DE3926673A1 - Verfahren und vorrichtung zur poliertuchaufbereitung beim chemomechanischen polieren, insbesondere von halbleiterscheiben - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur poliertuchaufbereitung beim chemomechanischen polieren, insbesondere von halbleiterscheibenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft Verfahren und Vorrichtung zur Polier
tuchaufbereitung beim chemomechanischen Polieren, insbeson
dere von Halbleiterscheiben, durch Einwirkung von
Flüssigkeit auf das Poliertuch.
Beim chemomechanischen Polieren von Scheiben, insbesondere
Halbleiterscheiben, bei dem eine oder beide Scheibenoberflä
chen mit Hilfe von Poliertüchern behandelt werden, die mit
einem meist auf Basis von Silicaten oder Kieselsäuren zube
reiteten Poliermittel beaufschlagt und auf eine bewegte, in
der Regel rotierende ebene Polierfläche aufgespannt sind,
nimmt erfahrungsgemäß mit steigender Einsatzdauer der
Poliertücher sowohl der Abtrag als auch die geometrische
Qualität der erhaltenen polierten Scheiben ab. Um diesem aus
der Ein- und Zweiseitenpolitur gleichermaßen bekannten
Effekt zu begegnen, wird in dem im IBM Technical Report TR
22.2341 mit Datum vom 10. April 1980 abgedruckten und im
wesentlichen auf dem Spring Meeting of the Electrochemical
Society in Boston, Massachusetts May 10, 1979 der Öffent
lichkeit zugänglich gemachten Artikel von E. Mendel, P.
Kaplan und A.V. Patsis, "Pad Materials for Chemical-
Mechanical Polishing" vorgeschlagen, in ihrer Leistung
abfallende Poliertücher dadurch zu regenerieren, daß sie mit
einer 10% Methanol-Wasser-Mischung gespült und zusätzlich
mit Faserbürsten abgebürstet werden. Eine solche Behandlung
kann zwar dem Abfall der Abtragsraten entgegenwirken,
während sie die bei steigender Poliertuchstandzeit beobach
tete allmähliche Verschlechterung der Scheibengeometrie,
beispielsweise in Bezug auf die Ebenheit, nicht aufzuhalten
vermag. Für einen Polierprozeß im Produktionsmaßstab sind
Schwankungen beider Parameter gleichermaßen ungünstig.
Die Aufgabe der Erfindung lag also darin, ein Verfahren
anzugeben, nach dem sich bei der Ein- und Zweiseitenpolitur
die Poliertücher so aufbereiten lassen, daß bei langer
Poliertuchstandzeit und gleichbleibend hoher Abtragsrate
gleichzeitig auch eine hohe geometrische Qualität der erhal
tenen polierten Scheiben gewährleistet ist, sowie zu seiner
Durchführung geeignete Vorrichtungen bereitzustellen.
Gelöst wird die Aufgabe durch ein Verfahren, welches dadurch
gekennzeichnet ist, daß nach dem Poliervorgang eine Aufbe
reitungsflüssigkeit unter Druckeinwirkung zum Durchströmen
des Poliertuches gebracht wird, wobei durch den Flüssig
keitsstrom die im Inneren des Poliertuches während des
Poliervorganges entstandenen Rückstände mobilisiert und
zumindest teilweise aus dem Poliertuch ausgetragen werden.
Überraschend wurde nämlich gefunden, daß eine solche unter
Durchströmen und ohne mechanische Beanspruchung des Polier
tuches ablaufende Aufbereitung zu besseren Ergebnissen
führt, als eine Aufbereitung, bei der das Poliertuch auch
mechanisch, beispielsweise mit Bürsten, Abziehklingen oder
anderen, die Oberfläche aufrauhenden Hilfsmitteln bearbeitet
wird.
Das Verfahren eignet sich grundsätzlich zur Anwendung bei
Poliertüchern, welche eine das Durchströmen von Flüssigkei
ten gestattende Hohlraumstruktur besitzen. Solche Poliertü
cher sind bekannt und beispielsweise in dem oben erwähnten
Artikel oder in der EP-A-2 39 040 (angemeldet 20.03.87 mit
Priorität der US-Anmeldung mit Aktenzeichen 8 43 881) sowie in
der dort zitierten und im Recherchenbericht genannten
Patentliteratur, oder in der EP-A-2 91 100 beschrieben. Sie
bestehen in der Regel aus Poromeren (poromerischen Werkstof
fen), meist auf Polyester- oder Polyurethanbasis, in welche
gegebenenfalls auch Fasermaterialien zur Verstärkung einge
lagert sein können. Häufig sind sie auch sandwichartig aus
verschiedenen Schichten aufgebaut und stellen damit ein
poröses durchströmbares Mehrphasensystem dar.
