JPS5915381B2 - パタ−ン検査法 - Google Patents

パタ−ン検査法

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JPS5915381B2
JPS5915381B2 JP53127654A JP12765478A JPS5915381B2 JP S5915381 B2 JPS5915381 B2 JP S5915381B2 JP 53127654 A JP53127654 A JP 53127654A JP 12765478 A JP12765478 A JP 12765478A JP S5915381 B2 JPS5915381 B2 JP S5915381B2
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JP
Japan
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test pattern
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JP53127654A
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JPS5553425A (en
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文治郎 辻山
国夫 斎藤
健二 栗原
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Priority to CA324,495A priority patent/CA1102001A/en
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Priority to FR7908076A priority patent/FR2439437B1/fr
Priority to DE2912894A priority patent/DE2912894C2/de
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/70616Monitoring the printed patterns
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/024Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by means of diode-array scanning

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、被検パターンが、予定せるパターンであh1
且つ予定の位置に在るか否かを表わしている検査出力を
得る様になされた、パターン検査法に関し、特に、半導
体集積回路装置を得るに用いられるマスク、そのマスク
を用いて得られる半導体集積回路装置に於けるパターン
のような微細パターンを、被検パターンとする場合に適
用して、好適なものである。
従来、被検パターンが、予定のパターンであり1且つ予
定の位置に在るか否かを表わしている検査出力を得る様
になされた、種々のパターン検査法が提案されている。
例えば、所謂、マスク・マスク間比較法によるパターン
検査法、空間フイルタリング法によるパターン検査法等
である。然しながら、それ等従来のパターン検査法は、
被検パターンを高々3〜2μ程度の大きさまでしか検査
し得なかつた抵マスク合せを要した勺する等の欠点を有
していた。
又、従来、撮像管を用いて被検パターンを表わす画像信
号を得、その画像信号に基ずき、パターン認識と類似の
手法を用いて被検パターンが規則性から外れているか否
かを検査するという、パターン解析法によるパターン検
査法も提案されている。
然しながら、このようなパターン検査法の場合も2μ以
下のような大きさを有する微細な被検パターンを検査す
ることが出来ないという欠点を有していた。
よつて本発明は、上述した欠点のない新規なパターン検
査法を提案せんとするもので、以下、図面を伴なつて本
発明の実施例を詳述するところよ勺明らかとなるであろ
う。
第1図に示すように、被検パターンを形成している被検
パターン領域Aを有する被検パターン体1が、駆動機構
2によつて駆動される載置台3上に固定さねている。
然して、被検パターン体1が、載置台3を駆動機構2に
よつて駆動せしめることにより1被検パターン領域Aを
走査して得られる態様の画像信号S1を得る為の手段4
下に持ち来たされる。この場合、被検パターン体1の被
検パターン領域Aが、説明を簡単にする為、Al,A2
,・・・・・・Al2と12個の被検パターン領域から
なb1そして、それ等被検パターン領域A1〜Al2が
、第2図に示す如く、全体として3行4列に配列されて
いるものとする。
即ち被検パターン領域A1〜A4がそれ等の順に順次左
側よシ右側に配列され、又、被検パターン領域A5〜A
8がそれ等の順に順次右側よ勺左側に配列され、更に、
被検パターン領域A9〜Al2がそれ等の順に順次左側
よ勺右側に配列されているものとする。又、載置台3に
、画像信号S1を得る為の手段4との相対位置を表わす
位置信号B1を発生する、例えばレーザ干渉計で構成さ
れている位置信号発生装置5が関連し、そして、その位
置信号発生装置5からの位置信号B1が、後述する計算
機装置6に供給されるものとする。
更に、画像信号S1を得る為の手段4が、照明手段7と
撮像管8とを有するものとする。
照明手段は、計算機装置6からの制御信号B2によつて
制御されることによシ、被検パターン体1の被検パター
ン領域Aを、瞬時的に照明する。
又、撮像管8は、照明手段7によつて順次被検パターン
領域Aが照明される毎に、その被検パターン領域Aに形
成されている被検パターンを、瞬時的に光学的に撮像し
てこれを蓄積する光電変換面(図示せず)と、その光電
変換面を走査してその光電変換面に蓄積している被検パ
ターンの情報を、時系列画像信号として読み出す手段(
図示せず)とを有する、それ自体は公知の構成を有する
。又、被検パターン領域A1〜Al2の夫々が、説明を
簡単にする為に、第2図に示すように、方形を有するも
のとする。更に、被検パターン領域A1〜Al2の夫々
が、説明を簡単にする為に、第2図に示すように、16
個の方形の領域部a1〜Al6からなD1そして、それ
等領域部al〜Al6が、4行4列に配列されるように
、領域部a1〜A4,a5〜A8,a9〜Al2,al
3〜Al6が、夫々、順次左側よ勺右側に配列されてい
るものとする。
この場合、領域部a1〜Al6の夫々は、t1の左右方
向に延長している横辺の長さと、T2の上下方向に延長
している縦辺の長さとを有するものとする。又、撮像管
8の、被検パターン領域A上でみた視野が、第2図に示
すように、夫々長さt1及びT2よ多大なる長さtl′
及びT2′の横辺及び縦辺を有する方形視野F1である
ものとする。更に、,駆動機構2が、計算機装置6から
の制御信号B3によつて制御されるものとする。この場
合、制御信号B3は、位置信号発生装置5から供給され
る位置信号B1の内容を加味して得られる制御信号であ
る。載置台3は、駆動機構2によつて駆動されることに
よ虱撮像管8の視野の中心が、被検パターン体1の被検
パターン領域A1の領域部alの中心と丁度合つた関係
位置より1順次被検パターン領域A1の領域部A2,a
3及びA4の中心と丁度合つた関係となh1次で、順次
被検パターン領域A2の領域部Al,a2,a3及びA
4、被検パターン領域A3の領域部Al,a2,a3及
びA4,・・・・・・被検パターン領域A5の領域部A
4,a3,a2及びal、被検パターン領域A6の領域
部A4,a3,a2及びal、・・・・・・被検パター
ン領域A9の領域部Al,a2,a3及びA4,・・・
・・・被検パターン領域Al2の領域部Al,a2,a
3″及びA4、被検パターン領域A1の領域部A5,a
6,a7、及びA8、被検パターン領域A2の領域部A
5.・・・・・・A8、・・・・・・被検パターン領域
Al2の領域部A5,・・・・・・A8、被検パターン
領域A1の領域部A9,・・・・・・Al2、・・・・
・・被検パターン領域Al2の領域部A9,・・・・・
・Al2、被検パターン領域A1の領域部Al3,・・
・・・・Al6、・・・・・・被検パターン領域Al2
の領域部Al3,・・・・・・Al6の中心と丁度合つ
た関係となる様に、略略一定速度で移動されるものとす
る。
尚更に、上述したように、撮像管8の視野の中心が、順
次被検パターン体1の被倹パターン領域A1の領域部A
l,・・・・・・A4、被検パターン領域A2の領域部
Al,・・・・・・A4、・・・・・・被検パターン領
域Al2の領域部Al,・・・・・・A4、被検パター
ン領域A1の領域部A5,・・・・・・A8、被検パタ
ーン領域A2の領域部A5,・・・・・・A8、・・・
・・・被検パターン領域Al2の領域部A5,・・・・
・・A8、被検パターン領域A1の領域部A9,・・・
・・・Al2、・・・・・・被検パターン領域Al2の
領域部A9,・・・・・・Al2、被検パターン領域A
1の領域部Al3,・・・・・・Al6、・・・・・・
被検パターン領域Al2の領域部Al3,・・・・・A
l6の中心に丁度合つた関係が得られる時点を、夫々T
l,T2,T3,・・・・・・Tl92とするとき、上
述した照明手段7が、計算機装置6からの上述した制御
信号B2によつて制御されて、第3図Aに示す如く、時
点Tl,T2・・・・・・T,,2で瞬時的に点灯する
ものとする。
従つて、上述した撮像管8は、時点Tl,・・・・・・
T4;T5〜″″。
IIT8:&″5”3″;Tl8993゜゜゛03T1
92で)夫々被検パターン領域A1の領域部Al,・・
・・・・A4;被検パターン領域A2の領域部Al,・
・・・・・A4:・・・・・・;被検パターン領域Al
2の領域部Al3,・・・・・・Al6に於ける、被検
パターンの一部パターンを撮像し、こねを光電変換面に
蓄積する。又、上述した撮像管8は、第3図Bに示すよ
うな、時点T,及びT2間、T2及びT3間・・・・・
・時点Tl9l及びTl92間の時間の略々1/3程度
のフイルド周期TFを有するフイルド同期パルス列SF
と、第3図Cに示すような、TL=TF/L(Lは光電
変換面の全域を走査する走査線の数であり1以下説明を
簡単にする為、L=1023とする)で表わされる走査
線周期TLを有する走査線同期パルス列SLとを自己発
生するものとする。
又、撮像管8は、上述した制御信号B2の一部を受け、
照明手段7が瞬時的に点灯する毎に、その点灯後フイル
ド同期パルス列SFの1つのパルスが到来してから次に
照明手段7が点灯するまでの間に於て、その光電変換面
