DE3924454C2 - - Google Patents
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Description
Molekulares Mikronetzwerk für elektronische Netzwerke,
Verfahren zu dessen Herstellung, Verfahren zum Herstellen
eines leitenden Netzwerks und Verfahren zum Herstellen einer Maske.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein molekulares
Mikronetzwerk für elektronische Netzwerke und das
Verfahren zu seiner Herstellung. Weiterhin betrifft die
vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Herstellen eines
leitenden Mikronetzwerks für einen Chip sowie ein
Verfahren zum Herstellen einer Maske für die Herstellung
von Chips durch photolithographische Verfahren.
Die Nukleinsäure DNA ist eine polymere Verbindung, die durch verschiedene
physikalische und enzymatische Techniken, wie
Denaturation/Renaturation, enzymatische Synthese,
Modifizierungsreaktionen und Proteinbindung bearbeitet
werden kann.
Aus der GB-PS 14 72 191 ist bekannt, daß DNA als
organisches Halbleitermaterial für
Halbleiterbauelemente verwendet werden kann.
Molekulare Mikronetzwerke für elektronische Netzwerke
sind in der US-PS 41 03 064 sowie in der US-PS 41 03 073
offenbart. Bei dem in der US-PS 41 03 064 beschriebenen
Mikronetzwerk handelt es sich um ein Netzwerk, das durch
die programmierte Bewegung eines Elektronenstrahls auf
einer mit einem Film aus einem polymeren Material
bedeckten inaktiven Proteinschicht, die auf einem
Substrat angeordnet ist, hergestellt wird. Das Muster
des Netzwerks wird dabei extern programmiert und durch
die Bewegung des Elektronenstrahls erzeugt.
Das aus der US-PS 41 03 073 bekannte Mikronetzwerk wird
gebildet, indem Monomere eines Enzyms, das eine Reaktion
zur Bildung freien Metalls katalysiert, als Bestandteil
einer Polymerschicht auf ein Substrat aufgetragen werden
und die Struktur der Bereiche, die schließlich die
Reaktion katalysieren und somit das Netzwerk darstellen
sollen, durch Entfernung oder Inaktivierung der davon
verschiedenen Bereiche erzeugt wird. Die Bestimmung der
Struktur des Netzwerks erfolgt durch
elektromagnetische Strahlung oder durch Verwendung
mechanischer Mittel.
Die in diesen beiden Dokumenten offenbarten
Mikronetzwerke werden also gebildet, indem aus einem
zuvor mehrschichtigen Aufbau entweder
die das Netzwerk bildenden Bereiche, wie in der
US-PS 41 03 064 offenbart, oder die das Netzwerk nicht
bildenden Bereiche, wie in der US-PS 41 03 073
offenbart, entfernt werden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein
molekulares Mikronetzwerk für elektronische Netzwerke
bereitzustellen, für dessen Herstellung auf die
Verwendung strukturbestimmender Vorrichtungen, wie z. B.
externer Strahlenquellen, verzichtet werden kann, und bei dem
die Struktur des Mikronetzwerks unmittelbar durch die
molekulare Anordnung der Netzwerkkomponenten selbst
festgelegt ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein
molekulares Mikronetzwerk der eingangs genannten Art,
das doppel- und/oder einzelsträngige
Nukleinsäuremoleküle enthält, wobei das molekulare
Muster des Mikronetzwerks durch gezielt synthetisierte
Nukleinsäuremoleküle und/oder durch Hybridisierung von
Nukleinsäuremolekülen gebildet und auf einem festen
Träger fixiert ist.
Ein weiterer Teil der Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es,
ein Verfahren zur Herstellung eines Mikronetzwerks der
eingangs genannten Art bereitzustellen.
Dieser Teil der Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein
Verfahren, bei dem Nukleinsäure auf einem festen Träger
fixiert wird und durch DNA- und/oder
RNA-Synthesereaktionen und/oder Hybridisierung mit
präkonstruierten Nukleinsäurenetzwerkkomponenten das
Netzwerk gebildet wird.
Ein weiterer Teil der Aufgabe ist es, ein Verfahren zum
Herstellen eines leitenden Mikronetzwerks für einen
Chip bereitzustellen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein
Verfahren, bei dem an ein molekulares Mikronetzwerk der
obengenannten Art elektrisch leitende Substanzen
angelagert werden.
