DE3605129C2 - Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung - Google Patents
Ladungsträgerteilchen-StrahlvorrichtungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Ladungsträgerteilchen-
Strahlvorrichtung.
Die DE-PS 9 57 421 beschreibt eine Einrichtung bei Korpusku
larstrahl-Apparaten insbesondere bei Elektronenmikroskopen,
zum Justieren des Strahlerzeugungssystems. Dabei wird dort
ein von einer Ladungsträgerteilchenquelle erzeugtes Ladungs
trägerteilchenstrahlenbündel mittels zweier Ablenkeinheiten
justiert. Die Justage erfolgt dort dann, wenn eine derartige
Abweichung auftritt, daß das Ladungsträgerteilchenstrahlen
bündel teilweise auf einen zwischen den Ablenkeinheiten ange
ordneten Kontrolleuchtschirm
oder auf einen in Strahlrichtung gesehen
nach dem zweiten Ablenksystem angeordneten Leuchtschirm
trifft. Dabei weisen beide Leuchtschirme Durch
trittsöffnungen auf, so daß das Strahlenbündel bei einer
Normalausrichtung die Leuchtschirme ungehindert passieren
kann.
Den Patent Abstracts of Japan E-12, Bd. 4, 24. Mai 1980, Nr.
71, 55-39 111 (A), ist eine in vier Segmente unter
teilte Lochblende zur Achsenausrichtung eines Elektronen
strahls zu entnehmen.
Aus der FR-PS 1,374,702 ist eine Ladungsträgerteilchen-
Strahlvorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1
bekannt. Genauer ist dort eine Ladungsträgerteilchen-Strahl
vorrichtung beschrieben, die eine Ladungsträgerteilchenquelle
zum Erzeugen eines Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels auf
weist. Weiter ist an einer ersten Stelle ein erster Abwei
chungssensor angeordnet, der eine Öffnung zum Hindurchtreten
des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels aufweist und mit dem
eine Abweichung des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels von
einer gewünschten Hauptstrahlachse an der ersten Stelle fest
stellbar ist. Das Ladungsträgerteilchenstrahlenbündel kann
mit einer ersten Ablenkeinheit abgelenkt und derart die an
der ersten Stelle erfaßte Abweichung des Ladungsträgerteil
chenstrahlenbündels von der gewünschten Hauptstrahlachse kor
rigiert werden.
Zudem ist an einer zweiten Stelle ein zweiter Abweichungssen
sor angeordnet, der ebenfalls eine Öffnung zum Hindurchtreten
des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels aufweist und mit dem
eine Abweichung des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels von
der gewünschten Hauptstrahlachse an der zweiten Stelle fest
stellbar ist. Dabei ist der zweite Abweichungssensor gegen
über dem ersten Abweichungssensor hinsichtlich der Ausbrei
tungsrichtung des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels strom
ab angeordnet. Dem zugehörig ist eine zweite Ablenkeinheit,
mit der das Ladungsträgerteilchenstrahlenbündel derart ab
lenkbar ist, daß die an der zweiten Stelle erfaßte Abweichung
des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels von der gewünschten
Hauptstrahlachse korrigierbar ist.
Bei dem vorstehend aufgeführten Stand der Technik passiert
das Ladungsträgerteilchenstrahlenbündel die Abweichungssenso
ren vollständig und trifft lediglich bei einer Abweichung von
einer gewünschten Hauptstrahlachse teilweise auf die Abwei
chungssensoren auf. Dazu muß bei der Anordnung der Sensoren
in dem betreffenden Gerät sehr sorgfältig vorgegangen werden.
Zudem wird eine nur geringe Abweichung des Ladungsträgerteil
chenstrahlenbündels aufgrund der Herstellungstoleranzen bei
der Fertigung der Abweichungssensoren nicht sicher erkannt und
korrigiert.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Ladungsträgerteil
chen-Strahlvorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Pa
tentanspruchs 1 derart weiterzubilden, daß eine sehr präzise
Ausrichtung des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels ermög
licht ist.
Diese Aufgabe wird durch die im kennzeichnenden Teil des
Patentanspruchs 1 angegebenen Maßnahmen gelöst.