の全域を、L=1024本の走査線を以て、フイルド同
期パルス列SF及び走査線同期パルス列SLと同期して
、フイルド周期TFで、通常の非飛越走査型テレビ撮像
管の走査と同様に走査するものとする。
従つて、撮像管8から得られる画像信号S1が、第3図
Dに示すように、被検パターン領域A1の領域部Al,
・・・・・・A4;被検パターン領域A2の領域部Al
,・・・・・・A4;・・・・・弓被検パターン領域A
l2の領域部Al3,・・・・・・Al6に於ける、被
検パターンの一部パターンの画像信号SlAlal,・
・・・・・SlAla4;SlA2al,・・・・・・
SlA2a4:・・・・・・SlAl2al3,・・・
・・・SlAl2al6が直列に配列されたたものとし
て得られる。
上述した配列で撮像管8から得られる画像信号S1は、
2値化回路11に供給される。
2値化回路11は、第3図Eに示すように、画像信号S
1のレベルが、予定値以上である場合2値表示で例えば
「1]、以下である場合「0」をとるという、画像信号
S1の2値化された2値化画像信号S4を出力する。
この場合、画像信号S4は、画像信号SlAal,・・
・・・・SlAla4;SlA2alJ・・・・・・S
lA2aA:・・・・・・;SlAl2al3,・・・
・・・SlAl2al6の2値化された2値化画像信号
S4Alal.・・・・・・S4Ala4:S4A2a
l,・・・・・・S4A2a4;・・・・・・;S4A
l2al3,・・・・・・S4Al2al6が直列に配
列されたものとして得られる。
このようにして2値化回路11から得られる2値化画像
信号S4は、シフトレジスタ列12に供給される。
このシフトレジスタ列12は、画像信号S4を構成して
いる画像信号S4Ala,S4Ala2,・・・・・・
S4Al2al6の夫々(以下説明を簡単にする為、そ
れを画像信号S4′と称す)の1走査線分の画素の数を
N(以下説明を簡単にする為、N=1024とする)、
N以の数をQ(以下説明を簡単にする為、Q=8とする
)、上述した走査線の数L(=1024)以下の数をP
(以下説明を簡単にするXP=8とする)とするとき、
Q(=8)個の記憶素子が直列に配列されている、p(
=8)個のシフトレジスタR−1,R−2,・・・・・
・R−8(=R−P)が、1幀次(N−Q)(=102
4−8)個の記憶素子の直列配列でなるシフトレジスタ
の長さ分の遅延を有する、遅延回路D−12,D−23
,・・・・・・D−78を介して、直列に接続されてい
る構成を有する。
一方、上述した撮像管8が、上述したフイルド同期パル
ス列SF及び走査線同期パルス列SLの外、第3図Fに
拡大して示すように、TB=TL/N1即ちTB=TL
/1024で表わされる画素周期TBを有する画素同期
パルス列SBを、自己発生するものとする。
そして、シフトレジスタ列12が、この画素同期パルス
列SBによつて、その7頓次のパルス毎に、1幀次シフ
トレジスタR−1側から、シフトレジスタR−8側に向
つて、シフト制御される様になされている。従つて、今
、画像信号S4′の第1、第2、第3、・・・・・・第
1024(=L)の走査線分の始点位置で走査線同期パ
ルス列SLのパルスが得られる時点を)夫々tレT29
t39llltlO24とする。
(又、画像信号S4′の第1024の走査線分の終点位
置での走査線同期パルス列SLのパルスが得られる時点
を、t!024+1=TlO2?)とする。更に)時点
t1及びT2間) T2及びT3間)0119t102
3及びTlO2S間の期間を、夫々、走査線期間T−1
,、T−2,・・・・・・T−1024(=T−L)と
する。尚更に、走査線期間T−1(但し、i=1.2,
・・・・・・1024(=L))に於ける、画像信号S
4′の第1の走査線分の、第1、第2、第3、・・・・
・・第1024(=N)の画素子の始点位置で、画素同
期パルス列SBのパルスが得られる時点を、夫々、Tl
zt2′Pt3zlltll)24Iとする。然して、
以下説明を簡単にする為、撮像管8が時点T,に於て被
検パターンの被検パターン領域A1の領域部a1を光学
的に撮像したことに基ずき、第3図Eに示すように得ら
れる、・哨像信号S4′(=S4Alal)に着目する
。又、レジスタR−1〜R8を構成しているQXP=8
×8=64個の記憶素子より1それ等に記憶せる情報を
、画素同期パルス列SBの順次のパルス毎に、同時に並
列情報として取出すものとする。然るときは、その並列
情報は、撮像管8の視野F1の横辺の長さT,′のN=
1024分の1の長さδ1(δ1=δ1′/1024で
あり1そのδ1は横方向の1画素分の長さである)のQ
=8倍の長さを、I2(T3=8t1′/1024であ
h1横方向の8画素分の長さである)とし、又、視野F
1の縦辺の長さT2′のL=1024分の1の長さδ2
(δ2=T27/1024であV1縦方向の1画素分の
長さである)のP=8倍の長さを、T4=(T4=8t
2′/1024であり1縦方向の8画素分の長さである
)とするとき、走査期間T−8(=T−P)での時点T
8′(=T,○に於て、第4図及び第3図Gに示すよう
に、時点Tでの被検パターンA1の領域部a1をカバー
している視野F1の左上角の位置を占める、横辺がT3
、縦辺がT4、従つて面積がT3×T4である領域(8
,8)(=(P,Q))の全域を表わす情報は、走査期
間T−8での時点T,′に於て、同じ面積(=T3xt
4)を以て、視野F1の領域(8,8)よ勺長さδだけ
右方向にずれた位置を占める領域(8,9)の全域を表
わす情報として、以下同様に、並列情報は、走査期間T
−8での時点TlO′に於て、同じ面積を以て、視野F
1の領域(8,8)より長さ2δだけ、右方向にずれた
位置を占める領域(8,10)の全域を表す清報として
、走査期間T−8の時点Tll′に於て、同じ面積を以
て、視野F1の領域(8,8)より長さδ,だけ右方向
にずれた位市を占める領域(8,12)の全域を表わす
情報として、・・・・・・走査期間T−8の時点TlO
24′(=TN′)に於て、同じ面積を以て、視野F1
の領域(8,8)より長さ(1024−8)×δ,(=
(N−Q)Xδ1 )だけ右方向にずれた位置を占める
頌域(8,1024)(=(P,N))の全域を表わす
情報として得られるものである。
更に、並列情報は、走査期間T−9(=T一(P+1)
)の時点T8′に於て、同じ面積を以て、視野F1の領
域(8,8)より長さδ2だけ下方向にずれた位置を占
める領域(9,8)(=(P+1),Q)を表わす晴報
として、走査期間T−9での時点T,′に於て、同じ面
積を以て、視野F1の領域(8,8)よh右方向に長さ
δ1だけ、下方向に長さδ2だけずれた位置を占める領
域(9,9)の全域を表わす情報として、・・・・・・
走査期間T−9の時点TlO24′に於て、同じ面積を
以て、視野F1の領域(8,8)よ勺右方向に長さ10
24−8)×δだけ、下方向に長さδ2だけずれた位置
を占める領域(9,1024)(=(P+1,N))の
全域を表わす情報として得られるものである。更に、並
列情報は、走査期間T−10(=T一(P+2))の時
点T8′に於て、同じ面積を以て、視野F1の領域(8
,8)よ勺長さ2δ2だけ、下方にずれた位置を占める
領域(10,8)(=(P+2,Q))を表わす情報と
して、走査期間T−10での時点T,′に於て、同じ.
酊喰をノて、視野F1の領域(8,8)より右方向に長
さδ,だけ、下方向に長さ2δ2だけずれた位置を占め
る領域(10,9)の全域を表わす情報として、・・・
・・・走査期間T−10での時点TlO24′に於て、
同じ面積を以て、視野F1の領域(8,8)より右方向
に長さ(1024−8)×δ1だけ、下方向に長さ2δ
2だけずれた位置を占める領域(10,1024)(=
(P+2,N))の全域を表わす情報として、・・・・
・・以下同様にして、走査期間T−1024(=T−L
)の時点T8′に於て、同じ面積を以て、視野F1の領
域(8,8)より下方向に長さ(1024−8)×δ2
だけずれた位置を占める領域(1024,8)(=(L
,Q))の全域を表わす情報として、走査期間T−10
24の時点T,′ に於て、同じ面積を以て、視野F1
の領域(8,8)よ勺右方向に長さδ1だけ、下方向に
、長さ(1024−8)×δ2だけずれた位置を占める
領域(1024,9)の全域を表わす情報として、・・
・・・・期間T−1024の時点TlO24に於て、同
じ面積を以て、視野F1の領域(8,8)よ勺右方向に
長さ(1024−8)×δ1だけ、下方向に長さ(10
24−8)×δ2だけずれた位置を占める領域、即ち視
野F1の右下角の位置に占める領域(1024,102
4)(=(L,N))の全域を表わす情報として得られ
るものである。
依つて、並列情報が、走査期間T−8(=T一P)での
時点T8′から、走査期間T−1024(=T−L)が
終る直前の時点までの期間に於て、撮像管8の視野F1
の中心点を被検パターン領域A1の領域部a1の中心点
に位置させた場合の、重複しながらではあるが、視野F
1の全域を表わす情報として得られるものである。
所で、上述に於ては、シフトレジスタ列12を構成して
いるシフトレジスタR−1〜R−8の、QXP=8×8
=64個の記憶素子から、それ等に記憶している情報を
、画素同期パルス列SBの順次のパルス毎に、同時に並
列情報として取出すものとした場合について述べたが、
本発明の実施例に於ては、次のように並列情報を取出す
ものである。
即ち、例えば、レジスタR−2を構成しているQ個の記
憶素子中の例えば第4及び第5番目の記憶素子R24及
びR25と、レジスタR−4を構成している例えば第2
、第5及び第7番目の記憶素子R42,r45及びR4
7と、レジスタR一5を構成している例えば第2、第4
、第5及び第7番目の記憶素子R52,r54,r55
及びR57と、レジスタR−7を構成している例えば第
4及び第5番目の記憶素子R74及びR75とを、第1
の記憶素子群M1を構成している記憶素子であるとする
そして、これ等記憶素子R24,r25;R42,r4
5,r47;R52,r54,r55,r57;R74
,r75から、夫々、上述せる画像信号S4′を)信号
R249r25:R429r459r47:R549r
559r57:R74}R75として)同時に取出すこ
とによつて第1の被検並列2値化画像信号H1を得る。
又、例えば、レジスタR−4を構成している第3、第4
、第5及び第6の記憶素子R43,r44,r45及び
R46と、レジスタR−5を構成している第3、第4、
第5及び第6の記憶素子R53,r54,r55及びR
56と、レジスタR−6を構成している第3、第4、第
5及び第6の記憶素子R64,r64,r65及びR6
6とを、第2の記憶素子群M2を構成している記憶素子
であるとする。
そして、これ等素子R43,r44,r45,r46;
