DE3605129A1 - Ladungstraegerteilchen-strahlvorrichtung - Google Patents
Ladungstraegerteilchen-strahlvorrichtungInfo
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Description
LADUNGSTRÄGERTEILCHEN-STRAHLVORRICHTUNG
Die Erfindung bezieht sich auf eine Ladungsträgerteilchen-
Il
Strahlvorrichtung für Strahlen geladener Teilchen. Insbesondere betrifft die Erfindung eine Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung,
die so gestaltet ist, daß zwangsläufig und genau die Lage der Achse von Strahlen geladener
Teilchen erfaßt wird oder in der automatisch eine Einstellung bzw. Ausrichtung der Achse von Strahlen geladener
Teilchen herbeigeführt wird. Die erfindungsgemäße Strahlvorrichtung kann beispielsweise zweckdienlich in
einem Belichtungsgerät zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen eingesetzt werden, bei dem Elektronenstrahlen
benutzt werden.
Bei Strahlvorrichtungen für Strahlen geladener Teilchen werden üblicherweise von einer Ladungsträgerquelle
Strahlen geladender Teilchen erzeugt, von denen mittels einer geeigneten Lochblendenvorrichtung nur der mittlere
Teil der Strahlen herausgezogen wird, der die maximale Stromdichte hat. Der auf diese Weise herausgezogene Teil
der Ladungsträgerteilchen-Strahlen wird dann so geführt,
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7 DE 5589
daß er auf eine vorbestimmte Stelle an der Oberfläche einer Probe oder eines Werkstücks fällt. Bei den tatsächlich
eingesetzten Strahlvorrichtungen ist jedoch durch das mechanische Einstellen der Mittelachse der Ladungsträgerquelle
wie eines Elektronenstrahlers oder eines Ionenstrahlers und der Mittelachse der Blendenvorrichtung
in der Weise, daß sie miteinander ausgefluchtet werden, keine vollkommene Ausrichtung der Achse der
Ladungsträgerteilchenstrahlen in Bezug auf eine vorbestimmte Achse der Strahlvorrichtung gewährleistet. Daher
ist es gewöhnlich notwendig, auf genaue Weise die Achse der Strahlen geladener ^Teilchen zu ermitteln und sie
genau einzustellen. f
Bei einem von bekannten Beispielen für das Einstellen der Achse der Strahlen geladener Teilchen wird mittels eines
Faraday'sehen Bechers, der in der Nähe einer Probe ange-.
ordnet wird, ein elektrischer Strom gemessen, der durch den durch die Lochblendenvorrichtung hindurch gelangenden
Teil der Strahlen geladener Teilchen aus der Ladungsträgerquelle verursacht ist, wonach dann von Hand der
einer Ablenkspulenvorrichtung (Ausrichtspulenvorrichtung) für das Einstellen der Lage der Achse der Strahlen zugeführte
Gleichstrom so gesteuert wird, daß an dem Faraday'sehen Becher ein vorbestimmter Strom gemessen
wird. Bei einem anderen Beispiel werden die Strahlen geladener Teilchen auf die Oberfläche gerichtet und die
an der Bestrahlungsstelle auf der Probe erzeugten Sekundärelektronen oder Reflexionselektronen mittels
eines Detektors gemessen. Bei diesem Ausführungsbeispiel wird auf gleichartige Weise die Achse der Strahlen
geladener Teilchen dadurch eingestellt, daß von Hand die Zufuhr von Gleichstrom zu der Ablenkspulenvorrichtung
so gesteuert wird, daß die Stärke des aus dem Detektor erhaltenen Meßsignals maximal wird.
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Gemäß der vorstehenden Beschreibung sind bei den herkömmlichen Verfahren zum Einstellen der Achse der Strahlen
geladener Teilchen Handbedienungsvorgänge erforderlich, die sehr kompliziert und zeitraubend sind. Ferner ist das
Ausrichten der Achse der Strahlen geladener Teilchen nicht sehr beständig, so daß daher die Wahrscheinlichkeit
besteht, daß sich die Ausrichtung mit der Zeit verschlechtert. Es ist daher erforderlich, daß die Lage der
Achse der Strahlen geladener Teilchen sowie das Ausmaß
10
der Bestrahlung mittels der Strahlen ständig gemessen oder überwacht werden. Weiterhin wird durch die erforderliehe
besondere Detektorvorrichtung die Strahlvorrichtung sperrig, teuer und kompliziert.
H Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, zum Ausschalten
der vorstehend beschriebenen, bei dem Stand der Technik auftretenden Probleme eine Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung
zu schaffen, bei der eine genaue und beständige Erfassung irgend einer Fehlausrichtung oder Lageabweichung
'
der Achse der Strahlen geladener Teilchen gewährleistet ist.
Ferner soll mit der Erfindung eine Strahlvorrichtung geschaffen werden, bei der das Ausrichten der Achse der
25
Strahlen geladener Teilchen automatisch erzielbar ist.
Gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung wird eine
Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung geschaffen, die
zum Bestrahlen einer bestimmten Stelle auf einem Objekt 30
mit Strahlen geladener Teilchen dient, wobei die Strahlvorrichtung
eine in mehrere Segmente aufgeteilte Lochblendenvorrichtung für das Begrenzen der Strahlen geladener
Teilchen aus einer Quelle und ein Detektorsystem für das Ermitteln irgend einer Abweichung der Achse der
Strahlen geladener Teilchen aus elektrischen Strömen aufweist, die durch das Auftreffen von Strahlen geladener
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Teilchen auf die Segmente der Lochblendenvorrichtung aus den Segmenten der Lochblendenvorrichtung abgegeben werden.
'U 5 Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen
unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
Fig. 1 ist eine schematische Ansicht, die einen Teil einer Ladungs tr*äger te ilchen-S tragvorrichtung
, n gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt,
der zum Konzentrieren von Strahlen geladener Teilchen dient.
Fig. 2 ist einefschematische Ansicht eines Teils zum
.,_ automatischen Ausrichten der Achse der Strahlen geladener
Teilchen in der Strahlvorrichtung nach Fig. 1.
Fig. 3 ist eine schematische Ansicht, die die Korrektur einer Abweichung der Achse der Strahlen geladener
on '■'■ Teilchen veranschaulicht.
Zuerst wird auf die Fig. 1 Bezug genommen, die einen Strahlenkonzentrierungsteil bei einem Ausführungsbeispiel
der erfindungsgemäßen Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung zeigt.
Nach Fig. 1 werden von einer Ladungsträger-Strahlenquelle 1 wie einem Glühdraht erzeugte Strahlen 3 geladener
Teilchen mittels einer Anode 2 beschleunigt und mittels einer elektronenoptischen bzw. Elektronensammellinse 4
gesammelt. Bei diesem Beispiel weist die Elektronensammellinse 4 eine Magnetfeld-Ablenkvorrichtung auf. In der
Fig. 1 sind mit 6 und 8 nachstehend als Blenden bezeichnete Lochblenden für das Begrenzen der Strahlen geladener
g5 Teilchen bezeichnet. Bei diesem Ausführungsbeispiel besteht
jede der Blenden 6 und 8 aus elektrisch leitendem Material, um damit irgend eine Abweichung der Strahlen 3 zu erfassen,
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was nachfolgend ausführlicher beschrieben wird. Mit 5 und 7 sind Ablenkvorrichtungen bezeichnet, die zum
Korrigieren einer Abweichung der Achse der Strahlen 3 dienen, was gleichfalls nachfolgend beschrieben wird.
Ein elektronenoptisches bzw. Elektronenobjektiv 9 dient zum Zusammenführen der Strahlen 3 auf einen Punkt an
einem Werkstück bzw. einer Probe 10.
Die Fig. 2 ist eine ausführliche Darstellung eines zur automatischen Achsenausrichtung dienenden Teils der
Strahlvorrichtung nach Fig. 1 und zeigt ausführlicher die Blenden 6 und 8 sowie die Ablenkvorrichtungen 5 und
Die von der Elektron'ensammellinse 4 nach Fig. 1 gebündelten
Strahlen 3 geladener Teilchen fallen auf die Blende 6, die bei diesem Ausführungsbeispiel in vier fächerförmige
Segmente X1, X1', Y1 und Y1' aufgeteilt ist.
