DE3612233C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ermitteln von
Fehlern in flächenhaften Mustern nach dem Oberbegriff
des Patentanspruchs, wie sie durch die DE-OS 29 12 894 bekannt
geworden ist.
Allgemein müssen, wenn das Bild eines auf einer Photomaske aus
gebildeten Schaltungsmusters einer integrierten Schaltung oder
andere Muster zu untersuchen sind, ein Referenzbild und ein zu
untersuchendes Bild vorbereitet werden. Diese Bilder werden op
tisch überlagert und dann visuell verglichen, um eine Stelle
zu finden, an der sich die Bilder voneinander unterscheiden,
um dadurch einen Fehler zu erfassen. Bei der visuellen Prü
fung wächst die Wahrscheinlichkeit, einen Fehler zu überse
hen durch Ermüdung der inspizierenden Person.
Angesichts dieses Problems wurde bereits eine Merkmalsver
gleichsmethode entwickelt, durch die jeweils das Referenz
bild und das zu untersuchende Bild von einer Bildaufnahmevor
richtung in Form von Bildsignalen geliefert werden und die so
erhaltenen beiden Bildsignale miteinander zur automatischen
Erfassung eines Fehlers verglichen werden. Bei diesem Verfahren
ist jedoch wegen Zeichenfehlern bei der Erzeugung eines
Schaltungsmusters aus einem gezeichneten Muster (nämlich
einem Bezugsmuster) und wegen Positionierfehlern in jedem
Bild ein Ausrichtfehler zwischen beiden Bildern unvermeidlich.
Die japanische Offenlegungsschrift 59-24 361 offenbart ein
Vergleichsprüfgerät für zweidimensionale Bildet. Dieses Gerät
kann sowohl einen Fehler, der so groß ist wie ein Schaltungs
muster als auch einen sehr kleinen Fehler erfassen. Ein kompli
ziertes, feines und normales Schaltungsmuster wird, wenn die
ses normale Schaltungsmuster von einem Bezugsmuster inner
halb eines tolerierbaren Ausrichtfehlerbereichs abweicht,
nicht als Fehler erkannt.
Dieses Gerät wandelt zwei von einem Bildaufnahmegerät gelie
ferte Bildsignale in binäre Signale um und ein mit Eingängen
eines Logiknetzwerks verbundenes gespeichertes Vergleichsele
ment wird für jedes der Binärsignale zur Erfassung von Grenz
linien parallel zu den Koordinatenachsen eines rechtwinkligen
Koordinatensystems verwendet. Um die Grenzlinien genau erfas
sen zu können, müssen verschiedenartige Vergleichselemente ge
speichert werden, d. h. daß ein Element zur Erfassung einer
Grenzlinie, die einen Winkel von 45° zur Koordinatenachse bil
det und weitere Vergleichselemente zur Erfassung eines Eckbe
reichs eines Musters gespeichert werden müssen. Daraus ergibt
sich jedoch das Problem, daß ein logisches Netzwerk, dem In
halte jedes gespeicherten Elements zugeführt werden, umfang
reich und damit die Hardware im Gerät umfangreich wird. Außer
dem besteht die Gefahr, daß, falls ein kompliziertes Muster
durch Vergleich mit wenigen gespeicherten Elementen geprüft
wird, einige Fehler übersehen werden, und die Menge fehler
hafter Information wächst.
Nun werden die Nachteile des Standes der Technik im einzelnen
erläutert. Wir nehmen dazu zur Vereinfachung einen Fall, wo
Muster nur Grenzlinien parallel zur X- und Y-Richtung haben
(die jeweils aufeinander senkrecht stehen). Fig. 8 zeigt Extra
hieroperatoren, die zur Prüfung eines Musters durch die Merk
malsvergleichsmethode nötig sind. Jeder Extrahieroperator in
Fig. 8 stellt eine Art gespeichertes Element dar. In diesem
Fall können Unregelmäßigkeiten eines zweidimensionalen Musters,
das aus zwei oder mehr Bildelementen (pixels) besteht, nicht
als Quantisierfehler, sondern nur als Fehler beurteilt werden.
Im folgenden wird ein Extrahieroperator (weiterhin mit "Ope
rator" bezeichnet) in Teil (a) von Fig. 8 zum Auswählen (Ex
trahieren) einer Grenzlinie beschrieben. Der Operator wird
sowohl auf dem Referenzmuster als auf dem zu prüfenden Muster
bewegt. Wenn die Beziehungen a 1 = a 2, b 1 = b 2 und a 1 ≠ b 1 er
füllt sind, ist damit bekannt, daß eine Grenzlinie parallel
zur Y-Richtung in einem Bereich verläuft, wo der Operator
plaziert ist. Die zwei oder mehr Pixeln entsprechende Muster
unregelmäßigkeit, wie Teil (a) in Fig. 8 zeigt, wird in fol
gender Weise als Fehler beurteilt. Wenn der obige Operator so
wohl auf dem zu prüfenden Muster verwendet wird, das in Fig. 8
(a) durch eine ausgezogene Linie angedeutet ist, als auch auf
dem durch eine unterbrochene Linie dargestellten Referenzmu
ster, werden Grenzlinien parallel zur Y-Richtung lediglich in
dem Prüfmuster erfaßt. Somit wird ein die obengenannten Grenz
linien enthaltender Musterbereich als fehlerhaft beurteilt. Ob
wohl nur der Operator zur Erkennung einer Grenzlinie parallel
zur Y-Richtung in Fig. 8(a) gezeigt ist, braucht man unbe
dingt auch einen Operator zur Erfassung einer Grenzlinie paral
lel zur Y-Richtung, der durch Drehung des Operators im Teil
(a) von Fig. 8 um 90° gebildet werden kann. Ein in Fig. 8(b)
dargestellter isolierter Fehler, der einem Pixel entspricht,
kann jedoch von den obigen Operatoren nicht erfaßt werden. Dem
entsprechend braucht man einen in Fig. 8(b) gezeigten Opera
tor zur Erfassung von kleinen isolierten Mustern. Wenn dieser
Operator auf einem Teil eines Musters plaziert wird und die
Beziehung a 1 = a 2 = a 3 = b 1 = b 2 = b 3 und eine der Beziehun
gen a 1 ≠ c 1, a 1 ≠ c 2 und a 1 ≠ c 3 erfüllt sind, ist damit be
kannt, daß in dem Bereich ein feines Muster vorhanden ist.