Ein weiterer Teil der Aufgabe ist es, ein Verfahren zum
Herstellen einer Maske für die Chip-Herstellung durch
photolithographische Verfahren zur Verfügung zu stellen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein
Verfahren, umfassend die Schritte:
- a - Herstellen eines molekularen Mikronetzwerks der obengenannten Art;
- b - Umwandeln des molekularen Mikronetzwerks in ein elektronen- und/oder photonendurchlässiges Netzwerk.
Die DNA-Technologie
ermöglicht die oben beschriebene
Konstruktion von selbst-assemblierenden Netzwerken auf
ultramikroskopischer oder monomolekularer Ebene.
Die Nukleinsäurenetzwerke können als Masken in
photolithographischen Verfahren eingesetzt werden, die
heutzutage für die Konstruktion und Produktion von
Computerchips in Gebrauch sind. Die Netzwerke können
durch die Herstellung eines Abdrucks reproduziert
werden, um Replikas herzustellen, die aus anderen
Materialien bestehen, oder sie können als Matrize
benutzt werden zur Ablagerung anderer Materialien, wie
n-dotiertem Galliumarsenid oder Galliumarsenid, die
elektrischen Strom leiten. Die
so konstruierten leitfähigen Elemente können als
Komponenten elektronischer Chips genutzt werden. Die
selbst-assemblierenden Eigenschaften der Nukleinsäuren
können auch verwendet werden, um die für elektronische
Chips benötigten Schaltelemente zu konstruieren.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung beschrieben.
In der Zeichnung zeigt Fig. 1 ein Ausführungsbeispiel
eines molekularen Mikronetzwerk und Fig. 2 Schritte
von Herstellungsverfahren.
Ein DWIP (DNA wire-initiation point) wird konstruiert
mit Hilfe eines DNA-Doppelstranges, der an einem Ende
stumpf ist und am anderen Ende eine sequenzspezifische
einzelsträngige Verlängerung hat, so daß nur ein Ende
das Substrat für DNA-Verlängerung durch Synthese oder
Hybridisierung ist. Der DWIP kann durch verschiedene
Techniken auf einen festen Träger fixiert werden, wie
z. B. durch örtlich fixiert geladene Moleküle oder durch
Sequenz-spezifische DNA-bindende Proteine (wie
Bakteriophagen-DNA-bildende Proteine,
Adenovirus-bindendes Protein, lac-Repressor- oder
synthetische DNA-bindende Proteine) oder durch kovalente
chemische Bindung.
Um zwei Wachstumspunkte zu erhalten, hat der DWIP zwei
sequenzspezifische Einzelstrang-Enden.
Die DNA in dem DWIP kann aus homopolymeren
komplementären Strängen bestehen, wie polydC-polydG oder
polydA-polydT oder aus anderen geeigneten Sequenzen, die
Proteine binden oder bessere Fixierungseigenschaften
haben.
Der DWIP wird durch DNA-Synthese und/oder durch
Hybridisierung eines präsynthetisierten oder natürlichen
spezifischen DNA-Strangs einer bestimmten Länge
verlängert.
Der DWEP (DNA wire-end-point) wird ähnlich konstruiert
wie der DWIP. Die beschriebenen Verlängerungsreaktionen
des DWIP können auch für den DWEP benutzt werden und
damit zu einer Verbindung zwischen DWIP und DWEP führen.
Die Verbindung kann durch Sequenz-spezifische
Nukleinsäurehybridisierung hergestellt werden. Die
Verlängerung eines DWIP kann alternativ so ausgelegt
werden, daß sie direkt mit dem DWEP durch spezifische
Hybridisierung eines bestimmten DNA-Strangs verbunden
wird.
Die Programmierung der Synthese definierter
DNA-Sequenzen, die Verbindung derselben durch
Sequenz-spezifische Hybridisierung und die Schließung
der Einzelstrangunterbrechungen in den so erhaltenen
Doppelsträngen bieten die Möglichkeit, ein Netzwerk nach
Wunsch herzustellen.
Die folgenden Konstruktionen sind durchgeführt
worden: 1) eines doppelsträngigen DNA-Moleküls, das mit
einem einzelsträngig herausragenden polydC an einem
Strang und einem herausragenden polydA an dem anderen
Strang endet; 2) eines einzelsträngigen DNA-Moleküls,
bestehend aus polydG-polydT-Segmenten (gleichlang mit
den herausragenden polydC- und polydA-Strängen der
Synthese Nr. 1). Hybridisierung dieser Sequenzen führt
zu einem Molekül, das aus zwei doppelsträngigen Enden
besteht sowie einer aus zwei DNA-Doppelsträngen
gebildeten Schleife (Fig. 1). Die Komplexität des
Musters kann nach Wunsch variiert werden. Die sich
ergebenden elektrischen Leitungseigenschaften können
hiermit in vorprogrammierter Weise festgelegt werden.