Diese fächerförmigen Segmente X1 bis Y1' sind elektrisch
voneinander isoliert. Da die durch die fächerförmigen * Segmente X1 bis Y1' gebildete Blende 6 aus einem
elektrisch leitenden Material besteht, fließt mindestens ein auf dieses auftreffender Teil der geladenen
Teilchen der Strahlen 3 in die Segmente X1 bis Y1' der Blende 6, wodurch Ströme aus abgefangenen Elektronen
hervorgerufen werden. An die fächerförmigen Segmente X1 bis Y1' sind jeweils Verstärker 15 angeschlossen.
Jeder der Verstärker 15 ist zum Verstärken eines sehr schwachen elektrischen Strom ausgebildet, der durch die
in das jeweils entsprechende der Segmente X1 bis Y1' der Blende 6 einströmenden geladenen Teilchen, nämlich
durch die abgefangenen Elektronen hervorgerufen wird. Es sind zwei Differenzverstärker 16 und 17 vorgesehen,
von denen jeder an entsprechende zwei dieser Schwachstrom-Verstärker 15 angeschlossen ist und ein Differenzsignal
erzeugt, das der Differenz zwischen den angelegten Ausgangssignalen der beiden Schwachstrom-Verstärker 15
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entspricht. Im einzelnen erzeugt bei diesem Ausführungsbeispiel der Differenzverstärker 16 ein Differenzsignal,
das der Differenz zwischen den elektrischen Strömen entspricht, welche durch die in die fächerförmigen Segmente
5
X1 und X1' einfließenden geladenen Teilchen hervorgerufen
werden, während der Differenzverstärker 17 ein Differenzsignal
erzeugt, das der Differenz zwischen den elektrischen Strömen entspricht,, die durch die in die fächermörmigen
Segmente X1 und X1 ' einfließenden geladenen
Teilchen hervorgerufen werden. Die Differenzverstärker 16 und 17 sind jeweils mit einer Ablenkstrom- bzw.
Ablenksteuerschaltung T'2 bzw. 11 verbunden. Diese Ablenksteuerschaltungen 12 und 11 steuern entsprechend den
jeweiligen Differenzsignalen aus dem Differenzverstärker
16 bzw. 17 die der Ablenkvorrichtung .5 zugeführten Ströme, wodurch die Ablenkwirkung der Ablenkvorrichtung
5 so gesteuert wird, daß die aus den Differenzverstärkern
16 und 17 zugeführten Differenzsignale zu "0" werden. ·
Fll beispielsweise die auf die Blende 6 fallenden
Strahlen 3 geladener Teilchen eine derartige Abweichun-g haben, daß ein größerer Teil der Strahlen 3 auf das
fächerförmige Segment X1 fällt, wird der elektrische Strom aus den in das Segment X1 fließenden geladenen Teilchen
stärker als der durch die in das dem Segment X1 gegenübergesetzten
Segment X1' strömenden geladenen Teilchen erzeugte. Daher gibt der Differenzverstärker 16 beispielsweise
ein positives Differenzsignal ab, das der Differenz zwischen den Strömen aus den Segmenten X1 und X1' ent-
spricht. Entsprechend dem Differenzsignal aus dem Differenzverstärker 17 steuert die Ablenksteuerschaltung
11 den der Ablenkvorrichtung 5 zugeführten Strom und damit die Ablenkwirkung der Ablenkvorrichtung 5 in der
Weise, daß die Strahlen 3 geladener Teilchen stärker zu
dem Segment X1' der Elende 6 als zu dem Segment X1 hin
in einem Ausmaß abgelenkt werden, bei dem die auf die
Segmente X1 und X1' fallenden Mengen geladener Teilchen
gleich werden und dadurch der Differenzverstärker 17 ein Differenzsignal "O" abgibt. Hierdurch wird die Achse der
Strahlen 3 geladener Teilchen auf die Mitte der Blende 6 in der Richtung der Segmente X1 und X1' ausgerichtet.