Als Aufbereitungsflüssigkeit kommen, schon aus Kostengrün
den, hauptsächlich wäßrige Phasen in Frage. Grundsätzlich
kann sogar reines, vorzugsweise entsalztes oder durch
Umkehrosmose gereinigtes Wasser eingesetzt werden. Günstig
werden dem Wasser jedoch Agenzien zugesetzt, die die beim
Polieren des jeweiligen Halbleitermaterials im Poliertuch
sich ablagernden Rückstände chemisch anzugreifen und zumin
dest teilweise in Lösung überzuführen vermögen. Beim Polie
ren von Siliciumscheiben werden beispielsweise zur
erfindungsgemäßen Aufbereitung des Poliertuches bevorzugt
alkalische wäßrige Lösungen verwendet, wobei sich der pH-
Bereich von 10 bis 12 besonders bewährt hat. Als Zusätze
haben sich in wäßriger Lösung alkalisch reagierende Verbin
dungen des Ammoniums sowie der Alkalielemente, vor allem die
Hydroxide und Carbonate des Natriums und insbesondere des
Kaliums bewährt. Es wurde gefunden, daß derartige alkalische
Lösungen die Auflösung von beim Poliervorgang im und auf dem
Poliertuch gebildeten silicatischen Rückständen unterstützen
und zugleich die Neubildung von silicatischen Kondensaten
unterbinden. Auch die sich meist in Form eines braunen
Belages absetzenden Phasen von nicht vollständig oxidiertem
Silicium können in der Regel im alkalischen weiteroxidiert
und durch Auflösen zumindest teilweise mobilisiert werden.
Ähnliche Wirkungen können auch bei anderen Polierprozessen
durch auf die Polierrückstände chemisch einwirkende, das
Poliertuch nicht angreifende Zusätze erzielt werden. Beim
Polieren von Germanium- oder Galliumarsenidscheiben können
zur Aufbereitung des Poliertuches beispielsweise wäßrige
Lösungen eingesetzt werden, die als Agenzien beispielsweise
oxidierende Komponenten wie etwa Hypochlorit, z.B. Natrium
hypochlorit enthalten.
Als vorteilhaft hat sich, vor allem bei der Aufbereitung von
beim Polieren von Siliciumscheiben eingesetzten Poliertü
chern, der Zusatz von mindestens drei Kohlenstoffatome im
Molekül enthaltenden Alkoholen, vorteilhaft Organosilanolen,
vorzugsweise Trialkylsilanolen und insbesondere Trimethyl-
oder Triethylsilanol zu der Aufbereitungsflüssigkeit
erwiesen. Es wurde gefunden, daß derartige Zusätze der
Kondensation von Silicaten in der Weise entgegenwirken, daß
die durch solche Kondensate hervorgerufene Verkrustung des
Poliertuches verhindert wird und auch bereits bestehende
Verkrustungen aufgelöst werden können. Diese alkoholischen
Zusätze sind dabei bereits in geringen Konzentrationen
wirksam; so konnten im Konzentrationsbereich von 0.01 bis 1
Gew.% Silanol, bezogen auf die jeweilige Gesamtlösung, gute
Ergebnisse erzielt werden.
In den meisten Fällen hat es sich auch als ausreichend
erwiesen, derartige Zusätze nicht bei jedem, sondern nur
periodisch beispielsweise bei jedem fünf- bis fünfzehnten
Aufbereitungsschritt anzuwenden. Dies gilt gleichermaßen für
den Zusatz von Alkoholen wie auch die Rückstände chemisch
angreifenden Verbindungen, die vorteilhaft gleichzeitig,
aber auch aufeinanderfolgend als Zusätze in der Aufberei
tungsflüssigkeit angewendet werden können. Ein solches
Vorgehen empfiehlt sich auch, um den Verbrauch an den oft
teuren Zusatzstoffen niedrig zu halten.