DNA steht in bestimmten Mengen, Größen und
Zusammensetzungen zur Verfügung, z. B. in Form von
Plasmiden, viraler Genome oder synthetischer DNA. Diese
Einheiten können für die Konstruktion von
DNA-Elementen, wofür eine definierte Menge an DNA in
einer definierten Zusammensetzung benötigt wird, benutzt
werden. Durch eine an einen spezifischen Punkt gebundene
Einheit lassen sich durch die darin enthaltene DNA
wünschenswerte Eigenschaften, wie z. B. ein Kontaktpunkt,
herstellen.
Spezifische Kombinationen von DNA-Sequenzen und
DNA-Bindproteinen können zur Konstruktion funktioneller
Teile eines Netzwerks verwendet werden. Zum Beispiel
trägt das Pockenvirus-Genom ein Protein, das spezifisch
an das Ende gebunden ist. Dieses Protein kann benutzt
werden, um das terminale DNA-Fragment an eine Matrize
zu binden. Ferner sind viele spezifisch bindende
Regulatorproteine, wie z. B. lac-Repressor, λ-Repressor,
bekannt. Alternativ können Polypeptide synthetisiert
werden, die an bestimmte DNA-Sequenzen binden. Auch
können modifizierte Nukleotide, die mit spezifischen
Antikörpern binden, am Ende eines DNA-Moleküls eingebaut
werden.
Spezifische Polypeptid-DNA-Komplexe können benutzt
werden, um DNA-Fragmente, z. B. auf einer Matrize oder
an andere DNA-Moleküle, zu fixieren. Zusätzlich oder
alternativ können Antikörper benutzt werden, um
DNA-Proteinkomplexe mit anderen Komponenten oder
Oberflächen zu verbinden. Auch können
DNA-Proteinkomplexe eingesetzt werden, um lokal die
Eigenschaften der elektrischen Leitfähigkeit zu
verändern.
Sequenz-spezifische RNA kann in vitro auf programmierten
DNA-Matrizen synthetisiert werden. Die Eigenschaften von
RNA sind unterschiedlich von jenen der DNA. Ferner kann
RNA durch intra-Strang-Hybridisierung jede gewünschte
Sekundärstruktur annehmen, z. B. haarnadelähnliche
Strukturen, und bietet damit zusätzliche Möglichkeiten,
die elektrische Leitfähigkeit zu modulieren. Gemischte
RNA-DNA-Netzwerke können auf einfache Weise konstruiert
werden durch Programmierung der Reihenfolge der
Hybridisierungs- (oder Synthese-)reaktionen, die für die
Verbindungskonstruktion zwischen DWEP und DWIP verwendet
werden.
Die beschriebenen Nukleinsäurenetzwerke können als
Matrize oder Gerüst benutzt werden, um Replikas zu
produzieren, die aus anderen Materialien bestehen. Die
Replikas können in Form von MOSFETs ausgelegt werden,
MESFETs
und
MODFETs durch
Ablagerung verschiedener Materialien in bestimmter
Abfolge.
A) Anwendung der shadowing-Technik
(Schattierungstechnik) zur Ablagerung des
Leitermaterials. Das Bauprinzip (siehe Fig. 2) basiert
auf der Konstruktion eines molekularen
Nukleinsäure-Protein-Netzwerks auf einem Träger A oder
einem Substrat A mit definierten chemischen
Eigenschaften, die die Durchführung folgender Schritte
erlauben:
1. Beschatten (unter niedrigem Winkel) des Netzwerks
mit Substanz B unter Benutzung der Techniken, die heute
für die Präparierung von DNA für Elektronenmikroskopie
eingesetzt werden, die zu einem nicht abgedeckten
Streifen entlang der DNA führen.
2. a. Aufbringen einer Schicht der Substanz C, z. B.
dotiertes Galliumarsenid, dotiertes Silizium oder eine
ähnliche Leitersubstanz, durch metallorganische
chemische Verdampfung (MOCVD-Verfahren)
auf dem Träger.
b. Aufbringen der Substanz C durch elektrische
Ablagerung nur auf dem Streifen entlang des
Nukleinsäurenetzwerks.
3. Entfernen der Substanz B und der DNA, so daß das
Leiternetz frei bleibt.
4. Aufbringen einer zweiten Leitersubstanz D, z. B.
Galliumarsenid.
5. Falls erwünscht, Entfernen und Ersetzen des Trägers
A durch einen anderen Träger, Material E.