Wenn dieser Operator sowohl auf dem zu prüfenden Muster, das
durch eine ausgezogene Linie in Fig. 8(b) dargestellt ist,
als auch auf dem Referenzmuster, das durch die ausgezogene Linie
in Fig. 8(b) dargestellt ist, verwendet wird, wird das feine
Muster lediglich in dem zu prüfenden Muster erfaßt, und somit
entschieden, daß es ein Fehler ist. In einem Fall jedoch, in
dem ein Fehler, der mehrere Pixel längs einer Grenzlinie
lang und ein Pixel breit ist, neben der Grenzlinie liegt, wie
Fig. 8(c) zeigt, wird wegen des Ausrichtfehlers zwischen dem
zu prüfenden Muster und dem Referenzmuster eine Grenzlinie pa
rallel zur X-Richtung aus beiden Mustern im wesentlichen an
derselben Position durch den Operator zur Erfassung einer
Grenzlinie parallel zur X-Richtung extrahiert, und somit kann
kein Fehler erfaßt werden. Aus diesem Grunde braucht man einen
in Fig. 8(c) dargestellten Operator, der durch Drehung des
Operators in Fig. 8(b) um 90° gebildet wird. In einem weite
ren Fall, wo ein zweidimensionales Muster an einem seiner Ecken
bereiche fehlerhaft ist, wie Fig. 8(d) zeigt, könnten auf
grund eines Ausrichtfehlers zwischen dem zu prüfenden Muster
und einem Referenzmuster eine Grenzlinie der Unregelmäßigkeit
(nämlich des Fehlers) parallel zur Y-Richtung und die Grenz
linie des Referenzmusters parallel zur Y-Richtung im wesent
lichen an derselben Position extrahiert werden, wodurch der
obige Fehler nicht erfaßt werden kann. Deshalb braucht man in
diesem Fall unbedingt den in Fig. 8(d) dargestellten Operator.
Wenn dieser Operator auf einem Bereich eines Musters plaziert
wird, und sämtliche Beziehungen a 1 = a 2 = a 3 = a 4 = a 5 = a 6 =
a 7; b 1 = b 2 = b 3 = b 4; und a 1 ≠ b 1 erfüllt sind, ist damit be
kannt, daß in diesem Bereich eine Ecke des Musters vorliegt.
Wenn der Operator sowohl auf dem zu prüfenden Muster, das in
Fig. 8(d) durch eine ausgezogene Linie angedeutet ist und
auf dem Referenzmuster, das durch eine unterbrochene Linie
dargestellt ist, verwendet wird, ist die Ecke nur im Referenz
muster vorhanden, wodurch sich ein Fehler am Eckenbereich des
zu prüfenden Musters erfassen läßt. In einem Muster können
vier Eckenarten vorhanden sein, und somit benötigt man zur Er
fassung dieser Ecken vier Operatoren. Aus der obigen Erläu
terung folgt, daß bei der herkömmlichen Merkmalsvergleichs
methode acht Operatorarten (nämlich zwei Operatorarten zur
Auswahl von Grenzlinien, zwei Operatorarten zur Auswahl fei
ner Muster und vier Operatorarten zur Auswahl von Ecken) be
nötigt werden. Außerdem sind jeweils für ein zu prüfendes Mu
ster und ein Referenzmuster acht Logikschaltungen entsprechend
den acht Arten der Operatoren und somit 16 Logikschaltungen zur
Erfassung der obengenannten Fehler nötig. Obwohl Fig. 8 nur
Grenzlinien parallel zur X- und Y-Richtung zeigt, werden häu
fig Muster mit komplizierter Form gebildet. Um solche Muster
zu untersuchen, muß der Umfang des Prüfgeräts notwendiger
weise anwachsen.
Die vorliegende Erfindung geht aus von einer Vorrichtung die
durch die DE-OS 29 12 894 bekanntgeworden ist. Diese
Vorrichtung weist logische Schaltungen auf mit denen das
zu prüfende Muster nach Aufteilung in Teilbereiche auf
Übereinstimmung mit den entsprechenden Teilbereichen eines
vorgegebenen Musters untersucht wird. Im Gegensatz zur vorliegenden
Erfindung weist jedoch die bekannte Vorrichtung keine
Einrichtungen auf mit denen für das Prüfergebnis nicht entscheidende
Bereiche des Musters von der Untersuchung ausgeschlossen
werden können.
Eine weitere Vorrichtung zum Ermitteln von Fehlern in flächenhaften
Mustern ist durch die DE-OS 28 30 846 bekanntgeworden.
