DE3821422C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung
sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäß
dem Oberbegriff des Patentanspruchs 5.
Zum Feststellen von Durchkontakt-Fehlerstellen auf
der Oberfläche eines Durchkontaktlochs in einer Mehrlagenplatine
nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Zum elektrischen Zusammenschalten von Lagen einer Mehr
lagenplatine wird auf die Innenwand eines Durchkontaktlochs
z. B. eine Kupferschicht durch elektroloses Metallisieren
aufgebracht, und dann wird auf der Kupferschicht eine Lotschicht
durch elektrolytisches Metallisieren gebildet.
Der Durchmesser des Durchkontaktlochs wird jedoch proportional
zur Erhöhung der Packungsdichte von auf der Mehrlagenplatine
befindlichen Bauelementen und der Zunahme der
Anzahl Lagen immer kleiner, während die Lochtiefe zunimmt.
Unter diesen Umständen kann die Ausbildung der Metallisie
rungsschichten an der Innenwand des Durchkontaktlochs nur
mit großen Schwierigkeiten erreicht werden, was zu fehler
hafter elektrischer Leitung führt.
Ein derartiger Fehler ist in der Anfangsphase der Produk
tion schwer festzustellen; wenn er aber nicht festgestellt
und beseitigt wird, führt er zu einem Geräteausfall, was
häufig schwerwiegende Folgen hat.
Es ist daher sehr wichtig, eine fehlerhafte Abscheidung von
Kupfer an der Innenwand eines Durchkontaktlochs, d. h. eine
Durchkontakt-Fehlerstelle, frühzeitig festzustellen und
zu beseitigen.
Es wurde bereits ein Verfahren zur Durchkontakt-Fehler
stellenprüfung vorgeschlagen (JP-A-60-85 596), bei dem auf
eine Oberfläche einer Platine eine lichtempfindliche Platte
oder Schicht haftend so aufgebracht wird, daß sie im we
sentlichen sämtliche zu prüfenden Durchkontaktlöcher über
deckt; dann wird die eine Oberfläche der Platine in solcher
Weise belichtet, daß das Licht sämtliche zu prüfenden
Durchkontaktlöcher durchsetzen kann, und schließlich wird
die so behandelte lichtempfindliche Platte bzw. Schicht als
Lichtabschirmmaske zur Durchführung der Durchkontaktloch
prüfung verwendet.
Ein weiteres bekanntes Verfahren ist z. B. in Processing
Technical Program Natl, Electron Packaging Production Con
ference, Vol. 1974, S. 56-62 (1974) angegeben; dort wird
das Lagenmaterial mit einem Leuchtstoff vermischt, und ein
unter UV-Strahlung an einer Durchkontakt-Fehlerstelle
erzeugter Lumineszenzstrahl wird beobachtet bzw. gemessen.
Insbesondere wird das Lagenmaterial mit einer Leuchtfarbe
vermischt, die durch einen Anregungsstrahl einer Wellen
länge von 350 nm anregbar ist und einen Lumineszenzstrahl
einer Wellenlänge von 472 nm erzeugt. Ein Filter zum Durch
laß eines Strahls einer Wellenlänge von 350 nm ist über
einer UV-Lampe gehaltert. Eine zu prüfende Platine ist
horizontal über dem Filter gehaltert, und ein zweites Fil
ter für die Absorption der UV-Strahlung von 350 mm ist über
der Platine gehaltert. Das untere Filter, die Platine und
das obere Filter sind zweckmäßigerweise voneinander beab
standet.
Wenn die von der zuunterst befindlichen UV-Lampe ausge
sandte UV-Strahlung das untere Filter bestrahlt und in
einem Durchkontaktloch eine Durchkontakt-Fehlerstelle
vorhanden ist, trifft der UV-Strahl durch die Durchkontakt-
Fehlerstelle hindurch auf einen Abschnitt der Platine
auf und erzeugt einen Lumineszenzstrahl. Der das obere
Filter von oben beobachtende Bediener kann das defekte
Durchkontaktloch mit der Durchkontakt-Fehlerstelle hell
leuchten sehen und eine Prüfung auf Vorhandensein der
Durchkontakt-Fehlerstelle durchführen.
Mit diesem bekannten Verfahren kann eine relativ große
Durchkontakt-Fehlerstelle geprüft werden.
Bei dem erstgenannten bekannten Verfahren treten folgende
Probleme auf.
Insbesondere muß bei dem erstgenannten bekannten Verfahren
ein Ende eines Durchkontaktlochs vollständig abgedeckt
sein, damit der Beleuchtungsstrahl nur den Rand des Durch
kontaktlochs beleuchten und an einem Eintritt in das Durch
kontaktloch gehindert werden kann. Wenn nämlich ein Ende
des Durchkontaktlochs unvollständig abgedeckt ist, wird das
Vorhandensein einer Durchkontakt-Fehlerstelle fälschli
cherweise festgestellt, obwohl tatsächlich keine solche
Fehlerstelle vorhanden ist. Wenn ferner die Anzahl Durchkon
taktlöcher groß ist, müssen viele Durchkontaktlöcher am
einen Ende nacheinander oder gemeinsam geöffnet und ge
schlossen werden, was eine aufwendige Öffnungs/Schließope
ration bedingt.
Bei dem erstgenannten Stand der Technik muß das den Rand
des Durchkontaktlochs beleuchtende Licht durch das Innere
der Platine und die Durchkontakt-Fehlerstelle das Durch
kontaktloch erreichen.
