DE3708779C2 - - Google Patents

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Rolf 1000 Berlin De Niemeyer
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Schempp & Decker Maschinenbau 1000 Berlin De GmbH
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Schempp & Decker Maschinenbau 1000 Berlin De GmbH
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10205586B4 (de) * 2002-02-09 2007-07-05 Degussa Galvanotechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur galvanischen Beschichtung von Endlosmaterial

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3937926A1 (de) * 1989-11-15 1991-05-16 Schering Ag Vorrichtung zum abblenden von feldlinien in einer galvanikanlage

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL170027C (nl) * 1971-05-25 1982-09-16 Galentan Ag Verbetering van een om een vaste as draaibare elektrolyt-verdeelinrichting.
DE2324834C2 (de) * 1973-05-17 1978-09-07 Dr. Eugen Duerrwaechter Doduco, 7530 Pforzheim Vorrichtung zum kontinuierlichen selektiven Bandgalvanisieren
CH594067A5 (enrdf_load_stackoverflow) 1973-10-04 1977-12-30 Galentan Ag
NL8101106A (nl) * 1981-03-07 1982-10-01 Galentan Ag Inrichting voor het galvanisch aanbrengen van vlekvormige bedekkingen.
US4431500A (en) * 1981-12-15 1984-02-14 Vanguard Research Associates, Inc. Selective electroplating apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10205586B4 (de) * 2002-02-09 2007-07-05 Degussa Galvanotechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur galvanischen Beschichtung von Endlosmaterial

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