Um Fehler hinsichtlich der Deckung von zu prüfendem und vorgegebenem
Muster ebenso zu vermeiden wie Quantisierungsfehler, die
bei der Umwandlung der analogen Videosignale in
entsprechende binäre Signale auftreten, wird bei dieser Vorrichtung
die Fehlererkennungs-Empfindlichkeit im Konturbereich der
Muster abgesetzt, womit sich naturgemäß die Auflösung
verringert.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde eine Vorrichtung der im
Oberbegriff des Anspruchs angegebenen Art zu schaffen, bei der
Fehler infolge ungenauer Deckung zwischen Prüfmuster
und vorgegebenem Muster ebenso weitgehend ausgeschaltet sind wie
Quantisierungsfehler bei der Umwandlung der Bildsignale
in binäre Bildpunktsignale.
Gelöst wird diese Aufgabe durch die im kennzeichnenden Teil
des Anspruchs angegebenen Merkmale.
Die Erfindung wird im folgenden in Ausführungsbeispielen anhand
der Zeichnung näher beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 ein Blockschaltbild eines Gesamtaufbaus eines zur
Ausführung der erfindungsgemäßen Musterprüfmethode
vorgesehenen Geräts;
Fig. 2 ein Blockschaltbild eines Schaltungsteils, der den
Setzschaltungen 3 und 4 für den unempfindlichen Bereich
und den Ausgangsschaltungen 5, 6 und 7 für das örtliche
Bild in Fig. 1 entspricht und der zum Ausschneiden eines
örtlichen Bildbereichs und zweier unempfindlicher Bild
bereiche aus einem zu prüfenden Bild verwendet wird;
Fig. 3 ein Blockschaltbild des Aufbaus von Schieberegister
gruppen, die in dem in Fig. 1 gezeigten Gerät verwendet
werden;
Fig. 4 ein Blockschaltbild eines Schaltungsteils, mit dem ein
örtliches Bild aus dem Bild eines angegebenen Musters
(nämlich einem Referenzmuster) ausgeschnitten wird;
Fig. 5 einen Schaltplan der Fehlerextrahierschaltung 10 von
Fig. 1;
Fig. 6 schematisch ein Referenzbild und ein entsprechendes zu
prüfendes Bild mit verschiedenen Fehlern;
Fig. 7 schematisch unempfindliche Bereiche, die außerhalb
und innerhalb der Grenzlinie der in Fig. 6 dargestellten
Fehler gesetzt werden, damit die in Fig. 1 dargestellte
Vorrichtung eine vorgegebene Operation unabhängig von
der Art eines jeweiligen Fehlers ausführen kann;
und
Fig. 8 ein Schema, das erläutert, daß zur Erfassung verschiedener
Fehlerarten durch eine herkömmliche Musterauswähl
methode den Fehlern entsprechende Extrahieroperatoren
nötig sind.
Im folgenden wird anhand der Fig. 1 bis 6 eine Ausführungsart eines
erfindungsgemäßen Musterprüfverfahrens erläutert.
Fig. 1 zeigt ein von einem Detektor (das ist ein Bildaufnahme
gerät) 1 geliefertes Bildsignal, das mittels einer Binärum
setzschaltung 2 in ein Binärsignal umgewandelt wird, das als
zu prüfendes Bild einer Ausgangsschaltung 5 für ein Ortsbild
und Setzschaltungen 3 und 4 jeweils zum Setzen eines un
empfindlichen Bereichs innerhalb oder außerhalb der Grenzli
nie des zu prüfenden Bildes und zum Extrahieren des unempfind
lichen Bereichs zugeführt wird. Die Ausgangssignale der Setz
schaltungen 3 und 4 werden als unempfindliche Bildbereiche je
weils Ausgangsschaltungen 6 und 7 für örtliche Bilder zuge
führt. Ein Referenzbildsignal, das in einem Referenzbildspei
cher 8 in Form eines Binärsignals gespeichert ist, wird als
Referenzbild einer Ortsbildausgangsschaltung 9 zugeführt. Der
Referenzbildspeicher 8 liefert das Referenzbildsignal entspre
chend eines zu prüfenden Bildes synchron mit der Abtastoperation
des Detektors 1. Ein Fehler wird von einer Fehlerextrahier
schaltung 10 auf der Basis der Ausgänge der Ortsbildausgangs
schaltungen 5, 6, 7 und 9 erfaßt und als ein Fehlersignal 11
abgegeben.
Fig. 2 zeigt den Schaltungsaufbau eines die Setzschaltungen 3
und 4 und die Ortsbildausgangsschaltungen 5 bis 7 enthalten
den Schaltungsteils. Diese Schaltung verwendet drei Speicher
22 bis 24, die jeweils 5×5 Pixels enthalten, zum Vergrößern,
Verkleinern und zum Beurteilen eines Grenzbereichs des zu prüfen
den Bildes.
