DE3908513C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Kupferlegierung
für Leitungsrahmen von Halbleitervorrichtungen und besonders
eine Kupferlegierung mit ausgezeichneter
Festigkeit und Beständigkeit gegen temperaturbedingtes
Abblättern eines auf die Leitungen aus dieser Legierung aufgebrachten Lots,
sowie die Verbesserung der Abnutzungsfestigkeit des
Stanzwerkzeugs, d. h. die Eigenschaft der Verringerung
der Abnutzung von Stanzwerkzeugen, die zum Ausstanzen von
Leitungsrahmen aus einem Band der Kupferlegierung
benutzt werden.
Üblicherweise sind bisher Kupferlegierungen mit
einer typischen Zusammensetzung in Gew.-% von im wesentlichen
2% Sn, 0,2% Ni und 0,05% P, Rest Cu, in großem
Umfang als Material für Leitungsrahmen (hiernach Leitungsrahmen-
Material(e) genannt), für Halbleitervorrichtungen,
wie integrierte Schaltkreise (IC), großintegrierte
Schaltkreise (LSI) und höchstintegrierte Schaltkreise (VLSI)
benutzt worden.
In neuerer Zeit wird jedoch gefordert, daß Leitungsrahmen-
Materialien weiter verbesserte Festigkeit zur Verwendung
als Leitungsrahmen aufweisen, so daß sie die Forderungen
nach verbesserter Leistung oder Wirkungsgrad und
erhöhten Verdrahtungsdichten von Halbleitervorrichtungen
erfüllen können. Die erwähnten üblichen Kupferlegierungs-
Leitungsrahmenmaterialien zeigen recht gute Dauerknickfestigkeit,
Wärmeleitfähigkeit und elektrische Leitfähigkeit,
Beschichtbarkeit und Lötbarkeit (Lothaftung), sie
weisen jedoch keine genügende Festigkeit auf und können
daher diese Eigenschaften nicht in vollem Maß zeigen.
Außerdem befriedigen sie nicht hinsichtlich der Beständigkeit
gegen wärmebedingtes Abblättern eines auf die Leitungen
aufgebrachten Lots und führen daher zu schlechter Lötbarkeit
der Halbleitervorrichtungen. Außerdem wird aus wirtschaftlichen
Gründen gefordert, die Verschleißfestigkeit
von Stanzwerkzeugen zu erhöhen, die zum Ausstanzen von
Kupferlegierungs-Leitungsrahmen verwendet werden, um die
Herstellungskosten zu verringern.
Die Erfindung bezweckt daher die Bereitstellung einer
Kupferlegierung für Leitungsrahmen von Halbleitervorrichtungen,
welche nicht nur hohe Festigkeit, sondern
auch ausgezeichnete Beständigkeit gegen wärmebedingtes
Abblättern des Lots zeigt und auch die Verschleißfestigkeit
der Stanzwerkzeuge verbessert und dabei ausgezeichnete
andere Eigenschaften aufweist, wie Dauerknickfestigkeit,
Wärmeleitfähigkeit und elektrische Leitfähigkeit,
Beschichtbarkeit und Lötbarkeit, die für Leitungsrahmen
erforderlich sind.
Zur Erfüllung dieser Aufgabe wird erfindungsgemäß
eine Kupferlegierung für Leitungsrahmen von Halbleitervorrichtungen
vorgeschlagen, welche folgende
Bestandteile in Gew.-% aufweist:
0,5 bis 2% Nickel,
1,2 bis 2,5% Zinn,
0,05 bis 0,5% Silicium,
0,1 bis 1% Zinn,
0,001 bis 0,01% Calcium,
0,001 bis 0,05% Magnesium,
0,001 bis 0,01% Blei
und Rest Kupfer und unvermeidbare Verunreinigungen.
1,2 bis 2,5% Zinn,
0,05 bis 0,5% Silicium,
0,1 bis 1% Zinn,
0,001 bis 0,01% Calcium,
0,001 bis 0,05% Magnesium,
0,001 bis 0,01% Blei
und Rest Kupfer und unvermeidbare Verunreinigungen.
Die Erfindung wird mit weiteren Einzelheiten und
Vorteilen erläutert durch die folgende genauere Beschreibung.