Dieses Verfahren führt zum Austausch des molekularen
Nukleinsäureprotein-Netzwerks mit der Leitersubstanz C,
eingebettet in Leitersubstanz D.
B) Alternativ kann die Leitersubstanz C direkt auf dem
Nukleinsäurenetzwerk abgelagert werden. Danach kann
mit Schritt 5 fortgefahren werden.
In der Standardprozedur der Produktion von
mikroelektronischen Netzwerken werden die Netzwerke in
vergrößerter Form angefertigt und dann photographisch
verkleinert auf den Chip gebracht. In diesen
Standardprozeduren wird ein Netzwerk entworfen und
benutzt, um einen Satz von Master-Masken in Endgröße
herzustellen, die dann auf den Chips reproduziert
werden. Die beschriebenen Nukleinsäurenetzwerke
können direkt als Master-Maske für die Produktion der
mikroelektronischen Netzwerke verwendet werden, wodurch
Größe-reduzierende Zwischenschritte vermieden werden.
Das heißt, die Nukleinsäure- oder die
Nukleinsäure-Protein-Netzwerke können direkt beim
Schritt der photolithographischen Prozedur als
Photomasken verwendet werden, wobei die oxidierte Wabe
(Siliziumdioxid oder ähnliche Verbindungen), mit einer
Schicht lichtempfindlichen Materials bedeckt, dem
UV-Licht durch die Photomaske ausgesetzt wird (in diesem
Fall durch die Nukleinsäure). Auch hier kann das
Netzwerk durch Ablagerung oder Umwandlung, wie unter II
beschrieben, zu einem Netzwerk aus einem anderen
Material überführt werden.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele
der Erfindung
im einzelnen beschrieben.
Vereinfachtes Protokoll für die physische Orientierung
eines DNA-Doppelstrangs, der als Matrize, Träger oder
Maske für die Konstruktion eines Chips benutzt wird:
Schritt 1: Herstellen eines DWIP mit einem
Mikromanipulator auf einer hydrophoben Oberfläche.
Aufbringen eines Mikrotropfens einer Lösung des
λ-Repressors auf eine hydrophobe Oberfläche, wie
Polyethylen, mit Hilfe eines Mikromanipulators
und anschließend eintrocknenlassen des Mikrotropfens.
Schritt 2: Herstellen eines DWEP auf gleiche Weise wie
bei Schritt 1, unter Verwendung einer E.
coli-lac-Repressorlösung, 50 µm vom DWIP entfernt.
Schritt 3: Präparieren eines Plasmid-DNA-Moleküls,
das an einer Stelle den
lac-Operator und in einer Richtung, 165 kb entfernt, den
λ-Operator trägt.
Dadurch, daß beide Operatoren in jedem gewünschten
Abstand innerhalb eines Plasmids integriert werden
können, können DNA-Moleküle der erwünschten Länge mit
endständigen Operatoren durch übliche rekombinante
DNA-Techniken produziert werden. Plasmide geringerer
Länge können in E. coli repliziert werden. Größere
Plasmide können auch als Minichromosomen in der Hefe
Saccharomyces cerevisiae vermehrt werden.
Schritt 4: Behandeln der hydrophoben Oberfläche mit
einer Lösung der DNA aus Schritt 3. Die DNA wird
selektiv und gerichtet an DWIP und DWEP binden.
Für die Konstruktion kürzerer Verbindungen können
Cosmidvektoren benutzt werden. Die Prozedur in Kürze:
Linealisieren der Cosmidvektor-DNA mit einem geeigneten
Restriktionsenzym. Ligieren der linearisierten
Vektor-DNA mit DNA von etwa 49 kb (ungefähr 15 µm), die
an einem Ende einen lac-Operator und am anderen Ende
einen λ-Operator enthält. Die Konstruktion dieses
DNA-Moleküls erfolgt durch übliche rekombinante
DNA-Techniken. Inkubieren der
ligierten DNA in vitro mit einer λ-Packaging-Mixtur,
Transformieren von E. coli, Selektieren und
Amplifizieren der DNA mit den üblichen Techniken. Diese
DNA wird dann nach dem in Beispiel A beschriebenen
Verfahren, beginnend mit Schritt 3, weiterverwendet.
Der Abstand zwischen DWIP und DWEP beträgt 15 µm.