Ferner kann auch hinsichtlich der Richtung der Segmente Y1 und Y1· der Blende 6 das Ausrichten der Achse der
Strahlen 3 auf die Mitte'der Blende 6 auf die vorstehend
IQ beschriebene Weise automatisch vorgenommen werden, wobei
der Differenzverstärker ^6 und die Ablenksteuerschaltung
12 eingesetzt werden.
Es ist jedoch möglich, daß das Ausrichten der Achse der ί
Ladungsträgerteilcheh-Strahlen in Bezug auf die Mitte der Blende 6 mittels der Kombination der Blende 6 und der Ablenkvorrichtung 5 eine nachteilige Schräglage der Achse der Strahlen 3 verursacht, was aus der Fig. 3 ersichtlich ist. Aus diesem Grund ist bei dem Ausführungs-Beispiel ein weiterer Satz aus einer Lochblende und einer Ablenkvorrichtung vorgesehen, mit dem das Auftreten einer solchen Schräglage der Achse der Ladungsträgerteilchen-Strahlen verhindert wird. Im einzelnen ist für diesen Zweck unterhalb der ersten Blende 6 die zweite Blende 8 angebracht. Auf gleichartiger Weise wie die erste Blende 6 ist die zweite Blende 8 in vier fächerförmige Segmente X2, X21, Y2 und X2' aufgeteilt, die elektrisch voneinander isoliert sind. An die Segmente X2 bis Y21 der zweiten Blende 8 sind gleichermaßen wie bei der ersten Blende 6 vier Schwachstrom-Verstärker 15 angeschlossen. Ferner sind zwei Differenzverstärker 18 und 19 vorgesehen, die jeweils an entsprechende zwei der Schwachstrom-Verstärker 15 angeschlossen sind. Die Ausgangssignale der Differenz-Verstärker 18 und 19 werden jeweils einer Ablenkstrom-
Ladungsträgerteilcheh-Strahlen in Bezug auf die Mitte der Blende 6 mittels der Kombination der Blende 6 und der Ablenkvorrichtung 5 eine nachteilige Schräglage der Achse der Strahlen 3 verursacht, was aus der Fig. 3 ersichtlich ist. Aus diesem Grund ist bei dem Ausführungs-Beispiel ein weiterer Satz aus einer Lochblende und einer Ablenkvorrichtung vorgesehen, mit dem das Auftreten einer solchen Schräglage der Achse der Ladungsträgerteilchen-Strahlen verhindert wird. Im einzelnen ist für diesen Zweck unterhalb der ersten Blende 6 die zweite Blende 8 angebracht. Auf gleichartiger Weise wie die erste Blende 6 ist die zweite Blende 8 in vier fächerförmige Segmente X2, X21, Y2 und X2' aufgeteilt, die elektrisch voneinander isoliert sind. An die Segmente X2 bis Y21 der zweiten Blende 8 sind gleichermaßen wie bei der ersten Blende 6 vier Schwachstrom-Verstärker 15 angeschlossen. Ferner sind zwei Differenzverstärker 18 und 19 vorgesehen, die jeweils an entsprechende zwei der Schwachstrom-Verstärker 15 angeschlossen sind. Die Ausgangssignale der Differenz-Verstärker 18 und 19 werden jeweils einer Ablenkstrom-
3g bzw. Ablenksteuerschaltung 14 bzw. 13 zugeführt, wodurch
die Ablenkwirkung der zweiten Ablenkvorrichtung 7 gesteuert wird. Wie es am besten aus der Fig. 1 ersichtlich
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ist, wird die zweite Ablenkvorrichtung 7 Ln der Ebene der ersten Blende 6 oder in geringem Abstand zu dieser
angeordnet.