Ein Ausgangssignal 12 von der Umsetzschaltung 2 von Fig. 1
wird durch eine Schieberegistergruppe 13, die aus drei Schie
beregistern besteht, die jeweils einer Grenzlinie eines zu
prüfenden Musters entsprechen, einem Ortsspeicher 14 zugeführt,
der 3×3 Bit aufweist und aus Serieneingangs/Parallelausgangs
schieberegistern gebildet ist. Die 3 × 3 Ausgänge des Orts
speichers 14 werden einer UND-Schaltung 15 sowie einer ODER-
Schaltung 16 zugeführt. Ein Grenzbereich, der sich ergibt,
wenn ein Originalgrenzbereich um ein einem Pixel entsprechen
des Maß verkleinert wird, wird von der UND-Schaltung 15 aus
gegeben. Ein Grenzbereich, der sich ergibt, wenn ein Original
grenzbereich um ein einem Pixel entsprechendes Maß vergrößert
wird, wird von der ODER-Schaltung 16 geliefert. Der Ausgang
des Mittelpixels des Ortsspeichers 14 und der Ausgang der UND-
Schaltung 15 werden einer Exklusiv-ODER-Schaltung 17 zugeführt,
die ein Signal über einen unempfindlichen Bereich, der sich
längs einer Originalgrenzlinie auf deren Innenseite mit der
Weite eines Pixels erstreckt, mit dem Pegel "1" erzeugt. Au
ßerdem werden der Ausgang des Mittelpixels des Ortsspeichers
14 und der Ausgang der ODER-Schaltung 16 einer weiteren Exklu
siv-ODER-Schaltung 18 zugeführt, die ein Signal über einen un
empfindlichen Bereich erzeugt, das in einem Bereich, der sich
ein Pixel breit längs der Originalgrenzlinie an deren Außen
seite erstreckt, den "1"-Pegel annimmt.
Nachfolgend wird ein Schaltungsteil zum Ausschneiden eines
örtlichen Bildes aus 5 × 5 Pixels aus dem zu prüfenden Bild
eines unempfindlichen Bereichs innerhalb einer Grenzlinie und
eines unendlichen Bereichs außerhalb einer Grenzlinie beschrie
ben. Der Ausgang des Mittelpixels des Ortsspeichers 14, der
Ausgang der Exklusiv-ODER-Schaltung 17 und der Ausgang der
Exklusiv-ODER-Schaltung 18 werden den Ortsspeichern 22, 23
und 24 jeweils durch Schieberegistergruppen 19, 20 und 21 zu
geführt. Jeder der Ortsspeicher 22 bis 24 besteht aus einem
Serieneingangs/Parallelausgangsschieberegister und enthält
5×5 Pixel. Jede Schieberegistergruppe 19 bis 21 besteht aus
fünf Schieberegistern, die jeweils einer Abtastzeile des zu
prüfenden Musters entsprechen. Auf diese Weise werden dem Orts
speicher 22 örtliche Bilder, die jeweils 5×5 Pixel enthalten
und aus dem zu prüfenden Bild ausgeschnitten sind, dem Orts
speicher 23, örtliche Bilder, die jeweils 5 × 5 Pixel enthal
ten und aus dem innerhalb der Grenzlinie liegenden unempfind
lichen Bildbereich ausgeschnitten sind, und dem Ortsspeicher
24 örtliche Bilder, die jeweils 5 × 5 Pixel aufweisen und vom
außerhalb der Grenzlinie liegenden unempfindlichen Bereich
ausgeschnitten sind, aufeinanderfolgend zugeführt. Fig. 3
zeigt ein Ausführungsbeispiel der von der Vorrichtung in Fig. 1
verwendeten Schieberegistergruppen. Dabei sind n Schieberegi
ster in Reihe geschaltet und die einzelnen Schieberegister ge
ben Ausgangssignale 26.1, 26.2, . . . und 26.n ab. Wie Fig. 3
zeigt, wird dem ersten Schieberegister ein Eingangssignal 25
zugeführt.
Fig. 4 zeigt ein Schaltungsteil zum Herausschneiden eines ört
lichen Bildes aus dem Bild des bezeichneten Musters (nämlich
des Referenzmusters). Im allgemeinen ist zwischen dem zu prü
fenden Muster und dem Referenzmuster ein unvermeidlicher Aus
richtungsfehler vorhanden. Demgemäß muß, wenn ein aus dem Bild
des Bezugsmusters ausgeschnittenes Ortsbild, um ein örtliches
Bezugsbild zu erhalten, das dem örtlichen Bild des Ortsspei
chers 22 entspricht, das Ortsbild, das aus dem Referenzbild
ausgeschnitten wird, um ein dem Ausrichtfehler entsprechendes
Maß größer sein als das Ortsbild des Ortsspeichers 22, so daß
ein Teil des aus dem Referenzbild ausgeschnittenen Ortsbilds
dem Ortsbild des Ortsspeichers 22 entspricht. Fig. 4 zeigt
einen Fall, wo der Ausrichtfehler jeweils in X- und Y-Richtung
höchstens ±1 Pixel beträgt.
Ein Ortsbild in jedem der Ortsspeicher 22 bis 24 enthält 5×5
Pixel. In einem Fall, wo das obige Ortsbild bezüglich des ent
sprechenden Referenzortsbildes um ±1 Pixel jeweils in X- und
Y-Richtung verschoben sein kann, muß ein örtliches Referenz
bild, das 7×7 Pixel umfaßt, aus dem Referenzbild geschnitten
werden, wie Fig. 4 zeigt. Fig. 4 zeigt ein Referenzbildsignal
27, das einem 7×7 Pixel umfassenden Ortsspeicher 29 über
eine Schieberegistergruppe 28 zugeführt wird, die aus sieben
Schieberegistern besteht, die jeweils einer Abtastzeile des
zu prüfenden Musters entsprechen. Außerdem wird das Referenz
bildsignal 27 aus dem Referenzbildspeicher 8 von Fig. 1 syn
chron mit dem Abtastvorgang des Detektors 1 so ausgelesen, daß
das Mittelpixel d 44 des Ortsspeichers 29 und das Mittelpixel
a 33 des Ortsspeichers 22, falls das zu prüfende Muster genau
bezüglich des Referenzmusters ausgerichtet ist (was bedeutet,
daß der Ausrichtfehler Null ist), einander entsprechende Teile des zu
prüfenden Musters und des Referenzmusters darstellen.
