DE3913978A1

DE3913978A1 - Beschichtungsverfahren und -vorrichtung

Info

Publication number: DE3913978A1
Application number: DE3913978A
Authority: DE
Inventors: Masashi Takahashi
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1988-04-27
Filing date: 1989-04-27
Publication date: 1989-11-09
Also published as: DE3913978C2; JPH01274867A; US5043187A

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Aufstreichen einer Lösung auf eine Oberfläche eines hohlzylindrischen Substrats oder Schicht-Trägers zwecks Ausbildung einer Überzugsschicht bzw. Beschichtung. Ins besondere betrifft die Erfindung ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Ausbildung einer lichtempfindlichen Schicht auf der Mantelfläche einer zur Verwendung in einem elektrophotographischen Gerät vorgesehenen Trommel.

In einem elektrophotographischen Gerät, z.B. einem Ko piergerät oder Laserdrucker, wird ein Bild unter Verwen dung eines lichtempfindlichen Körpers aus einem Photo- Halbleiter erzeugt. Die Oberfläche des lichtempfindlichen Körpers wird dabei durch Koronaentladung o.dgl. gleich mäßig aufgeladen. Eine ein Bild von einer Vorlage reprä sentierende elektromagnetische Welle wird auf die aufge ladene Fläche des lichtempfindlichen Körpers projiziert, um auf dieser Fläche ein elektrostatisches Latentbild zu erzeugen, an das dann zu seiner Sichtbarmachung (Entwick lung) ein Toner angelagert wird. Das entwickelte Bild wird auf ein Übertragungsmedium bzw. einen Aufzeichnungs träger, z.B. ein Papierblatt, übertragen. Nach der Bild übertragung wird auf der Fläche des lichtempfindlichen Körpers zurückgebliebener Resttoner durch eine Reinigungs klinge abgestreift, und die Restladung wird durch Licht aufstrahlung oder Koronaentladung neutralisiert, worauf ein Kopierzyklus abgeschlossen ist.

Als lichtempfindliche Materialien bei den genannten elektrophotographischen Geräten werden üblicherweise anorganische lichtempfindliche Stoffe, wie Selen, Selen- Tellur, Arsenselenid (As₂Se₃) und Zinkoxid (ZnO), einge gesetzt. Selen und Selen-Tellur besitzen jedoch eine ge ringe Härte und (daher) eine kurze Betriebslebensdauer; diese Stoffe sind für den Menschen giftig, und sie wei sen niedrige Erweichungspunkte auf. Aufladekapazität und Lichtempfindlichkeit von Arsenselenid (As₂Se₃) werden durch optische Ermüdung stark beeinträchtigt. Zudem ist der letztere Stoff auch für den Menschen giftig, und er besitzt mangelhafte Temperatureigenschaften. Zinkoxid besitzt eine mangelhafte Platten- oder Innen-Abriebsbe ständigkeit.

Neuerdings wird anstelle der genannten anorganischen licht empfindlichen Stoffe amorphes Silizium oder ein orga nischer Photoleiter verwendet. Amorphes Silizium besitzt eine hohe Vicker′s Härte, eine hohe Platten- oder Innen- Abriebbeständigkeit (plate wear resistance) und eine hohe Schlagfestigkeit. Zudem besitzt dieser Stoff eine hohe Lichtempfindlichkeit in einem weiten Wellenlängenbereich vom Gesamtbereich des sichtbaren Lichts bis zum nahen Infrarotbereich. Andererseits weist amorphes Silizium eine geringe Ladungskapazität auf; es neigt zum Hervor rufen von Bildverschleierung oder -streifenbildung (image tailing), und es ist kostenaufwendig.

Ein organischer Photoleiter ist billiger als amorphes Silizium und verursacht keine Umweltverschmutzung. Zudem können die Platten- bzw. Innen-Abriebbeständigkeit und die Licht empfindlichkeit dieses Photoleiters durch zweckmäßige Materialwahl verbessert werden. Insbesondere hat ein organischer Photoleiter einer mehrlagigen Struktur bzw. eines Schichtverbands aus einer Ladungserzeugungsschicht, in welcher Elektronen und "Löcher" bzw. Elektronenmangel stellen erzeugt werden, und einer Ladungstransportschicht, in welcher die Elektronen und Löcher transportiert werden, als Werkstoff mit ausgezeichneten Eigenschaften große Aufmerksamkeit auf sich gezogen.