Besonders besitzt diese Kupferlegierung eine
hohe Zugfestigkeit von 590 N/mm² oder mehr, ausgezeichnete
Beständigkeit gegen wärmebedingtes Abblättern des Lots
und ausgezeichnete Verschleißfestigkeit des Stanzwerkzeugs
und zeigt gleichzeitig Werte der Dauerknickfestigkeit,
Wärmeleitfähigkeit und elektrischen Leitfähigkeit, Beschichtbarkeit
und Lötbarkeit, die fast so hoch sind
wie die des üblichen Leiterrahmenmaterials.
Die Erfindung beruht auf diesen Feststellungen.
Die Anteile der Bestandteile (Elemente) des erfindungsgemäßen
Kupferlegierungs-Leitungsrahmenmaterials für
Halbleitervorrichtungen wurden aus den folgenden Gründen
in der oben angegebenen Weise begrenzt:
Nickel verbessert die Festigkeit und Dauerknickfestigkeit
des Leitungsrahmenmaterials. Wenn jedoch der Nickelgehalt
unter 0,5 Gew.-% liegt, tritt diese Wirkung nicht
im gewünschten Ausmaß ein. Wenn andererseits der Nickelgehalt
über 2 Gew.-% liegt, hat das Leitungsrahmenmaterial
eine schlechtere Heißbearbeitbarkeit. Daher wurde der
Nickelgehalt auf einen Bereich von 0,5 bis 2 Gew.-% und
vorzugsweise einen Bereich von 1,0 bis 2,0 Gew.-% begrenzt.
Zinn bewirkt zusammen mit dem Nickel eine Erhöhung
der Festigkeit und Dauerknickfestigkeit des Leitungsrahmenmaterials.
Wenn jedoch der Zinngehalt unter 1,2 Gew.-% liegt,
tritt diese Wirkung nicht im gewünschten Ausmaß ein. Wenn
andererseits der Zinngehalt über 2,5 Gew.-% liegt, wird die
Heißbearbeitbarkeit des Leitungsrahmenmaterials ähnlich
wie im Fall von Nickel verschlechtert. Daher wurde der
Zinngehalt auf einen Bereich von 1,2 bis 2,5 Gew.-% und
vorzugsweise einen Bereich von 1,5 bis 2,5 Gew.-% begrenzt.
Silicium verbindet sich hauptsächlich mit Ni unter
Bildung einer Ni₃Si-Verbindung, welche eine Erhöhung der
Festigkeit des Leitungsrahmenmaterials bewirkt. Wenn jedoch
der Siliciumgehalt unter 0,05 Gew.-% liegt, tritt
diese Wirkung nicht im gewünschten Ausmaß ein, so daß die
erforderliche Festigkeit nicht erreicht wird. Wenn andererseits
der Siliciumgehalt über 0,5 Gew.-% liegt, wird im
Material freies Silicium gebildet, das die Beständigkeit
gegen wärmebedingtes Abblättern des Lots beeinträchtigt.
Daher wurde der Siliciumgehalt auf einen Bereich von 0,05
bis 0,5 Gew.-% begrenzt.
Zink dient zur weiteren Verbesserung der Beständigkeit
gegen wärmebedingtes Abblättern des Lots. Wenn jedoch
der Zinkgehalt unter 0,1 Gew.-% liegt, kann die Beständigkeit
gegen wärmebedingtes Abblättern nicht im erforderlichen
Ausmaß verbessert werden. Wenn andererseits der
Zinkgehalt über 1 Gew.-% liegt, zeigt das Leitungsrahmenmaterial
eine verschlechterte Lötfähigkeit. Daher wurde
der Zinkgehalt auf einen Bereich von 0,1 bis 1 Gew.-%
begrenzt.
Calcium, Magnesium und Blei wirken zusammen, wenn sie alle
im Material vorhanden sind, zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit
des Stanzwerkzeugs beim Ausstanzen des Leitungsrahmenmaterials.
