4
Ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element wurde in derselben Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch in der Beschichtungsmasse für die elektrisch leitende Schicht an­ stelle des Verbindungsbeispiels (4) 0,32 Teile eines anderen flüchtigen Egalisiermittels, und zwar des Verbindungsbeispiels (2) (Molekulargewicht: 384), verwendet wurden. Das erhaltene Element wird als "lichtempfindliches Element 6" bezeichnet.
Beispiel 5
Schichten wurden bis zu einer Ladungsträger erzeugenden Schicht in derselben Weise wie in Beispiel 1 gebildet.
Dann wurden 10 Teile einer Hydrazonverbindung mit der nachste­ henden Strukturformel:
15 Teile Polymethylmethacrylat, 2 Teile eines pulverförmigen Te­ trafluorethylenharzes (PTFE) und 0,05 Teile des Verbindungsbei­ spiels (6) (Molekulargewicht: 444) als flüchtiges Egalisiermit­ tel mit Hilfe einer Sandmühle unter Verwendung von Glasperlen (Durchmesser: 1 mm) 4 h lang in 60 Teilen Chlorbenzol vermischt, wodurch eine Beschichtungsmasse mit darin dispergiertem PTFE er­ halten wurde. Die Beschichtungsmasse wurde durch Tauchen auf die vorstehend erwähnte Ladungsträger erzeugende Schicht aufge­ tragen und 1 h lang mit Heißluft bei 100°C getrocknet, wodurch eine 20 µm dicke Ladungsträger transportierende Schicht gebil­ det wurde. Auf diese Weise wurde ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element hergestellt, das als "lichtempfindli­ ches Element 7" bezeichnet wird.
Vergleichsbeispiel 3
Ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element wurde in derselben Weise wie in Beispiel 5 hergestellt, wobei jedoch als flüchtiges Egalisiermittel anstelle des Verbindungsbeispiels (6) 0,01 Teile eines Siliconöls (eines modifizierten Polymethylsi­ loxans) mit einem Durchschnittsmolekulargewicht von 10 000 ver­ wendet wurden. Das erhaltene Element wird als "lichtempfindli­ ches Element 8" bezeichnet.
Das hierbei verwendete Siliconöl ist in dem Schritt des Trock­ nens durch Erhitzen der Beschichtungsmasse nicht flüchtig.
Die lichtempfindlichen Elemente 5 bis 8 wurden in derselben Wei­ se wie die lichtempfindlichen Elemente 1 bis 4 bewertet, wobei die folgenden Ergebnisse erhalten wurden.
Anfangswerte
Werte nach Kopieren von 50 000 Blatt
Beispiel 6
Ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element wurde in derselben Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch je­ weils die Mengen der Lösungsmittel verdoppelt wurden und das Auftragen unter Anwendung eines Strahls bzw. eines Stabes er­ folgte. Das erhaltene Element wird als "lichtempfindliches Ele­ ment 9" bezeichnet.
Vergleichsbeispiel 4
Ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element wurde in derselben Weise wie in Vergleichsbeispiel 1 hergestellt, wobei jedoch jeweils die Mengen der Lösungsmittel verdoppelt wurden und das Auftragen unter Anwendung eines Strahls bzw. eines Sta­ bes erfolgte. Das erhaltene Element wird als "lichtempfindli­ ches Element 10" bezeichnet.
Die lichtempfindlichen Elemente 9 und 10 wurden in derselben Weise wie die lichtempfindlichen Elemente 1 bis 4 bewertet, wo­ bei die folgenden Ergebnisse erhalten wurden.
Anfangswerte
Werte nach Kopieren von 50 000 Blatt

Claims (22)

1. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein flüch­ tiges Egalisiermittel enthält.
2. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das flüchtige Egalisiermittel einen Siedepunkt von nicht mehr als 300°C hat.
3. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das flüchtige Egalisiermittel ein Durchschnittsmolekulargewicht von nicht mehr als 1000 hat.
4. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das flüchtige Egalisiermittel ein Durchschnittsmolekulargewicht von nicht mehr als 600 hat.
5. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das flüchtige Egalisiermittel ein Siliconöl mit einer Siloxan­ struktur ist.
6. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Siliconöl durch die nachstehende allgemeine Formel (I) oder (II) ausgedrückt wird: worin R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉ und R₁₀ jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Alkoxygruppe bedeuten, die z.B. durch einen anderen Substituenten oder ein Halogenatom substituiert sein können, und m und n jeweils eine ganze Zahl bedeuten.
7. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 und R10 jeweils unabhängig aus der Methyl-, der Ethyl-, der Methoxy- und der Ethoxygruppe ausgewählt sind.
8. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß m die ganze Zahl 2, 3 oder 4 bedeutet.
9. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß n die ganze Zahl 4, 5 oder 6 bedeutet.
10. Beschichtungsmasse für ein elektrophotographisches lichtemp­ findliches Element nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Siliconöl durch die nachstehende Formel (III) ausgedrückt wird:
11. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements, bei dem eine Beschichtungsmasse für das elektrophotographische lichtempfind­ liche Element aufgetragen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsmasse ein flüchtiges Egalisiermittel enthält und die Beschichtungsmasse durch Erhitzen unter Verflüchtigung des Egalisiermittels getrocknet wird, um einen Beschichtungsfilm zu bilden.
12. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das flüchtige Egalisiermittel einen Siedepunkt von nicht mehr als 300°C hat.
13. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das flüchtige Egalisiermittel ein Durchschnittsmolekulargewicht von nicht mehr als 1000 hat.
14. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das flüchtige Egalisiermittel ein Durchschnittsmolekulargewicht von nicht mehr als 600 hat.
15. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das flüchtige Egalisiermittel ein Siliconöl mit einer Siloxanstruktur ist.
16. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das Siliconöl durch die nachste­ hende allgemeine Formel (I) oder (II) ausgedrückt wird: worin R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉ und R₁₀ jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Alkoxygruppe bedeuten, die z.B. durch einen anderen Substituenten oder ein Halogenatom substituiert sein können, und m und n jeweils eine ganze Zahl bedeuten.
17. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 und R10 jeweils unabhängig aus der Methyl-, der Ethyl-, der Methoxy- und der Ethoxygruppe ausgewählt sind.
18. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß m die ganze Zahl 2, 3 oder 4 be­ deutet.
19. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß n die ganze Zahl 4, 5 oder 6 be­ deutet.
20. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß das Siliconöl eine Verbindung ist oder enthält, die durch die nachstehende Formel (III) aus­ gedrückt wird:
21. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsmasse durch Tauchen aufgetragen wird.
22. Verfahren zur Bildung eines Beschichtungsfilms eines elek­ trophotographischen lichtempfindlichen Elements nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsmasse unter An­ wendung eines Strahles bzw. eines Stabes aufgetragen wird.
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