Zur Ausbildung einer mehrlagigen Photoleiterschicht auf einer Mantelfläche eines hohlzylindrischen, leitfähigen Substrats oder Trägers wird das Substrat in eine Lösung aus einem organischen Photoleiter in einem organischen Lösungsmittel getaucht und in lotrechter Richtung (bzw. Stellung) daraus herausgezogen, worauf die organische Photoleiterschicht auf dem Substrat getrocknet wird. Da bei dieser Tauchmethode das Substrat in lotrechter Rich tung aus der Lösung herausgezogen oder entnommen wird, entsteht am unteren Endabschnitt des Substrats aufgrund des Herabfließens der Lösung ein verdickter (Beschichtungs-) Abschnitt oder Lösungs-"Läufer" (sag). Zudem fließt die Lösung am unteren Ende des Substrats auch zu dessen Innen fläche. Infolgedessen wird der organische Photoleiter sowohl auf die untere Stirnfläche als auch die Innen fläche am unteren Ende aufgebracht.

Herkömmliche Techniken zur Beseitigung des Verdickungs abschnitts am unteren Endabschnitt umfassen ein Ver fahren zum Abwischen oder Abstreifen des Verdickungsab schnitts mittels eines mit einem Lösungsmittel befeuch teten Reinigungsbands (JP-PS (Kokai) 60-1 94 459) und ein Verfahren zum Auftragen eines Lösungsmittels auf den Ver dickungsabschnitt mittels einer Drehbürste (JP-PS (Kokai) 60-9 731). Ein Beispiel für eine herkömmliche Methode zum Entfernen von Material von unterer Stirnfläche und Innen fläche am unteren Ende des zylindrischen Substrats ist ein Verfahren, bei dem ein Lösungsmittel mittels einer umlaufenden oder Drehdüse auf die Innenwandfläche am un teren Ende des Substrats aufgesprüht wird (JP-PS (Kokai) 60-1 68 154).

Mit den das Reinigungsband und die Drehbürste verwenden den Methoden kann jedoch das auf die Innen(wand)fläche des zylindrischen Substrats aufgetragenes Material nicht entfernt werden. Zudem entsteht aufgrund von Abrieb oder Verschleiß der Drehbürste Staub, der die Arbeitsraum atmosphäre verunreinigt. Außerdem muß diese Bürste regel mäßig ausgewechselt werden. Mit der Methode des Auf sprühens von Lösungsmittel aus der Düse kann das Material des Verdickungsabschnitts am unteren Ende und an der un teren Stirnfläche des Substrats nicht entfernt werden.

Es steht somit bisher weder ein Verfahren noch eine Vor richtung zum Beseitigen des Verdickungsabschnitts am un teren Endabschnitt des Substrats sowie eines Beschich tungs-Materials vom unteren Ende und von der unteren Stirnfläche zur Verfügung.

Aufgabe der Erfindung ist damit die Schaffung eines Ver fahrens und einer Vorrichtung, mit denen ein Verdickungs abschnitt an einem unteren Ende eines Substrats oder Trägers und ein Beschichtungs-Material von einer Innen fläche und einer unteren Stirnfläche des Substrats ent fernt werden können, und zwar unter wiederholter Verwen dung eines entsprechenden Vorrichtungs-Elements zum Be seitigen des Verdickungsabschnitts und des anhaftenden Materials, wenn das zylindrische Substrat zur Erzeugung eines Beschichtungs-Films auf ihm in eine Beschichtungs lösung eingetaucht wird.

Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren zum Erzeugen einer Überzugsschicht bzw. Beschichtung auf einer Außenfläche eines zylindrischen Substrats oder Schicht-Trägers er findungsgemäß dadurch gelöst, daß das zylindrische Sub strat in eine gelöstes (Beschichtungs-)Material enthal tende Beschichtungslösung eingetaucht wird, das zy lindrische Substrat aus der Beschichtungslösung heraus gezogen bzw. entnommen wird, während seine Achse in einer lotrechten Richtung ausgerichtet ist, ein hinterer Endabschnitt - in Entnahmerichtung gesehen - des Substrats, an dem aufgrund des Herablaufens der Beschichtungslösung längs der Außenfläche des Substrats ein Verdickungsab schnitt in Form eines sog. Läufers entstanden ist, un mittelbar nach dem Entnehmen des Substrats aus der Be schichtungslösung mit einer sich verjüngenden oder ko nischen Außenfläche eines entsprechenden Elements in Be rührung gebracht und dabei der Verdickungsabschnitt vom unteren Ende des Substrats zur konischen Außenfläche über tragen wird und unter Bildung eines Spalts oder Zwischen raums zwischen dem unteren Ende des Substrats und der konischen Außenfläche ein Lösungsmittel für das gelöste Material auf eine Innenwandfläche des Substrats aufge sprüht und damit das Material von einer unteren Stirn fläche und der Innenwandfläche des Substrats entfernt wird.

