DE3908480C1 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Erzeu
gung einer Plasmaquelle hoher Strahlungsintensität im Röntgen
bereich
gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 1.
Bei einer bekannten Vorrichtung dieser Art (DE-
OS 33 32 711) ist der Isolator ein die Innenelektrode umgeben
des Röhrchen, das sich vom geschlossenen Ende des Entladungs
raums in Richtung auf dessen offenes Ende erstreckt. Das
Röhrchen wird von einer ringförmigen Emitterelektrode umgeben,
die röhrchenseitig eine ringförmige Schneide hat, welche einen
die freie Weglänge der Elektronen im Gas des Entladungsraums
unterschreitenden Abstand hat. Die Emitterelektrode ist mit der
Außenelektrode leitend verbunden und emittiert Elektronen, die
ohne Stöße im Gasraum direkt auf die Isolatoroberfläche auf
treffen. Dabei werden von dieser Oberfläche Sekundärelektronen
ausgelöst, die durch die Potentialführung im Entladungsraum auf
die Isolationsoberfläche zurückbeschleunigt werden und dort neue
Sekundärelektronen erzeugen. Dabei nimmt die kinetische Energie
der Elektronen ständig ab, so daß es zu einer homogenen
Entladung kommt, die nicht abreißt. Diese Vorgänge sind konti
nuierlich und es kommt zur Ausbildung einer Plasmaschicht, mit
der ein die Röntgenstrahlung abgebender Plasmafokus gebildet
wird.
Der Isolator der bekannten Vorrichtung wird nach einigen
tausend Entladungen zerstört, weil das Isoliermaterial ermü
det. Der Isolator hat also eine begrenzte Standzeit, die bei
mehreren Zündungen je Sekunde im Bereich von 1 bis 2 Stunden
liegt.
Das "Jap. Journal of Applied Physics" Bd. 24, Nr. 3 (1985), Seiten 324-327
beschreibt eine ähnliche Plasma-Quelle bei der der Isolator ebenfalls
ein die Innenelektrode umgebendes Röhrchen ist.
Demgegenüber liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde,
eine Vorrichtung der eingangs genannten Art so zu verbessern,
daß ihre Standzeit erheblich gesteigert wird, indem eine Zer
störung des Isolators praktisch ausgeschlossen wird.
Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Für die Erfindung ist die Erkenntnis von Bedeutung, daß
zur Erzielung einer Plasmaschicht mit optimalen Eigenschaften
die Zündung direkt an dem geschlossenen Ende des Entladungs
raums erfolgen muß, so daß die Zeit für den Aufbau der Entla
dungen auf einem Weg zwischen den Elektroden direkt vor dem
Isolator kurz ist. Dieser Weg ist gleich dem Abstand der Elek
troden voneinander, nahe am Isolator. Er darf nur so lang sein,
daß die folgende Beziehung gilt:
∫ α · ds 20 (α = Townsendkoeff.)
Dieses sogenannte Raether-Kriterium für eine homogene Ent
ladung beinhaltet also die Integration aller entlang des Wegs
einer Feldlinie erzeugten Ladungsträger je Längeneinheit. Wird
das Kriterium erfüllt, können unkontrollierte Entladungen ver
mieden werden, die zu sogenannten Filamenten führen, durch die
die entstehende Plasmaschicht nicht homogen ist, weswegen der
mit einer solchen Plasmaschicht erzielte Plasmafokus nicht aus
reichend punktförmig ist und keine reproduzierbare Lage auf
weist.
Bei der bekannten Vorrichtung erfolgt die Zündung der Ent
ladung zwischen den Elektroden über Feldemission der Start
elektronen aus den Spitzenelektroden mit anschließender Elek
tronenvervielfachung über Sekundäreffekte an der Isolatorwand.
Das führt zu einer Gleitschichtladung. Durch die erfindungs
gemäße Anordnung des Isolators als ringförmige Scheibe zwischen
den Elektroden und die Bemessung des Elektrodenabstands im
Sinne einer Elektronenvervielfachung in einer homogenen Ent
ladung ist die Ausbildung einer Gleitschichtentladung nicht
möglich.
Eine Ausgestaltung der Erfindung ist dadurch gekennzeich
net, daß eine die elektrische Feldstärker im Entladungsraum be
sonders am oberen Rand der angrenzenden Oberfläche des Iso
lators herabsetzende Einrichtung vorhanden ist. Das ist von
Bedeutung, weil die Elektronenverstärkung durch Ionisation im
Gas in einem reduzierbaren Feldstärkebereich um 10-13 Vcm2 mit
abnehmender Feldstärke zunimmt. Das bedeutet eine erhöhte
Ladungsträgerproduktion in einem Bereich herabgesetzter Feld
stärke, so daß die Entladungsaufbauzeit in diesem Bereich ver
kürzt wird.