Wenn jedoch in Abhängigkeit vom Typ der Platine viele Lagen
vorgesehen sind und Innenlagen ein spezielles Verdrahtungs
muster aufweisen, kann das Bestrahlungslicht auf seiner
Bahn unterbrochen werden. Ferner kann das Bestrahlungslicht
durch ein Schaltungsmuster unterbrochen werden, das auf der
äußersten Oberfläche der Platine bereits gebildet wurde.
Aus diesen Gründen geschieht es häufig, daß eine Prüfung
der Durchkontakt-Fehlerstellen unmöglich ist.
Wenn ferner bei dem erstgenannten bekannten Verfahren das
Bestrahlungslicht die andere Oberfläche der Platine ent
gegengesetzt zu der Fläche, auf der die lichtempfindliche
Platte bzw. Schicht vorgesehen ist, beleuchtet, ist es
schwierig zu verhindern, daß das Licht in ein Durchkontakt
loch eintritt.
Das zweitgenannte bekannte Verfahren wurde zwar vor mehr
als zehn Jahren vorgeschlagen, es hat sich aber bisher
nicht allgemein durchgesetzt. Dies hat vermutlich die nach
stehend genannten Gründe.
Erstens muß das Lagenmaterial mit dem Lumineszenzmaterial
vermischt werden, und es ist somit zu erwarten, daß durch
den zusätzlichen Arbeitsschritt des Vermischens die Kosten
steigen und die Zuverlässigkeit des Lagenmaterials nach
teilig beeinflußt wird.
Zweitens ist die Prüfung auf eine Platine gerichtet, bei
der das Durchkontaktloch ein Verhältnis von ca. 1 zwischen
seinem Durchmesser und seiner Tiefe hat, und es ist mit
diesem bekannten Verfahren schwierig, Durchkontakt-
Fehlerstellen in modernen Platinen zu prüfen, bei denen die
Platine eine Dicke von einigen mm hat, was erheblich größer
als der Durchmesser eines Durchkontaktlochs mit 0,3-0,5 mm
ist.
Bei einer solchen Platine mit durchmesserkleinen Durchkon
taktlöchern ist die Stärke eines Lumineszenzstrahls, der
eine kleine Durchkontakt-Fehlerstelle durchsetzt, sehr
gering, und die Prüfung von Durchkontakt-Fehlerstellen
ist mit dem zweitgenannten bekannten Verfahren schwierig.
In der US-PS 33 95 286 ist eine Vorrichtung zum Zählen
von Löchern in Blechen beschrieben. Das zu untersuchende
Blech wird hierzu zwischen Leuchtstoffröhren und einer
Lichtmeßkammer geführt. Bei Auftreten von Löchern ab einem
gewissen Durchmesser kann das das Blech durchdringende
Licht von der Lichtmeßkammer aufgenommen und für einen
charakteristischen Zählwert verwendet werden.
Das DE-GM 18 18 578 beschreibt eine Spiegelanordnung zur
Anzeige von Löchern in Blechen oder anderen Materialien.
Hierbei wird wiederum das zu messende Blech zwischen einer
Lichtquelle und einer lichtempfindlichen Zelle geführt.
Zur Detektion von kleinen und etwas schräg liegenden Löchern
wird die Lichtquelle auf die lichtempfindliche Zelle durch
einen Spiegel mit elliptischem Querschnitt abgebildet.
Dadurch kann ein großer Wellenlängenbereich hergestellt
werden und es ist eine Anpassung an die Spektralempfindlichkeit
der Strahlungsempfänger möglich.
Zur Erkennung von Fehlstellen eines Durchgangslochs einer
Leiterplatte wird in der JP 61-265 557 A eine Lichtquelle
auf derselben Seite wie ein Lichtmeßgerät angeordnet.
Mittels eines Spiegels, der lichtdurchlässige und lichtreflektierende
Teilflächen besitzt, wird Licht auf den
Umfang eines Durchgangslochs in der Platine fokussiert.
Das von einer Fehlstelle in dem Durchgangsloch hervorgerufene
Streulicht kann durch die lichtdurchlässige Teilfläche
eines Spiegels hindurchstrahlen und zum Lichtmeßgerät
gelangen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung
eines Verfahrens und einer Vorrichtung zur zuverlässigen
Prüfung von Durchkontakt-Fehlerstellen auf der Basis von
Lumineszenzerscheinungen, wobei auch das Feststellen von
kleinen Durchkontaktloch-Fehlerstelle möglich ist.
Diese Aufgabe wird durch die kennzeichnenden Merkmale der Patentansprüche 1
und 5 gelöst.
Die Lichterfassungsoptik umfaßt dabei eine Lampe, z. B.
eine Höchstdruck-Quecksilberdampflampe, und ein von dieser
ausgesandter Anregungslichtstrahl hoher Intensität wird von
einer Sammellinse gesammelt und durch ein Anregungsfilter
geleitet, so daß nur eine Wellenlänge des Anregungslichts
austritt, die auf ein Wellenlängenband begrenzt ist, das
für die Erzeugung eines Lumineszenzstrahls aus dem Lagen
material der Platine optimal ist, wonach der Anregungs
strahl dieser Wellenlänge ein Mikroskopobjektiv erreicht.
Dieses hat eine so große numerische Apertur, daß
der Anregungsstrahl unter einem Bündelungswinkel von 10°
oder mehr gebündelt wird und ein Durchkontaktloch be
strahlt. Der Anregungsstrahl wird von dem Mikroskopobjektiv
einmal auf einen Punkt im Durchkontaktloch fokussiert,
dessen Innenwand eine Streufläche aufweist, und wird wie
derholt an der Streufläche reflektiert und im Durchkontakt
loch gestreut, so daß die gesamte Streufläche beleuchtet
bzw. bestrahlt wird.