Die Druckbedingungen, unter denen die Aufbereitungsflüssig
keit auf das Poliertuch aufgebracht wird, spielen eine
wichtige Rolle. Sie sollen einerseits eine ausreichende
Eindringtiefe der Flüssigkeit in das Poliertuchinnere und
eine genügende Durchströmstrecke gewährleisten und anderer
seits sicherstellen, daß das Poliertuch auf seiner freien
Oberfläche von einem Flüssigkeitsfilm bedeckt ist, so daß
beispielsweise ein direkter mechanischer Kontakt zwischen
der empfindlichen Poliertuchoberfläche und zum Aufbringen
der Aufbereitungsflüssigkeit oder zum Abstreifen der aus der
Poliertuchoberfläche austretenden Flüssigkeit verwendeten
Vorrichtungen oder Hilfsmitteln nicht stattfindet. Dabei
sind im wesentlichen Einflüsse durch die Poliertuchstruktur,
die Geometrie der Austrittsöffnungen, durch welche die
Aufbereitungsflüssigkeit auf das Poliertuch aufgebracht
wird, die Geometrie von dafür verwendeten Hilfsmitteln bzw.
Vorrichtungen sowie durch deren Eigengewicht und/oder
zusätzliche Druckeinwirkung auftretende Druckkräfte zu
berücksichtigen. Bei der großen Anzahl der zusammenwirkenden
Parameter werden zweckmäßig geeignete Druckbedingungen
jeweils in Vorversuchen ermittelt und auf den speziellen
Fall zugeschnitten.
Nachstehend wird an Hand der Fig. 1 und 2 eine mögliche
Ausführungsform einer zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens geeigneten Vorrichtung in einer Draufsicht und im
Querschnitt sowie das Verfahren selbst beispielhaft näher
erläutert. Einander entsprechende Bestandteile sind in
beiden Figuren mit den gleichen Bezugsziffern versehen.
Fig. 1 zeigt in einer Draufsicht einen Ausschnitt aus einem
Polierteller 1 einer handelsüblichen Poliermaschine, der mit
einem Poliertuch 2 aus beispielsweise Polyurethan bespannt
ist. Auf den Polierteller aufgelegt ist, schematisch darge
stellt, eine Vorrichtung 3 zur Durchführung des erfindungs
gemäßen Aufbereitungsprozesses. Sie besteht aus einer
flachen Grundplatte 4, beispielsweise aus genügend abrieb
festen Kunststoffen wie Polyvinylchlorid, Polypropylen,
Polyurethan, Polytetrafluorethylen oder Fluorthermoplasten,
oder Metallen wie Stählen, Aluminium oder Aluminiumlegierun
gen oder Titan, welche gegebenenfalls auch mit Kunststoff
beschichtungen, vorteilhaft auf Basis von Fluorthermopla
sten, versehen sein können. Die Grundplatte kann als massi
ver oder als Hohlkörper gestaltet sein. Bei der Material
auswahl ist natürlich die Kontaminationsgefahr zu berück
sichtigen; andererseits muß auch eine genügende Druckfestig
keit und Formstabilität gewährleistet sein, um den ungestör
ten Aufbau des für das Durchströmen der Aufbereitungs
flüssigkeit erforderlichen Druckfeldes zu ermöglichen.
Beim Einsatz zur Aufbereitung der Poliertücher in Einseiten
poliermaschinen ist es ausreichend, wenn nur die dem Polier
teller zugewandte Arbeitsfläche der Grundplatte eben ist,
während bei der Zweiseitenpolitur die Grundplatte günstig
auf der Ober- und Unterseite planparallele ebene Auflage-
bzw. Arbeitsflächen aufweist, da dann die Aufbereitung des
oberen und unteren Poliertuches gleichzeitig erfolgen kann.
Bewährt haben sich quader- oder leistenförmige Grundplatten,
wobei jedoch der Einsatz von Grundplatten mit anders gestal
teten Arbeitsflächen, die sich beispielsweise radial nach
außen erweitern, nicht ausgeschlossen ist.
Zweckmäßig sind an der Grundplatte innere und äußere
Positionierhilfsmittel 5 und 6 angebracht, beispielsweise
Stifte, Zapfen oder Haken, die es gestatten, die Grundplatte
in eine feste Arbeitsposition bezüglich des rotierenden
Poliertuches zu bringen und in dieser zu halten.