Gegenstand der Erfindung ist auch eine Läufer-Beseitigungs vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch ein Läufer-Be seitigungselement mit einer sich verjüngenden oder ko nischen Außenfläche, die mit einem unteren Ende eines zylindrischen Substrats oder Schicht-Trägers in Berührung bringbar ist, das bzw. der in eine ein organisches Ma terial enthaltende Lösung eingetaucht wird und nach dem Herausziehen aus dieser Lösung mit einer Überzugsschicht oder Beschichtung versehen ist, und eine im Läufer-Be seitigungselement angeordnete, drehbare Lösungsmittel- Sprüheinrichtung zum Aufsprühen eines Lösungsmittels für das organische Material auf eine Innenwandfläche des Substrats.

Im folgenden sind bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zei gen:

Fig. 1A bis 1E schematische Darstellungen zur Verdeut lichung der Schritte bei einem Verfahren gemäß der Erfindung,

Fig. 2 eine schematische Darstellung eines erfindungs gemäß verwendeten Läufer-Beseitigungselements zum Beseitigen einer (eines) ringförmigen Ver dickung bzw. sog. Läufers und

Fig. 3 eine Schnittansicht einer nach dem erfindungs gemäßen Verfahren hergestellten lichtempfind lichen Trommel.

Erfindungsgemäß wird nach einer an sich bekannten Methode ein hohlzylindrisches Substrat, wie eine Trommel, in eine Beschichtungslösung eingetaucht, die durch Auflösen eines organischen Stoffs, z.B. eines organischen Photoleiters, in einer organischen Lösung bzw. einem organischen Lösungs mittel (z.B. Cyclohexan oder Trichlorethan), gebildet ist; das zylindrische Substrat wird sodann aus der Be schichtungslösung in der Weise entnommen, daß seine Achse in lotrechter Richtung ausgerichtet ist. Die Viskosität der Beschichtungslösung liegt allgemein im Bereich von 3-4 Poise (0,3-0,4 Pas). Der Zustand des zylindrischen Substrats nach dem Herausziehen aus der Beschichtungslö sung ist in Fig. 1A dargestellt. Gemäß Fig. 1A ist auf einer Außenmantelfläche eines zylindrischen Substrats 11 eine Überzugsschicht bzw. Beschichtung 12 ausgebildet, die am unteren Ende des Substrats 11 einen dicken Ab schnitt bzw. Verdickungsabschnitt 13 in Form eines sog. Läufers bildet. Die Beschichtungslösung haftet dabei auch an einer unteren Stirnfläche 11 a und einem Innen wandabschnitt 11 b an.

Gemäß Fig. 1B wird unmittelbar nach dem Entnehmen des Substrats aus der Beschichtungslösung ein Läufer-Besei tigungselement 20 mit dem unteren Ende des Substrats 11 in Berührung gebracht. Das Beseitigungselement 20 ist in Fig. 2 am besten veranschaulicht.

Gemäß Fig. 2 weist das Läufer-Beseitigungselement 20 einen kegelstumpfförmigen Körper 21 auf. Das untere Ende einer sich in Aufwärtsrichtung verjüngenden Außenfläche 21 a des Körpers 21 ist mit einem Säulenteil 22 verbunden. Ein Verjüngungs- bzw. Kegelwinkel R der Außenfläche 21 a des Körpers 21 liegt vorzugsweise im Bereich von 10-45° und vorzugsweise bei etwa 30°. Das von einem säulenförmigen Träger 23 getragene oder gehalterte Läufer-Beseitigungs element 20 ist in einem Behälter 24 angeordnet. Ein säulenförmiges (zylindrisches) Lösungsmittel-Sprühele ment 25 durchsetzt den Behälter 24, den Träger 23, den Säulenteil 22 und den Körper 21. Das Sprühelement 25 steht dabei über das obere Ende des Körpers 21 hinaus und weist an seinem distalen bzw. oberen Ende einen Kopf 25 auf. Ein Lösungsmittel(strömungs)-Durchgang 27 verläuft längs der Achse des Sprühelements 25 bis zum Kopf 26. Dieser Durchgang 27 ist im Kopf 26 verzweigt und mündet an den Seitenflächen des Kopfes 26. Das Sprühelement 25 ist durch einen Motor 31 in Drehung versetzbar.