Bei Vorhandensein einer Durchkontakt-Fehlerstelle im
Durchkontaktloch, insbesondere in der Streufläche, trifft
der Anregungsstrahl auf die Platinenlage durch diese Fehler
stelle auf und erzeugt einen Lumineszenzstrahl, der durch
das Durchkontaktloch gestreut wird. Da der Lumineszenz
strahl im allgemeinen eine Wellenlänge hat, die innerhalb
eines Wellenlängenbereichs liegt, der breiter als derjenige
des Anregungsstrahls ist, und keine Richtfähigkeit hat,
wird der Lumineszenzstrahl zum Durchkontaktloch gestreut
unter Bildung von gestreuten Lumineszenzstrahlen gleich
mäßiger Stärke. Von den gestreuten Lumineszenzstrahlen
werden solche, die in Richtung zur Lichterfassungsoptik
weisen, wiederholt an der Streufläche reflektiert, errei
chen den Eingang des Durchkontaktlochs und werden durch das
Mikroskopobjektiv auf einen Detektor der Lichterfassungs
optik fokussiert. Ein zwischen dem Mikroskopobjektiv und
dem Detektor angeordneter dichroitischer Spiegel, der den
von der Lampe ausgesandten Anregungsstrahl reflektiert,
läßt nur den Lumineszenzstrahl durch. Ein zwischen dem
dichroitischen Spiegel und dem Detektor angeordnetes Filter
absorbiert dann das Wellenlängenband des Anregungsstrahls
und läßt nur den Lumineszenzstrahl durch. Infolgedessen
kann der Detektor ein helles Bild des Eingangs des Durch
kontaktlochs bei Anwesenheit einer Durchkontakt-Fehler
stelle erfassen, wogegen er bei Abwesenheit einer Durch
kontakt-Fehlerstelle ein dunkles Bild des Durchkontakt
loch-Eingangs erfaßt, was anzeigt, daß kein Lumineszenz
strahl erfaßt wird.
Auf diese Weise kann ein Durchkontaktloch sehr einfach auf
An- oder Abwesenheit von Fehlerstellen geprüft werden.
Wenn die Größe der Durchkontakt-Fehlerstelle gering ist,
ist die Intensität des Lumineszenzstrahls von der Durch
kontakt-Fehlerstelle sehr gering, so daß auf der Ober
fläche des Detektors eine Beleuchtng einer Stärke von ca.
10-3 bis 10-2 lx erzeugt wird. Daher kann eine übliche
Fernsehkamera oder ein üblicher Linearbildsensor nicht als
Detektor verwendet werden. Gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung kann als
Detektor eine spezielle Fernsehkamera, z. B. eine Si-Ver
stärkertarget-Fernsehkamera oder eine Bildverstärker-Fern
sehkamera eingesetzt werden, die einen schwachen Strahl
einer Stärke von 10-3 lx oder weniger erfassen kann. Ferner
kann als Detektor ein handelsüblicher ultrahochempfindli
cher Linearbildsensor verwendet werden, bei dem eine Bild
verstärkerröhre und ein normaler Linearbildsensor kombi
niert werden.
Gemäß der Erfindung wird also die Lichterfassungsoptik,
umfassend das Mikroskopobjektiv mit großer numerischer Apertur,
dazu verwendet, einen Anregungsstrahl
für die Erzeugung eines Lumineszenzstrahls zu
liefern, dessen Wellenlängenband von demjenigen des Anre
gungsstrahls bei Anwesenheit einer Durchkontakt-Fehler
stelle in einem Durchkontaktloch verschieden ist, und den
vom Eingang des Durchkontaktlochs kommenden Lumineszenz
strahl mittels des Detektors zu erfassen; dadurch wird
sichergestellt, daß die Durchkontakt-Fehlerstelle leicht
und hochzuverlässig auf Anwesenheit geprüft werden kann, um
die Produktion fehlerhafter Platinen und einen Ausfall von
Geräten wie Rechnern, die Platinen verwenden, zu vermeiden.
Anhand der Zeichnung wird die Erfindung beispielsweise
näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Vorrich
tung zur Prüfung von Durchkontakt-Fehler
stellen gemäß einer Ausführungsform der Er
findung;
Fig. 2A eine Grafik, die den Lichtdurchlaßgrad eines
Anregungsfilters zeigt;
Fig. 2B eine Grafik, die den Lichtdurchlaßgrad eines
dichroitischen Spiegels zeigt;
Fig. 2C eine Grafik, die den Lichtdurchlaßgrad eines
Absorptionsfilters zeigt;
Fig. 3 und 4 weitere Ausführungsformen der Vorrichtung zur
Prüfung von Durchkontaktloch-Fehlerstellen;
Fig. 5 ein Diagramm zur Erläuterung der Prüfung im
Fall des Vorhandensein eines Fremdkörpers auf
einer Platine;
Fig. 6A eine andere Ausführungsform der Vorrichtung
zur Prüfung von Durchkontakt-Fehlerstellen;
Fig. 6B ein Diagramm zur Erläuterung einer Irisblende
der Ausführungsform nach Fig. 6A;
Fig. 7A bis 11B Diagramme, die die Beziehung zwischen dem Seh
feld eines Mikroskopobjektivs und der Iris
blende erläutern;
Fig. 12A eine weitere Ausführungsform der Vorrichtung
zur Prüfung von Durchkontakt-Fehlerstellen;
Fig. 12B eine vergrößerte Teildraufsicht, die die
Umgebung von Durchkontaktlöchern in einer
Platine von Fig. 12A zeigt.