Wenn jedoch irgendeines dieser Elemente
nicht in einer vorbestimmten Menge vorhanden ist, d. h.
wenn der Gehalt an irgendeinem Element unter 0,001 Gew.-%
liegt, kann die gewünschte Verschleißfestigkeit des Stanzwerkzeugs
nicht erreicht werden. Wenn andererseits der
Calciumgehalt über 0,01 Gew.-% liegt, wird bei seinem Zusatz
eine große Menge des Calciums durch Oxidation verbraucht,
wodurch die Ausbeute verringert wird, das unwirtschaftlich
ist. Wenn der Magnesiumgehalt über 0,05 Gew.-%
liegt, zeigt die Kupferlegierungsschmelze eine schlechtere
Vergießbarkeit zu einem Legierungsblock, und dementsprechend
weist der erhaltene Legierungsblock mehr Fehler auf. Wenn
der Bleigehalt über 0,01 Gew.-% liegt, fällt ein Teil des
im Material enthaltenen Bleis während des Gießens an den
Korngrenzen aus, was die Warmwalzbarkeit des Leitungsrahmenmaterials
verschlechtert. Daher wurde der Calciumgehalt
auf einen Bereich von 0,001 bis 0,01 Gew.-%, der
Magnesiumgehalt auf einen Bereich von 0,001 bis 0,05 Gew.-%
und der Bleigehalt auf einen Bereich von 0,001 bis 0,01
Gew.-% begrenzt.
Bei der Herstellung des erfindungsgemäßen Kupferlegierungs-
Leitungsrahmenmaterials können während der Herstellung
der Kupferlegierungsschmelze zweckmäßigerweise
Phosphor, Aluminium, Titan oder Bor als Desoxidationsmittel
zugesetzt werden. Obgleich das erhaltene Leitungsrahmenmaterial
eine geringe Menge von einem oder mehreren dieser
Elemente enthalten kann, falls sie zugesetzt wurden, haben
das Element oder die Elemente im wesentlichen keinen Einfluß
auf die Eigenschaften des Materials, wenn der Gesamtgehalt
dieser Elemente nicht mehr als 0,02 Gew.-% beträgt.
Im folgenden wird ein Beispiel der Erfindung erläutert
um zu zeigen, daß das erfindungsgemäße Kupferlegierungs-
Leitungsrahmenmaterial ausgezeichnete Eigenschaften
im Vergleich mit außerhalb der erfindungsgemäßen Bereiche
liegenden und üblichen Kupferlegierungs-Leitungsrahmenmaterialien
zeigt.
Kupferlegierungen mit den in der Tabelle angegebenen
chemischen Zusammensetzungen wurden in der Atmosphäre in
einem gewöhnlichen Niederfrequenz-Schmelzofen vom Kanaltyp
in solcher Weise zu einer Legierungsschmelze geschmolzen,
daß auf der Oberfläche der Legierungsschmelze Holzkohlenstücke
schwammen, um eine Oxidation der Legierungsschmelze
zu verhindern, worauf die Legierungsschmelze nach
einem üblichen halbkontinuierlichen Gießverfahren zu Kupferlegierungsblöcken
von jeweils 160 mm Dicke, 450 mm Breite
und 2400 mm Länge gegossen wurde. Die Blöcke wurden mit
einer Warmwalztemperatur von 800°C zu warmgewalzten Platten
von jeweils 10 mm Dicke warmgewalzt, und die warmgewalzten
Platten wurden sofort abgeschreckt. Nach dem Abschrecken
wurden die warmgewalzten Platten an ihren beiden Seiten
geschält und anschließend wiederholt abwechselnd kalt
gewalzt, getempert (geglüht) und gebeizt, in dieser Reihenfolge,
bis man kaltgewalzte Bleche von jeweils 0,5 mm
Dicke erhielt. Diese kaltgewalzten Bleche wurden dann
zwei Stunden bei einer Temperatur von 500°C angelassen
und wieder kaltgewalzt auf eine Dicke von 0,25 mm. Diese
kaltgewalzten Bleche wurden schließlich zur Aufhebung
innerer Spannungen in einem kontinuierlich arbeitenden
Temperofen bei einer Temperatur von 500°C während 20 Sekunden
getempert, um die erfindungsgemäßen Kupferlegierungs-
Leitungsbänder Nr. 1-15 und die zum Vergleich
dienenden Kupferlegierungs-Leitungsbänder Nr. V1-V8 zu
erhalten, wie in der Tabelle angegeben.