Genauer wird dadurch, daß die Öffnungen der Abweichungssenso
ren derart dimensioniert sind, daß sie jeweils nur von einem
Teil des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels passiert werden
können, das Ladungsträgerteilchenstrahlenbündel immer zur
Auswertung einer möglichen Abweichung herangezogen. Somit
wird mittels des auf die Abweichungssensoren auftreffenden
Teils des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels die Abweichung
des die Abweichungssensoren passierenden Teils des Ladungs
trägerteilchenstrahlenbündels von der gewünschten Haupt
strahlachse sicher bestimmt.
Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der Unteransprü
che.
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines Ausführungsbeispiels
unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher beschrieben. Es
zeigen:
Fig. 1 eine schematische Ansicht, die einen
Teil einer Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung
gemäß einem Ausführungsbeispiel zeigt,
Fig. 2 eine schematische Teilansicht
der Strahlvorrichtung nach Fig. 1 und
Fig. 3 eine schematische Ansicht, die die Korrektur
einer Abweichung der Achse der Strahlen geladener
Teilchen veranschaulicht.
Zuerst wird auf Fig. 1 Bezug genommen, die schematisch ein
Ausführungsbeispiel
der erfindungsgemäßen Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung
zeigt.
Nach Fig. 1 wird von einer Ladungsträgerteilchenquelle
1, wie einem Glühdraht, ein Ladungsträgerteilchenstrahlenbündel 3 erzeugt, wobei die geladenen
Teilchen mittels einer Anode 2 beschleunigt und mittels
einer Sammellinse 4 für geladene
Teilchen gesammelt werden. Bei diesem Beispiel ist die Sammellinse
4 eine Magnetfeldlinse. In der
Fig. 1 sind mit 6 und 8 Abweichungssensoren bezeichnet, die durch nachstehend als Blenden bezeichnete
Lochblenden für das Begrenzen der Strahlen geladener
Teilchen gebildet sind. Bei diesem Ausführungsbeispiel besteht
jede der Blenden 6 und 8 aus elektrisch leitendem Material,
um damit irgendeine Abweichung des Strahlenbündels 3 zu erfassen,
was nachfolgend ausführlicher beschrieben wird. Mit 5
und 7 sind Ablenkeinheiten bezeichnet, die zum
Korrigieren einer Abweichung der Achse der Strahlen 3
dienen, was gleichfalls nachfolgend beschrieben wird.
Ein teilchenoptisches Objektiv 9 dient
zum Zusammenführen des Strahlenbündels 3 auf einen Punkt an
einem Werkstück bzw. einer Probe 10.
Die Fig. 2 ist eine ausführliche Darstellung eines zur
automatischen Achsenausrichtung dienenden Teils der
Strahlvorrichtung nach Fig. 1 und zeigt ausführlicher
die Blenden 6 und 8 sowie die Ablenkeinheiten 5 und 7.
Das von der Sammellinse 4 nach Fig. 1 gebündelte
Strahlenbündel 3 fällt teilweise auf die Blende
6, die bei diesem Ausführungsdbeispiel in vier fächerförmige
Segmente X1, X1′, Y1 und Y1′ aufgeteilt ist.
Diese fächerförmigen Segmente X1 bis Y1′ sind elektrisch
voneinander isoliert. Da die durch die fächerförmigen
Segmente X1 bis Y1′ gebildete Blende 6 aus einem
elektrisch leitenden Material besteht, fließt mindestens
der darauf auftreffende Teil der geladenen
Teilchen des Strahlenbündels 3 in die Segmente X1 bis Y1′ der
Blende 6, wodurch Ströme aus abgefangenen geladenen Teilchen
hervorgerufen werden. An die fächerförmigen Segmente
X1 bis Y1′ sind jeweils Schwachstromverstärker 15 angeschlossen. D. h.,
jeder der Verstärker 15 ist zum Verstärken eines sehr
schwachen elektrischen Stroms ausgebildet, der durch die
in das jeweils entsprechende der Segmente X1 bis Y1′
der Blende 6 einströmenden geladenen Teilchen, beispielsweise
Elektronen, hervorgerufen wird.