Eine Ausführungsform der Vorrichtung zur Prüfung von Durch
kontakt-Fehlerstellen wird unter Bezugnahme auf die Fig.
1 und 2 erläutert. Nach Fig. 1 hat eine Platine bzw. Lei
terplatte die Struktur einer Mehrlagenplatine 1, wobei jede Lage ein
Verdrahtungsmuster 1b aufweist und ein Durchkontaktloch 2
vorgesehen ist, das die Lagen durchsetzt. Die Innenwand des
Durchkontaktlochs 2 und die Ober- und Unterseite der Mehrlagenpla
tine 1 sind jeweils mit Kupferfolie als elektrische Leiter 3a und 3b belegt. Die
die Innenwand des Durchkontaktlochs 2 bedeckende Kupfer
folie 3a hat eine Streufläche, die einen Anregungslichtstrahl 13
von einer noch zu erläuternden Lichterfassungsoptik 5
reflektieren kann. Ein Teil der Kupferfolie 3a an der In
nenwand des Durchkontaktlochs 2 ist abgelöst, so daß eine
Durchkontakt-Fehlerstelle 4 gebildet ist. Die Lichter
fassungsoptik 5 umfaßt eine Lichtquelle 6, eine Sammellinse 7,
ein Anregungsfilter 8, einen dichroitischen Spiegel 9, ein
Mikroskopobjektiv als Fokussierungsoptik 10, ein Absorptionsfilter 11 und einen lichtelektrischen
Wandler 12 als Detektor. Die Lichtquelle 6 ist z. B. eine Höchstdruck-Queck
silberdampflampe, die einen sehr starken Anregungslichtstrahl 13
aussenden kann. Die Sammellinse 7 sammelt den aus der Lichtquelle
6 austretenden Anregungsstrahl. Das Anregungsfilter 8 kann
eine Wellenlänge des Anregungslichtstrahls 13 durchlassen, die
zur Erzeugung einer Fluoreszenzstrahlung 14 bei Auftreffen
auf ein Lagenmaterial 1a optimal ist. Somit kann durch das Anregungs
filter 8 nur der Anregungslichtstrahl 13 einer Wellenlänge
durchgelassen werden, die auf ein Wellenlängenband begrenzt
ist, das z. B. in Fig. 2A dargestellt ist. Der dichroiti
sche Spiegel 9 kann die Fluoreszenzstrahlung 14 durchlassen
(deren Wellenlänge länger als diejenige des Anregungs
lichtstrahls 13 ist), während er den Anregungslichtstrahl 13
reflektiert (vgl. Fig. 2B). Das Mikroskopobjektiv hat
eine numerische Apertur mit großem Wert, und zwar
NA = sinR, und hat insbesondere einen Bündelungswinkel
R von 10° oder größer für den Anregungslichtstrahl 13 und die
Fluoreszenzstrahlung 14 von Fig. 1, so daß NA = sin 10° erhal
ten wird, wobei die aus dem Durchkontaktloch 2 austretende
Fluoreszenzstrahlung 14 genügend gebündelt werden kann. Das
Absorptionsfilter 11 kann das Wellenlängenband des Anre
gungslichtstrahls 13 absorbieren und nur die Fluoreszenzstrahlung
14 durchlassen (vgl. Fig. 2C). Der lichtelektrische Wandler 12 ist z. B.
eine ultrahochempfindliche Siliziumverstärkertarget-Fern
sehkamera oder eine Bildverstärker-Fernsehkamera, die eine
sehr schwache Fluoreszenzstrahlung einer Beleuchtungsstärke
von 10-3 bis 10-2 lx oder weniger erfassen kann. Der lichtelektrische
Wandler 12 kann ferner ein Linearbildsensor sein, und zwar
insbesondere ein handelsüblicher ultrahochempfindlicher
Linearbildsensor, in dem in Kombination eine Bildverstär
kerröhre und ein üblicher Linearbildsensor verwendet wer
den. Die Fluoreszenzstrahlung 14, die bei Auftreffen des An
regungslichtstrahls 13 auf das Lagenmaterial 1a erzeugt wird,
hat keine Richtfähigkeit und streut gleichmäßig aus der
Durchkontakt-Fehlerstelle 4 in das Durchkontaktloch 2.
Ein Verfahren zur Prüfung einer Durchkontakt-Fehlerstelle
wird unter Anwendung der vorstehend erläuterten Vorrichtung
durchgeführt.
Ein aus der Lichtquelle 6 austretender Anregungslichtstrahl 13 wird in
der Sammellinse 7 gesammelt, und nur eine Wellenlänge des
Anregungslichtstrahls 13, die auf das Wellenlängenband nach Fig.
2A begrenzt ist, kann das Anregungsfilter 8 passieren. Der
Ausgangsstrahl des Anregungsfilters 8 wird am dichroitischen Spiegel
9 reflektiert und auf einen Punkt im Durchkontaktloch 2
gebündelt, und zwar mittels des Mikroskopobjektivs als Fokussierungsoptik 10, das
für eine Fokussieroptik mit großer numerischer Apartur steht, so daß
NA≧ sin 10° erhalten wird; dadurch kann der Anregungslicht
strahl 13 in dem Durchkontaktloch 2 hinreichend gestreut
werden, um den gesamten Bereich der Oberfläche der Kupfer
folie als elektrischen Leiter 3a zu bestrahlen.