In einem mittleren Bereich längs des Sprühelements 25 ist ein feststehendes Ringelement 28 angebracht. Im Ringele ment 28 ist ein einen Zulaß 30 aufweisender Lösungsmittel durchgang 29 so ausgebildet, daß er zur Seitenfläche des Ringelements 28 hin offen ist. Der Zulaß 30 kommuniziert mit dem Durchgang 27 über einen Zweigdurchgang 27 a. Der Durchgang 27 a und der Durchgang 29 bilden somit eine Drehverbindung. Ein in einem Behälter 32 gespeichertes Lösungsmittel 33 wird durch eine Pumpe 34 zu einer Öff nung 29 a des Durchgangs 29 gefördert.

Gemäß Fig. 1B wird das untere Ende des Substrats 11 mit der sich verjüngenden Fläche bzw. Kegelfläche 21 a des Körpers 21 des Läufer-Beseitigungselements 20 in Be rührung gebracht. Sodann wird gemäß Fig. 1C das Substrat 11 ein kleines Stück aufwärts bewegt und damit von der Kegelfläche 21 a getrennt. Dabei wird der größte Teil (13′) des sog. Läufers 13 auf die Kegelfläche 21 a über tragen. Zur Entfernung des an der unteren Stirnfläche 11 a und der Innenwandfläche 11 b des Substrats 11 weiterhin anhaftenden Beschichtungs-Materials wird weiterhin über den Kopf 26 des Sprühelements 25 ein Lösungsmittel aus- bzw. aufgesprüht, während ein Zwischenraum zwischen der Kegelfläche 21 a und dem Substrat 11 aufrechterhalten und das Sprühelement 25 in Pfeilrichtung in Drehung versetzt wird. Durch das Aufsprühen des Lösungsmittels wird das an der Innenwandfläche des unteren Endabschnitts des Substrats 11 anhaftende Material weggespült, wobei gleich zeitig das Material auch von der unteren Stirnfläche des Substrats weggespült wird. Das an der Außen- bzw. Kegel fläche 21 a anhaftende Material 13′ wird ebenfalls durch das an dieser Fläche 21 a entlangfließende Lösungsmittel weggespült. Zum wirksamen Wegspülen des Beschichtungs- Materials werden der Spalt zwischen dem unteren Ende des Substrats und der Kegelfläche 21 a sowie die aufzusprühen de Lösungsmittelmenge vorzugsweise so eingestellt, daß das Lösungsmittel in einer Laminarströmung fließt. Dabei wird längs des unteren Umfangsendes des Substrats 11 eine gleichmäßige Lösungsmitteldampfatmosphäre erzeugt. Hier durch kann die Fließfähigkeit des sog. Läufers 13 weiter verbessert werden.

Wenn das Lösungsmittel für eine vorbestimmte Zeitspanne aufgesprüht worden ist, wird das Aufsprühen des Lösungs mittels beendet, und das Substrat 11 wird im Ruhezustand belassen, bis kein Lösungsmittel mehr herabtropft. Hierauf wird die Kegelfläche 21 a wiederum mit dem unteren Ende des Substrats 11 in Berührung gebracht, wodurch das rest liche Lösungsmittel beseitigt wird. Gemäß Fig. 1D wird (dabei) der sog. Läufer von der Kegelfläche 21 a des Läufer-Beseitigungselements 20 entfernt. Gemäß Fig. 1E kann auf diese Weise eine Beschichtung 12′ ohne Läufer an unterer Stirnfläche und Innenwandfläche erzielt wer den.

Fig. 3 veranschaulicht im Schnitt eine erfindungsgemäß hergestellte lichtempfindliche Trommel. Dabei ist eine Ladungstransportschicht 43 aus einem organischen Photo leiter auf der Außenfläche bzw. Mantelfläche eines zy lindrischen Substrats 41 über eine als Haftschicht die nende darunterliegende Schicht 42 ausgebildet. Auf der Ladungstransportschicht 43 ist eine Ladungserzeugungs schicht 44 aus einem organischen Photoleiter ausgebildet. Die Erfindung ist auf die Erzeugung der Ladungstransport schicht 43 und der Ladungserzeugungsschicht 44 anwendbar. Normalerweise wird die Erfindung (bzw. das erfindungsge mäße Verfahren) bei der Ausbildung der Ladungserzeugungs schicht 44 eingesetzt.