Die Vergleichs-Leitungsbänder Nr. V1-V8 haben jeweils
eine chemische Zusammensetzung, in welcher der Gehalt
an einem der Bestandteile außerhalb, nämlich unterhalb des
erfindungsgemäßen Bereiches liegt, ausgenommen das Vergleichs-
Leitungsband Nr. V4, dessen Si-Gehalt außerhalb,
nämlich oberhalb des erfindungsgemäßen Bereichs liegt.
Die erfindungsgemäßen Leitungsbänder Nr. 1-15,
die Vergleichs-Leitungsbänder V1-V8, und ein übliches
Leitungsband mit einer chemischen Zusammensetzung wie in
der Tabelle angegeben und der gleichen Dicke wie die
anderen Leitungsbänder, nämlich 0,25 mm, welches im Handel
erhältlich ist, wurden einer Zugfestigkeitsprüfung, einer
Prüfung auf wärmebedingtes Lot-Abblättern, einer Dauerknickfestigkeitsprüfung,
einer Prüfung auf Verschleißfestigkeit
des Stanzwerkzeugs zur Bewertung der Festigkeit, der Beständigkeit
gegen wärmebedingtes Abblättern des Lots, der
Dauerknickfestigkeit und der Verschleißfestigkeit des
Stanzwerkzeugs unterworfen.
In der Zugfestigkeitsprüfung wurden Prüfstücke verwendet,
die aus einem gewalzten Blech in der Walzrichtung
entsprechend JIS (Japanischer Industrie-Standard) Prüfstück
Nr. 5 ausgeschnitten waren, und diese wurden hinsichtlich
der Zugfestigkeit und Dehnung geprüft.
In der Prüfung auf wärmebedingtes Abblättern des
Lots wurden die Prüfstücke, die je eine Größe von 0,25 mm
Dicke, 15 mm Breite und 60 mm Länge hatten, mit einem
Kolophonium-Flußmittel behandelt und dann in ein Lötbad
mit einer chemischen Zusammensetzung von 60% Sn und 40%
Pb getaucht, um ihre äußeren Flächen mit dem Lot zu beschichten,
worauf sie in der Atmosphäre 1000 Stunden bei
einer Temperatur von 150°C wärmebehandelt wurden. Die
wärmebehandelten Prüfstücke wurden dann jedes um 180 Grad
flach auf sich selbst zurückgebogen und dann in ihre
Anfangsstellung zurückgebogen, und das Auftreten von Abblättern
des Lots von den Prüfstücken an den gebogenen
Abschnitten wurde festgestellt.
Weiter wurden bei der Dauerknickfestigkeitsprüfung
Prüfstücke mit je einer Größe von 0,25 mm Dicke und 0,5 mm
Breite waagerecht und mit einem Ende an einem Prüfgerät
befestigt gehalten. Die Prüfstücke wurden jeweils um 90
Grad gebogen, indem man an ihrem anderen Ende ein Gewicht
von 226,8 g (8 ounces) anbrachte, und wurden in ihre Anfangsstellungen
zurückgebogen. Dieser Zyklus wurde wiederholt,
bis das Prüfstück schließlich zerbrach. Zehn Prüfstücke
wurden für die Prüfung jedes der Leiterbänder verwendet.
Die Anzahl von wiederholten Zyklen bis zum Bruch
jedes der zehn Prüfstücke wurde festgestellt, und ein
Durchschnittswert der gezählten Zyklen für die zehn Prüfstücke
wurde berechnet.
Weiter wurde bei der Prüfung des Stanzwerkzeug-Verschleißes
ein Satz von Stanzwerkzeugen verwendet, die aus
einem WC-Sinterhartmetall mit einer chemischen Zusammensetzung
von 16% Co und Rest WC, das im Handel erhältlich
ist, geformt waren. Leitungsrahmen mit je 16 Leitungen
wurden einer nach dem anderen unter Verwendung einer Presse
ausgestanzt bis Grate der maximalen Höhe von 0,015 mm am
ausgestanzten Leitungsrahmen auftraten. Die Anzahl Stanzvorgänge
bis zum Auftreten des Grats wurde gezählt.
Alle Ergebnisse der in dieser Weise durchgeführten
Prüfungen sind in der Tabelle angegeben.