In der jeweils dem Poliertuch zugewandten Arbeitsfläche der
Grundplatte sind Austrittsöffnungen 7 vorgesehen, die bevor
zugt als Schlitze gestaltet sind, welche nahezu die gesamte
Breite des Poliertuches überspannen. Es wurde gefunden, daß
sich mit schlitzförmigen Austrittsöffnungen eine besonders
gleichmäßige Durchströmung des Poliertuches erzielen läßt,
und insbesondere die Ausbildung von schlecht durchströmten
Bereichen, in denen sich Polierrückstände im Poliertuchinne
ren absetzen oder gar anreichern können, verhindert werden
kann. Begünstigt wird dies außerdem durch die zu den
Schlitzen parallel verlaufenden Kanten der Grundfläche der
bevorzugt leistenförmigen Grundplatte, welche dabei gewähr
leisten, daß nahezu über die gesamte Poliertuchbreite die
von der Aufbereitungsflüssigkeit durchströmte Strecke gleich
lang ist. Grundsätzlich ist nur ein derartiger Schlitz für
die Aufbereitung ausreichend. Vorteilhaft werden jedoch
mindestens zwei, günstig parallel zu den jeweils benachbar
ten Längskanten der Arbeitsfläche verlaufende, Schlitze
vorgesehen, da sich dann die beispielsweise durch apparate
oder verfahrenstechnisch bedingte Ausnehmungen im Poliertel
ler, wie Schlitze, Kanäle, Spalte oder Öffnungen, hervorge
rufenen Druckabfälle im sich zwischen diesem, dem Poliertuch
und der Grundplatte durch die zugeführte Aufbereitungsflüs
sigkeit aufbauenden Druckfeld weniger störend auswirken.
Dies gilt insbesondere für die Zweiseitenpolitur.
Bei der Dimensionierung der Schlitze ist insbesondere zu
beachten, daß sie nur so weit an den Poliertuchrand heran
reichen, daß ein Durchbrechen der Aufbereitungsflüssigkeit
in diesem Bereich ausgeschlossen werden kann, was zum Zusam
menbruch des Druckfeldes und letztlich bis zur mechanischen
Beschädigung des Poliertuches führen kann. Die erforderliche
Schlitzbreite wird zweckmäßig in Vorversuchen ermittelt; sie
kann überschlagsmäßig bei Kenntnis des zur Verfügung stehen
den Druckes der Aufbereitungsflüssigkeit, im Regelfall also
des Leitungsdruckes der Wasserversorgung, abgeschätzt
werden.
Eine andere Möglichkeit besteht beispielsweise darin, die
Aufbereitungsflüssigkeit durch über die Unterseite der
Grundplatte, vorteilhaft gleichmäßig, verteilte Austritts
öffnungen mit rundem, ovalem oder polygonalem Querschnitt
austreten zu lassen. Auch Anordnungen mit gegeneinander
versetzten oder gestaffelten, zu den Längskanten der Grund
platte parallelen oder schräg verlaufenden sowie ringförmi
gen Schlitzgruppen sind denkbar, sofern eine gleichmäßige
Beaufschlagung des Poliertuches gewährleistet ist.
Bei der Aufbereitung von bei der Einseitenpolitur eingesetz
ten Poliertüchern sind die Grundplatten an ihrer Oberseite
geschlossen und die Austrittsöffnungen befinden sich nur an
der dem aufzubereitenden Poliertuch zugewandten Seite der
Grundplatte. Dies gilt auch, wenn bei Zweiseitenpolieranord
nungen das obere und das untere Poliertuch mittels separa
ter, jeweils nur einseitig wirksamer Vorrichtungen
aufbereitet werden soll. Vorteilhafter ist in diesem Fall
jedoch die Aufbereitung mit Hilfe von Grundplatten, die
Austrittsöffnungen an der Unter- und Oberseite besitzen und
daher die gleichzeitige Einwirkung der Aufbereitungsflüssig
keit auf das untere und das obere Poliertuch ermöglichen.
Dabei kann auch über den oberen Polierteller in der vom
eigentlichen Poliervorgang her bekannten Weise leicht der
erforderliche Arbeitsdruck eingestellt werden.
Die oberen und unteren Austrittsöffnungen können dabei
miteinander verbunden sein und jeweils gemeinsamen Druck
systemen angehören oder aber getrennt und voneinander
unabhängigen Drucksystemen zugehörig sein.
Die Versorgung der Grundplatte bzw. der Austrittsöffnungen
mit Aufbereitungsflüssigkeit kann beispielsweise über
Zuleitungen 8 erfolgen. Günstig werden dabei, aus den bereits
erwähnten Gründen, mindestens zwei voneinander getrennte
Versorgungssysteme vorgesehen, um gegenüber Druckschwankun
gen weniger empfindlich zu sein. Zweckmäßig sind die Zulei
tungen an eines oder mehrere Reservoire angeschlossen, in
welchen die Aufbereitungsflüssigkeit vorgelegt ist. Der
erforderliche Arbeitsdruck kann auf verschiedene Art und
Weise erzeugt werden, beispielsweise hydrostatisch durch
erhöhte Position der Reservoire gegenüber der Grundplatte,
oder durch auf die Flüssigkeit einwirkende Preßgase wie z.B.