R53,r54,r55,r56;R63,R64,r
65,r66から、夫々、上述せる画像信号S4′を)
信号R439r449r459r46;R539r54
9r559r56● R639r649r65′R66
として、同時に取出すことによつて、第2の被検並列2
値化画像信号H2を得る。
然して、第1の被検並列2値化画像信号H1をパターン
形状検査回路21に供給する。
この場合、パターン形状検査回路21は、第5図に示す
ように、で表わされる(3)式の論理処理をする論理回
路22と、これよ担3)式のKMの値が、「1」として
得られた場合それをゲート回路23を介して受けて記憶
する記憶回路24とを有する。
このパターン形状検査回路21の働きについては第6図
A,Bを用いて後述する。一方、上述した計算機装置6
は、これに上述した撮像管8からのフイルド同期パルス
列SL及び画素同期パルス列SBが供給されていること
に基ずき、第3図Hに示すように、上述した走査期間T
−8(=T−P)内の時点T8′(=TQ′)から走査
期間T−8が終る直前の時点までの間、走査期間T−9
の時点T8′から走査期間T−9が終る直前の時点まで
の間、・・・・・・走査期間T−1024(=T−L)
の時点T8′から走査期間T−1024が終る直前の時
点までの間に於て、2値表示で「1」をと只他の区間に
於て、「0」をとるゲート信号B4を導出する。
然して、このゲート信号B4が、ゲート回路23に供給
され、そのゲート回路23が、ゲート信号B4が「1」
である場合開く。
又、記憶回路24には、上述した走査線同期パルス列S
Lが供給され、依つて、記憶回路24の記憶内容が、走
査同期パルス列SLのパルスの到来毎にりセツトされる
この様にして、記憶回路24に記憶した情報を、被検パ
タンが予定の形状を有するパターンであるか否かを表わ
している第1の検査出力S5として得る。
ここで第1の検査出力S5の説明に入る前にLSIパタ
ーンについて簡単に説明する。
一般にLSIパターンでは設計上最小パターン幅が存在
し、例えば最小パターン幅を2μmとするときは2μm
パターンルールという。本願発明はこのパターンルール
に着目して、最小パターン幅よ勺細い部分があればそれ
は正規のパターンではなく、マスク製作工程等で混入し
た欠陥(例えば凹状欠陥、凸状欠陥、島状欠陥及びひつ
かき傷等)の一部であると判定しようとするものである
。このようなパターンルール未満の寸法を有する欠陥部
分の判定は、概路次のようにして行う。即ち、面積δ1
×δ2の画素が複数個横又は縦に連なつたときの長さが
最小パターン幅に合致するようにδ1及びδ2を設定一
例えば2μmパターンルールの場合に5×δ1=5×δ
2=2μmとなるようにδ1=δ2=0.4μmと設定
−したとすると、4画素以下で検知されるパターンは1
.6μm以下の寸法を有することを意味し、かかる寸法
が2μmパターンルールでは存在しないはずなので、欠
陥であるとみなすことができる。
このことをこれから更に詳しく説明する。第1の検査出
力S5は、被検パターン領域Aの被検パターンが次の1
及び2の態様をとつている場合には被検パターンが欠陥
を有していることを意味する[1」として得られる。
即ち、今、走査期間T−1(但しi=8,9,・・・・
・・,1024(=L))に於ける領域(1,8),(
1,9),・・・・・・(1,1024)(=(1,N
))を、一般に領域(1,j)(但しj=8,9,・・
・・・・1024(=N))とする。
そして、領域(1,j)が、第6図に示すように、横方
向にQ=8個、”縦方向にP=8個の全体としてQXP
=8×8=64個の領域C−11〜C−18,C−21
〜C一28,・・・・・・C−81〜C−88(これ等
領域の夫々は、横方向及び縦方向の長さが夫々上述した
1画素分の長さδ1及びδ2を有する方形の形状を有す
る)からなるものとする。然るときは、 1走査線期間T−1に於て、被検パターン領域Aの被検
パターンカ人例えば、第6図Aに鎖線で示すように、領
域(1,j)に於ける、領域C一42及びC−47の内
側間領域と領域C一52及びC−57の内側間領域とか
らなる領域、即ち領域C−43〜C−46と領域C−5
3〜C−56とを占める領域内で、4×δ1 (この場
合の数「4」は、記憶素子R42及びR47間;R52
及びR57間が横方向の4画素分の長さ4×δ1を有す
るからである)以下の横方向の幅をとD1領域C−45
及びC−55上に延長している態様をとつている場合一
即ち、この鎖線部分はパターンルール未満の寸法の横方
向の幅を有する被検パターンを意味している−と、2走
査線期間T−1に於て、被検パターン領域Aの被検パタ
ーンが、例えば第6図Bで鎖線で示すように、領域(1
,j)の領域C−24及びC74の内側間領域と領域C
−25及びC−75の内側間領域とからなる領域、即ち
領域C一34〜C−64と領域C−35〜C−65とを
占める領域内で、4×δ2(この場合の数「4」は、記
憶素子R24及びR74間;R25及びR75間が縦方
向の4画素分の長さ4×δ2を有するからである)以下
の縦方向の幅をとD1領域C−54及びC−55上に延
長している場合一即ち、この鎖線部分はパターンルpル
未満の寸法の縦方向の幅を有する被検パターンを意味し
ている一との、何れか一方又は双方である場合、第1の
検査出力S5が、この場合の被検パターン領域Aの被検
パターンが欠陥であることを表わしている「1」として
得られる。
より詳しく述べるならば、第6図AにおいてC−42と
C−45との間及びC一52とC−55との間に鎖線で
示すパターンの一方のエツジが存在し、C−45とC−
47との間及びC−55とC−57との間にパターンの
他方のエツジが存在しているので第5図の論理回路22
の所で説明した式(1)のKxは「l」にな勺4画素以
下の寸法のパターン即ち欠陥を有するパターンの存在を
示すことになる。また上述の式(1)′は上記の反転し
たパターン(白黒が反対のパターン)の判定式であ只機
能は式(1)と同じである。以上はパターンの横方向で
の欠陥を検査していることになるが、縦方向の検査も式
(2)によつて同様に行うことができる。即ち、第6図
BにおいてC−24とC−54との間及びC−25とC
−55との間に鎖線で示すパターンの一方のエツジが存
在しC−54とC−74との間及びC−55とCー75
との間にパターンの他方のエツジが存在しているので上
述の式(2)のKYは「1」に4画素以下の寸法のパタ
ーン即ち欠陥を有するパターンの存在を示すことになる
。又式(2)′は上記の反転パターンの判定式であ択機
能は式(2)と同様である。以上説明した式(1)(1
)′(2X2)′で判定した値のいずれか11I即ち式
(2)で示すKMが11″になれば、被検パターンはパ
ターンルール未満の寸法の欠陥を含むとみなせる。従つ
て上述の1及び/又は2の場合には、このKM(=[1
」)を用いて第1の検査出力S5として被検パターンが
欠陥パターンであることを示す「1」を得る。上述した
1及び2の場合以外の場合、第1の検査出力S5が、こ
の場合の被検パターン領域Aの被検パターンが欠陥でな
いことを表わしている「0」として得られるものである
。前述の第6図A1第6図Bはある瞬時のパターンに関
するものであり1時刻の経過と共にこのパターンは刻々
変化していくことになる。
また前述の第6図A、第6図Bでそれぞれ隣勺あ勺記憶
素子の情報を用いて被検パターンの欠陥検査を行う理由
は、パターンエツジが量子化誤差によ勺一画素程度にバ
ラついたときに、それを欠陥と検出しないようにする上
で有効なためである。然して、上述したような第1の検
査出力S5が、計算機装置に供給される。
又、上述した第2の被検並列2値化画像信号H2をパタ
ーン位置検査回路31に供給する。
この場合、パターン位置検査回路31は、第7図に示す
ように、で表わされる(4)式の論理処理をする排地的
論理和回路32を有する。
又、排他的論理和回路32の出力が供給されるゲート回
路34と、上述した画素同期パルス列SBが供給される
ゲート回路33とを有する。
この場合、ゲート回路33及び34は、上述したゲート
信号B4によつて開に制御される。更に、ゲート回路3
3から得られる上述した画素同期パルス列SBのパルス
をカウントし、且つ走査線同期パルス列SLのパルス毎
にりセツトされるカウンタ35を有する。
この場合、カウンタ35は、今述べたように、画素同期
パルス列SBのパルスをカウントし且つ走査線同期パル
ス列SLのパルス毎にりセツトされるので、被検パター
ン領域上の基準位置(被検パターン領域の走査方向の始
端位置)から、被検パターンの、被検パターンの走査方
向にみた輪郭位置までの長さを、被検パターン領域上の
画素の長さδ,を単位長1とした数で表わしている出力
を出力する。
又、カウンタ35からの上述した出力が供給され、且つ
ゲート回路34から得られる排他的論理和回路32の出
力が供給される加算回路36を有する。
この場合、加算回路36は、排他的論理和回路32の出
力が「1」として得られる場合に、それがゲート回路3
4から得られる毎に、カウンタ35から得られる出力を
加算し、又、走査線同期パルス列SLのパルス毎にりセ
ツトされる。
又、加算回路36は、今述べたようにカウンタ35から
順次得られる出力を順次加算し、又走査線同期パルス列
SLのパルス毎にりセツトさせるので、被検パターン領
域上の基準位置(被検パターン領域の走査方向の始端位
置)から、被検パターンの、被検パターンの走査方向に
みた順次の輪郭位置までの長さの総和を、上述したδ1
を単位長1とした数で表わしている出力を出力する。然
して、加算回路36からの上述した出力を、被検パター
ン位置情報S6−1として得る。この場合、被検パター
ン位置情報S6−1は、上述したように、被検パターン
領域上の基準位置から、被検パターンの、被検パターン
領域の走査方向にみた、順次の輪郭位置までの長さの総
和を、数で表わしているものである。即ち、第4図上で
みて、被検パターン領域Aの被検パターンが、上述した
領域(8,8)(=(P,Q))〜(8,1024)(
=(P,N)):(9,8)(=(P+1,Q))〜(
9,1024)(=(P+1,N));・・・・・弓(
1024,8)(=(L,Q))〜(1024,102
4)(=(L,N))の領域の夫々、即ち上述した領域
(1,J)に、縦方向に延長している場合に於て、被検
パターン位置情報S6−1は、走査線の始端位置(被検
パターン領域上の基準位置)から、被検パターンの、被
検パターン領域の走査方向にみた始端側の各輪郭位置ま
での間の長さの総和を、被検パターン領域上での画素の
長さδ1を単位長1とした数で表わしているものである
即ち、領域(1,j)に、被検パターンの輪郭を表わす
線が、例えば説明の簡単の為、第1及び第2の線と2本
縦方向に延長しているとした場合、被検パターン位置情