Für längere Verbindungen zwischen DWIP und DWEP kann das
E. coli-Genom mit spezifisch inserierter lysogener
Phagen-DNA oder mit durch homologe Rekombination im
Chromosom inserierten spezifischen DNA-Sequenzen benutzt
werden. Längere definierte DNA-Abschnitte können auch in
der Hefe Saccharomyces cerevisiae durch die Verwendung
von Plasmiden oder artifiziellen
Chromosomen konstruiert und produziert werden.
Solche DNA-Moleküle tragen jeweils die
λ-Operator- und die lac-Operator-DNA-Sequenz in jedem
erwünschten Abstand innerhalb der verwendeten
DNA-Elemente. Die DNA-Moleküle können ein breites
Spektrum an Abständen zwischen DWIP und DWEP
überbrücken, von einigen wenigen Nukleotiden bis mehr
als 1 mm (die Länge des linealisierten E.
coli-Chromosoms) oder mehrere mm (die Länge von
Hefechromosomen). Das einzige Limit wird durch die
Zerbrechlichkeit der langen DNA-Moleküle gesetzt. Diese
hergestellten DNA-Moleküle werden dann nach dem in
Beispiel A beschriebenen Verfahren, beginnend mit
Schritt 3, weiter verwendet.
Claims (11)
1. Molekulares Mikronetzwerk für elektronische
Netzwerke, dadurch gekennzeichnet, daß es doppel-
und/oder einzelsträngige Nukleinsäuremoleküle enthält,
wobei das molekulare Muster des Mikronetzwerks durch
gezielt synthetisierte Nukleinsäuremoleküle und/oder
durch Hybridisierung von Nukleinsäuremolekülen gebildet
und auf einem festen Träger fixiert ist.
2. Mikronetzwerk nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Nukleinsäure einzel- und/oder
doppelsträngige DNA und/oder RNA umfaßt.
3. Mikronetzwerk nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß das Nukleinsäurenetzwerk eine
definierte Orientierung (Start- und Endpunkt),
einzelsträngige und/oder doppelsträngige Bereiche hat,
die durch Position, Länge und Sequenzzusammensetzung
definiert sind, Verzweigungsstellen und
Verbindungsstellen hat.
4. Mikronetzwerk nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß einzelne Bereiche des
Nukleinsäurenetzwerks durch spezifische Bindung an ein
Nukleinsäure-bindendes Protein, welches an einen
hydrophoben Träger gebunden ist, fixiert sind.
5. Mikronetzwerk nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß das Nukleinsäure-bindende Protein
das λ-Repressor-Protein ist.
6. Mikronetzwerk nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß das Nukleinsäure-bindende Protein das
lac-Repressor-Protein ist.
7. Verfahren zum Herstellen eines molekularen
Mikronetzwerks nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß Nukleinsäure auf einem
festen Träger fixiert wird und daß durch DNA und/oder
RNA-Synthesereaktionen und/oder Hybridisierung mit
präkonstruierten Nukleinsäurenetzwerkkomponenten das
Netzwerk gebildet wird.
8. Verfahren zum Herstellen eines leitenden
Mikronetzwerks für einen Chip, dadurch gekennzeichnet,
daß an ein molekulares Mikronetzwerk nach einem der
Ansprüche 1-6 elektrisch leitende Substanzen angelagert
werden.
9. Verfahren nach Anspruch 8, umfassend die folgenden
Schritte:
- a - Herstellen eines molekularen Mikronetzwerks nach einem der Ansprüche 1 bis 6;
- b - Beschatten unter niedrigem Winkel mit einer maskierenden Substanz, so daß der Träger nur entlang der Stränge des Netzwerks frei bleibt;
- c - weiteres Beschatten mit einem Leitermaterial nach dem MOCVD-Verfahren;
- d - selektives Ablösen der maskierenden Substanz und der ursprünglichen Netzwerksubstanz, so daß nur die das leitende Netzwerk bildende Leitersubstanz auf dem Träger zurückbleibt;
- e - Aufbringen einer zweiten Leitersubstanz.
10. Verfahren zum Herstellen einer Maske für die
Herstellung von Chips durch photolithographische
Verfahren, umfassend die folgenden Schritte:
- a - Herstellen eines molekularen Mikronetzwerks nach einem der Ansprüche 1 bis 6;
- b - Umwandeln des molekularen Mikronetzwerks in ein elektronen- und/oder photonendurchlässiges Netzwerk.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die Umwandlung des molekularen Mikronetzwerks in
ein elektronen- und/oder photonendurchlässiges Netzwerk
erfolgt durch Beschatten unter niedrigem Winkel mit
einer maskierenden, elektronen- und/oder photonendichten
Substanz, so daß der Träger nur entlang der Stränge des
Netzwerks freibleibt.
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