Bei Vorhandensein einer Durchkontakt-Fehlerstelle 4 in einem Durchkontakt
loch 2 trifft der Anregungslichtstrahl 13 auf das Lagenmaterial 1a
der Mehrlagenplatine 1 durch die Durchkontakt-Fehlerstelle 4 hindurch auf, und die
von dem Lagenmaterial 1a erzeugte Fluoreszenzstrahlung 14
streut durch die Durchkontakt-Fehlerstelle 4 zum Durchkontaktloch 2. Von
der gestreuten Fluoreszenzstrahlung 14 werden nach oben
weisende Strahlen wiederholt an der Oberfläche der Kupfer
folie reflektiert und erreichen einen Eingang 2a des
Durchkontaktlochs 2 und werden auf den lichtelektrischen Wandler 12 von dem
Mikroskopobjektiv, das für die Fokussieroptik 10 steht,
fokussiert. Der dichroitische Spiegel 9, der den Anregungslicht
strahl 13 reflektiert, läßt nur die Fluoreszenzstrahlung 14
durch, wie Fig. 2B zeigt. Da das Absorptionsfilter 11 das
Wellenlängenband des Anregungslichtstrahls 13 absorbiert und nur
die Fluoreszenzstrahlung 14 durchläßt, wie Fig. 2C zeigt, kann
der lichtelektrische Wandler 12 ein helles Bild des Eingangs 2a des Durch
kontaktlochs 2 bei Anwesenheit einer Durchkontakt-Fehlerstelle 4 in diesem
erfassen, während er bei Abwesenheit von Durchkontakt-Fehlerstellen 4 in
dem Durchkontaktloch 2 ein dunkles Bild des Eingangs 2a des
Durchkontaktlochs 2 erfaßt, was bedeutet, daß keine Fluoreszenzstrahlung
erfaßt wird. Der als ultrahochempfindlicher
Linearbildsensor ausgebildete Detektor kann eine Fluoreszenzstrahlung
so geringer Beleuchtungsstärke wie 10-3 - 10-2 lx
oder weniger erfassen.
Nachstehend werden weitere Ausführungsbeispiele erläutert.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 3 wird als Anregungslicht
strahl 13 ein Laserstrahl von einer Laserlichtquelle 16
verwendet, der von der Sammellinse gesammelt und erweitert
wird.
Die Laserlichtquelle 16 kann entweder eine einzelne Wellen
länge oder mehrere Wellenlängen innerhalb eines bestimmten
Wellenlängenbands aussenden. Bei Verwendung einer Laser
lichtquelle, die nur einen Laserstrahl der Wellenlänge aus
sendet, die innerhalb des erforderlichen Anregungsbands
liegt, kann daher das Anregungsfilter 8 von Fig. 1 ent
fallen.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 4 ist die Art und Weise,
wie der Anregungslichtstrahl gesammelt wird, besonders berück
sichtigt, wenn der auf die Mehrlagenplatine auftreffende Anregungslicht
strahl einen Einfallswinkel hat, der einer numerischen Apertur von ca. 1
äquivalent ist.
Dabei wird ein von einer Lichtquelle 6 ausgehender Anregungslicht
strahl 13 nach unten an einem Rotations-Parabolflächen
reflektor 17 reflektiert, der in bezug auf eine die Licht
quelle und ein Durchkontaktloch verbindende Gerade rota
tionssymmetrisch ist, und reflektierte Strahlen werden von
einem gleichartigen Rotations-Parabolflächenreflektor, der
dem Rotations-Parabolflächenreflektor 17 gegenübersteht, und einem Mikroskopobjektiv als
Fokussierungsoptik 10 im Inneren des Rotations-Parabolflächenreflektors 18 gesammelt, so daß ein
gesammelter Strahl schräg in ein Durchkontaktloch 2 in der
Mehrlagenplatine 1 eintritt und auf Abschnitte im Durchkontaktloch 2
fokussiert wird. Insbesondere bildet der Rotations-Para
bolflächenreflektor 18 eine Beleuchtungs/Fokussier-Optik,
die es ermöglicht, daß der Anregungslichtstrahl auf den gesamten
Innenumfang des Durchkontaktlochs auftrifft, was gewähr
leistet, daß Anregungslichtstrahlen 13 hoher Intensität im
Durchkontaktloch nach schräg unten gestreut werden. Wenn
bei Vorhandensein einer Durchkontakt-Fehlerstelle (nicht
gezeigt) im Durchkontaktloch 2 eine Fluoreszenzstrahlung 14
erzeugt wird, wird diese nach Austritt aus dem Durchkon
taktloch 2 auf den lichtelektrischen Wandler 12 fokussiert, und zwar von
zwei Reflektoren 19a und 19b, während sie das Anregungsfil
ter 11 durchsetzt, das nur die Fluoreszenzstrahlung 14 durch
läßt. Bei dieser Ausführungsform kann der dichroitische
Spiegel nach Fig. 1 entfallen.
Somit tritt hier der Anregungslichtstrahl 13 hoher Intensität in
das Durchkontaktloch 2 schräg ein und wird mit hohem Wir
kungsgrad im Durchkontaktloch schräg reflektiert und trifft
durch eine etwa vorhandene feine Fehlerstelle im Durchkon
taktloch auf das Lagenmaterial auf.