報S6−1は、第4図上でみて、視野F1の左端位置(
基準位置)と第1の線との間の長さと、視野F1の左端
位置(基準位置)と第2の線との間の長さとの総和を、
δ1を単位長とした数で表わしているものである。
又、パターン位置検出回路31は、互に直列に接続され
たシフトレジスタ37,38及び39を有する。
一方、計算機装置6は、被検パターン領域Aに形成して
いる被検パターンを形成する為のパターン情報を有し、
そして、加算回路36から得られる被検パターン位置情
報S6−1に対応する参照用パターン位置情報S7を予
め有している。
然して、計算機装置6が予め有している参照用パターン
位置情報S7が、シフトレジスタ37を通じてシフトレ
ジスタ38に供給される。又、シフトレジスタ38から
得られる参照用パターン位置情報S7が比較回路40に
供給され、一方、この比較回路40に、上述した加算回
路36より得られる被検パターン位置情報S6−1が供
給される。
然して、比較回路40から、上述したように被検パター
ンが、領域(1,j)に、縦方向に延長している場合、
その被検パターンの位置が予定の位置に在るか否かを表
わしている第2の検査出力S9−1を得る。
この場合、比較回路40は、被検パターン位置情報S6
−1の値が、参照用パターン位置情報S7の値より土E
で表わされるマージンの値の範囲内にあるか否かを比較
し、その範囲内にあれば、被検パターンの位置が予定の
位置にあるとして、第2の検査出力S9−1を2値表示
で「0」で出力し、その範囲内になければ、被検パター
ンの位置が予定の位置にないとして、第2の検査出力S
9−1を2値表示で「1」で出力する。
比較回路40が、この様な比較をなす所以は、 .―被
検パターン位置情報S6−1の値が、被検パターンの輪
郭の数に応じた数の量子化誤差を伴なつているので、若
し上述した土Eのマージンがないならば、被検パターン
の位置が、予定の位置にあるとしても、被検パターンの
位置が、予定の位置 1にないとして第2の検査出力S
9−1が得られるという、不都合を回避せんが為である
従つて、上述せる土Eの値は、予め判知されている被検
パターンの輪郭の数の最大数以上の数にして、その最大
数に応じた値に設定されているも 1のである。
つまb縦輪郭位置が、最大δMaxの範囲内のランダム
変数であるδi(このδiはリングラフイ技術による輪
郭線のゆらぎを表わす。すなわち1δil≦δMax)
だけだれていれば被検パターン位置情報S6−1(′i
る 罠Xi(但しXiは21=1走査線の始端位置(被
検パターン領域上の基準位置から、被検パターンの被検
パターン領域の走査方向にみた各輪郭位置までの長さを
δiを単位長1とした数で表わした変数、Nは輪郭数で
ある)2一 Nが、最も悪い
条件で.ΣXi+NδITlaXである。
例1=1えば、ΣXi=1200,NδMax=34と
すれば、Σ(Xi+δi)≦1234であるので、34
を上述のEとして対応する下位ビツトを無視するのでこ
ある。
尚、上述した士Eのマージンがあれば、被検パターンの
位置が、第4図でみて最左側にある場合、その位置が比
較できなくなる。
例えば被検パターンの第1番の輪郭線に関するX,が例
えば10で Jあるような場合がある。するとE以下で
あるためX1が省略されてしまう恐れがあるので各Xi
には予めα〉Eなるバイアス値(例えば1000)を付
与して訃けばよい。即ち、上述したカウンタ35を、上
述した士Eに応じた値に、プリセツトの置くを可とする
ものである。更に、パターン位置検出回路31は、第7
図に示すように、被検並列2値化画像信号H2を構成し
ている信号R43〜R46を入力とするノア回路41及
びアンド回路42と、信号R54及びR55を入力とす
る排他的論理和回路43と、信号R63〜R66を入力
とするアンド回路44及びノア回路45と、ノア回路4
1及びアンド回路44の出力を入力とするアンド回路4
6と、ンド回路42及びノア回路45の出力を入力とす
るアンド回路47と、アンド回路43及び47の出力を
入力とするオア回路48と、オア回路48及び排他的論
理和回路43の出力を入力とするアンド回路49とより
なる論理回路50を有する。
そして、その論理回路50を構成しているアンド回路4
9から得られる出力が、第5図で上述したゲート回路2
3と同様の、ゲート信号B4により制御されるゲート回
路51に供給される。
又、ゲート回路51の出力が、第5図で上述した記憶回
路24と同様の、走査線同期パルス列SLのパルスによ
つてりセツトされる記憶回路52に供給される。記憶回
路52からは被検パターンの横方向の輪郭線(以下「水
平エツジ」という)に関する出力SlOが得られる。
ところで被検パターンの水平エツジには量子化誤差や製
造誤差のために不規則なだれ(凹凸)を伴うことがある
。このような不規則なだれを伴う水平エツジを有する被
検パターンを検査した場合には、不規則なだれの所で縦
方向のエッジが検出されることになるので、これに基づ
いて上述した被検パターン位置情報S6−1が理想的な
水平エツジを有する被検パターンの位置情報とは一致し
ないことになる。その結果、S6−1を参照用パターン
位置情報と比較回路40で比較して出力した第2検査出
力S9−1は、実際の被検パターンが正しいものである
にもかかわらず、被検パターンが欠陥であることを示す
「1」となつてしまう。そこで、このような場合、第2
検査出力が誤つた判定をしても後述する第4検査出力S
4Oが誤つた判定をすることのないようにするため、縦
方向のエツジの情報を論理回路50内の取勺込み得た出
力SlOを利用している。ナンド回路53の一方に上記
出力10を供給し、他方に出力SlOに対応している計
算機装置6からの情報Sllを、シフトレジスタ37に
接続しているシフトレジスタ54を介して供給する。然
して、ナンド回路53から得られる出力を、第3の検査
出力Sl2−1として得る。この場合ナンド回路53は
、第3の検査出力Sl2−1を、出力SlO及びSll
が共に2値表示で「1」である場合「0」として、又出
力SlO及びSllの何れか一方が「0」である場合、
「1」として出力するものである。
ところで上述したように被検パターンの水平エツジが不
規則なだれを有する場合には出力SlOが「1」とな虱
一方出力Sllが正常な水平エツジを表示する「1」で
与えられているので、ナンド回路53からの第3検査出
力Sl2−1は水平エツジの存在を意味する「0」を送
出する。そしてこの場合後述するように、この検査出力
Sl2−1をアンド回路100に入力することによつて
、被検パターンが正常であるにもかかわらず量子化誤差
等によつて第2検査出力S9−1だけ欠陥ありと誤判定
することに禁止をかけている。な}、縦方向のエツジの
検出と共に水平エツジHの検出はパターン位置検査で必
須であるので上述の構成を有する論理回路50の動作説
明を補足すると次のようになる。
今)記憶素子R439r449r459r46と記憶素
子R63tr649r659r66との間のR54νR
55上に水平エツジがあり1しかもR43,r44,r
45,r46側にパターンが存在するとすれば、R43
,r44fr459r46は「1」Sr63tr64F
r659r66は「O」である。
したがつて、アンド回路42の出力は「1」、ノア回路
45の出力は「1」となbアンド回路47は「1」を出
力する。この出力はオア回路48を介しヤアンド回路4
9の一方の入力に供給される。また水平エツジには先述
したように量子化誤差、製造誤差によつて不規則なだれ
を伴う。
従つてこのだれがR54,r55の所で存在すると、R
54,r55が論理式(4)に従つて論理処理されれば
縦エツジの存在を示す信号「1」が得られよう。ところ
で、論理式(2)は排他的論理和の論理に他ならないか
ら、量子化誤差等に起因する水平エツジの凹凸の始めの
部分で排他的論理和回路43の出力は「1」となる。こ
の出力はアンド回路49の他方の入力に供給されアンド
回路49は「1」を出力し、これが回路51,52を介
してナンド回路53の一方の入力に与えられる。ナンド
回路53の他方の入力に与えられる情報Sllの最初の
ビツトは水平エツジを表示するものとして「1」が与え
られているのでナンド回路53は第3の検査出力Sl2
一1として「0」を送出する。このようにして、第2の
検査出力S9−1だけでは正常であるにもかかわらず水
平エツジによつてデータの取得が不安定になるため欠陥
と誤判定するのをアンド回路100に訃いて第3の検査
出力Sl2−1で判定に禁止をかけているのである。し
たがつて、出力SlOは正常水平エツジを欠陥と判定し
ないように第3の検査出力Sl2−1を補償する。又、
パターン位置検出回路31は、上述した論理和回路32
、ゲート回路34、及び加算回路36に夫々対応してい
る排他的論理和回路62及び72、ゲート回路64及び
74、及び加算回路66及び76を有する。
この場合、排他的論理和回路62には、信号R,3及び
R54が供給される。又排他的論理和回路72には、信
号R55及びR56が供給される。然して、加算回路6
6及び76から夫々、上述した加算回路36から得られ
る被検パターン位置情報S6−1と同様の被検パターン
位置情報S6−21及びS6−22を得る。
更に、パターン位置検出回路31は、上述した比較回路
40に対応している比較回路101〜108と、ナンド
回路53に対応しているナンド回路81及び82とを有
する。
尚更に、上述したシフトレジスタ38に接続しているシ
フトレジスタ54に対応している、シフトレジスタ37
及び39に夫々接続しているシフトレジスタ92及び9
3を有する。
然して、加算回路66出力が比較回路101,102及
び103に供給される。
又、上述した加算回路36の出力が比較回路104及び
105に供給される。更に、加算回路76の出力が比較
回路106,107及び108に供給される。又、上述
した記憶回路52の出力がナンド回路81及び82に供
給される。更に、シフトレジスタ37の出力が比較回路
101,104及び106に供給される。尚更に、シフ
トレジスタ回路38の出力が比較回路102及び107
に供給される。又、シフトレジスタ39の出力が比較回
路103,105及び108に供給される。更に、シフ
トレジスタ92及び93の出力が夫々ナンド回路81及
び82に供給される。然して、比較回路101,102
,・・・・・・108の出力を、夫々、上述した比較回
路40から得らねる第2の検査出力S9−1と同様の、
第5の検査出力S9−21,S9−22,・・・・・・
S9−28として得る。
又、ナンド回路81及び82の出力を、夫々上述したナ
ンド回路53から得られる第3の検査出力と同様の、第
6の検査出力Sl2−21及びSl2−22として得る
然して、比較回路40から得られる上述した第2の検査
出力S9−1と、ナンド回路53から得られる上述した