Fig. 5 zeigt die Schaltungskonfiguration der Fehlerextrahier
schaltung 10, die einen Fehler mittels der Ortsbilder der
Ortsspeicher 22, 23, 24 und 29 beurteilt, im einzelnen. In
Fig. 5 geben Symbole a ÿ , b ÿ und c ÿ (worin i = 1, 2, 3, 4
und 5 annehmen) jeweils den Ausgang jedes Pixels des Ortsspei
chers 22, den Ausgang jedes Pixels des Ortsspeichers 23 und
den Ausgang jedes Pixels des Ortspeichers 24 wieder. Symbole
d i + l, j + k (worin i = 1, 2, 3, 4 und 5; j = 1, 2, 3, 4 und 5;
l = 0, 1 und 2; k = 0, 1 und 2 betragen), geben den Ausgang jedes
Pixels des Ortsspeichers 29 an. Dabei werden jeweils Werte von
l = 0, 1 und 2 zu Werten von i = 1, 2, 3, 4 und 5 und Werte
von k = 0, 1 und 2 zu Werten von j = 1, 2, 3, 4 und 5 addiert.
Der obere Schaltungsteil von Fig. 5 weist eine
Exklusiv-ODER-Schaltung 30, UND-Schaltungen 33 und 34
sowie Inverter 31 und 32 auf.
Der Ausgang a ÿ und der Ausgang d i +l, j +k werden einer Exklu
siv-ODER-Schaltung 30 zugeführt. Diese logische Verarbeitung
bedeutet, daß das vom Ortsspeicher 22 erhaltene Ortsbild auf
dem vom Ortsspeicher 29 erhaltenen Ortsbild bewegt wird; und
eine Exklusiv-ODER-Operation wird für ein Pixelpaar derselben
Position durchgeführt, um das Ergebnis der Exklusiv-ODER-Verknüpfung
für jedes Pixelpaar von der Exklusiv-ODER-Schaltung
30 zu liefern. Außerdem wird der Ausgang jedes Pickels des örtlichen
Unempfindlichkeitsbildbereichs, das vom Ortsspeicher
23 geliefert wird, einem Inverter 31 zugeleitet, dessen
Ausgang eine UND-Schaltung 33 zusammen mit dem Ausgang der
Exklusiv-ODER-Schaltung 30 ansteuert. In gleicher Weise wird
der Ausgang eines jeweiligen Pixels des örtlichen Unempfindlichkeitsbereichs,
das vom Ortsspeicher 24 erhalten wird,
einem Inverter 32 zugeleitet, dessen Ausgang zusammen mit
dem Ausgang der Exklusiv-ODER-Schaltung 30 eine UND-Schaltung
34 ansteuert. Auf diese Weise wird von der UND-Schaltung 33
ein Signal geliefert, das angibt, ob das Bild des Ortsspei
chers 22 mit einem 5 × 5 Pixel umfassenden Referenzortsbild,
wenn der Unempfindlichkeitsbereich des Ortsspeichers 23 ver
nachlässigt wird, übereinstimmt oder nicht. In gleicher Weise
gibt ein von der UND-Schaltung 34 geliefertes Signal an, ob
das Ortsbild des Ortsspeichers 22 mit einem 5 × 5 Pixel umfas
senden Referenzortsbild, wenn der Unempfindlichkeitsbereich
des Ortsspeichers 24 vernachlässigt wird, übereinstimmt oder
nicht. Der Ausgang der UND-Schaltung 33 wird entsprechend den je
weiligen Werten von l und k (l, k = 0 . . . 2) einer der ODER-Schal
tungen 35 zugeleitet die einen Eingang mit den gleichen Werten von l und k aufweist und der Ausgang der UND-Schaltung 34 wird
gemäß dem jeweiligen Wert von l und k einer
der ODER-Schaltungen 36 zugeführt, die einen Eingang mit den
gleichen Werten von l und k aufweist.
Das heißt, 5×5 Ausgänge von 5×5 Pixeln eines durch den Aus
gang der UND-Schaltung 33 oder 34 gegebenen Ortsbildes werden
einem der ODER-Glieder 35 oder 36 zugeführt. Die Ausgänge der
ODER-Schaltungen 35 werden einer UND-Schaltung 37 zugeführt,
und die Ausgänge der ODER-Schaltungen 36 werden einer UND-
Schaltung 38 zugeführt. Die Ausgänge der UND-Schaltungen 37
und 38 werden einer ODER-Schaltung 39 zugeführt, die ein Feh
lersignal 11 abgibt. Gemäß diesem Schaltungsaufbau gibt einer
der Ausgänge E lk der ODER-Schaltung 35 an, ob das zu prüfende
Ortsbild des Ortsspeichers 22 mit einem entsprechenden örtli
chen Referenzbild, das 5 × 5 Pixel umfaßt, in einem Fall über
einstimmt oder nicht, wo das zu prüfende Muster von einem Re
ferenzmuster in X-Richtung um (l - 1) Pixel und in Y-Richtung
um (k - 1) Pixel abweicht, falls der innerhalb der Grenzlinie
liegende unempfindliche Bereich des Ortsspeichers 23 aus die
sen Ortsbildern entfernt wird. Außerdem gibt der Ausgang F lk
einer der ODER-Schaltungen 36 an, ob das örtliche zu prüfende
Bild des Lokalspeichers 22 mit einem entsprechenden, 5 × 5
Pixel umfassenden örtlichen Referenzbild in obigem Fall über
einstimmt oder nicht, falls der außerhalb der Grenzlinie lie
gende Unempfindlichkeitsbereich des Ortsspeichers 24 aus die
sen Ortsbildern entfernt wird. Wenn zumindest einer der
Ausgänge E lk (worin l = 0, 1 und 2 und k = 0, 1 und 2 anneh
men), Übereinstimmung angibt, nimmt der Ausgang der UND-Schal
tung 37 "0" Pegel an. Wenn alle Ausgänge von E lk Nichtüber
einstimmung angeben, nimmt der Ausgang der UND-Schaltung 37
"1" Pegel an. Wenn mindestens einer der Ausgänge F lk Überein
stimmung angibt, nimmt der Ausgang der UND-Schaltung 38 "0"
Pegel an.