Mittels der Differenzverstärker 18 und 19 kann auf die gleiche Weise wie die bezüglich der ersten Blende 6
geschriebene die Lage der Achse der Strahlen 3 in Bezug auf die Mitte der zweiten Blende 8 erfaßt werden und
irgend eine durch die Schräglage der Achse der Strahlen 3 hervorgerufene Abweichung der Strahlen 3 auf der Ebene
der zweiten Blende 8 dadurch korrigiert werden, daß auf die vorstehend unter Bezugnahme auf die erste Ablenkvorrichtung
5 beschriebene Weise die Ablenkwirkung der zweiten Ablenkvorrichtung 7 gesteuert wird. Aus der Fig.
ist ersichtlich, daß auf diese Weise durch die Zusammenwirkung der zweiten Blende 8 und der zweiten Ablenkvorrichtung
7 die nach dem Durchlaufen der ersten Blende 6 auftretende Schräglage der Achse der Strahlen 3 aufgehoben
werden kann. Hierdurch wird die Achse der Ladungs-
trägerteilchen-Strahlen 3 vollkommen mit einer vorgegebenen
Achse der Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung ausgefluchtet. Infolgedessen ist gewährleistet, daß die
von der Strahlvorrichtung abgegebenen Strahlen 3 geladener Teilchen genau auf die Ziel- oder Sollstelle an der
Probe bzw. dem Werkstück 10 auftreffen (Fig. 1).
Die Erfindung wurde zwar anhand des Ausführungsbeispiels beschrieben, jedoch sind im Rahmen der Erfindung verschiedenerlei
Abwandlungen möglich. Während beispielsweise 30
bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel der Teil der
Vorrichtung mit den Blenden 6 und 8 und den Ablenkvorrichtungen 5 und 7 für das automatische Ausfluchten
zwischen der Elektronensammellinse 4 und dem Elektronenobjektiv 9 angeordnet ist, kann dieser Teil für das
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automatische Ausrichten stromauf der Elektronensammellinse 4 angeordnet werden. Mit dieser Anordnung ist ein
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Ausrichten der Ladungsträgerteilchen-Strahlen mit höherer Genauigkeit erreichbar.
Während ferner bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel Magnetfeld-Ablenkvorrichtungen verwendet sind, können im
wesentlichen gleiche Wirkungen auch bei der Verwendung elektrostatischer Ablenkvorrichtungen erzielt werden.
Ferner können für die Erfassung der Lage der Achse Strahlen geladener Teilchen zusätzlich zu den oder
anstelle der abgefangenen Elektronen unter Verwendung irgend einer geeigneten Detektoreinrichtung Sekundärelektronen
und/oder Reflexionselektronen erfaßt werden, die bei dem Auftrefren der Strahlen auf die Blende
erzeugt werden. Weiterhin kann bei der Gestaltung der erfindungsgemäßen Steuervorrichtung die Lage der Achse
der Strahlen geladener Teilchen von Hand entsprechend der mit der Blende erzielbaren Information eingestellt
werden.
Eine Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung zum Bestrahlen einer vorbestimmten Stelle eines Objekts
mit Strahlen geladener Teilchen hat für das Begrenzen der Strahlen geladener Teilchen aus einer Strahlenquelle
eine Blende, die in mehrere Segmente aufgeteilt ist, und ein Detektorsystem für das Ermitteln irgendeiner
Abweichung der Achse der Strahlen geladener Teilchen aus elektrischen Strömen, die durch das Auftreffen
von Strahlen geladener Teilchen auf die Segmente der Blende von diesen abgegeben werden.
Claims (17)
- Patentansprüche/li Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung, gekennzeichnet durch eine Strahlenquelle (1) zum Erzeugen von Strahlen (3) geladener Teilchen, eine Lochblende (6) zum Begrenzen der von der Strahlenquelle abgegebenen Strahlen, wobei die Lochblende in gesonderte Segmente (X1, X1', Y1, Y1') aufgeteilt ist, und eine Detektoreinrichtung (15 - 17) zum Erfassen einer Abweichung der Achse der Strahlen durch elektrische Ströme , die durch das Auftreffen von Strahlen auf die Segmente der Lochblende erzeugt werden.