第3の検査出力Sl2−1とが、アンド回路100に供
給される。
又、比較回路101〜108から得らねる第5の検査出
力S9−21〜S9−28と、ナンド回路81及び82
から得られる第6の検査出力Sl2一21及びSl2−
22とがアンド回路100に供給される。
そして、アンド回路100の出力を、第4の検査出力S
4Oとして得る。ここで第7図のうち特に排他的論理和
回路40,62、及び72とシフトレジスタ37,38
及び39の組合せによる動作説明を補足すると次のよう
になる。
まず検査パターン位置情報S6−1とシフトレジスタ3
8の内容、即ち参照用パターン位置情報S7との比較回
路40での比較は、マスクのセツテイングが理想的に行
われ、X方向にも、Y方向にもズレがない場合に有効と
なる。
即ち、第1図の載置台3上に載つたマスク1の座標原点
、座標軸、撮像倍率が予め計算機により作製する参照用
パターンのそれと一致する場合に有効となる。しかし一
般にはX,Y方向にマスク設定の位置ズレを生ずるのが
普通であり1それを救済するのが本回路の機能である。
まずX方向に±1画素ズレた場合を考えれば、各輪郭線
の位置変数Xiが土1付加されて総和されるために、逆
に土1ズレた画素から輪郭線信号を得るために排他的論
理和回路62、及び72を設置している。
これによれはX方向に土1画素以内ズレて設置されても
、パターンが正常であればシフトレジスタ38からのS
7との比較に訃いて、比較器40を中心に比較器102
あるいは比較器107で一致信号「0」を得ることがで
きる。ここでは、土1画素の場合の具体例を述べたが、
排他的論理和回路63及び72に対応して入力画素信号
をそれぞれR52,r53及びR,6,r,7として同
様の構成を拡張すれば、土2画素までのズレを救済でき
ることは云うまでもない。次にY方向に±1画素ズレた
場合を考える。
今j番目の走査線に対し第7図加算器36の出力S6−
1はそれぞれ見掛け上J土1番目の走産線についての総
和を出力していることになる。従つて、参照用パターン
位置情報もj番目のデータをシフトレジスタ38に(1
−1)番目のデータを39に、(J+1)番目のデータ
を37に順次計算機よ勺供給してこれらの参照用パター
ンデータとS6−1とを比較器40,104,105で
比較すれば、少くとも1つの比較結果が一致することに
なる。第7図ではX方向に0,土1画素、Y方向に0,
±1画素ズレた場合、計3×3=9通bの比較(40,
101〜108)で救済できることを示している。な訃
X方向と同様にY方向もレジスタを増やせば、Y方向で
のズレを救済する範囲が広くなることは云うまでもない
。また54,92,93はそれぞれI,j−1,j+1
番目の走査線に水平輪郭線があるかないかを予め計算機
処理で求めておき、有る場合を「1」、ない場合を「O
]として1ビツト付加しているものである。アンド回路
100から得られる第4の検査出力S4Oは、計算機装
置6に供給される。依つて、計算機装置6に於て、上述
した第1の検査出力S5と第4の検査出力S4Oに基ず
き、被検パターンが予定のパターンであり1且つ予定の
位置に在るか否かを表わしている、目的の検査出力を得
る。
以上にて、本発明によるパターン検査法の実施例が明ら
かとなつたが、本願特許請求の範囲第1項に記載してい
る本発明によるパターン検査法によれば、次の(1−イ
)〜(1〜ヌ)の工程を含んでいるものである。
即ち、(1−イ) 被検パターンが形成されている被検
パターン領域を走査して得られる画像信号を2値化して
2値化画像信号を得る工程を含んでいる。
この場合、被検パターンが形成されている被検パターン
領域を走査して得られる画像信号は、上述した実施例で
は、第1図に示されている撮像管から得られる、第3図
Dに示すような画像信号S1である。
又、その画像信号な2値化している2値化画像信号は、
上述した実施例では、第1図に示されている2値化回路
11から得られる、第3図Eに示すような2値化画像信
号S4である。(1−ロ) 複数Q個の記憶素子を直列
配列してごいる、複数P個のシフトレジスタが、(N−
Q)個の記憶素子が直列配列されているシフトレジスタ
の長さ分の遅延を有する遅延回路を介して、順次、直列
に接続されているシフトレジスタ列に、上記2値化画像
信号を供給する工程(但し、1,この場合、Nは上記2
値化画像信号の1走査線分の画素の数、QはN以下の数
、Pは上記2値化画像信号の走査線数以下の数)を含ん
でいる。
この場合、Nは、上述した実施例では、1024である
。又Qは8である。更にPは、2値化画1像信号の走査
線数(これは上述した実施例ではLで表わされている)
を1024としていることによ只 8である。又複数Q
個の記憶素子を直列配夕1ルている、複数P個のシフト
レジスタが、順次、直列に接2続されているシフトレジ
スタ列は、上述した実施例では、第1図に示されている
、夫々8個(Q個)の記憶素子を直列配列している8個
(P個)のシフトレジスタR−1,R−2,・・・・・
・,R−8から構成されているシJャgレジスタ2列12
である。
又、(N−Q)個の記憶素子が直列配列されているシフ
トレジスタの最さ分の遅延を有する遅延回路は、上述し
た実施例では、第1図に示されている、(1024−8
)個((N−Q)個)の記憶素子が直列配列されて3い
るシフトレジスタの長さを有する遅延回路D−12,D
−13,・・・・・・,D−78である。(1−ハ)
上記P個のシフトレジスタ中の1つのシフトレジスタに
於ける、少くとも1つの記憶素子と、上記P個のシフト
レジスタ中の他の31つのシフトレジスタに於ける、少
くとも1つの記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中
の更に他の1つに於ける、少くとも1つの記憶素子とを
含む、第1の記憶素子群から、第1の被検並列2値化画
像信号を得る工程を含んでいる。4この場合、P個のシ
フトレジスタ中の1つのシフトレジスタに於ける、少く
とも1つの記憶素子は、上述した実施例では、8個のシ
フトレジスタR−1〜R−12中のシフトレジスタR2
に於ける記憶素子R24及びR25である。
又、P個のシフトレジスタ中の他の1つのシフトレジス
タに於ける、少くとも1つの記憶素子は、上述した実施
例では、8個のシフトレジスタR−1〜R−12中のシ
フトレジスタR4に於ける記憶素子R42,r45及び
R47、又はシフトレジスタR−5に於ける記憶素子R
52,r54,r55及びR57である。更に、P個の
シフトレジスタ中の更に他の1つに於ける、少くとも1
つの記憶素子は、上述した実施例では、8個のシフトレ
ジスタR−1〜R−12中のシフトレジスタR−7に於
ける記憶素子R74及びR75である。またP個のシフ
トレジスタのうち少なくとも1つのレジスタのうち少な
くとも3個の記憶素子とはシフトレジスタR−4に訃け
るR42,r45,r47又はシフトレジスタR−5に
訃けるR529r559r57であるO第1の被検並列
2値化画像信号は、上述した実施例では)信号R249
r25:R429r459r47;R529r54lr
559r57;R74Fr75からなる第1の被検並列
2値化画像信号H1である。〔1−[メj 上記P個のシ
フトレジスタ中の最初のシフトレジスタ及び最後のシフ
トレジスタ以外の中間のシフトレジスタに於ける、少く
とも相隣る2つの第1及び第2の記憶素子と、上記P個
のシフトレジスタ中の最初のシフトレジスタと上記中間
のシフトレジスタとの間のシフトレジスタに於ける、少
くも1つの第3の記憶素子と、上記P個のシフトレジス
タ中の最初のシフトレジスタと上記中間のシフトレジス
タとの間のシフトレジスタに於ける、少くも1つの第3
の記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の上記中間
のシフトレジスタと上記最後のシフトレジスタとの間の
シフトレジスタに於ける、少くとも1つの第4の記憶素
子とを含む、第2の記憶素子群から、第2の被検並列2
値化信号を得る工程を含んでいる。
この場合、中間のシフトレジスタに於ける、少くとも相
隣る2つの第1及び第2の記憶素子は、上述した実施例
では、8個のシフトレジスタR−1〜R−8中のシフト
レジスタR−5に於ける、記憶素子R53,r54,r
55及びR56中の記憶素子R54及びR55である。
又、最初のシフトレジスタと中間のシフトレジスタとの
間のシフトレジスタに於ける、少くとも1つの第3の記
憶素子は、上述した実施例では、シフトレジスタR−4
に於ける、記憶素子r43,r44及びr46中の何れ
か1つの記憶素子である。更に、中間のシフトレジスタ
と最後のシフトレジスタとの間のシフトレジスタに於け
る、少くとも1つの第4の記憶素子は、上述した実施例
では、シフトレジスタR−6に於ける、記憶素子r63
,r64,r65及びr66中の何れか1つの記憶素子
である。尚更に、第2の被検並列2値化画像信号は、上
述した実施例では)信号r439r449r459r4
6;r539 r549 r559 r56 9 r6
39 r649 r659r66からなる第2の被検並
列2値化画像信号H2である。(1−ホ) 上記第1の
被検並列2値化画像信号を論理処理して、上記被検パタ
ーンが、予定のパターンで在るか否かを表わしている第
1の検査出力を得る工程を含んでいる。
この場合、第1の被検並列2値化画像信号の論理処理は
、上述した実施例では、第5図に示す論理回路22に於
て行なわれ、その論理処理は)信号r24jr25:r
429r45tr47;r529r54′r55Pr5
7;r749r75に基ずき)(3)式で表わされる論
理処理である。
又、第1の検査出力は、上述した実施例では、第5図に
示す記憶回路24から得られる、第6図を伴なつて上述
した1及び2の何れか一方又は双方の場合に、2値表示
で「1]として得られ、他の場合に「O」として得られ
る。(1−へ) 上記第2の被検並列2値化画像信号の
上記第1及び第2の記憶素子から得られる2値化画像信
号に基ずき、上記被検パターン領域上の基準位置から、
上記被検パターンの、上記被検パターン領域の走査方向
にみた、順次の輪郭位置までの長さの総和を表わしてい
る、被検パターン位置情報を得る工程を含んでいる。
この場合、第2の被検並列2値化画像信号の第1及び第
2の記憶素子から得られる2値化画像信号は、上述した
実施例では、被検並列2値化画像信号H2の、上述した
記憶素子r53,r54,r55及びr56中の記憶素
子r54及びr55から得られる信号r54及びr55
である。又、被検パターン位置情報は、上述した実施例
では、第7図に示されている加算回路36から得られる
被検パターン位置情報S6ー1である。〔1−ト) 上
記被検パターン位置情報と、参照用パターン位置情報と
を比較して、上記被検パターンが、上記被検パターン領