Preßluft, oder durch Pumpen. Obwohl grundsätzlich der
Arbeitsdruck nach oben hin keinen Beschränkungen unterliegt,
werden in der Regel diejenigen Drücke nur in Ausnahmefällen
eingesetzt, bei denen der apparative sowie der bedienungs-
und sicherheitstechnische Aufwand unverhältnismäßig hoch
wird. In der Regel ist ohnehin der bei den üblichen Flüssig
versorgungssystemen, z.B. Wasserleitungen, vorgesehene
Leitungsdruck ausreichend.
Fig. 2 zeigt im Querschnitt schematisch in einer Anordnung
zur Zweiseitenpolitur die jeweils mit einem Poliertuch 2
bespannten unteren und oberen Polierteller 1, die sich
gegensinnig bewegen, beispielsweise rotieren. Dazwischen
befindet sich die Grundplatte 4, aus deren oberen und unte
ren Austrittsöffnungen 7 und 7′, die zwei separaten Versor
gungssystemen angehören, Aufbereitungsflüssigkeit gedrückt
wird. Wie durch die Pfeile angedeutet, dringt diese durch
die Poliertuchoberfläche in das Innere der beiden Poliertü
cher ein, durchströmt dieses und tritt am Ende der Grund
platte wieder aus den Poliertüchern aus. Die durchströmte
Strecke entspricht dabei im wesentlichen dem Abstand zwi
schen den Austrittsöffnungen und den Kanten der Grundplatte,
hinter denen die Wirkung des Druckfeldes aufhört, so daß die
Aufbereitungsflüssigkeit wieder austreten kann. Auf ihrem
Weg durch das Poliertuchinnere löst sie dabei die dort
abgelagerten, beim Polierprozeß entstandenen Rückstände
teils chemisch auf, teils mechanisch ab, führt sie gelöst
bzw. in Form von mobilisierten Partikeln im Flüssigkeits
strom mit, und trägt sie schließlich beim Austreten aus dem
Poliertuchinneren aus, welches dadurch bei genügend langer
Aufbereitungszeit in einen dem ursprünglichen nahekommenden,
nahezu rückstandsfreien Zustand übergeführt werden kann.
Im allgemeinen haben sich Aufbereitungszeiten von 2 bis 60,
vorzugsweise 5 bis 20 Minuten als ausreichend erwiesen, um
ein Poliertuch so weit zu regenerieren, daß es im Polierer
gebnis hinsichtlich Abtragsrate und Scheibengeometrie wieder
einem unverbrauchten Poliertuch entspricht.
Das bei dem Aufbereitungsschritt dem Poliertuch im Bereich
der Grundplatte aufgeprägte Druckfeld besitzt seine höchsten
Werte bei und zwischen den beiden Austrittsöffnungen. Nach
außen zu sinkt dann der Druck nahezu linear ab, bis er an
den Kanten der Grundplatte den Umgebungswert erreicht hat.
Letztlich ergibt sich, vereinfacht betrachtet, ein trapez
förmiges Druckfeld, das an den Stirnflächen gestört ist.
Wenn der Druck der aus den Austrittsöffnungen ausströmenden
Aufbereitungsflüssigkeit den erforderlichen Grenzwert über
steigt, wird die Grundplatte gegenüber dem unteren Polier
tuch und das obere Poliertuch gegenüber der Grundplatte
geringfügig angehoben, und es bildet sich zwischen den
Arbeitsflächen und den Tüchern ein dünner, ebenfalls durch
strömter Spalt aus. Dieser wirkt in der Art eines hydrosta
tischen Lagers, so daß das Poliertuch nicht mehr als
Überträger von Druckkräften auf den Polierteller wirkt. Dies
gilt sowohl bei relativ zur Grundplatte ruhendem wie auch
bewegtem Poliertuch. Wie bereits erläutert, wird dieser
Grenzwert zweckmäßig empirisch, hauptsächlich nach Polier
tuchtyp sowie Grundplatten- und Poliergerätverhalten in
Vorversuchen ermittelt, da sich derartige Faktoren oft
schwer im voraus abschätzen lassen.
Bei der Aufbereitung wird eine Relativbewegung zwischen der
Grundplatte und dem Poliertuch eingestellt, so daß die im
Bereich der Grundplatte aufgebaute durchströmte Zone nach
und nach, vorteilhaft wiederholt, das Poliertuch durchwan
dert. Dies kann bevorzugt bei ruhender Grundplatte und
bewegtem Tuch, grundsätzlich aber auch bei ruhendem Tuch und
bewegter Grundplatte oder Bewegung von beiden geschehen.