Es sind zudem zwei Differenzverstärker 16 und 17 vorgesehen,
von denen jeder an entsprechende zwei dieser Schwach
strom-Verstärker 15 angeschlossen ist und ein Differenz
signal erzeugt, das der Differenz zwischen den angelegten
Ausgangssignalen der beiden Schwachstrom-Verstärker 15
entspricht. Im einzelnen erzeugt bei diesem Ausführungs
beispiel der Differenzverstärker 16 ein Differenzsignal,
das der Differenz zwischen den elektrischen Strömen ent
spricht, welche durch die in die fächerförmigen Segmente
Y1 und Y1′ einfließenden geladenen Teilchen hervorgerufen
werden, während der Differenzverstärker 17 ein Differenz
signal erzeugt, das der Differenz zwischen den elektri
schen Strömen entspricht, die durch die in die fächer
förmigen Segmente X1 und X1′ einfließenden geladenen
Teilchen hervorgerufen werden. Die Differenzverstärker
16 und 17 sind jeweils mit einer
Ablenksteuerschaltung 12 bzw. 11 verbunden. Diese Ablenk
steuerschaltungen 12 und 11 steuern entsprechend den
jeweiligen Differenzsignalen aus dem Differenzverstärker
16 bzw. 17 die der Ablenkeinheit 5 zugeführten
Ströme, wodurch die Ablenkwirkung der Ablenkeinheit
5 so gesteuert wird, daß die aus den Differenzverstärkern
16 und 17 zugeführten Differenzsignale zu "0" werden.
Falls beispielsweise die auf die Blende 6 fallenden
geladenen Teilchen eine derartige Abweichung
haben, daß ein größerer Teil des Strahlenbündels 3 auf das
fächerförmige Segment X1 fällt, wird der elektrische Strom
aus den in das Segment X1 fließenden geladenen Teilchen
stärker als der durch die in das dem Segment X1 gegenübergesetzten
Segment X1′ strömenden geladenen Teilchen
erzeugte. Daher gibt der Differenzverstärker 17 beispielsweise
ein positives Differenzsignal ab, das der Differenz
zwischen den Strömen aus den Segmenten X1 und X1′ entspricht.
Entsprechend dem Differenzzsignal aus dem
Differenzverstärker 17 steuert die Ablenksteuerschaltung
11 den der Ablenkeinheit 5 zugeführten Strom und
damit die Ablenkwirkung der Ablenkeinheit 5 in der
Weise, daß das Strahlenbündel 3 stärker zu
dem Segment X1′ der Blende 6 als zu dem Segment X1 hin
in einem Ausmaß abgelenkt werden, bei dem die auf die
Segmente X1 und X1′ fallenden Mengen geladener Teilchen
gleich werden und dadurch der Differenzverstärker 17 ein
Differenzsignal "0" abgibt. Hierdurch wird die Achse des
Strahlenbündels 3 auf die Mitte der Blende 6
in der Richtung der Segmente X1 und X1′ ausgerichtet.
Ferner kann auch hinsichtlich der Richtung der Segmente
Y1 und Y1′ der Blende 6 das Ausrichten der Achse des
Strahlenbündels 3 auf die Mitte der Blende 6 auf die vorstehend
beschriebene Weise automatisch vorgenommen werden, wobei
der Diffrenzverstärker 16 und die Ablenksteuerschaltung
12 eingesetzt werden.