- 2. Strahlvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Detektoreinrichtung (15 - 17) mehrere Schwachstromverstärker (15), die jeweils den durch das Einströmen geladener Teilchen in ein entsprechendes der Segmente der Lochblende (6) hervorgerufenen elektrischen Strom verstärken, und mindestens einen Differenzverstärker (16, 17) aufweist, der die Ausgangssignale der Schwachstromverstärker vergleicht, um eine Differenz zwischen den Ausgangssignalen zu erfassen, wobei die Detektoreinrichtung die Abweichung der Achse der Strahlen (3) aus dem Ausgangssignal des Differenzverstärkers ermittelt.ORIGINAL INSPECTED-τ,α-e· Bank iMunrhen) KIo 3939 844Deulsche Bank (München) Kic 286 1060Postscheckamt (München) Kto. 670-43-3042 DE 5589
- 3. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung, gekennzeichnet durch eine Strahlenquelle (1) zum Erzeugen von Strahlen (3) geladener Teilchen, eine Lochblende (6) zum Begrenzender von der Strahlenquelle abgegebenen Strahlen, wobei die 5Lochblende elektrisch in gesonderte Segmente aufgeteilt ist, eine Detektoreinrichtung (11, 12, 15 - 17) zum Erfassen einer Abweichung der Achse der Strahlen durch elektrische Ströme,,, die durch das Auf treffen vonStrahlen auf die Segmente der Lochblende erzeugt werden, 10und eine Ablenkvorrichtung (5) zum Ablenken der von der Strahlenquelle abgegebenen Strahlen entsprechend einem Ausgangssignal der Detektoreinrichtung in der Weise, daß dadurch die Abweichung der Achse der Strahlen automatischkorrigiert wird.
15 - 4. Strahlvorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Detektoreinrichtung (11, 12, 15 - 17) mehrere Schwachstromverstärker (15), die jeweils den durch das Einströmen geladener Teilchen in ein entsprechendes derSegmente der Lochblende (6) erzeugten elektrischen Strom verstärken, mindestens einen Differenzverstärker (16, 17), der die Ausgangssignale der Schwachstromverstärker vergleicht, um eine Differenz zwischen den AusgangsSignalenzu erfassen, und mindestens eine Ablenksteuerschaltung 25(11, 12) aufweist, die die Ablenkvorrichtung (5) derart steuert, daß das von dem Differenzverstärker abgegebene Ausgangssignal zu "0" wird.
- 5. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung, gekennzeichnetdurch eine Strahlenquelle (1) zum Erzeugen von Strahlen(3) geladener Teilchen, mindestens zwei Lochblenden (6, 8)r die zum Begrenzen der Strahlen aus der Strahlenquelle jeweils an einer in Bezug auf den Weg der Strahlen aus der Strahlenquelle stromauf bzw. stromab gelegenen Stelle angebracht sind, wobei jede der Lochblenden elektrisch in gesonderte Segmente aufgeteilt ist, eine Detektoreinrichtung (11 - 19) zum Erfassen einer Abweichung der Achse3 DE 5589der Strahlen aus elektrischen Strömen, die durch das Auftreffen von Strahlen auf die Segmente der beiden Lochblenden erzeugt werden, und eine Ablenkvorrichtung (5, 7)zum Ablenken der Strahlen entsprechend Ausgangssignalen 5der Detektoreinrichtung.
- 6. Strahlvorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Detektoreinrdchtung (11 - 19) mehrere Schwachstromverstärker (15), die jeweils den durch das Einströmen geladener Teilchen in ein entsprechendes der Segmente der Lochblenden (6,8) hervorgerufenen elektrischen Strom verstärken, Differenzverstärker ( 16 - 19), die die Ausgangssignale der Schwachstromverstärker vergleichen, um eineDifferenz zwischen den Ausgangssignalen zu erfassen, und 15Ablenksteuerschaltungen (11 - 14) aufweist, die die Ablenkvorrichtungen (5, 7) derart steuern, daß das von einem jeweiligen Differenzverstärker abgegebene Ausgangssignal zu "0" wird.