域の走査方向にみて、予定の位置に在るか否かを表わし
ている第2の検査出力を得る工程を含んでいる。
この場合、参照用パターン位置情報は、上述した実施例
では、第1図に示されている計算機装置6から、第7図
に示しているシフトレジスタ37及び38を通じて得ら
れる、上述した被検パターン位置情報S6−1に対応し
ている参照用パターン位置情報S7である。
又、第2の検査出力は、上述した実施例では、第7図に
示されている比較回路40から得られる第2の検査出力
S9−1であh1被検パターン位置情報S6−1の値が
、参照用パターン位置情報S7の値よb±Eのマージン
の値の範囲内にある場合、2値表示で「1」、ない場合
「O]で得らnる〇(1−チ) 上記第2の被検並列2
値化画像信号の上記第3及び第4の記憶素子から得られ
る2値化画像信号に基ずき、被検パターンの水平エツジ
の有無を表わしている第3の検査出力を得る工程を含ん
でいる。この場合、第2の被検並列2値化画像信号の第
3の記憶素子から得られる2値化画像信号は、上述した
実施例では、被検並列2値化画像信号H2の、上述した
記憶素子r43,r44,r45及びr46中の1つの
記憶素子から得らねる信号であV))従つて信号r43
′r449r45及びr46中の1つの信号である。
又、第4の記憶素子から得られる2値化画像信号は、上
述した実施例では、被検並列2値化画像信号H2の、上
述した記憶素子r63,r64,r65及びr66中の
1つの記憶素子から得られる信号であV))従つて信号
r639r64倉r65及びr66中の何れか1つの信
号である。更に第3の検査出力は、上述した実施例では
、第7図に示しているナンド回路53から得られる第3
の検査出力S12−1で、その第3の検査出力S12−
1は、被検パターンの横方向の輪郭線が、直線であるに
も拘わらず、量子化誤差の為に、被検パターンの横方向
の輪郭線が、直線でないものとして得られる場合、2値
表示で「O」で得られる〇(1−り) 上記第2の検査
出力を、上記第3の検査出力によつて、上記第2の検査
出力が、上記被検パターンが予定の位置に在るにも拘わ
らず、予定の位置にないとして誤つて得られるのを、補
償している第4の検査出力を得る工程を含んでいる。こ
の場合、第4の検査出力は、上述した実施例では、アン
ド回路100から得られる第4の検査出力S4Oで、そ
の第4の検査出力S4Oは、上述した第2の検査出力S
9−1が、被検パターンの横方向の輪郭線が、直線であ
るにも拘わらず、量子化誤差の為に、被検パターンの横
方向の輪郭線が直線でないものとして、2値表示で「1
」で得られる場合、上述した第3の検査出力Al2−1
が、2値表示で「0」で得られるので、「0」で得られ
る。
(1−ヌ) 上記第1の検査出力と、上記第4の検査出
力とに基ずき、上記被検パターンが、予定のパターンで
あり且つ予定の位置に在るか否かを表わしている、目的
の検査出力を得る工程を含んでいる。
この場合、目的の検査出力は、被検パターンの予定の横
方向の長さが、4δ1以下である場合と被検パターンの
予定の縦方向の長さが4δ2以下である場合との何れか
一方又は双方である場合、及び被検パターンの予定の縦
方向の輪郭線が予定の位置にない場合、被検パターンが
欠陥であるとして得られる。
尚、この場合、目的の検査出力は、被検パターンの予定
の横方向の輪郭線が直線であるにも拘わらず、量子化誤
差の為に、被検パターンが予定の横方向の輪郭線が直線
でないとして得られんとしても、これが回避されて得ら
れるものである。従つて、本願特許請求の範囲第1項に
記載している本願第1番目の発明によるパターン検査法
によれば、上述した(1−イ)〜(1−ヌ)の工程を含
んで、被検パターンの検査出力を、被検パターンに欠陥
がないにも拘わらず欠陥があるとして得られることなし
に、得ることが出来るという大なる特徴を有する。
また、本願特許請求の範囲第2項に記載している本願第
2番目の発明によるパターン検査法は、次の(2−イ)
〜(2−オ)の工程を含んでいるものである。
即ち、 (2−イ) 本願第1番目の発明の上述した(1ーイ)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 被検パターンが形成されている被検パターン領域を走査
して得られる画像信号を2値化して2値化画像信号を得
る工程を含んでいる(2−ロ)本願第1番目の発明の上
述した(1−ロ)の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 複数Q個の記憶素子を直列配夕1ルている、複数P個の
シフトレジスタが、(N−Q)個の記憶素子が直列配列
されているシフトレジスタの長さ分の遅延を有する遅延
回路を介して、順次、直列に接続されているシフトレジ
スタ列に、上記2値化画像信号を供給する工程(但し、
この場合、Nは上記2値化画像信号の1走査線分の画素
の数、QはN以下の数、Pは上記2値化画像信号の走査
線数以下の数)を含んでいる。
(2−ハ) 本願第1番目の発明の上述した(1ーハ)
の工程と同様の工程を含んでいる。即ち、 上記P個のシフトレジスタ中の1つのシフトレジスタに
於ける、少くとも1つの記憶素子と、上記P個のシフト
レジスタ中の他の1つのシフトレジスタに於ける、少く
とも1つの記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の
更に他の1つのシフトレジスタに於ける、少くとも1つ
の記憶素子とを含む、第1の記憶素子群から、第1の被
検並列2値化画像信号を得る工程を含んでいる。
(2−[メj 本願第1番目の発明の上述した(に)の工
程に準じた工程を含んでいる。
即ち、 上記P個のシフトレジスタ中の最初のシフトレジスタ及
び最後のシフトレジスタ以外の中間のシフトレジスタに
於ける、少くとも相隣る4つの第1、第2、第5及び第
6の記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の最初の
シフトレジスタと上記中間のシフトレジスタとの間のシ
フトレジスタに於ける、少くとも1つの第3の記憶素子
と、上記P個のシフトレジスタ中の上記中間のシフトレ
・ノスタと最縮のシフトレジスタとの間のシフトレジス
タに於ける、少くとも1つの第4の記憶素子とを含む、
第2の記憶素子群から、第2の被検並列2値化画像信号
を得る工程を含んでいる。
この場合、中間シフトレジスタに於ける、少くとも相隣
る4つの第1、第2、第5及び第6の記憶素子中の第1
及び第2の記憶素子は、上述した実施例では、上述した
本願第1番目の発明に於けると同様に、シフトレジスタ
R−5に於ける記憶素子r54及びr55であるが、他
の第5及び第6の記憶素子は、上述した実施例では、シ
フトレジスタR−5に於ける記憶素子r53及びr56
である。
又、第3の記憶素子は、上述した実施例では、上述した
本願第1番目の発明に於けると同様に、シフトレジスタ
Rー4に於ける、記憶素子r43〜r46中の何れか1
つの記憶素子である。更に、第4の記憶素子は、上述し
た実施例では、上述した本願第1番目の発明に於けると
同様に、シフトレジスタR−6に於ける、記憶素子r6
3,r64,r65及びr66中の何れか1つの記憶素
子である。尚、更に、第2の被検並列2値化画像信号は
、上述した実施例では、本願第1番目の発明に於けると
同様に第2の被検並列2値化画像信号H2である。(2
−ホ) 本願第1番目の発明の上述した(1ーホ)の工
程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記第1の被検並列2値化画像信号を論理処理して、上
記被検パターンが、予定のパターンで在るか否かを表わ
している第1の検査出力を得る工程を含んでいる。
(2−へ) 本願第1番目の発明の上述した(1ーへ)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記第2の被検並列2値化画像信号の上記第1及び第2
の記憶素子から得られる2値化画像信号に基ずき、上記
被検パターン領域上の基準位置から、上記被検パターン
の、上記被検パターン領域の走査方向にみた、順次の輪
郭位置までの長さの総和を表わしている、被検パターン
位置情報(これを第1の被検パターン位置情報とする)
を得る工程を含んでいる。
(2−ト) 本願第1番目の発明の上述した(1−ト)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記第1の被検パターン位置情報と、参照用パターン位
置情報(これを第1の参照用パターン位置情報とする)
とを比較して、上記被検パターンが、上記被検パターン
領域の走査方向でみて、予定の位置に在るか否かを表わ
している第2の検査出力を得る工程を含んでいる。
ニ2−チ) 上述した(2−へ)の工程に準じた工程を
含んでいる。
即ち、 上記第2の被検並列2値化画像信号の上記第5の記憶素
子と、上記第11第2及び第6の記憶素子の何れか1つ
の記憶素子から得られる2値化画像信号に基ずき、上記
被検パターン領域上の基準位置から、上記被検パターン
の、上記被検パターン領域の走査方向でみた、順次の輪
郭位置までの長さの総和を表わしている、第2の被検パ
ターン位置情報を得る工程を含んでいる。
この場合、第2の被検パターン位置情報は、上述した実
施例では、第7図に示されている加算回路66から得ら
れる被検パターン位置情報S6−21と、加算回路76
から得られる被検パターン位置情報S6−22とである
。(2−り) 上述した(2−ト)の工程に準じた工程
を含んでいる。
即ち、 上記第2の被検パターン位置情報と、第2の参照用パタ
ーン位置情報とを比較して、上記被検パターンが、上記
被検パターン領域の走査方向にみて、予定の位置に在る
か否かを表わしている第5の検査出力を得る工程を含ん
でいる。
この場合、第2の参照用パターン位置情報は、上述した
実施例では、第1図に示されている計算機装置6から、
第7図に示▲れているシフトレジスタ37を通じて得ら
れる、上述した被検パターン位置情報S6−21及びS
6−22に対応している参照用パターン位置情報S7と
、同様に、計算機装置6から、第7図に示されているシ
フトレジスタ37,38及び39を通じ得られる同様の
、参照用パターン位置情報S7とである。又、第5の検
査出力は、上述した実施例では、第7図に示されている
比較回路101,102,103,104,105,1
06,107及び108から得る検査出力S9−21,
S9−22,S9−23,S9−24,S9−25,S
9−26,S9−27及びS9−28である。(2−ヌ
) 本願第]番目の発明の上述した(1ーチ)の工程と
同様の工程を含んでいる。即ち、 上記第2の被検並列2値化画像信号の上記第3及び第4
の記憶素子から得られる2値化画像信号に基ずき、被検