Günstig werden jeweils mehrere, über das Poliertuch verteil
te durchströmte Zonen vorgesehen, schon um die Aufberei
tungsdauer kurz zu halten.
Voraussetzung für ein einwandfrei wirkendes Aufbereitungs
verfahren ist jedoch, daß die Poliertuchoberfläche nicht
durch beim Poliervorgang entstandene Beläge zugeschmiert ist
und dadurch das Tuch nicht mehr durchströmbar ist. In
solchen Fällen wird zweckmäßig vor dem eigentlichen Aufbe
reitungsschritt die Poliertuchoberfläche soweit als möglich
von diesen Belägen befreit und dadurch zumindest wieder
teilweise durchströmbar gemacht. Dies kann in manchen Fällen
beispielsweise durch Einwirken von stark alkalischen
Zusätzen erreicht werden. Manchmal ist jedoch ein Wechsel
des Poliertuches unvermeidbar.
Der eigentliche Aufbereitungsvorgang kann wie folgt durchge
führt werden: Zunächst wird nach Entnahme der polierten
Scheiben quer über das nunmehr freie, auf dem unteren
Polierteller aufgespannte Poliertuch die vorgesehene Anzahl
Grundplatten in die vorgesehene Arbeitsposition aufgelegt.
Diese Anzahl entspricht vorteilhaft bei der Einseitenpolitur
der Anzahl der vorhandenen Druckstempel, mittels derer dann
bei der Aufbereitung jeder Grundplatte ein bestimmter, dem
durch die Aufbereitungsflüssigkeit erzeugten Auftrieb entge
genwirkender Arbeitsdruck aufgegeben werden kann. Bei der
Zweiseitenpolitur werden zweckmäßig mindestens drei gleich
dicke Grundplatten gleichmäßig über den unteren Polierteller
verteilt und dann zur Erzeugung des Arbeitsdruckes der obere
Polierteller abgesenkt. Nun wird die Flüssigkeitszufuhr
geöffnet, und die Aufbereitungsflüssigkeit strömt mit dem
vorgesehenen Druck auf die Poliertuchoberfläche, dringt in
das Innere ein und strömt schließlich am Rand der
Arbeitsfläche der Grundplatte wieder aus dem Poliertuch
heraus, wobei nach und nach die im Poliertuch befindliche
Flüssigkeit verdrängt, die Rückstände gelöst und mobilisiert
und schließlich ausgetragen werden. Nach Ausbildung des
durchströmten Spaltes zwischen Grundplatte und Poliertuch,
die sich beispielsweise bei Überwachung des Flüssigkeits
druckes durch eine Druckstabilisierung und -konstanz erken
nen läßt, können der bzw. die Polierteller in Drehung
versetzt werden; die Drehgeschwindigkeit kann in der Regel
auf Werte bis zur Polierdrehzahl gesteigert werden, was
jedoch nicht zwingend vorgeschrieben ist. Wenn die vorgese
hene Aufbereitungszeit, meist etwa 5 bis 20 Minuten, abge
laufen ist, wird die Drehbewegung gestoppt, die
Flüssigkeitszufuhr unterbrochen und die Druckstempel bzw.
der obere Polierteller hochgefahren. Nun können die Grund
platten entnommen werden, und eine erneute Polierfahrt kann
beginnen.
Durch das erfindungsgemäße Aufbereitungsverfahren sowie die
zu seiner Durchführung geeigneten Vorrichtungen wird es
ermöglicht, beim Polierprozeß, und zwar sowohl bei der Ein-
und Zweiseitenpolitur wie auch bei Kitt/Templateverfahren,
bei langen Poliertuchstandzeiten gleichbleibend hohe
Abtragsraten zu erzielen und gleichzeitig über die gesamte
Einsatzdauer des Poliertuches hinweg eine hohe geometrische
Präzision der polierten Scheiben (insbesondere hinsichtlich
der Ebenheit) aufrechtzuerhalten. Es eignet sich insbesonde
re zum Einsatz bei Polierprozessen, bei denen eine hohe
geometrische Präzision des Produktes gefordert ist, also in
erster Linie für Halbleiterscheiben, insbesondere aus
Silicium, Germanium oder Galliumarsenid, oder Scheiben für
magnetische Speicher auf Basis von beispielsweise Gallium-
Gadolinium-Granat, aber auch für Scheiben zum Einsatz in
optischen Systemen aus Glas oder Quarz.