Beispiel

Eine Ladungstransportschicht und eine Ladungserzeugungs schicht werden auf der Mantelfläche eines zylindrischen Aluminium-Substrats erzeugt, um eine lichtempfindliche Trommel des Aufbaus gemäß Fig. 3 herzustellen. Dabei wer den ein organischer Hydrazon-Photoleiter gemäß folgender Formel (I)

und ein organischer Phenoxy-Photoleiter gemäß nachstehen der Formel (II) (mit n=mehrere 100 bis mehrere 1000)

miteinander gemischt, und das resultierende Gemisch wird in Cyclohexan gelöst. Das Substrat wird in diese Lösung eingetaucht und sodann herausgezogen. Das entnommene Sub strat wird zur Ausbildung der Ladungstransportschicht 43 getrocknet.

Anschließend werden ein Naphthol-AS-Azonpigment gemäß nachstehender Formel (III)

(mit R=eine Alkylengruppe, X=ein Halogenatom und Z= ein Substituent) und der organische Photoleiter gemäß Formel (I) miteinander gemischt und das erhaltene Gemisch in 1,1,2-Trichlorethan gelöst. Das die Ladungstransport schicht 43 tragende Substrat wird in diese Lösung einge taucht. Unmittelbar nach der Entnahme des Substrats aus dieser Lösung wird das untere Ende des Substrats auf die anhand der Fig. 1A bis 1E beschriebene Weise behandelt. Dabei wird als aufzusprühendes Lösungsmittel 1,1,2-Tri chlorethan verwendet, das für etwa 20 s aufgesprüht wird. Während des Aufsprühens des Lösungsmittels wird der Spalt oder Zwischenraum zwischen der Außenfläche des Körpers und dem unteren Ende des Substrats auf einer Größe von 0,6 mm gehalten. Nach dem Aufsprühen des Lösungsmittels wird das erzeugte Gebilde etwa 5 s lang im Ruhezustand gehalten, um das Lösungsmittel abtropfen zu lassen.

Nach der Behandlung des unteren Endes des Substrats auf die beschriebene Weise wird das erhaltene Gebilde einer Zwangstrocknung unterworfen. Anschließend erfolgt eine Untersuchung auf das Vorhandensein oder Fehlen eines Ver dickungsabschnitts am unteren Endbereich des zylindrischen Substrats 11 und auf ein Anhaften von Material an der un teren Stirnfläche sowie der Innenwandfläche des Substrats 11. Am unteren Ende (Fig. 1E) verbleibt dabei eine Über zugsschicht einer Dicke t von 30-35 µm, d.h. nahezu entsprechend der Dicke der anderen Abschnitte, und einer Breite d von 1 mm. An der Innenwandfläche im unteren End abschnitt und an der unteren Stirnfläche des zylindrischen Substrats 11 haftet kein Material an, so daß eine ideale Photoleiterschicht erhalten wird.

Gemäß Fig. 1C kann das an der Kegelfläche 21 a des Läufer- Beseitigungselements 21 anhaftende Beschichtungs-Material 13′ durch Aufsprühen des Lösungsmittels abgewaschen bzw. weggespült werden. Die sog. Läufer können somit fortlau fend durch das Läufer-Beseitigungselement entfernt wer den.

Die Dicke der Überzugsschicht bzw. Beschichtung wurde auch für den Fall gemessen, daß die erfindungsgemäße Be handlung des unteren Endabschnitts des zylindrischen Sub strats nicht durchgeführt und das Substrat 11 nach der Entnahme aus der Beschichtungslösung einer Zwangstrock nung unterworfen wird. In diesem Fall beträgt die Dicke der Photoleiterschicht 18-20 µm; die Dicke des Ver dickungsabschnitts am unteren Ende beträgt 120 µm oder mehr, während die Dicke des an der Innenwandfläche des unteren Endabschnitts anhaftenden Materials im Bereich von 70-80 µm liegt. Dabei haftet das Beschichtungs material auch an der unteren Stirnfläche an.