Wenn eine relativ breite Fläche auf der Mehrlagenplatine 1 mit dem
Anregungslichtstrahl 13 bestrahlt wird und eventuell ein Fremd
körper 20 (Fig. 5) innerhalb dieses Bereichs vorhanden ist,
erzeugt der Fremdkörper 20 eine Fluoreszenzstrahlung 14, die
zu der fehlerhaften Feststellung einer Fehlerstelle in einem
Durchkontaktloch 2 führt. Um dieses Problem auszuschalten,
wird der Beleuchtungsbereich auf der Mehrlagenplatine 1 durch Be
grenzung des Anregungslichtstrahls 13 verringert. Wie z. B. die
Fig. 6A und 6B zeigen, ist zwischen dem Anregungsfilter 8
und dem dichroitischen Spiegel der Lichterfassungsoptik 5
nach Fig. 1 eine Irisblende 21 angeordnet, so daß auf der
Oberfläche der Mehrlagenplatine 1 eine Abbildung des Anregungslicht
strahls erzeugt wird.
Insbesondere zeigen die Fig. 7A und 7B den Fall, bei dem
als Irisblende 21 eine relativ große kreisrunde Irisblende
21a verwendet wird, die geringfügig kleiner als das Sehfeld
10a des Mikroskopobjektivs 10 ist. In diesem Fall beleuch
tet der Anregungslichtstrahl 13 das gesame Sehfeld des Mikro
skopobjektivs der Fokussierungsoptik 10. Die Fig. 8A und 8B zeigen den Fall, daß
eine kleine kreisrunde Irisblende 21 verwendet wird, so daß
der Anregungslichtstrahl 13 nur ein Durchkontaktloch 2 beleuch
ten kann. Die Fig. 9A und 9B zeigen den Fall, daß eine
Irisblende 21c mit mehreren kleinen Löchern verwendet wird,
um mehrere Durchkontaktlöcher 2 gleichzeitig zu beleuchten.
Durch Verwendung einer geeignet ausgebildeten Irisblende 21
kann die fehlerhafte Erkennung einer Durchkontakt-Fehler
stelle, hervorgerufen durch einen Fremdkörper 20, auch dann
verhindert werden, wenn sich der Fremdkörper 20 auf der
Oberfläche der Mehrlagenplatine 1 mit Ausnahme des Durchkontaktlochs
2 befindet und eine Fluoreszenzstrahlung 14 erzeugt.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 7-9 wurde die Auslegung der
Irisblende unter der Annahme beschrieben, daß als lichtelektrischer Wandler
12 eine Fernsehkamera eingesetzt wird. Wenn als lichtelektrischer Wandler 12
ein Linearbildsensor verwendet wird, wird eine langge
streckte Irisblende 21d nach den Fig. 10A und 10B verwen
det, so daß nur ein von dem Linearbildsensor zu erfassender
Abschnitt beleuchtet wird, oder es wird eine Irisblende 21e
mit mehreren Öffnungen an Stellen, die Durchkontaktlöchern
2 entsprechen, verwendet (Fig. 11A und 11B), so daß nur die
Durchkontaktlöcher bestrahlt werden.
In den Fig. 7-11 wird die Irisblende 21 als kreisrund oder
länglich beschrieben;
die Irisblende kann z. B. auch quadratisch oder oval
sein.
Bei der Beschreibung der Fig. 1-11B wird als zu prüfen
der Gegenstand eine Mehrlagenplatine 1 ohne Muster auf der äußersten
Lage angegeben, wie sie vor dem Ätzvorgang vorliegt. Da die
gesamte Mehrlagenplatine 1 vor dem Ätzvorgang mit einer Kupferfolie
bedeckt ist, erfaßt der lichtelektrische Wandler 12 eine Fluoreszenzstrahlung
14 nur dann, wenn in einem Durchkontaktloch in der Mehrlagenplatine
1 eine Durchkontakt-Fehlerstelle 4 vorhanden ist; davon ausgenommen ist
der seltene Fall, daß ein Fremdkörper 20 eine Fluoreszenzstrahlung
14 erzeugt. Somit kann das Vorhandensein einer Durchkontakt-Fehler
stelle 4 in dem Durchkontaktloch 2 durch die Erfassung der
Fluoreszenzstrahlung 14 bestimmt werden.
Es ist daher einfach, etwaige Durchkontakt-Fehlerstellen
4 im Prüfgegenstand, der eine Mehrlagenplatine 1 vor dem Ätzvorgang
ist, festzustellen.
In der Praxis wird jedoch manchmal eine Leiterplatte mit
einem Muster auf der äußersten Lage nach dem Ätzvorgang
als Prüfobjekt betrachtet. Bei der Prüfung dieser Art von Mehrlagenplatinen
1 wird eine Fluoreszenzstrahlung 14 erzeugt, wenn ein
Anregungslichtstrahl 13 auf ein Lagenmaterial 1a′ der Platine 1′
mit Ausnahme eines Durchkontaktlochs 2 auftrifft, wie die
Fig. 12A und 12B zeigen, und das Lagenmaterial 1a′ wird
fälschlicherweise als Durchkontakt-Fehlerstelle 4 in einem Durchkontaktloch
2 angesehen. Zur Lösung dieses Problems ist bei einer wei
teren Ausführungsform nach den Fig. 12A und 12B eine Iris
blende 21 vorgesehen, die den Bestrahlungsbereich auf eine
Fläche begrenzt, die kleiner als die Größe einer Kontakt
fläche des elektrischen Leiters 3a aus Kupferfolie auf der äußersten Lage ist, wobei
diese Kontaktfläche mit einer Kupferfolie zusammenhängt,
die als elektrischer Leiter in einem Durchkontaktloch 2
dient; zwischen der Irisblende 21 und dem Anregungsfilter 8
ist ein Verschluß 22 vorgesehen, der aufgrund eines Befehls
von einer Steuereinheit 24 geöffnet bzw. geschlossen wird.