Nachstehend wird das erfindungsgemäße Verfahren an Hand
eines Ausführungsbeispiels näher erläutert:
In einer handelsüblichen Anordnung zum zweiseitigen Polieren
von Siliciumscheiben wurden der obere und der untere runde
Polierteller mit einem gebräuchlichen poromeren Poliertuch
auf Polyester/Polyurethanbasis (Poliertuchbreite ca. 50 cm)
bespannt. In dieser Apparatur wurde unter üblichen Polierbe
dingungen (Temperatur ca. 40°C, Druck ca. 50 kPa) eine Folge
von Polierfahrten durchgeführt. Dabei wurden jeweils Chargen
von 25 Siliciumscheiben (Durchmesser ca. 150 mm, Dicke ca.
675 µm, (100)-Orientierung) für 30 Minuten unter Zufuhr
einer im Handel erhältlichen alkalischen, ein SiO2-Sol
enthaltenden Polierlösung poliert.
Anschließend wurde der Poliervorgang beendet, der obere
Polierteller hochgefahren und die polierten Scheiben entnom
men. Zur Ermittlung der Abtragsrate wurde die Scheibendicke
vermessen; sie betrug ca. 615 µm, entsprechend einem durch
schnittlichen Abtrag für alle Scheiben von ca. 60 µm. Die
geometrische Qualität der erhaltenen Scheiben wurde an Hand
des "TTV"-Wertes ("Total Thickness Variation", totale
Dickenvariation) beurteilt, der dem Absolutbetrag der Diffe
renz des maximalen und minimalen gemessenen Dickenwertes
einer Scheibe aus einer Vielzahl von Punktmessungen ent
spricht. Die Messung wurde in bekannter Weise mit Hilfe
eines handelsüblichen Meßgerätes mit einer kapazitiven
Methode vorgenommen, bei der die Scheibe mittels zweier
Sonden bekannten Abstandes von beiden Seiten gleichzeitig
abgetastet wird. Der dabei ermittelte Durchschnittswert für
alle Scheiben betrug ca. 1 µm.
Zur Aufbereitung des Poliertuches, das an einigen Stellen
eine leicht bräunliche Verfärbung erkennen ließ, wurden nun
im 120°-Winkel zueinander drei analog den Figuren gestalte
te, leistenförmige Grundplatten (Länge ca. 50 cm, Breite ca.
25 cm, Dicke ca. 3 cm) aus Polyvinylchlorid auf den unteren
Polierteller aufgelegt und mit Hilfe von äußeren und inneren
Zapfen in ihrer Arbeitsposition quer über dem Poliertuch
befestigt. Die obere und untere Arbeitsfläche der Grundplat
te war jeweils in der Mitte mit einem Paar von Schlitzen
(Schlitzbreite ca. 3 mm, Schlitzabstand ca. 3 cm) versehen,
die bis auf etwa 2 cm an den inneren und äußeren Rand des
Poliertuches heranreichten. Über jeweils zwei voneinander
unabhängige Zuleitungen konnten die auf der Ober- und Unter
seite jeder Grundplatte einander gegenüberliegenden Schlitze
getrennt mit Aufbereitungsflüssigkeit versorgt werden.
Diese bestand bei der Standardaufbereitung aus Wasser, bei
der Aufbereitung nach jeder zehnten Polierfahrt jedoch aus
einer wäßrigen Lösung von ca. 0.4 Gew.-% Kaliumcarbonat, der
zusätzlich ca. 0.05 Gew.-% Trimethylsilanol zugesetzt waren.
Die Aufbereitungsflüssigkeit war in einem Reservoir vorge
legt und konnte mit dem im Gebäude vorliegenden Wasserlei
tungsdruck von von ca. 500 kPa auf die Poliertücher
aufgebracht werden.
Nun wurde der obere Polierteller nach unten gefahren und mit
einem Druck von ca. 50 kPa auf die Grundplatten aufgelegt.
Danach wurde die Zufuhr der Aufbereitungsflüssigkeit aufge
nommen, bis durch die gleichmäßig an den Rändern der Grund
platten aus dem Poliertuch austretende Flüssigkeit zu
erkennen war, daß sich ein geeignetes Druckfeld aufgebaut
hatte. Jetzt konnten der obere und untere Polierteller in
gegensinnige Drehung versetzt werden, und der eigentliche
Aufbereitungsvorgang begann, bei dem durch die das Polier
tuch durchströmende Flüssigkeit nach und nach die Rückstände
des Poliervorganges im Poliertuchinneren mobilisiert und
ausgetragen wurden. Als dieser Vorgang nach etwa 10 Minuten
beendet wurde, war auf dem Poliertuch keine Verfärbung mehr
zu erkennen.