Aus den in der Tabelle angegebenen Prüfungsergebnissen
ist ersichtlich, daß alle erfindungsgemäßen Kupferlegierungs-
Leitungsbänder Nr. 1-15 hinsichtlich Festigkeit, Beständigkeit
gegen wärmebedingtes Abblättern des Lots und Verbesserung
der Stanzwerkzeug-Verschleißfestigkeit dem üblichen
Kupferlegierungs-Leitungsband weit überlegen sind und
hinsichtlich der Dauerknickfestigkeit ebensogut wie das
übliche Kupferlegierungs-Leitungsband sind. Andererseits
sieht man bei den Vergleichs-Kupferlegierungs-Leitungsbändern
Nr. V1-V8, daß diese deutlich verschlechterte
Werte hinsichtlich wenigstens einer der Eigenschaften
Festigkeit, Beständigkeit gegen wärmebedingtes Abblättern
des Lots und Verbesserung der Stanzwerkzeug-Verschleißfestigkeit
zeigen, wenn der Gehalt an einem der Bestandteile
(Elemente) außerhalb, nämlich unterhalb des erfindungsgemäßen
Bereichs oder im Fall von Silicium oberhalb
des erfindungsgemäßen Bereichs liegt.
Außerdem wurden die erfindungsgemäßen Kupferlegierungs-
Leitungsbänder Nr. 1-15 auch hinsichtlich Wärmeleitfähigkeit
und elektrischer Leitfähigkeit, Beschichtbarkeit
und Lötbarkeit untersucht, und die Prüfergebnisse
zeigten, daß sie eine elektrische Leitfähigkeit von 20%
und mehr aufwiesen, was weit höher ist als 3% (ICAS % =
International Copper Association Standard %), was der
geforderte Mindestwert für Leitungsrahmenmaterialien (z. B.
eine Fe-42% Ni-Legierung), für Halbleitervorrichtungen ist,
und sie zeigen demnach auch ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit
und ihre Beschichtbarkeit und Lötbarkeit ist fast
so hoch wie die der üblichen Leitungsrahmenmaterialien.
Wie oben angegeben weisen die erfindungsgemäßen
Kupferlegierungs-Leitungsrahmenmaterialien nicht nur verbesserte
Festigkeit, ausgezeichnete Beständigkeit gegen
wärmebedingtes Abblättern des Lots und ausgezeichnete
Verbesserung der Verschleißfestigkeit des Stanzwerkzeugs
auf, sondern sie zeigen auch ausgezeichnete Eigenschaften,
wie Dauerknickfestigkeit, Beschichtbarkeit und Lötbarkeit,
welche alle von Leitungsrahmen gefordert werden,
wodurch die Leistung oder der Wirkungsgrad von Halbleitervorrichtungen
verbessert und deren Verdrahtungsdichten erhöht
werden, die Lebensdauer von Stanzwerkzeugen, die zur
Herstellung der Leitungsrahmen aus dem Material verwendet
werden, verlängert wird und die damit hergestellten Halbleitervorrichtungen
ausgezeichnete Leistung und Zuverlässigkeit
über einen langen Zeitraum zeigen.
Claims (3)
1. Kupferlegierung für Leitungsrahmen von Halbleitervorrichtungen,
dadurch gekennzeichnet, daß sie (in Gew.-%) aus:
0,5 bis 2%Nickel,
1,2 bis 2,5% Zinn,
0,05 bis 0,5% Silicium,
0,1 bis 1% Zink,
0,001 bis 0,01% Calcium,
0,001 bis 0,05% Magnesium,
0,001 bis 0,01% Blei
und Rest Kupfer und unvermeidbare Verunreinigungenbesteht.
1,2 bis 2,5% Zinn,
0,05 bis 0,5% Silicium,
0,1 bis 1% Zink,
0,001 bis 0,01% Calcium,
0,001 bis 0,05% Magnesium,
0,001 bis 0,01% Blei
und Rest Kupfer und unvermeidbare Verunreinigungenbesteht.
2. Kupferlegierung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß Nickel in einem Bereich von 1,0 bis 2,0 Gew.-% enthalten ist.