Wenn alle Ausgänge F lk Nichtübereinstimmung angeben, nimmt der
Ausgang der UND-Schaltung 38 "1" Pegel an. Wenn beide Ausgänge
der UND-Schaltungen 37 und 38 Übereinstimmung angeben, nimmt
der Ausgang der ODER-Schaltung 39 "0" Pegel an und zeigt da
mit, daß kein Fehler vorhanden ist. Wenn zumindest einer der
Ausgänge 37 und 38 Nichtübereinstimmung angibt, nimmt der Aus
gang der ODER-Schaltung "1" Pegel an und zeigt somit, daß ein
Fehler vorhanden ist.
Nun soll betrachtet werden, wie die vorliegende Erfindung auf
ein zu prüfendes und ein Referenzbild angewendet wird, die in
Fig. 6 dargestellt sind. Bezugsziffern a bis g bezeichnen ört
liche Bereiche des zu prüfenden Bildes. Fig. 7 zeigt, wie sich
jeder der örtlichen Bereiche a bis g in den Ortsspeichern 23
und 24 darstellt. Erfindungsgemäß werden in den örtlichen Be
reichen b, d, e, f und g auftretende Unregelmäßigkeiten als
Fehler extrahiert, Unregelmäßigkeiten in den örtlichen Berei
chen a und c jedoch nicht als Fehler betrachtet, da diese Un
regelmäßigkeiten als Quantisierungsfehler angesehen werden
können.
Wie die obige Erläuterung zeigt, werden erfindungsgemäß auch,
wenn die zu untersuchenden Muster kompliziert sind, Fehler in
den Mustern ohne Modifikation der Struktur eines Prüfgeräts
und einer Fehlerextraktionsmethode erfaßt. Die obige Beschrei
bung verwendet ein gezeichnetes Muster als Referenzmuster. Die
Erfindung ist jedoch auch auf Fälle anwendbar, wo das Bild
eines Körpers, der dieselbe Form wie das zu prüfende Muster
hat, durch ein Bildaufnahmegerät erzeugt und dieses Bild als
Referenzbild verwendet wird.
Zur Durchführung der Erfindung ist es auch nicht nötig, daß
immer zur gleichen Zeit ein ein Referenzmuster angebendes Bild
signal und ein zu prüfendes Muster angebendes Bildsignal von
einem Bildaufnahmegerät abgegeben und in binäre Bildsignale
umgesetzt werden, und daß gleichzeitig örtliche Bilder aus
diesen Bildsignalen für den gegenseitigen Vergleich extra
hiert werden. Die vorliegende Erfindung ist nämlich auch bei
spielsweise auf einen Fall anwendbar, wo ein eine Vielzahl von
Mustern derselben Form darstellendes Bildsignal zuvor in einem
Speicher gespeichert und das aus dem Speicher ausgelesene Bild
signal jeweils mit die restlichen Muster darstellenden Bild
signalen verglichen wird.
Claims (2)
- Vorrichtung zum Ermitteln von Fehlern in flächenhaften Mustern bestehend aus/
- - einem Bildaufnahmegerät (1) für das zu untersuchende Muster,
- - einer Binärumsetzschaltung (2) zur Umwandlung der vom Bild aufnahmegerät gelieferten Bildsignale in binäre Bildpunktsignale,
- - einem Referenzbildspeicher (8) zur Lieferung von binären Bildpunktsignalen entsprechend einem vorgegebenen Muster mit dem das zu untersuchende Muster verglichen wird,
- - einem Speicher in dem die vom Bildaufnahmegerät (1) gelieferten Bildsignale nach Umwandlung in Binärsignale gespeichert werden, und
- - logischen Schaltungen mit denen die binären Bildpunktsignale des zu untersuchenden Musters mit denen des Referenzmusters auf Übereinstimmung untersucht werden,
- dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung weiterhin aufweist:
- - eine erste Ausschnittspeicher-Einrichtung (13, 14) mit einer ersten Schieberegistergruppe (13), die seriell von den Bildpunkt signalen der Binärumsetzschaltung (2) angesteuert wird und die parallele Ausgangssignale an einen ersten Ausschnittspeicher (14) mit 3 × 3 Speicherelementen abgibt,
- - einer ersten Einrichtung (15, 17) zur Festlegung eines ersten Bereichs der beim Vergleich der Bildmuster außer acht zu lassen ist mit einer UND-Schaltung (15), die von allen Speicher elementen des ersten Ausschnittspeichers (14) parallel angesteuert wird und deren Ausgangssignal zusammen mit dem des mittleren Speicherelements einer Exklusiv-ODER-Schaltung (17) zugeführt wird,
- - einer zweiten Einrichtung (16, 18) zur Festlegung eines zweiten Bereichs der beim Vergleich der Bildmuster außer acht zu lassen ist mit einer ODER-Schaltung (16), die von allen Speicherelementen des ersten Ausschnittsspeichers (14) parallel angesteuert wird und deren Ausgangssignal zusammen mit dem des mittleren Speicherelements einer Exklusiv-ODER-Schaltung (18) zugeführt wird,
- - einer zweiten Ausschnittspeicher-Einrichtung (19, 22) mit einem Speicher (22) der 5 × 5 Speicherelemente (a 11 . . . a 55) aufweist und der über eine zweite Schieberegistergruppe (19) parallel und in Übereinstimmung mit der zeilenweisen Abtastung des zu untersuchenden Musters angesteuert wird, wobei die zweite Schieberegistergruppe von den Signalen des mittleren Speicherelements des ersten Ausschnittspeichers (14) beaufschlagt wird,