- 7-· Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung, gekennzeichnet durch eine Strahlenquelle (1) zum Erzeugen von Strahlen (3) geladener Teilchen, eine Begrenzungsvorrichtung (6, 8) zum Begrenzen der von der Strahlenquelle abgegebenenStrahlen, eine Detektoreinrichtung (15 - 19) zum Aufnehmen 25einer Lageinformation über die Lage der Achse der Strahlen mittels eines Teils der Strahlen, der auf die Begrenzungsvorrichtung fällt, und eine Einstelleinrichtung (5, 7, 11 - 14) zum Einstellen der Lage der Achse der Strahlengemäß der mittels der Detektoreinrichtung aufgenommenen 30Lageinformation.
- 8. Strahlvorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Begrenzungsvorrichtung (6, 8) mehrere Lochblenden aufweist.
354 DE 5589 - 9. Strahlvorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurchgekennzeichnet, daß die Einstelleinrichtung (5, 7, 11 - 14) eine Ablenkvorrichtung (5, 7) zum Ablenken der Strahlen (3) aus der Strahlenquelle (1) aufweist.
- 10. Strahlvorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Detektoreinrichtung(15 - 19) eine Einrichtung (15) zum Erfassen elektrischer .Q Ströme aufweist, die dadurch erzeugt werden, daß geladene Teilchen von der Begrenzungsvorrichtung (6, 8) abgefangen werden.
- 11. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung, gekennzeich-1(-net durch eine Strahlenquelle (1) zum Erzeugen von Strahlen(3) geladener Teilchen und mehrere Abweichungsdetektoreinrichtungen (6, 8, 15 - 19), die in Bezug auf den Weg der Strahlen aus der Strahlenquelle jeweils an einer stromauf gelegenen und einer stromab gelegenen Stelle on angeordnet sind und mit denen jeweils eine Lageabweichung der Achse der Strahlen in Bezug auf die Abweichungsdetektoreinrichtung erfassbar ist.
- 12. Strahlvorrichtung nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch eine auf die Ablenkungsdetektoreinrichtung (6, 8/ 15-19) ansprechende Korrektureinrichtung (5, 7, 11 - 14) zum Korrigieren der mittels der Abweichungsdetektoreinrichtung erfaßten Lageabweichung der Achse der Strahlen (3).
- 13. Strahlvorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Korrektureinrichtung (5, 7, 11 - 14) eine Ablenkvorrichtung (5, 7) zum Ablenken der Strahlen (3) aus der Strahlenquelle (1) aufweist.5 DE 5589
- 14. Strahlvorrichtung nach Anspruch 12 oder 13, dadurchgekennzeichnet, daß die Korrektureinrichtung (5, 7, 11 14) mehrere Arbeitselemente aufweist, die in Verbindung mit den mehreren Abweichungsdetektoreinrichtungen (6, 8, 15 - 19) jeweils zum Korrigieren der Abweichung der Strahlen (3) aus der Strahlenquelle (1) betreibbar sind.
- 15. Verfahren zum Steuern der Lage von aus einer LadungsjQ trägerteilchen-Strahlenquelle abgegebenen Strahlen geladener Teilchen, dadurch gekennzeichnet, daß aus dem Auftreffen von Strahlen auf eine Lochblendenvorrichtung für das Begrenzen der Strahlen ',eine Lage information über die Lage der Achse der Strahlen gewonnen wird und daß entsprechendjg der erhaltenen Lageinformation die Lage der Achse der Strahlen eingestellt wird.
- 16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Lageinformation über die Lage der Achse der2Q fetrahlen aus dem Auftreffen von Strahlen auf jede von mehreren Lochblenden gewonnen wird, die an in der zu dem Weg der Strahlen aus der Strahlenquelle parallelen Richtung voneinander verschiedenen Stellen angeordnet werden.
- 17. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Lageinformation über die Lage der Achse der Strahlen aus dem Auftreffen von Strahlen auf eine Vielzahl von Segmenten der Lochblendenvorrichtung gewonnenο« werden, die in einer im wesentlichen zu dem Weg der Strahlen aus der Quelle senkrechten Ebene angeordnet werden.
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ID=12276630
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Country | Link |
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