Eine Einrichtung zur Herabsetzung der Feldstärke unmittel
bar vor dem oberen Rand des Isolators ist so ausgebildet, daß
auf der dem Gasentladungsraum abgewendeten Seite des Isolators
ein mit der Außenelektrode in elektrischer Verbindung stehendes
und gegen die Innenelektrode isoliertes ringförmiges Potential
blech angeordnet ist.
Um die Zündbedingungen für einen Durchschlag direkt an der
Isolatorscheibe zu verbessern, ist die Vorrichtung so ausgebil
det, daß die Außenelektrode eine feldstärkemindernde Ringnut
oder eine feldstärkemindernde Lochreihe in der Nähe des Isola
tors aufweist. Derartige Ausbildungen der Außenelektrode werden
vorteilhafterweise mit dem vorbeschriebenen Potentialblech
kombiniert, um die elektrische Feldstärke besonders wirkungs
voll herabsetzen zu können.
Eine Verbesserung der Zündbedingungen direkt vor der Iso
latorscheibe gegenüber Bereichen fern der Isolatorscheibe läßt
sich auch dadurch erreichen, daß in der Nähe des Isolators
mindestens eine Startelektrode in einem Elektronenverviel
fachung in einer homogenen Entladung erlaubenden Abstand von
der Innenelektrode angeordnet ist.
Die Zündbedingungen direkt vor der Isolatorscheibe lassen
sich auch dadurch verbessern, daß eine Strahlungsquelle vorhan
den ist, die das Gas des Gasentladungsraums in der Nähe des
Isolators ionisiert. Vorteilhafterweise ist die Strahlungs
quelle eine plasmabildende Hohlkathode und/oder eine plasmabil
dende Hochfrequenzstrahlungsquelle und/oder eine UV-
Lichtquelle.
Startelektroden, welche die Zündung direkt am Isolator er
leichtern, lassen sich ferner damit erzielen, daß auf der dem
Gasentladungsraum abgewendeten Seite des Isolators eine vor
spannungsbeaufschlagbare, gasentladungsraumseitig isolatorange
lagerte Elektronen erzeugende Ladeelektrode vorhanden ist, und
daß die Elektronen durch Spannungsbeaufschlagung einer Elek
trode freisetzbar sind. Ein Freisetzen der Startelektronen vom
Isolator wird vorteilhafterweise dadurch erreicht, daß an die
Ladeelektrode und an die gegenpolige Zylinderelektrode ein
zeitgleich mit dem Hochleistungsschalter betätigbarer Entla
dungsschalter angeschlossen ist.
Die Erfindung wird anhand von in der Zeichnung dargestell
ten Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1 bis 5 Querschnitte durch eine obere Hälfte einer
aus Außen- und Innenelektrode bestehenden erfin
dungsgemäßen Vorrichtung in schematischer Abbil
dung,
Fig. 6 die Abhängigkeit des normierten Townsend-Koeffi
zienten von der normierten elektrischen Feldstärke,
Fig. 7, 9 die Feldstärkeverteilung im Gasentladungsraum vor
dem Isolator bei den Ausführungsformen der Fig. 1, 2,
Fig. 8, 10 die Verteilung des Townsend-Koeffizienten im Gas
entldungsraum vor dem Isolator bei den Vorrichtun
gen der Fig. 1, 2 und
Fig. 11 bis 17 weitere Vorrichtungen gemäß der Erfindung,
bei denen Einrichtungen zur Verbesserung der Zündbe
dingungen direkt vor der Isolatorscheibe vorhanden
sind.