- - einer dritten Ausschnittspeicher-Einrichtung (20, 23) mit einem Speicher (23) der 5 × 5 Speicherelemente (b 11 . . .b 55) aufweist und der über eine dritte Schieberegistergruppe (20) angesteuert wird, die ihrerseits von den Ausgangssignalen der ersten Einrichtung zur Festlegung des ersten Bereichs der beim Vergleich außer acht zu lassen ist (15, 17), beaufschlagt wird,
- - einer vierten Ausschnittspeicher-Einrichtung (21, 24) mit einem Speicher (24) der 5 × 5 Speicherelemente (c 11 . . . c 55) aufweist und der über eine vierte Schieberegistergruppe (21) angesteuert wird, die ihrerseits von den Ausgangssignalen der zweiten Einrichtung zur Festlegung eines Bereichs, der beim Vergleich außer acht zu lassen ist (16, 18), beaufschlagt wird,
- - einer fünften Ausschnittspeicher-Einrichtung (28, 29) mit einem Speicher (29) der 7 × 7 Speicherelemente (d 11 . . . d 77) aufweist und der über eine fünfte Schieberegistergruppe (28) angesteuert wird, die ihrerseits, synchron mit der Ansteuerung der zweiten bis vierten Schiebregistergruppen (19, 20, 21) von den aus dem Referenzbildspeicher (8) herausgelesenen Bildpunktsignalen beaufschlagt wird,
- - einer Vielzahl von ersten logischen Schaltungen (30 bis 34)
zur Herleitung eines Signals mittels einer Exklusiv-ODER-Schaltung (30)
das eine Nichtübereinstimmung zwischen den Signalen eines jeden
Speicherelements a ÿ (mit i = 1, 2, 3, 4, 5; j = 1, 2, 3, 4, 5) des
zweiten Ausschnittspeichers (22) mit den Signalen der entsprechenden
Speicherelemente d i + l, j + k (l = 0, 1, 2; k = 0, 1, 2) des fünften
Ausschnittsspeichers (29) anzeigt und
das einerseits einer UND-Schaltung (33), an deren anderen Eingang über Inverter (31) die Signale b ÿ der Speicherelemente des dritten Ausschnittspeichers (23) anliegen, zugeführt werden zur Bildung eines Signals e i + l, j + k , und
andererseits einer UND-Schaltung (34), an derem anderen Eingang über Inverter (32) die Signale c ÿ der Speicherelemente des vierten Ausschnittsspeichers (24) anliegen, zugeführt wird zur Bildung eines Signals f i + l, j + k und - - einer Vielzahl von zweiten logischen Schaltungen (35 bis 39) zur logischen Addition (mit ODER-Schaltungen 35 und 36) der Ausgangssignale e i + l, j + k und f i + l, j + k der Vielzahl der ersten logischen Schaltungen (30 bis 34) mit den Werten 0, 1, 2 für l und k zur Bildung der Signale E l, k bzw. F l, k und zur Zusammenfassung dieser Signale durch jeweils eine UND-Schaltung (37 bzw. 38), deren Ausgänge einer ODER-Schaltung (39) zur Abgabe eines Nichtübereinstimmungssignals (11) zugeführt werden.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60076389A JP2602201B2 (ja) | 1985-04-12 | 1985-04-12 | 被検査パターンの欠陥検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3612233A1 DE3612233A1 (de) | 1986-10-16 |
DE3612233C2 true DE3612233C2 (de) | 1988-09-22 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863612233 Granted DE3612233A1 (de) | 1985-04-12 | 1986-04-11 | Musterpruefverfahren |
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Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5093797A (en) * | 1987-01-13 | 1992-03-03 | Omron Tateisi Electronics Co. | Apparatus for inspecting packaged electronic device |
US5001764A (en) * | 1988-03-25 | 1991-03-19 | Texas Instruments Incorporated | Guardbands for pattern inspector |
US5046110A (en) * | 1988-03-25 | 1991-09-03 | Texas Instruments Incorporated | Comparator error filtering for pattern inspector |
US4984282A (en) * | 1988-03-25 | 1991-01-08 | Texas Instruments Incorporated | Parallel processing of reference and guardband data |
US5073952A (en) * | 1988-09-07 | 1991-12-17 | Sigmax Kabushiki Kaisha | Pattern recognition device |
JPH02148180A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-07 | Nippon Seiko Kk | パターン検査方法及び装置 |
US5185812A (en) * | 1990-02-14 | 1993-02-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical pattern inspection system |
GB9006803D0 (en) * | 1990-03-27 | 1990-05-23 | Thurne Eng Co Ltd | Boundary recognition |
US6320977B1 (en) * | 1990-04-04 | 2001-11-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Method and apparatus for positional detection using pattern matching process |
US5157762A (en) * | 1990-04-10 | 1992-10-20 | Gerber Systems Corporation | Method and apparatus for providing a three state data base for use with automatic optical inspection systems |
EP0454479B1 (de) * | 1990-04-27 | 2000-07-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Aufzeichnungsgerät mit Aufzeichnungsköpfen |
JP3040433B2 (ja) * | 1990-06-11 | 2000-05-15 | キヤノン株式会社 | 補正データ作成方法 |