Es ist jedoch möglich, daß das Ausrichten der Achse des
Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels in Bezug auf die Mitte
der Blende 6 mittels der Kombination der Blende 6 und
der Ablenkeinheit 5 eine nachteilige Schräglage der
Achse des Strahlenbündels 3 verursacht, was aus der Fig. 3
ersichtlich ist. Aus diesem Grund ist bei dem Ausführungsbeispiel
ein weiterer Satz aus einem Abweichungssensor bzw. einer Lochblende und einer
Ablenkeinheit vorgesehen, mit dem das Auftreten einer
solchen Schräglage der Achse des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels
verhindert wird. Im einzelnen ist für diesen
Zweck unterhalb der ersten Blende 6 die zweite Blende 8
angebracht. Auf gleichartiger Weise wie die erste Blende
6 ist die zweite Blende 8 in vier fächerförmige Segmente
X2, X2′, Y2 und X2′ aufgeteilt, die elektrisch voneinander
isoliert sind. An die Segmente X2 bis Y2′ der zweiten
Blende 8 sind gleichermaßen wie bei der ersten Blende 6
vier Schwachstrom-Verstärker 15 angeschlossen. Ferner
sind zwei Differenzverstärker 18 und 19 vorgesehen, die
jeweils an entsprechende zwei der Schwachstrom-Verstärker
15 angeschlossen sind. Die Ausgangssignale der Differenz-
Verstärker 18 und 19 werden jeweils einer
Ablenksteuerschaltung 14 bzw. 13 zugeführt, wodurch
die Ablenkwirkung der zweiten Ablenkeinheit 7 ge
steuert wird. Wie es am besten aus der Fig. 1 ersichtlich
ist, wird die zweite Ablenkeinheit 7 in der Ebene
der ersten Blende 6 oder in geringem Abstand zu dieser
angeordnet.
Mittels der Differenzverstärker 18 und 19 kann auf die
gleiche Weise wie die bezüglich der ersten Blende 6
beschriebene die Lage der Achse des Strahlenbündels 3 in Bezug
auf die Mitte der zweiten Blende 8 erfaßt werden und
irgendeine durch die Schräglage der Achse des Strahlenbündels 3 auf der Ebene
der zweiten Blende 8 dadurch korrigiert werden, daß
auf die vorstehend unter Bezugnahme auf die erste Ablenkeinheit
5 beschriebene Weise die Ablenkwirkung der
zweiten Ablenkeinheit 7 gesteuert wird. Aus der Fig. 3
ist ersichtlich, daß auf diese Weise durch die Zusammenwirkung
der zweiten Blende 8 und der zweiten Ablenkeinheit
7 die nach dem Durchlaufen der ersten Blende 6
auftretende Schräglage der Achse des Strahlenbündels 3 aufgehoben
werden kann. Hierdurch wird die Achse des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels
3 vollkommen mit einer vorgegebenen
Achse der Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung
ausgefluchtet. Infolgedessen ist gewährleistet, daß die
von der Strahlvorrichtung abgegebenen Strahlen geladener
Teilchen genau auf die Ziel- oder Sollstelle an der
Probe bzw. dem Werkstück 10 auftreffen (Fig. 1).
Es sind verschiedenerlei Abwandlungen des beschriebenen Ausführungsbeispiels
möglich. Während beispielsweise
bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel der Teil der
Vorrichtung mit den Blenden 6 und 8 und den Ablenkeinheiten
5 und 7 für das automatische Ausfluchten
zwischen der Sammellinse 4 und dem
Objektiv 9 angeordnet ist, kann dieser Teil für das
automatische Ausrichten stromauf der Sammellinse
4 angeordnet werden. Mit dieser Anordnung ist ein
Ausrichten der Ladungsträgerteilchen-Strahlen mit
höherer Genauigkeit erreichbar.
Während ferner bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel
Magnetlinsen verwendet sind, können im
wesentlichen gleiche Wirkungen auch bei der Verwendung
elektrostatischer Linsen erzielt werden.
Ferner können für die Erfassung der Lage der Achse
Strahlen geladener Teilchen zusätzlich zu den oder
anstelle der abgefangenen geladenen Teilchen unter Verwendung
irgendeiner geeigneten Detektoreinrichtung Sekundärelektronen
und/oder Reflexionselektronen erfaßt werden,
die bei dem Auftreffen der Strahlen auf die Blende
erzeugt werden. Weiterhin kann
die Lage der Achse
des Strahlenbündels von Hand entsprechend
der mit der Blende erzielbaren Information eingestellt
werden.