パターンの水平エツジの有無を表わしている第3の検査
出力を得る工程を含んでいる。
(2−ル) 本願第1番目の発明の上述した(1リ)の
工程に準じた工程を含んでいる。
即ち、 上記第2の検査出力を、上記第3及び第5の検査出力に
よつて、上記第2の検査出力が、上記被検パターンが予
定の位置に在るにも拘わらず、予定の位置にないとして
誤つて得られているのを補償している、第4の検査出力
を得る工程を含んでいる。
この場合、第4の検査出力は、上述した実施例では、本
願第1番目の発明の場合と同様に、アンド回路100か
ら得られる第4の検査出力S4Oである。
(2−オ) 本願第1番目の発明の上述した(1−ヌ)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記第1の検査出力と、上記第4の検査出力とに基ずき
、上記被検パターンが、予定のパターンであり且つ予定
の位置に在るか否かを表わしている、目的の検査出力を
得る工程とを含んでいるものである。
従つて、本願特許請求の範囲第2項に記載している本願
第2番目の発明によるパターン検査法も、上述した(2
−イ)〜(2−オ)の工程を含んで、上述した本願第1
番目の発明によるパターン検査法の場合と同様の優れた
特徴を有する。
さらに、本発明の特許請求の範囲第3項に記載した本願
第3番目の発明のパターン検査法は、次の(3−イ)〜
(3−ル)の工程を含んでいる。
即ち、 (3−イ) 本願第1番目の発明の上述した(1ーイ)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 被検パターンが形成されている被検パターン領域を走査
して得られる画像信号を2値化して2値化画像信号を得
る工程を含んでいる。
二3−ロ) 本願第1番目の発明の上述した(1−ロ)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 複数Q個の記憶素子を直列配列している、複数P個のシ
フトレジスタが、(N−Q)個の記憶素子が直列配列さ
れているシフトレジスタQの長さ分の遅延を有する遅延
回路を介して、順次、直列に接続されているシフトレジ
スタ列に、上記2値化画像信号を供給する工程(但し、
この場合、Nは上記2値化画像信号の1走査線分の画素
の数、QはN以下の数、Pは上記2値化画像信号の走査
線数以下の数)を含んでいる。
こ3−ハ) 本願第1番目の発明の上述した(1ーハ)
の工程と同様の工程を含んでいる。即ち、 上記P個のシフトレジスタ中の1つのシフトレジスタに
於ける、少くとも1つの記憶素子と、上記P個のシフト
レジスタ中の他の1つのシフトレジスタに於ける、少く
とも1つの記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の
更に他の1つに於ける、少くとも1つの記憶素子とを含
む、第1の記憶素子群から、第1被検並列2値化画像信
号を得る工程を含んでいる。
(3−[メj 本願第1番目の発明の上述した(1ーハ)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記P個のシフトレジスタ中の最初のシフトレジスタ及
び最後のシフトレジスタ以外の中間のシフトレジスタに
於ける、少くとも相隣る2つの第1及び第2の記憶素子
と、上記P個のシフトレジスタ中の最初のシフトレジス
タと上記中間のシフトレジスタとの間のシフトレジスタ
に於ける、少くとも1つの第3の記憶素子と、上記P個
のシフトレジスタ中の上記中間のシフトレジスタと最後
のシフトレジスタとの間のシフトレジスタに於ける、少
くとも1つの第4の記憶素子とを含む、第2の記憶素子
群から、第2の被検並列2値化画像信号を得る工程を含
んでいる。
(3−ホ) 本願第1番目の発明の上述した(1−ホ)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記第1の被検並列2値化画像信号を論理処理して、上
記被検パターンが、予定のパターンで在るか否かを表わ
している第1の検査出力を得る工程を含んでいる。
(3−へ) 本願第1番目の発明の上述した(1−へ)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記第2の被検並列2値化画像信号の上記第1及び第2
の記憶素子から得られる2値化画像信号に基ずき、上記
被検パターン領域上の基準位置から、上記被検パターン
の、上記被検パターン領域の走査方向にみた、順次の輪
郭位置までの長さの総和を表わしている、被検パターン
位置情報を得る工程を含んでいる。
(3−ト) 本願第1番目の発明の上述した(1−ト)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記被検パターン位置情報と、参照用パターン位置情報
とを比較して、上記被検パターンが、上記被検パターン
領域の走査方向にみて、予定の位置に在るか否かを表わ
している第2の検査出力を得る工程を含んでいる。
(3−チ) 本願第1番目の発明の上述した(1ート)
の工程、及び本願第2番目の発明の上述した(2−り)
の工程に準じた工程を含んでいる。
即ち、 上記被検パターン位置情報と、上記参照用パターン位置
情報が上記第2の並列2値化画像信号の1走査線分の時
間だけ位相のずれているという態様の参照用パターン位
置情報とを比較して、上記被検パターンが、上記被検パ
ターン領域の走査方向にみて、予定の位置に在るか否か
を表わしている第6の検査出力(本願第2番目の発明の
上述した(2−リ)で得られる第5の検査出力に対応し
ているものとして得られる)を得る工程を含んでいる。
(3−り)本願第1番目の発明の上述した(1−チ)の
■程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記第2の被検並列2値化画像信号の上記第3及び第4
の記憶素子から得られる2値化画像信号に基ずき、被検
パターンの水平エツジの有無を表わしている第3の検査
出力を得る工程を含んでいる。
(3−ヌ) 本願第1番目の発明の上述した(1ーり)
の工程、及び本願第2番目の発明の上述した(2−ル)
の工程に準じた工程を含んでいる。
即ち、 上記第2の検査出力を、上記第3及び第6の検査出力に
よつて、上記第2の検査出力が、上記被検パターンが予
定の位置に在るにも拘わらず、予定の位置にないとして
誤つて得られるのを、補償している第4の検査出力を得
る工程を含んでいる。
(3−ル) 本願第1番目の発明の上述した(1−ヌ)
の工程と同様の工程を含んでいる。
即ち、 上記第1の検査出力と、上記第4の検査出力とに基ずき
、上記被検パターンが、予定のパターンであb且つ予定
の位置に在るか否かを表わしている、目的の検査出力を
得る工程を含んでいる。
従つて、本願特許請求の範囲第3項に記載している本願
第3番目の発明によるパターン検査法も、上述した(3
−イ)〜(3−ル)の■程を含んで、上述した本願第1
番目の発明によるパターン検査法の場合と同様の優れた
特徴を有する。
尚、上述に於いては、本発明の一例を示したに留ま兎本
発明の精神を脱することなしに、種々の変型変更をなし
得るであろう。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるパターン検査法の実施例を示す系
統図である。 第2図はその説明に供する被検パターン領域を示す略線
図である。第3図は第1図に示す本発明の実施例の説明
に供する信号配列図である。第4図は第1図に示す本発
明の実施例に適用せる撮像管よD得られる情報の説明に
供する略線図である。第5図は第1図に示す本発明の実
施例で適用せるパターン形状検査回路の一例を示す系統
図である。第6図はその説明に供する略線図である。第
7図は第1図に示す本発明の実施例で適用せるパターン
位置検査回路の一例を示す系統図である。A・・・・・
・被検パターン領域、1・・・・・・被検パターン体、
2・・・・・・駆動機構、3・・・・・・被検パターン
体載置台、4・・・・・・画像信号を得る手段、5・・
・・・・位置信号発生装置、6・・・・・・計算機装置
、7・・・・・・照明手段、8・・・・・・撮像管、1
1・・・・・・2値化回路、12・・・・・・シフトレ
ジスタ列、R−1〜R−8・・・・・・レジスタ、D−
12〜D78・・・・・・遅延回路、21・・・・・・
パターン形状検査回路、22,50,62及び72・・
・・・・論理回路、23・・・・・・ゲート回路、24
・・・・・・記憶回路、31・・・・・・パターン位置
検査回路、33,34,51,64及び74・・・・・
・ゲート回路、35・・・・・・カウンタ、36,66
及び76・・・・・・加算回路、37,38及び39・
・・・・・シフトレジスタ、40,101,108・・
・・・・比較回路、41及び45・・・・・・ノア回路
、42,44,46,47,49・・・・・・アンド回
路、32,43・・・・・・排他的論理回路、48・・
・・・・オア回路、53,81及び82・・・・・・ナ
ンド回路、100・・・・・・アンド回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (イ)被検パターンが形成されている被検パターン
    領域を走査して得られる画像信号を2値化して2値化画
    像信号を得る工程と、(ロ)複数Q個の記憶素子を直列
    してなるシフトレジスタを複数P個順次、(N−Q)個
    の記憶素子の直列配列でなるシフトレジスタの長さ分の
    遅延を有する遅延回路を介して、直列に接続して構成し
    たシフトレジスタ列に、上記2値化画像信号を供給する
    工程(但し、この場合、Nは上記2値化画像信号の1走
    査線分の画素の数、QはN以下の数、Pは上記2値化画
    像信号の走査線数以下の数)と、(ハ)上記P個のシフ
    トレジスタ中の1つのシフトレジスタに於ける、少くと
    も1つの記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の他
    の1つのシフトレジスタに於ける、少くとも1つの記憶
    素子と、上記P個のシフトレジスタ中の更に他の1つに
    於ける、少くとも1つの記憶素子と、P個のシフトレジ
    スタ中の少なくとも1つのシフトレジスタ中の少なくと
    も3個の記憶素子とを含む、第1の記憶素子群から、第
    1の被検並列2値化画像信号を得る工程と、(ニ)上記
    P個のシフトレジスタ中の最初のシフトレジスタ及び最
    後のシフトレジスタ以外の中間のシフトレジスタに於け
    る、少くとも相隣る2つの第1及び第2の記憶素子と、
    上記P個のシフトレジスタ中の最初のシフトレジスタと
    上記中間のシフトレジスタとの間のシフトレジスタに於