Die nachfolgende Polierfahrt erbrachte hinsichtlich Abtrag
und Scheibengeometrie ("TTV"-Wert) dieselben Ergebnisse wie
die vorhergehende.
In der hier dargestellten Weise wurden nacheinander sechzig
Polierfahrten, jede gefolgt von einer zehnminütigen erfin
dungsgemäßen Poliertuchaufbereitung, durchgeführt. Auch
danach lag der Abtrag unverändert bei ca. 60 µm und der
"TTV"-Wert bei ca. 1 µm. Das Poliertuch ließ keinerlei
braunen Belag erkennen.
In einem Vergleichsversuch wurde in der gleichen Anordnung,
mit neu aufgespannten und frischen Poliertüchern derselben
Spezifikation, unter den gleichen Polierbedingungen eine
weitere Reihe von Polierfahrten durchgeführt. Die dazwi
schengeschalteten Aufbereitungsschritte wurden jedoch in der
konventionellen Art und Weise durchgeführt, indem Bürsten
zwischen die Polierteller gelegt wurden, welche anschließend
in gegensinnige Drehung versetzt wurden. Gleichzeitig wurde
dabei über das Poliermittelzugabesystem eine Lösung aus
Methanol/Wasser zugeführt. Der Aufbereitungsvorgang dauerte
ebenfalls zehn Minuten.
Von Polierfahrt zu Polierfahrt konnte eine allmähliche
Abnahme der Abtragsrate und eine Verschlechterung der Schei
bengeometrie beobachtet werden. Bei der zwanzigsten
Polierfahrt betrug der Abtrag trotz regelmäßiger Tuchaufbe
reitung nur noch ca. 36 µm, während sich der "TTV"-Wert auf
ca. 2.5 µm verschlechtert hatte, wobei die Dickenvariation
insbesondere im Randbereich der Scheiben angestiegen war.
Zugleich hatte sich an einigen Stellen der Poliertücher ein
brauner Belag aufgebaut, der sich durch die Aufbereitung
nicht mehr entfernen ließ.
Claims (10)
1. Verfahren zur Poliertuchaufbereitung beim
chemomechanischen Polieren, insbesondere von
Halbleiterscheiben, durch Einwirkung von Flüssigkeit auf
das Poliertuch, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem
Poliervorgang eine Aufbereitungsflüssigkeit unter
Druckeinwirkung zum Durchströmen des Poliertuches
gebracht wird, wobei durch den Flüssigkeitsstrom die im
Inneren des Poliertuches während des Poliervorganges
entstandenen Rückstände mobilisiert und zumindest
teilweise ausgetragen werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß eine wäßrige alkalische Lösung als
Aufbereitungsflüssigkeit eingesetzt wird.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß eine Alkalihydroxid oder
Alkalicarbonat gelöst enthaltende wäßrige Lösung
als Aufbereitungsflüssigkeit eingesetzt wird.
4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Aufbereitungsflüssigkeit als Zusatz Organosilanol,
insbesondere Trialkylsilanol enthält.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Durchströmen
des Poliertuches zonenweise erfolgt.
6. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach
einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, bestehend
aus einer das Poliertuch (2) quer überspannenden
Grundplatte (4) mit mindestens einer ebenen, mit
Austrittsöffnungen (7) für die
Aufbereitungsflüssigkeit versehenen Arbeitsfläche,
sowie mit mindestens einem die Einspeisung der
Aufbereitungsflüssigkeit unter Druck gestattenden
Ansatzstück (8).
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Grundplatte (4) leistenförmig ausgebildet
ist.
8. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 6
bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß als
Austrittsöffnung (7) mindestens ein Schlitz
vorgesehen ist.
9. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 6
bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß als
Austrittsöffnungen (7) in jeder Arbeitsfläche
mindestens zwei zu deren benachbarten Längskanten
parallele Schlitze vorgesehen sind, deren Länge
geringer ist als die Breite des aufzubereitenden
Poliertuches (2).
10. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 6
bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Einspeisung
der Aufbereitungsflüssigkeit über mindestens zwei
getrennte Versorgungssysteme erfolgt und die
Austrittsöffnungen (7, 7′) mindestens zwei
voneinander unabhängige Freigabesysteme bilden.
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