Bei den Vorrichtungen der Fig. 1 bis 5 und 11 bis 17 ist
jeweils eine zylindrische Außenelektrode 10 konzentrisch um
eine zylindrische Innenelektrode 11 herum angeordnet. Die Dar
stellung der Elektroden erfolgt lediglich oberhalb der gemein
samen Achse 31. Zwischen den Elektroden 10, 11 befindet sich ein
Gasentladungsraum 12, der beispielsweise mit Stickstoff als Ar
beitsgas im Druckbereich von einigen Millibar gefüllt ist. Der
Gasentladungsraum 12 ist an einem Ende 13 offen und am anderen
Ende 14 mit einem Isolator 15 verschlossen. Das offene Ende 13
dient der Ausbildung eines Plasmafokus, wozu eine in den Figuren
nicht dargestellte, direkt vor dem Isolator 15 gebildete Plas
maschicht in Richtung auf das freie Ende 13 bewegt wird, wo das
Plasma von Magnetfeldern vor der Innenelektrode 11 komprimiert
wird und einen Plasmafokus bildet, der die gewünschte Strahlung
abgibt, vgl. Pfeil 32 in Fig. 1. Die Bewegung der Plasmaschicht
und die Ausbildung des Plasmafokus erfolgt im wesentlichen
ebenso, wie zu Fig. 7 der DE-OS 33 32 711 beschrieben wurde, auf
die hiermit Bezug genommen wird.
Der Isolator 15 ist eine beispielsweise aus Keramik be
stehende ringförmige Scheibe mit dem Innendurchmesser der
Außenelektrode 10 entsprechendem Außendurchmesser und mit dem
Außendurchmesser der Innenelektrode entsprechendem
Innendurchmesser. Auf der dem Gasentladungsraum 12 abgewendeten
Seite 15′ des Isolators 15 ist eine die Elektroden 10, 11 tren
nende Isolation 33 vorhanden.
Um eine Energieeinkopplung in das Elektrodensystem zu er
reichen, wird die Innenelektrode 11 kurzzeitig auf Hochspan
nungspotential +HV geschaltet. Hierzu dient ein in Fig. 17 sche
matisch dargestellter Hochspannungsschalter HS, beispielsweise
eine Funkenstrecke. Diese wird gezündet und schaltet die Hoch
spannungsquelle HQ, beispielsweise eine Kondensatorbatterie,
mit dem Hochspannungspotential +HV an die Innenelektrode 11.
Die Außenelektrode 10 ist geerdet, so daß zwischen den Elektro
den 10, 11 an einem Widerstand R das Potential +HV anliegt. Bei
elektrischen Spannungen <10 kV und Elektrodenabstand im cm-Be
reich ergeben sich elektrische Feldstärken von E ≅ 104 V/cm und
normierte Feldstärken E / n ≅ 10-13 Vcm2 (n = Gasdichte). In einem
derartigen Feld kann die Ladungsträgerproduktion einer Gasent
ladung mit Hilfe des Townsend-Koeffizienten α beschrieben wer
den. Der Townsend-Koeffizient α beschreibt die Anzahl der von
einem Elektron pro Weglänge erzeugten Ladungsträger gemäß der
Beziehung:
dn e /dx = a · n e (n e = Anzahl der Startelektronen).
Der Townsend-Koeffizient α ist gasart- und gasdichteab
hängig sowie abhängig von der elektrischen Feldstärke. Der nor
mierte bzw. reduzierte Townsend-Koeffizient α / n kann in Abhän
gigkeit von der normierten bzw. reduzierten elektrischen Feld
stärke E / n mit der Gasart als Parameter angegeben werden. Fig. 6
zeigt den Verlauf der α-Kurve am Beispiel von Stickstoff. Ein
ähnlicher Verlauf ergibt sich auch für andere Gase. Bei der
normierten elektrischen Feldstärke im Bereich von 10-13 Vcm2 hat
der normierte Townsend-Koeffizient α / n eine negative Kennlinie,
das heißt, er wird mit abnehmender elektrischer Feldstärke
größer. Ein größerer Townsend-Koeffizient α bedeutet bei glei
cher Startelektronendichte eine größere Ladungsträgerproduktion
pro Weglänge und damit einen schnelleren Aufbau der Gasentla
dung. Infolgedessen erfolgt die Zündung einer Gasentladung an
demjenigen Ort des Elektrodensystems, wo die normierte elektri
sche Feldstärke innerhalb bestimmter Grenzen am niedrigsten
ist, z. B. 5 · 10-14 E / n 3 · 10-13 Vcm2 für Stickstoff.