Die Steuereinheit 24 steuert ferner den Antrieb eines
Tischs 23, der die Platine 1′ trägt und durch Antriebskraft
angetrieben wird, die von einer Antriebseinheit zugeführt
wird, so daß der Tisch in X- und Y-Richtung in der zur
Zeichenebene der Fig. 12A senkrechten Horizontalebene ver
fahrbar ist. Damit ist der Verschluß 22 aufgrund des Be
fehls von der Steuereinheit 24 mit der Bewegung des Tischs
23 verriegelt und so gesteuert, daß er nur öffnet, wenn die
Fokuslage des Anregungslichtstrahls 13 durch das Mikroskopob
jektiv der Fokussierungsoptik 10 mit einem Punkt im Durchkontaktloch 2 der Platine
1′ koinzident ist, und schließt, wenn diese Bedingung nicht
erfüllt ist. Dabei ist die Lage von Durchkontaktlöchern 2
relativ zu einer Bezugslage auf der Platine 1′ durch be
kannte Größen dargestellt, die aus Auslegungsdaten abge
leitet sind. Die Auslegungsdaten sind auf einem Aufzeich
nungsträger 25 aufgezeichnet und werden in die Steuerein
heit 24 eingegeben. Somit steuert die Steuereinheit 24 die
Bewegung des die Platine 1′ tragenden Tischs 23 nach Maß
gabe der eingegebenen Auslegungsdaten und kann den Zeit
punkt bestimmen, zu dem die Lage eines Durchkontaktlochs 2
mit der Fokuslage der Fokussierungsoptik 10 koinzident ist, und den
Befehl zum Öffnen des Verschlusses 22 zum Zeitpunkt der
Koinzidenz erzeugen. Bei einer alternativen Ausführungsform
kann der Verschluß 22 natürlich in Verbindung mit der Fokussierungsoptik
zur Erfassung der Fluoreszenzstrahlung vorgesehen sein, wie
in Fig. 12A in Strichlinien angedeutet ist. Bei Verwendung
einer Abtastimpulslichtquelle, die den Anregungslichtstrahl aus
senden kann, kann der Verschluß 22 entfallen. Da jedoch ein
Anregungslichtstrahl hoher Intensität ausgesandt werden muß,
können bevorzugt eine Höchstdruck-Quecksilberdampflampe als Lichtquelle 6
und der Verschluß 22 in Kombination verwendet werden. Die
Lichtquelle 6 in Form einer Laserlichtquelle kann ohne weiteres
ein- und ausgeschaltet werden, indem ein opto-akustischer
Reflektor od. dgl. verwendet wird.
Bei der Prüfung auf An- oder Abwesenheit von Durchkontakt-Fehlerstellen
nach Bildung des Verdrahtungsmusters auf
der äußersten Lage (nach dem Ätzen) wird, wenn der Anre
gungslichtstrahl auf das von dem Kupferfolienmuster befreite
Lagenmaterial auftrifft, eine Fluoreszenzstrahlung hoher Inten
sität vom Lagenmaterial erzeugt, und der ultrahochempfind
liche lichtelektrische Wandler 12 wird beim Empfang der Fluoreszenzstrahlung
beschädigt. Der lichtelektrische Wandler 12 muß also in bezug auf den Emp
fang der starken Fluoreszenzstrahlung geschützt sein.
Bei der Prüfvorrichtung nach den Fig. 12A und 12B kann die
Erfassung einer Durchkontakt-Fehlerstelle im wesentlichen
in der gleichen Weise durchgeführt werden, wie sie in Ver
bindung mit den vorhergehenden Ausführungsbeispielen er
läutert wurde.
Wie beschrieben kann also eine Prüfung auf An- oder
Abwesenheit einer Durchkontakt-Fehlerstelle in einem Durchkontaktloch in
einfacher Weise mit hoher Zuverlässigkeit erfolgen, wodurch
die Produktion fehlerhafter Platinen bzw. ein Ausfall von
Geräten, etwa Computern, die solche Platinen verwenden,
vermieden wird.
Claims (19)
1. Verfahren zum Feststellen von Durchkontakt-Fehlerstellen
(4) auf der Oberfläche eines Durchkontaktlochs (2)
in einer Mehrlagenplatine (1), das zum Verbinden von
Verdrahtungsmustern (1b) oberer Lagen und Verdrahtungsmustern
(1b) unterer Lagen der Mehrlagenplatine (1)
mit einem elektrischen Leiter (3a) ausgekleidet ist,
mit folgenden Verfahrensschritten:
- - Beleuchten des Durchkontaktlochs (2), das mit einem Anregungslichtstrahl (13) einer Lichtquelle (6; 16), dessen Wellenlänge innerhalb eines bestimmten Wellenlängenbandes liegt, um im Durchkontaktloch (2) durch eine Durchkontakt-Fehlerstelle (4) freiliegendes Lagenmaterial (1a) der Mehrlagenplatine (1) zur Abgabe von Fluoreszenzstrahlung (14) anzuregen, und
- - Erfassen der von der Durchkontakt-Fehlerstelle (4) abgestrahlten Fluoreszenzstrahlung (14), mit einem lichtelektrischen Wandler (12) zum Feststellen der Durchkontakt-Fehlerstelle (4),
gekennzeichnet durch
die weiteren Verfahrensschritte:
- - Fokussieren des Anregungslichtstrahls (13) oberhalb des Durchkontaktlochs (2) und Ausleuchten des Durchkontaktlochs (2) mit dem Anregungslichtstrahl (13) durch eine Fokussierungsoptik (10; 18), wobei der Einfallswinkel des Anregungslichtstrahls (13) auf die Seitenwände des Durchkontaktlochs (2) mehr als 10° beträgt, und
- - Fokussieren der Fluoreszenzstrahlung (14) durch die genannte Fokussierungsoptik (10) auf den lichtelektrischen Wandler (12), der auf derselben Seite der Mehrlagenplatine (1) angeordnet ist wie die Lichtquelle (6; 16).