Claims (10)
1. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung mit
- a) einer Ladungsträgerteilchenquelle (1) zum Erzeugen eines Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3),
- b) einem, an einer ersten Stelle angeordneten, ersten Abwei chungssensor (6), der eine Öffnung zum Hindurchtreten des La dungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) aufweist und mit dem eine Abweichung des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) von einer gewünschten Hauptstrahlachse an der ersten Stelle feststellbar ist,
- c) einer ersten Ablenkeinheit (5), mit der das Ladungsträger teilchenstrahlenbündel (3) derart ablenkbar ist, daß die an der ersten Stelle erfaßte Abweichung des Ladungsträgerteil chenstrahlenbündels (3) von der gewünschten Hauptstrahlachse korrigierbar ist,
- d) einem, an einer zweiten Stelle angeordneten, zweiten Ab weichungssensor (8), der eine Öffnung zum Hindurchtreten des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) aufweist und mit dem eine Abweichung des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) von der gewünschten Hauptstrahlachse an der zweiten Stelle feststellbar ist, wobei der zweite Abweichungssensor (8) ge genüber dem ersten Abweichungssensor (6) hinsichtlich der Ausbreitungsrichtung des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) stromab angeordnet ist, und
- e) einer zweiten Ablenkeinheit (7), mit der das Ladungsträ gerteilchenstrahlenbündel (3) derart ablenkbar ist, daß die an der zweiten Stelle erfaßte Abweichung des Ladungsträger teilchenstrahlenbündels (3) von der gewünschten Haupt strahlachse korrigierbar ist,
dadurch gekennzeichnet,
- f) daß die Öffnungen der Abweichungssensoren (6, 8) derart dimensioniert sind, daß sie jeweils nur von einem Teil des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) passiert werden kön nen, und
- g) daß mittels des auf die Abweichungssensoren (6, 8) auf treffenden Teils des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) die Abweichung des die Abweichungssensoren (6, 8) passieren den Teils des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) von der gewünschten Hauptstrahlachse bestimmbar ist.
2. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Abweichungssensoren durch
Lochblenden (6, 8) gebildet sind.
3. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Lochblenden (6, 8) aus mehre
ren, gegeneinander elektrisch isolierten Segmenten (X₁, X₁′,
X₂, X₂′, Y₁, Y₁′, Y₂, Y₂′) gebildet sind.
4. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die Segmente (X₁, X₁′, X₂, X₂′,
Y1, Y₁′, Y₂, Y₂′) fächerförmig ausgebildet sind.
5. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung nach Anspruch 3
oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Segmente (X₁, X₁′,
X₂, X₂′, Y₁, Y₁′, Y₂, Y₂′) gleich groß sind.
6. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung nach einem der An
sprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Lochblenden
(6, 8) vier Segmente (X₁, X₁′, X₂, X₂′, Y₁, Y₁′, Y₂, Y₂′)
aufweisen.
7. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung nach einem der An
sprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß mittels Schwach
stromverstärkern (15) jeweils der durch das Auftreffen eines
Teils des Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) auf eines
der Segmente (X₁, X₁′, X₂, X₂′, Y₁, Y₁′, Y₂, Y₂′) hervorgeru
fene elektrische Strom verstärkt wird.
8. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß mittels Differenzverstärkern (16,
17, 18, 19) das Ausgangssignal jeweils zweier, zueinander
korrespondierender Schwachstromverstärker (15) verglichen und
zur Korrektur der Abweichung des Ladungsträgerteilchenstrah
lenbündels (3) von der gewünschten Hauptstrahlachse verwendet
wird.
9. Ladungsträgerteilchen-Strahlvorrichtung nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Korrektur der Abweichung des
Ladungsträgerteilchenstrahlenbündels (3) von der gewünschten
Hauptstrahlachse derart erfolgt, daß das Ausgangssignal der
jeweiligen Differenzverstärker (16, 17, 18, 19) zu Null wird.
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-
1986
- 1986-02-18 DE DE3605129A patent/DE3605129C2/de not_active Expired - Lifetime
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1988
- 1988-03-16 US US07/170,052 patent/US4939371A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3605129A1 (de) | 1986-08-21 |
JPS61190839A (ja) | 1986-08-25 |
US4939371A (en) | 1990-07-03 |
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