3. Kupferlegierung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß Zinn in einem Bereich von 1,5 bis 2,5 Gew.-% enthalten
ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP63101748A JPH01272733A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 半導体装置用Cu合金製リードフレーム材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE (1) | DE3908513A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4207198A1 (de) * | 1991-03-08 | 1992-09-10 | Mitsubishi Electric Corp | Zufuehrungsrahmen und halbleitervorrichtung, welche den zufuehrungsrahmen verwendet |
DE4338769A1 (de) * | 1992-11-13 | 1994-05-19 | Mitsubishi Shindo Kk | Kupferlegierung mit sehr guter Warmbearbeitbarkeit und Stanzbarkeit für elektrische und elektronische Teile |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01272733A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-10-31 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 半導体装置用Cu合金製リードフレーム材 |
JPH02221344A (ja) * | 1989-02-21 | 1990-09-04 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 熱間圧延性およびめっき加熱密着性のすぐれた高強度Cu合金 |
JP2503793B2 (ja) * | 1991-03-01 | 1996-06-05 | 三菱伸銅株式会社 | 打抜金型の摩耗抑制効果を有する電気電子部品用Cu合金板材 |
JP2673973B2 (ja) * | 1991-03-07 | 1997-11-05 | 三菱伸銅 株式会社 | 耐熱間圧延割れ性のすぐれた高強度Cu合金 |
JPH0945815A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体用パッケージ、該パッケージ用板状部材及びその製造方法 |
JP3728776B2 (ja) | 1995-08-10 | 2005-12-21 | 三菱伸銅株式会社 | めっき予備処理工程中にスマットが発生することのない高強度銅合金 |
JP4329967B2 (ja) * | 2000-04-28 | 2009-09-09 | 古河電気工業株式会社 | プラスチック基板に設けられるピングリッドアレイ用icリードピンに適した銅合金線材 |
JP3520034B2 (ja) * | 2000-07-25 | 2004-04-19 | 古河電気工業株式会社 | 電子電気機器部品用銅合金材 |
JP3520046B2 (ja) | 2000-12-15 | 2004-04-19 | 古河電気工業株式会社 | 高強度銅合金 |
US7090732B2 (en) * | 2000-12-15 | 2006-08-15 | The Furukawa Electric, Co., Ltd. | High-mechanical strength copper alloy |
CN113981265A (zh) * | 2021-09-07 | 2022-01-28 | 铜陵有色金属集团股份有限公司金威铜业分公司 | 热轧性能优异的铜合金及其制造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4612167A (en) * | 1984-03-02 | 1986-09-16 | Hitachi Metals, Ltd. | Copper-base alloys for leadframes |
JPS6152332A (ja) * | 1984-08-21 | 1986-03-15 | Toshiba Corp | ボンデイングワイヤ− |
JP2555067B2 (ja) * | 1987-04-24 | 1996-11-20 | 古河電気工業株式会社 | 高力銅基合金の製造法 |
JPH01272733A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-10-31 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 半導体装置用Cu合金製リードフレーム材 |
-
1988
- 1988-04-25 JP JP63101748A patent/JPH01272733A/ja active Granted
- 1988-10-12 US US07/256,747 patent/US4877577A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-01 KR KR1019880014327A patent/KR960010816B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1989
- 1989-03-15 DE DE3908513A patent/DE3908513A1/de active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4207198A1 (de) * | 1991-03-08 | 1992-09-10 | Mitsubishi Electric Corp | Zufuehrungsrahmen und halbleitervorrichtung, welche den zufuehrungsrahmen verwendet |
DE4207198C2 (de) * | 1991-03-08 | 1998-02-19 | Mitsubishi Electric Corp | Zuführungsrahmen und dessen Verwendung in einer Halbleitervorrichtung |
DE4338769A1 (de) * | 1992-11-13 | 1994-05-19 | Mitsubishi Shindo Kk | Kupferlegierung mit sehr guter Warmbearbeitbarkeit und Stanzbarkeit für elektrische und elektronische Teile |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR890016193A (ko) | 1989-11-28 |
US4877577A (en) | 1989-10-31 |
KR960010816B1 (ko) | 1996-08-09 |
JPH0480102B2 (de) | 1992-12-17 |
DE3908513A1 (de) | 1989-11-09 |
JPH01272733A (ja) | 1989-10-31 |
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