Bei der vorstehend im einzelnen beschriebenen erfindungs gemäßen Behandlung des zylindrischen Substrats nach der Tauchbeschichtung desselben wird das untere Ende des Sub strats mit der Kegelfläche des Läufer-Beseitigungsele ments in Berührung gebracht, wobei ein am unteren Endab schnitt des zylindrischen Substrats gebildeter Ver dickungsabschnitt, als sog. Läufer, und das an der un teren Stirnfläche anhaftende Beschichtungs-Material ent fernt werden können. Außerdem kann auch das an der Innen wandfläche im unteren Endbereich des zylindrischen Sub strats anhaftende Beschichtungs-Material durch Aufsprühen des Lösungsmittels für die Beschichtungslösung über die Drehdüse weggespült werden. Gleichzeitig kann auch das an der sich verjüngenden bzw. Kegelfläche des Läufer-Be seitigungselements anhaftende Material entfernt werden. Die Beschichtungsvorrichtung kann daher wiederholt auf einanderfolgend eingesetzt werden.

Mit dem Verfahren und der Vorrichtung gemäß der Erfindung lassen sich somit ein am unteren Endabschnitt eines zy lindrischen Substrats entstandener Verdickungsabschnitt bzw. sog. Läufer und das an der Innenwandfläche im un teren Endbereich und an der unteren Stirnfläche anhaften de Beschichtungs-Material einfach entfernen, während auch das an der Kegelfläche des Läufer-Beseitigungselements haftende Beschichtungs-Material durch Aufsprühen des Lö sungsmittels weggespült werden kann. Die kontinuierliche Filmerzeugung auf dem zylindrischen Substrat kann somit ohne weiteres automatisiert werden.

Claims

1. Verfahren zum Erzeugen einer Überzugsschicht bzw. Be schichtung auf einer Außenfläche eines zylindrischen Substrats oder Schicht-Trägers, dadurch gekennzeich net, daß
das zylindrische Substrat in eine gelöstes (Beschich tungs-)Material enthaltende Beschichtungslösung einge taucht wird,
das zylindrische Substrat aus der Beschichtungslösung herausgezogen bzw. entnommen wird, während seine Achse in einer lotrechten Richtung ausgerichtet ist,
ein hinterer Endabschnitt - in Entnahmerichtung ge sehen - des Substrats, an dem aufgrund des Herab laufens der Beschichtungslösung längs der Außenfläche des Substrats ein Verdickungsabschnitt in Form eines sog. Läufers entstanden ist unmittelbar nach dem Ent nehmen des Substrats aus der Beschichtungslösung mit einer sich verjüngenden oder konischen Außenfläche eines entsprechenden Elements in Berührung gebracht und dabei der Verdickungsabschnitt vom unteren Ende des Substrats zur konischen Außenfläche übertragen wird und
unter Bildung eines Spalts oder Zwischenraums zwischen dem unteren Ende des Substrats und der konischen Außen fläche ein Lösungsmittel für das gelöste Material auf eine Innenwandfläche des Substrats aufgesprüht und da mit das Material von einer unteren Stirnfläche und der Innenwandfläche des Substrats entfernt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung eine Viskosität im Bereich von 3-4 Centi poise (0,3-0,4 Pas) aufweist.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Verjüngungs- oder Kegelwinkel der konischen Außenfläche im Bereich von 10-45° liegt.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das gelöste (Beschichtungs-)Material ein organisches Material ist.

5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das (aufzusprühende) Lösungsmittel dieselbe Art Lö sungsmittel wie das in der Beschichtungslösung enthal tene Lösungsmittel ist.

6. Läufer-Beseitigungsvorrichtung, gekennzeichnet durch
ein Läufer-Beseitigungselement mit einer sich ver jüngenden oder konischen Außenfläche, die mit einem unteren Ende eines zylindrischen Substrats oder Schicht- Trägers in Berührung bringbar ist, das bzw. der in eine ein organisches Material enthaltende Lösung eingetaucht wird und nach dem Herausziehen aus dieser Lösung mit einer Überzugsschicht oder Beschichtung versehen ist, und
eine im Läufer-Beseitigungselement angeordnete, dreh bare Lösungsmittel-Sprüheinrichtung zum Aufsprühen eines Lösungsmittels für das organische Material auf eine Innenwandfläche des Substrats.

7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß ein Verjüngungs- oder Kegelwinkel der konischen Außenfläche im Bereich von 10-45° liegt.

8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösungsmittel-Sprüheinrichtung eine das Läufer-Beseitigungselement durchsetzende Sprüh-Düse aufweist.