In den Fig. 1 bis 5 sind Ausführungsformen der Erfindung
dargestellt, die unterschiedliche Einrichtungen 20 aufweisen,
um die elektrische Feldstärke im Entladungsraum 12 besonders am
oberen Rand 17 der angrenzenden Oberfläche 16 des Isolators 15
herabsetzen zu können. Fig. 1 zeigt ein auf der dem Gasentla
dungsraum 12 abgewendeten Seite 15′ des Isolators 15 ange
brachtes Potentialblech 23, welches mit der Außenelektrode 10
in elektrischer Verbindung steht und ringförmig ausgebildet
ist. Es trägt infolgedessen das Potential der Außenelektrode 10
auf der Rückseite des Isolators 15 bis in die Nähe der Innen
elektrode 11, so daß die gesamte Spannung +HV in dem Zwischen
raum zwischen der Innenelektrode 11 und dem Potentialblech 20
über die Isolation 33 abfällt. Verbunden damit ist eine Redu
zierung der Feldstärke im Bereich des oberen Randes 17 auf der
an den Gasentladungsraum 12 angrenzenden Oberfläche 16 des
Isolators 15. Das ergibt sich aus Fig. 7, in der die elektrische
Feldstärke für den gestrichelt dargestellten Bereich in Abhän
gigkeit von den radialen R-Positionen und den axialen Z-Posi
tionen perspektivisch für eine Spannung von +HV = 10 kV darge
stellt ist. Der Herabsetzung der Feldstärke in der Nähe und
insbesondere am oberen Rand 17 des Isolators 15 entspricht eine
dort vermehrt auftretende Ladungsträgerproduktion, gekennzeich
net, durch den Townsend-Koeffizienten α. Dieser Koeffizient ist
in Fig. 8 für den gestrichelt angegebenen Bereich dargestellt
und deutlich erkennbar.
Die Fixierung der Zündung der Entladung auf den Bereich
vor dem Isolator 15 läßt sich auch dadurch erreichen, daß gemäß
Fig. 2 eine feldstärkemindernde Ringnut 21 vorhanden ist. Die
Fig. 9, 10 zeigen die räumliche Verteilung der Feldstärke und den
Townsend-Koeffizienten in dem jeweils gestrichelt gekennzeich
neten Bereich vor dem Isolator 15. Hier wird besonders deut
lich, welchen erheblichen Einfluß die Ringnut 21 auf die La
dungsträgerbildung und damit auf die Zündung der Entladung am
oberen Rand 17 des Isolators 15 hat.
Gemäß Fig. 4 kann anstelle einer Ringnut 21 auch eine Loch
reihe 22 verwendet werden.
In Fig. 5 ist außer der Lochreihe 22 auch eine konische
Ringscheibe 15 dargestellt. Ihre an den Gasentladungsraum 12
angrenzende Oberfläche 16 ist nicht senkrecht zur Zylinderver
tikalen 18, sondern um einen Winkel δ geneigt. Die Neigung der
Oberfläche 16 bewirkt eine in Richtung der Innenelektrode 11
zunehmende Verdickung des Isolators. Dieser ist daher den auf
tretenden elektrischen Beanspruchungen durch die Hochspannung
besser gewachsen; denn nahe der Innenelektrode, wo das Poten
tial am größten ist, steht der abfallenden Spannung die größte
Isolatordicke gegenüber.
Für die Haltbarkeit des Isolators ist jedoch vor allem von
Bedeutung, daß dieser eine Dicke im cm-Bereich haben kann und
aufgrund der zwischen den Elektroden 10, 11 senkrechten Ober
fläche 16 zum Aufbau der homogenen Entladung im Vergleich zu
dem bekannten Röhrchen-Isolator spannungsmäßig nur vergleichs
weise gering belastet wird. Die Standzeit des Isolators 15 ist
daher für die Vorrichtung kein Problem.
Das in Fig. 1 dargestellte Potentialblech 23 kann auch in
Verbindung mit allen Maßnahmen getroffen werden, die zur Herab
setzung der Feldstärke vor dem Isolator 15 getroffen werden.
Fig. 3 zeigt die Kombination des Potentialblechs 23 mit dem
Ringspalt 21. Aber auch eine Kombination des Potentialblechs
mit der Lochreihe 22 ist möglich. Ebenso kann die konusförmige
Ringscheibe 15 gemäß Fig. 5 bei allen vorgenannten Ausführungs
formen verwendet werden, wobei der Winkel δ Werte zwischen ±90°
annehmen kann.
Fig. 11 zeigt eine mit einer Lochreihe 22 vor dem Isolator
15 versehene Vorrichtung, die zusätzlich eine Startelektrode 24
hat. Die Startelektrode 24 wird mit einer Zündspannung U zünd be
aufschlagt und zündet eine Vorentladung, so daß eine hohe
Startelektrodendichte für die nachfolgende Zündung der Plasma
fokusentladung bereitgestellt wird. Die Startelektrode 24 ist
als Spitzenelektrode ausgeführt, kann aber auch als Schneiden
elektrode ausgeführt werden. die Vorentladung erfolgt gepulst
oder mit Dauerspannung. Die von der Startelektrode 24
emittierten Elektronen werden bei der erniedrigten elektrischen
Feldstärke von E < 104 Volt/cm im Gas vervielfacht.