US5365596A (en) * | 1992-12-17 | 1994-11-15 | Philip Morris Incorporated | Methods and apparatus for automatic image inspection of continuously moving objects |
US5867609A (en) * | 1995-12-07 | 1999-02-02 | Nec Research Institute, Inc. | Method for computing correlation operations on partially occluded data |
JPH09184715A (ja) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Hitachi Ltd | パターン形状検査装置 |
JPH09222312A (ja) * | 1996-02-16 | 1997-08-26 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | パターン検査装置および方法 |
US6266452B1 (en) | 1999-03-18 | 2001-07-24 | Nec Research Institute, Inc. | Image registration method |
US20050170056A1 (en) * | 1999-04-08 | 2005-08-04 | Weber Maschinenbau Gmbh & Co. Kg | Method for the slicing of food products |
US6707936B1 (en) * | 1999-04-16 | 2004-03-16 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for predicting device yield from a semiconductor wafer |
US7052483B2 (en) * | 2000-12-19 | 2006-05-30 | Animas Corporation | Transcutaneous inserter for low-profile infusion sets |
US6950547B2 (en) * | 2001-02-12 | 2005-09-27 | 3M Innovative Properties Company | Web inspection method and device |
US6997089B2 (en) * | 2002-06-25 | 2006-02-14 | Formax, Inc. | Optical grading system for slicer apparatus |
US7483167B2 (en) * | 2003-08-27 | 2009-01-27 | Marvell International Ltd. | Image forming apparatus for identifying undesirable toner placement |
US7187995B2 (en) * | 2003-12-31 | 2007-03-06 | 3M Innovative Properties Company | Maximization of yield for web-based articles |
JP2007523810A (ja) * | 2003-12-31 | 2007-08-23 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ウェブに基づく物品の在庫管理 |
US7623699B2 (en) * | 2004-04-19 | 2009-11-24 | 3M Innovative Properties Company | Apparatus and method for the automated marking of defects on webs of material |
DE102004036229A1 (de) * | 2004-07-26 | 2006-02-16 | Giesecke & Devrient Gmbh | Verfahren für die Prüfung von Banknoten |
US8265354B2 (en) * | 2004-08-24 | 2012-09-11 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Feature-based composing for 3D MR angiography images |
US7697169B2 (en) * | 2004-10-29 | 2010-04-13 | Marvell International Technology Ltd. | Laser print apparatus with toner explosion compensation |
US7443627B1 (en) | 2006-03-07 | 2008-10-28 | Marvell International Ltd. | Lowest power mode for a mobile drive |
US7542821B2 (en) * | 2007-07-26 | 2009-06-02 | 3M Innovative Properties Company | Multi-unit process spatial synchronization of image inspection systems |
US8175739B2 (en) * | 2007-07-26 | 2012-05-08 | 3M Innovative Properties Company | Multi-unit process spatial synchronization |
US20090028417A1 (en) * | 2007-07-26 | 2009-01-29 | 3M Innovative Properties Company | Fiducial marking for multi-unit process spatial synchronization |
US7797133B2 (en) * | 2008-09-10 | 2010-09-14 | 3M Innovative Properties Company | Multi-roller registered repeat defect detection of a web process line |
CN103091332B (zh) * | 2013-01-16 | 2014-09-24 | 浙江科技学院 | 一种基于机器视觉的u型粉管的检测方法及其检测系统 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5637586B2 (de) * | 1973-07-02 | 1981-09-01 | ||
JPS5419366A (en) * | 1977-07-14 | 1979-02-14 | Nippon Jidoseigyo Ltd | Device for inspecting fault of pattern |
JPS5915381B2 (ja) * | 1978-10-16 | 1984-04-09 | 日本電信電話株式会社 | パタ−ン検査法 |
JPS5616160U (de) * | 1979-07-13 | 1981-02-12 | ||
JPS5924361A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-08 | Sharp Corp | 日付の表示方式 |
JPS5951536A (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-26 | Fujitsu Ltd | パタ−ン認識方法及びその装置 |
GB2129546B (en) * | 1982-11-02 | 1985-09-25 | Cambridge Instr Ltd | Image comparison |
JPS59157505A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-06 | Hitachi Ltd | パタ−ン検査装置 |
JPS59158162U (ja) * | 1983-04-09 | 1984-10-23 | 住友電気工業株式会社 | 加熱ロ−ラ |
EP0124113B1 (de) * | 1983-04-28 | 1989-03-01 | Hitachi, Ltd. | Verfahren und Einrichtung zur Feststellung von Fehlern in Mustern |
JPH061370B2 (ja) * | 1983-11-24 | 1994-01-05 | 株式会社東芝 | マスク欠陥検査装置 |
US4648053A (en) * | 1984-10-30 | 1987-03-03 | Kollmorgen Technologies, Corp. | High speed optical inspection system |
US4668982A (en) * | 1985-06-17 | 1987-05-26 | The Perkin-Elmer Corporation | Misregistration/distortion correction scheme |
-
1985
- 1985-04-12 JP JP60076389A patent/JP2602201B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-04-11 KR KR1019860002753A patent/KR900007434B1/ko not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3612233A1 (de) | 1986-10-16 |
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JP2602201B2 (ja) | 1997-04-23 |
US4776023A (en) | 1988-10-04 |
KR860008597A (ko) | 1986-11-17 |
JPS61236285A (ja) | 1986-10-21 |
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