    ける、少くも1つの第3の記憶素子と、上記P個のシフ
    トレジスタ中の上記中間のシフトレジスタと上記最後の
    シフトレジスタとの間のシフトレジスタに於ける、少く
    とも1つの第4の記憶素子とを含む、第2の記憶素子群
    から、第2の被検並列2値化画像信号を得る工程と、(
    ホ)上記第1の被検並列2値化画像信号を論理処理して
    、上記被検パターンが、予定のパターンで在るか否かを
    表わしている第1の検査出力を得る工程と、(ヘ)上記
    第2の被検並列2値化画像信号の上記第1及び第2の記
    憶素子から得られる2値化画像信号に基づき、上記被検
    パターン領域上の基準位置から、上記被検パターンの、
    上記被検パターン領域の走査方向にみた、順次の輪郭位
    置までの長さの総和を表わしている、被検パターン位置
    情報を得る工程と、(ト)上記被検パターン位置情報と
    、参照用パターン位置情報とを比較して、上記被検パタ
    ーンが、上記被検パターン領域の走査方向にみて、予定
    の位置に在るか否かを表わしている第2の検査出力を得
    る工程と、(チ)上記第2の被検並列2値化画像信号の
    上記第3及び第4の記憶素子から得られる2値化画像信
    号に基づき、被検パターンの水平エッジの有無を表わし
    ている第3の検査出力を得る工程と、(リ)上記第2の
    検査出力を、上記第3の検査出力によつて、上記第2の
    検査出力が、上記被検パターンが予定の位置に在るにも
    拘わらず、予定の位置にないとして誤つて得られるのを
    、補償している第4の検査出力を得る工程と、(ヌ)上
    記第1の検査出力と、上記第4の検査出力とに基づき、
    上記被検パターンが、予定のパターンであり且つ予定の
    位置に在るか否かを表わしている、目的の検査出力を得
    る工程とを含むことを特徴とするパターン検査法。 2 (イ)被検パターンが形成されている被検パターン
    領域を走査して得られる画像信号を2値化して2値化画
    像信号を得る工程と、(ロ)複数Q個の記憶素子を直列
    配列してなるシフトレジスタを複数P個順次、(N−Q
    )個の記憶素子の直列配列でなるシフトレジスタの長さ
    分の遅延を有する遅延回路を介して、直列に接続して構
    成したシフトレジスタ列に、上記2値化画像信号を供給
    する工程(但し、この場合、Nは上記2値化画像信号の
    1走査線分の画素の数、QはN以下の数、Pは上記2値
    化画像信号の走査線数以下の数)と、(ハ)上記P個の
    シフトレジスタ中の1つのシフトレジスタに於ける、少
    くとも1つの記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中
    の他の1つのシフトレジスタに於ける、少くとも1つの
    記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の更に他の1
    つのシフトレジスタに於ける、少くとも1つの記憶素子
    と、P個のシフトレジスタ中の少なくとも1つのシフト
    レジスタ中の少なくとも3個の記憶素子とを含む、第1
    の記憶素子群から、第1の被検並列2値化画像信号を得
    る工程と、(ニ)上記P個のシフトレジスタ中の最初の
    シフトレジスタ及び最後のシフトレジスタ以外の中間の
    シフトレジスタに於ける、少くとも相隣る4つの第1、
    第2、第5及び第6の記憶素子と、上記P個のシフトレ
    ジスタ中の最初のシフトレジスタと上記中間のシフトレ
    ジスタとの間のシフトレジスタに於ける、少くとも1つ
    の第3の記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の上
    記中間のシフトレジスタと最終のシフトレジスタとの間
    のシフトレジスタに於ける、少くとも1つの第4の記憶
    素子とを含む、第2の記憶素子群から、第2の被検並列
    2値化画像信号を得る工程と、(ホ)上記第1の被検並
    列2値化画像信号を論理処理して、上記被検パターンが
    、予定のパターンで在るか否かを表わしている第1の検
    査出力を得る工程と、(ヘ)上記第2の被検並列2値化
    画像信号の上記第1及び第2の記憶素子から得られる2
    値化画像信号に基づき、上記被検パターン領域上の基準
    位置から、上記被検パターンの、上記被検パターン領域
    の走査方向にみた、順次の輪郭位置までの長さの総和を
    表わしている、第1の被検パターン位置情報を得る工程
    と、(ト)上記第1の被検パターン位置情報と、第1の
    参照用パターン位置情報とを比較して、上記被検パター
    ンが、上記被検パターン領域の走査方向にみて、予定の
    位置に在るか否かを表わしている第2の検査出力を得る
    工程と、(チ)上記第2の被検並列2値化画像信号の上
    記第5の記憶素子と、上記第1、第2及び第6の記憶素
    子の何れか1つの記憶素子から得られる2値化画像信号
    に基づき、上記被検パターン領域上の基準位置から、上
    記被検パターンの、上記被検パターン領域の走査方向で
    みた、順次の輪郭位置までの長さの総和を表わしている
    、第2の被検パターン位置情報を得る工程と、(リ)上
    記第2の被検パターン位置情報と、第2の参照用パター
    ン位置情報とを比較して、上記被検パターンが、上記被
    検パターン領域の走査方向にみて、予定の位置に在るか
    否かを表わしてなる第5の検査出力を得、(ヌ)上記第
    2の被検並列2値化画像信号の上記第3及び第4の記憶
    素子から得られる2値化画像信号に基づき、被検パター
    ンの水平エッジを表わしている第3の検査出力を得る工
    程と、(ル)上記第2の検査出力を、上記第3及び第5
    の検査出力によつて、上記第2の検査出力が、上記被検
    パターンが予定の位置に在るにも拘わらず、予定の位置
    にないとして誤つて得られているのを、補償している第
    4の検査出力を得る工程と、(オ)上記第1の検査出力
    と、上記第4の検査出力とに基づき、上記被検パターン
    が、予定のパターンであり且つ予定の位置に在るか否か
    を表わしている、目的の検査出力を得る工程とを含むこ
    とを特徴とするパターン検査法。 3(イ)被検パターンが形成されている被検パターン領
    域を走査して得られる画像信号を2値化して2値化画像
    信号を得る工程と、(ロ)複数Q個の記憶素子を直列配
    列してなるシフトレジスタを複数P個順次、(N−Q)
    個の記憶素子の直列配列でなるシフトレジスタの長さ分
    の遅延を有する遅延回路を介して、直列に接続して構成
    したシフトレジスタ列に、上記2値化画像信号を供給す
    る工程(但し、この場合、Nは上記2値化画像信号の1
    走査線分の画素の数、QはN以下の数、Pは上記2値化
    画像信号の走査線数以下の数)と、(ハ)上記P個のシ
    フトレジスタ中の1つのシフトレジスタに於ける、少く
    とも1つの記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の
    他の1つのシフトレジスタに於ける、少くとも1つの記
    憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の更に他の1つ
    のシフトレジスタに於ける、少くとも1つの記憶素子と
    、P個のシフトレジスタ中の少なくとも1つのシフトレ
    ジスタ中の少なくとも3個の記憶素子とを含む、第1の
    記憶素子群から、第1被検並列2値化画像信号を得る工
    程と、(ニ)上記P個のシフトレジスタ中の最初のシフ
    トレジスタ及び最後のシフトレジスタ以外の中間のシフ
    トレジスタに於ける、少くとも相隣る2つの第1及び第
    2の記憶素子と、上記P個のシフトレジスタ中の最初の
    シフトレジスタと上記中間のシフトレジスタとの間のシ
    フトレジスタに於ける、少くとも1つの第3の記憶素子
    と、上記P個のシフトレジスタ中の上記中間のシフトレ
    ジスタと最後のシフトレジスタとの間のシフトレジスタ
    に於ける、少くとも1つの第4の記憶素子とを含む、第
    2の記憶素子群から、第2の被検並列2値化画像信号を
    得る工程と、(ホ)上記第1の被検並列2値化画像信号
    を論理処理して、上記被検パターンが、予定のパターン
    で在るか否かを表わしている第1の検査出力を得る工程
    と、(ヘ)上記第2の被検並列2値化画像信号の上記第
    1及び第2の記憶素子から得られる2値化画像信号に基
    づき、上記被検パターン領域上の基準位置から、上記被
    検パターンの、上記被検パターン領域の走査方向にみた
    、順次の輪郭位置までの長さの総和を表わしている、被
    検パターン位置情報を得る工程と、(ト)上記被検パタ
    ーン位置情報と、参照用パターン位置情報とを比較して
    、上記被検パターンが、上記被検パターン領域の走査方
    向にみて、予定の位置に在るか否かを表わしている第2
    の検査出力を得る工程と、(チ)上記被検パターン位置
    情報と、上記参照用パターン位置情報が上記第2の並列
    2値化画像信号の1走査線分の時間だけ位相のずれてい
    るという態様の参照用パターン位置情報とを比較して、
    上記被検パターンが、上記被検パターン領域の走査方向
    でみて、予定の位置に在るか否かを表わしている第6の
    検査出力を得る工程と、(リ)上記第2の被検並列2値
    化画像信号の上記第3及び第4の記憶素子から得られる
    2値化画像信号に基づき、被検パターンの水平エッジの
    有無を表わしている第3の検査出力を得る工程と、(ヌ
    )上記第2の検査出力を、上記第3及び第6の検査出力
    によつて、上記第2の検査出力が、上記被検パターンが
    予定の位置に在るにも拘わらず、予定の位置にないとし
    て誤つて得られるのを、補償している第4の検査出力を
    得る工程と、(ル)上記第1の検査出力と、上記第4の
    検査出力とに基づき、上記被検パターンが、予定のパタ
    ーンであり且つ予定の位置に在るか否かを表わしている
    、目的の検査出力を得る工程とを含むことを特徴とする
    パターン検査法。
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