Gleitentladungen auf der Oberfläche 16 des Isolators 15 sind
unmöglich, weil die Elektronen infolge der Richtung des
elektrischen Feldes von der Isolatoroberfläche weg beschleunigt
werden.
Die Startelektrode 24 hat einen Abstand 25′ von der Innen
elektrode 11. Dieser Abstand 25′ ist gleich dem Abstand 25
zwischen den Elektroden 10, 11. Er ist also groß genug, damit
zwischen den Elektroden eine homogene Entladung durch Elektro
nenvervielfachung aufgebaut werden kann und genügt dem Raether-
Kriterium. Es sind beispielsweise drei um den Umfang
gleichmäßig verteilte Elektroden 24 vorhanden. Eine gleiche
oder ähnliche Verteilung um den Umfang der Außenelektrode 10
herum erfolgt auch bei allen weiteren, die Zündbedingungen
verbessernden Einrichtungen, um einen symmetrischen
Plasmaaufbau zu erreichen.
Um die Zündung der Plasmafokusentladung vor der Isolator
scheibe zu fixieren, sind Strahlungsquellen 26 verwendbar, die
das Gas des Gasentladungsraums 12 in der Nähe des Isolators 15
besonders im Bereich der herabgesetzten Feldstärke ionisieren.
Als eine solche Strahlungsquelle 26 zeigt Fig. 12 eine
Hohlkathode 27, die zur Erzeugung eines Plasmas mit einer Span
nung U HK über einen Widerstand 27′ beaufschlagt wird und
Ladungsträger und/oder Strahlung durch eine Ringnut der Tiefe t
abgibt. Gemäß Fig. 13 ist eine Hochfrequenzstrahlungsquelle 28
vorhanden, die ebenfalls Plasma bildet und dieses durch das
Loch 22′ der Lochreihe 22 vor den Isolator 15 gibt.
Fig. 14 zeigt eine UV-Lichtquelle 29, deren Licht durch das
Loch 22′ der Lochreihe 22 vor den Isolator 15 eingestrahlt wird
und Fig. 15 zeigt eine sonstige ionisierende Strahlung, insbe
sondere Gamma-Strahlung abgebende Strahlungsquelle 26, wobei
die Strahlung in den gepunkteten Bereich vor den Isolator 15
gelangt, indem eine entsprechende Lochblende 22′′ verwendet
wird.
Eine weitere Möglichkeit zur Fixierung der Zündung der
Plasmafokusentladung auf den Bereich vor dem Isolator 15 ist
es, den Isolator als Dielektrikum eines Kondensators zu benut
zen. Hierzu ist eine Ladeelektrode 30 vorhanden, an die gemäß
Fig. 16, 17 eine positive Vorspannung U vs von einigen kV gelegt
wird. Es kommt zur Anlagerung von Elektronen e an diejenige
Seite des Isolators 15, die der Ladeelektrode 30 gegenüber
liegt. Es ergeben sich Zündspannungen von einigen 100 Volt im
mit einigen Millibar gefüllten Elektrodenzwischenraum 12 und
der Isolator 15 wirkt als aufgeladener Kondensator. Wird die
Innenelektrode 11 auf positives Potential +HV geschaltet, so
wird ein Teil der an den Isolator 15 gebundenen Elektroden
frei, die als Startelektroden für die Plasmafokusentladung zur
Verfügung stehen.
Gemäß Fig. 17 ist außer dem Hochleistungsschalter HS ein
Entladungsschalter ES vorgesehen, der zwischen die Ladeelek
trode 30 und die Außenelektrode 10 geschaltet ist. Wird der
Schalter ES gleichzeitig mit dem Hochleistungsschalter HS ge
schlossen, so werden die auf der Oberfläche des Isolators 15
befindlichen Elektronen e von dessen Oberfläche 16 weg be
schleunigt und bewegen sich zum Zeitpunkt der Zündung der Plas
mafokusentladung als freie Startelektronen im Bereich vor dem
Isolator 15.
Auch die bezüglich der Fig. 16, 17 vorbeschriebene Art der
Vorionisierung kann in Kombination mit den vorbeschriebenen
Maßnahmen zur Erzeugung von Startelektronen und/oder zur Herab
setzung der Feldstärke vor dem Isolator 15 benutzt werden.