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Größe des Anregungslichtstrahls kleiner ist
als die Größe einer Kontaktfläche, an der ein Durchkontaktloch
ausgebildet ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Positionierung des Durchkontaktlochs (2) unter
die Fokussierungsoptik (10) nach Maßgabe der Auslegungsdaten
durchgeführt und anschließend ein Verschluß (22)
geöffnet wird, um den Anregungslichtstrahl (13) an
das positionierte Durchkontaktloch (2) anzulegen.
4. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Positionierung des Durchkontaktlochs (2) unter
die Fokussierungsoptik (10) nach Maßgabe der Auslegungsdaten
durchgeführt und anschließend ein Verschluß (22)
geöffnet wird, um die aus dem positionierten Durchkontaktloch (2)
austretende Fluoreszenzstrahlung (14)
auf den lichtelektrischen Wandler (12) gelangen zu
lassen.
5. Vorrichtung zum Prüfen von Durchkontakt-Fehlerstellen
(4 auf der Oberfläche eines Durchkontaktlochs (2)
in einer Mehrlagenplatine, das zum Verbinden von Verdrahtungsmustern
(1b) oberer Lagen und Verdrahtungsmustern
(1b) unterer Lagen der Mehrlagenplatine (1) mit einem
elektrischen Leiter (3a) ausgekleidet ist, zur Durchführung
des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1-4,
mit
- - einer Lichtquelle (6; 16) und einem Anregungsfilter (8) zum Beleuchten des Durchkontaktlochs (2), mit einem Anregungslichtstrahl (13) einer Wellenlänge innerhalb eines bestimmten Wellenlängenbandes, um im Durchkontaktloch (2) durch einen Durchkontakt-Fehlerstelle (4) freiliegendes Lagenmaterial (1a) der Mehrlagenplatine (1) zur Abgabe von Fluoreszenzstrahlung (14) anzuregen,
- - einem Absorptionsfilter (11), der nur die von der Durchkontakt-Fehlerstelle (4) abgestrahlte Fluoreszenzstrahlung (14) durchläßt und
- - einem lichtelektrischen Wandler (12) zum Erfassen der von der Durchkontakt-Fehlerstelle (4) abgestrahlten Fluoreszenzstrahlung (14),
dadurch gekennzeichnet, daß
- - eine Fokussierungsoptik (10, 18) mit einer numerischen Apertur von mehr als 10° zur Fokussierung des Anregungslichtstrahls (13) oberhalb des Durchkontaktlochs (2) zur Ausleuchtung des Durchkontaktlochs (2) vorgesehen ist, und
- - der lichtelektrische Wandler (12) zum Erfassen des durch den Absorptionsfilter (11) transmittierten Lichts auf derselben Seite der Mehrlagenplatine (1) wie die Fokussierungsoptik (10; 18) angeordnet ist.
6. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein dichroitischer Spiegel (9) vorgesehen ist,
der den Anregungslichtstrahl (13) reflektiert und die
Fluoreszenzstrahlung (14) durchläßt.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Lichtquelle eine Höchstdruck-Quecksilberdampflampe
ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Lichtquelle eine Laserlichtquelle (16) ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Anregungsfilter (8) zwischen der Lichtquelle
(6; 16) und dem dichroitischen Spiegel (9) angeordnet
ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Anregungsfilter (8) zwischen der Lichtquelle
und der Fokussierungsoptik angeordnet ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Fokussierungsoptik einen Rotations-Parabolflächenreflektor
aufweist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß im Anregungsstrahlengang eine Irisblende (21) zur
Teilstrahlbeleuchtung vorgesehen ist, wodurch die Größe
des Anregungsstrahls (13) kleiner als die Größe einer
Kontaktfläche, an der ein Durchkontaktloch (2) ausgebildet
ist, gemacht wird.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet,
daß im Anregungsstrahlengang ein Verschluß (22) vorgesehen
ist, der geöffnet wird, um den Anregungslichtstrahl
(13) auf das positionierte Durchkontaktloch (2) zu
richten.
14. Vorrichtung nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet,
daß im Wege der Fluoreszenzstrahlung (14) ein Verschluß
(22) vorgesehen ist, der geöffnet wird, so daß der
lichtelektrische Wandler (12) die aus dem positionierten
Durchkontaktloch (2) austretende Fluoreszenzstrahlung
erfassen kann.
15. Vorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß der lichtelektrische Wandler (12) einen Bildverstärker
aufweist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß der lichtelektrische Wandler (12) eine Bildverstärker-
Fernsehkamera aufweist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß der lichtelektrische Wandler (12) eine Siliziumverstärkertarget-Fernsehkamera
aufweist.
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