Claims (10)
1. Vorrichtung zur Erzeugung einer Plasmaquelle hoher Strah
lungsintensität im Röntgenbereich, mit einer
zylindrischen Innenelektrode (11) und einer dazu konzentrischen, zylindrischen Außenelektrode (10), die zwischen sich einen
mit Gas geringen Drucks gefüllten Entladungsraum (12) auf
weisen, der an einem Ende (13) offen und am anderen Ende
(14) mit einem Isolator (15) verschlossen ist, der eine
den Aufbau einer homogenen Plasmaschicht erlaubende Ober
fläche (16) aufweist, und mit einem die Elektroden (10, 11)
kurzzeitig mit einer Hochspannungsquelle verbindenden
Hochleistungsschalter (HS) zur Einleitung der Plasmaentladung, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Isolator (15) eine ringförmige
Scheibe ist, die sich zwischen der Innen- und der Außen
elektrode (11 bzw. 10) erstreckt und mit einer senkrechten oder
gegen die Zylindervertikale (18) geneigten Ober
fläche (16) an den Entladungsraum (12) angrenzt, und daß
die Elektroden (10, 11) in einem Abstand (25)
voneinander angeordnet sind, der eine Elektronenvervielfachung
in einer homogenen Entladung erlaubt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekenn
zeichnet durch eine Einrichtung (20), die die elektrische Feldstärke im
Entladungsraum (12) besonders am äußeren Rand (17) der an
grenzenden Oberfläche (16) des Isolators (15) herabsetzt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß auf der dem Gasentladungsraum (12)
abgewendeten Seite (15′) des Isolators (15) als Einrichtung (20) zur Herabsetzung der Feldstärke ein mit der
Außenelektrode (10) in elektrischer Verbindung stehendes
und gegen die Innenelektrode (11) isoliertes ringförmiges
Potentialblech (23) angeordnet ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Außenelektrode (10) als Einrichtung (20) zur Herabsetzung der Feldstärke eine
Ringnut (21) oder eine
Lochreihe (22) in der Nähe des Isolators (15) auf
weist.
5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
4, dadurch gekennzeichnet, daß in der
Nähe des Isolators (15) mindestens eine Startelektrode
(24) in einer Elektronenvervielfachung in einer homogenen
Entladung erlaubenden Abstand (25′) von der Innenelektrode
(11) angeordnet ist.
6. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
5, dadurch gekennzeichnet, daß eine
Strahlungsquelle (26) vorhanden ist, die das Gas des Gas
entladungsraums (12) in der Nähe des Isolators (15) ioni
siert.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Strahlungsquelle (26) eine plas
mabildende Hohlkathode (27) und/oder eine plasmabildende
Hochfrequenzstrahlungsquelle (28) und/oder eine UV-Licht
quelle (29) ist.
8. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
7, dadurch gekennzeichnet, daß auf
der dem Gasentladungsraum (12) abgewendeten Seite (15′)
des Isolators (15) eine vorspannungsbeaufschlagbare, gas
entladungsraumseitig isolatorangelagerte Elektronen (e)
erzeugende Ladeelektrode (30) vorhanden ist, und daß die
Elktronen (e) durch Spannungsbeaufschlagung einer Elek
trode (11) freisetzbar sind.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekenn
zeichnet, daß an die Ladeelektrode (30) und an die
gegenpolige Zylinderelektrode (Außenelektrode 10) ein
zeitgleich mit dem Hochleistungsschalter (HS) betätigbarer
Entladungsschalter (ES) angeschlossen ist.
10. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
9, dadurch gekennzeichnet, daß die
Innenelektrode (11) an positives Potential und die Außen
elektrode (10) geerdet oder an negatives Potential ange
schlossen ist.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893908480 DE3908480C1 (de) | 1989-03-15 | 1989-03-15 | |
EP19900104819 EP0387838A3 (de) | 1989-03-15 | 1990-03-14 | Vorrichtung zur Erzeugung einer Plasmaquelle hoher Strahlungsintensität im Röntgenbereich |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893908480 DE3908480C1 (de) | 1989-03-15 | 1989-03-15 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3908480C1 true DE3908480C1 (de) | 1990-08-09 |
Family
ID=6376421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19893908480 Expired - Fee Related DE3908480C1 (de) | 1989-03-15 | 1989-03-15 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0387838A3 (de) |
DE (1) | DE3908480C1 (de) |
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Date | Code | Title | Description |
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8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |