DE3485757T2 - Supraleitende anordnung. - Google Patents

Supraleitende anordnung.

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DE3485757T2 DE8484308307T DE3485757T DE3485757T2 DE 3485757 T2 DE3485757 T2 DE 3485757T2 DE 8484308307 T DE8484308307 T DE 8484308307T DE 3485757 T DE3485757 T DE 3485757T DE 3485757 T2 DE3485757 T2 DE 3485757T2
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    • H10N60/128Junction-based devices having three or more electrodes, e.g. transistor-like structures

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine supraleitende Anordnung, insbesondere eine supraleitende Anordnung, worin Slgnalverstärkungseffekte und Schaltoperationen ähnlich jenen eines Halbleitertransistors erzielt werden können.
  • Typische elektronische Anordnungen, welche Supraleitfähigkeit ausnützen, sind Kryotrone und Anordnungen, die den Josephson-Tunneleffekt ausnützen. In Kryotronen kann die supraleitende Lücke Δ eines dünnen Films beseitigt werden, indem ein Strom, der größer ist als der kritische Strom, durch die Schicht hindurchgeschickt wird, indem ein externes Magnetfeld darauf angelegt wird, indem der Film erhitzt wird, oder indem auf andere Weise der supraleitende Zustand des Films gebrochen wird. Kryotrone leiden jedoch unter einer langsamen Schaltgeschwindigkeit, zum Beispiel einige wenige usec, so daß sie nicht in kommerzielle Verwendung getreten sind.
  • In Anordnungen, die den Josephson-Tunneleffekt ausnützen, wird ein Strom von Null Volt zwischen zwei Supraleitern geleitet, die durch eine extrem dünne Tunnelschwelle voneinander isoliert sind, indem Strom den Supraleitern zugeleitet und an sie ein externes Magnetfeld angelegt wird. Anordnungen, die den Josephson-Tunneleffekt ausnützen (unten "Josephson-Anordnungen"), können mit einer hohen Geschwindigkeit betrieben werden, und so wurden Studien über eine mögliche Anwendung derselben auf Schaltelemente durchgeführt. Mit Josephson-Anordnungen macht es die Schaltkomplexität jedoch äußerst schwierig, Schaltungen mit einem hohen Signalverstärkungsfaktor und getrennte Eingangs- und Ausgangscharakteristiken der Halbleitertransistorschaltungen zu bilden. Somit ist die Realisierung komplexer Schaltanordnungen großen Umfanges mit Josephson-Anordnungen schwieriger als mit Halbleitertransistoren.
  • Bekannte supraleitende Anordnungen, die Signalverstärkungseffekte und Schaltoperationen ähnlich jener von Transistoren realisieren, schließen den supraleitenden Transistor von Gray (Zitat folgend: zum Beispiel Gray, Appl. Phys. Lett. Band 32, No. 6, S. 392 bis 395) und das Quiteron von Faris (Zitat folgend: Ungeprüfte Japanische Patentveröffentlichung (Kokai) No. 57- 12575, korrespondierend zur USP No. 4334158) ein.
  • Die supraleitenden Anordnungen von Gray und Faris sind in der Struktur grundlegend gleich, das heißt, sie bestehen aus drei Schichten:- einem supraleitenden, dünnen Film und zwei Tunnelübergängen, die auf und unter dem supraleitenden, dünnen Film vorgesehen sind. Einer der Tunnelübergänge wird verwendet, um Quasi-Partikel in den supraleitenden, dünnen Film zu injizieren, und der andere wird verwendet, ein Ausgangssignal zu erhalten.
  • Die Anordnungen von Gray und Faris weisen jedoch kleine Verstärkungsfaktoren auf. Zum Beispiel zeigen veröffentlichte Experimente, daß für den Transistor von Gray eine Stromverstärkung von ungefähr 4 und eine Leistungsverstärkung von ungefähr 1 kennzeichnend sind, und daß für ein Quiteron eine Stromverstärkung von ungefähr 8 und eine Leistungsverstärkung von ungefähr 2 kennzeichnend sind. Weiters war in diesen Experimenten die Signalspannung in jedem Fall unvorteilhafterweise abgeschwächt.
  • Weiters sind für den Gray-Transistor und das Faris-Quiteron beträchtlich lange Schaltzeiten kennzeichnend, zum Beispiel 300 psec im einem Fall des Quiterons. Die Schaltzeit hängt von der Zeit ab, während der der über-besetzte Zustand der Quasi- Partikel, die durch Injektion der Quasi-Partikel erzeugt wird, relaxiert wird.
  • Eine nützliche Verbesserung würde im Beseitigen der obigen Nachteile des Standes der Technik liegen und im Vorsehen einer supraleitenden Anordnung, die einen vergleichweise großen Signalverstärkungsfaktor und eine hohe Schaltgeschwindigkeit aufweist.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine Supraleiteranordnung vorgesehen, umfassend eine Basiszone aus einem Supraleitermaterial, welche sich zwischen und in Kontakt mit einer Emitterzone zum Injizieren von Elektronen im Quasi- Partikel-Zustand in die genannte Basiszone und einem Halbleiterteil einer Kollektorzone zum Einfangen von Elektronen im Quasi-Partikel-Zustand aus der genannten Basiszone, befindet, wobei die Materialien der genannten Basiszone und des genannten Halbleiterteils der genannten Kollektorzone so beschaffen sind, daß, wenn die Anordnung in Verwendung und die genannte Basiszone in supraleitendem Zustand ist, an einem Übergang zwischen der genannten Basiszone und dem genannten Halbleiterteil der genannten Kollektorzone eine Energieschwelle von einer solchen Höhe existiert, daß Elektronen im Quasi-Partikel-Zustand frei über diese Schwelle von der genannten Basiszone zum genannten Halbleiterteil der Kollektorzone passieren können, wogegen die Passage von Cooper-Paaren von der Basiszone zum genannten Halbleiterteil der Kollektorzone dadurch im wesentlichen vollständig verhindert wird.
  • Beispielhaft wird auf die beigefügten Zeichungen Bezug genommen, in denen:-
  • Figur 1 ein Energiediagramm ist, zur Verwendung beim Erklären des Operationsprinzips eines Teils einer Supraleiteranordnung, die die vorliegende Erfindung verkörpert;
  • Figs. 2A, 2B, 2C und 2D Diagramme sind, zur Verwendung beim Erklären des Operationsprinzips von Supraleiteranordnungen, die die vorliegende Erfindung verkörpern;
  • Fig. 3 ein Energiediagramm ist, zur Verwendung beim Verstehen der Struktur einer modifizierten Supraleiteranordnung, die die vorliegende Erfindung verkörpert;
  • Fig. 4 eine Querschnittsansicht einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; und
  • Fig. 5 eine Querschnittsansicht einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • Bevor die bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung erklärt werden, wird der Hintergrund der vorliegenden Erfindung detaillierter erklärt.
  • Der Gray'sche Transistor und das Quiteron verwenden einen Tunnelübergang mit einem Isolator als Schwellenschicht an einem Teil, der der Quasi-Partikel-Kollektorzone in einer Anordnung entspricht, die die vorliegende Erfindung verkörpert. Wenn Quasi-Partikel an einen solchen Tunnelübergang emittiert werden, ist die Wahrscheinlichkeit der Übertragung der Quasi-Partikel durch die Schwelle aufgrund des Tunneleffektes im allgemeinen klein, zum Beispiel ungefähr 10&supmin;&sup5; bis 10&supmin;¹&sup0;. Um daher im wesentlichen den gleichen Pegel an Quasi-Partikel-Strom zu erreichen, der in der Schwelle an der Ausgangsseite als der von einer injizierenden Elektrode injizierte Quasi-Partikel-Strom fließt, muß die Anzahl der Quasi-Partikel, die auf den Tunnelübergang pro Zeiteinheit einfallen, das 10&sup5; - bis 10¹&sup0; - Fache der Anzahl der pro Zeiteinheit injizierten Quasi-Partikel sein. Um die Anzahl der einfallenden Quasi-Partikel zu erhöhen, kann die Quasi-Partikel-Dichte im Supraleiter erhöht werden. So sind sowohl der Gray'sche supraleitende Transistor als auch das Quiteron konstruiert worden, um die Dichte an Quasi-Partikeln im Supraleiter durch den injizierenden Strom so viel wie möglich zu erhöhen.
  • Der Gray'sche supraleitende Transistor verwendet Aluminium, in welchem die Relaxationszeit der Quasi-Partikel lang ist. Auch der Quasi-Partikel-Multiplikationseffekt wird ausgenützt, in welchem, wenn hochenergetische Quasi-Partikel injiziert werden, ein Quasi-Partikel eine Mehrzahl von Quasi-Partikeln anregt, wobei so die Quasi-Partikel-Dichte erhöht wird. In einem derartigen Fall übersteigt der Verstärkungsfaktor des Ausgangsstroms gegen den Eingangsstrom niemals den Verstärkungsfaktor der Quasi-Partikel. Auch der Effekt bei einer Änderung der Energielücke ist sehr klein, und so ist der Multiplikationsfaktor der Quasi-Partikel kleiner als das Verhältnis der Eingangsspannung zur Energielückenspannung. Um nämlich den Strommultiplikationsfaktor zu erhalten, muß eine Vorspannung angelegt werden, die das Zwei- bis Dreifache oder mehr der Lückenspannung ist.
  • Andererseits, da die als Last zu verwendende Spannung kleiner ist als die Lückenspannung, kann der Ausgang des Gray'schen Transistors nicht andere Anordnungen treiben.
  • Das Quiteron nützt die Reduktion der Energielücke durch die Injektion der Quasipartikel aus. Die Anwendung der Änderung der Energielücke ermöglicht ein wirksames Erreichen eines großen Quasi-Partikel-Multiplikatorfaktors. Für das Quiteron ist somit ein größerer Stromverstärkungsfaktor kennzeichnend, als für den Gray'schen Transistor.
  • In diesem Fall, wie in der Japanischen Ungeprüften Patentveröffentlichung (Kokai) No. 57-12575 beschrieben, muß die Quasi- Partikel-Energie hoch sein, um die Energielücke wirksam zu ändern. Das bedeutet, daß eine hohe Eingangshilfsspannung erforderlich ist, wie im Gray'schen Transistor. Umgekehrt ist die Ausgangsspannung im Quiteron im wesentlichen die gleiche, wie die Energielückenspannung, daher ist auch schwierig, mit dem Quiteron andere Anordnungen zu treiben.
  • Weiter gibt es im Quiteron und im Gray'schen Transistor, bei denen ein Tunnelübergang als ein Übergang für einen Ausgang verwendet wird, das Problem, daß die Operationsgeschwindigkeit von der Rekombinationszeit der Quasi-Partikel bestimmt wird. Das Problem leitet sich von der Tatsache ab, daß, da die tatsächliche Wahrscheinlichkeit der Quasi-Partikelübertragung im Tunnelübergang äußerst gering ist, die Relaxationsgeschwindigkeit der Quasi-Partikeldichte im Supraleiter im wesentlichen die gleiche wird, wie die Rekombinationszeit der Quasi-Partikel. Die echte Rekombinationszeit der Quasi-Partikel beträgt gewöhnlich einige wenige hundert psec oder mehr.
  • Andererseits besitzen Supraleiteranordnungen, die die vorliegende Erfindung verkörpern, eine Zone, die wir als einen "Quasi-Partikel-Kollektorübergang" bezeichnen. Die Einfangwahrscheinlichkeit dieses Übergangs, das heißt die Übertragungswahrscheinlichkeit der Quasi-Partikel, ist größer, verglichen mit dem Tunnelübergang. In der Praxis wird eine Einfangwahrscheinlichkeit von 10&supmin;³ oder höher benötigt. Die Übertragungswahrscheinlichkeit des Quasi-Partikel-Kollektorübergangs beträgt idealerweise das 1 -, 10&sup5; - bis 10&sup7; - Fache jener eines Tunnelübergangs. Der Quasi-Partikel-Kollektorübergang der vorliegenden Erfindung besitzt nicht nur eine hohe Quasi-Partikel-Übertragungswahrscheinlichkeit. Falls nur eine hohe Übertragungswahrscheinlichkeit gefordert wäre, könnte ein Tunnelübergang mit einer äußerst dünnen Dicke der Schwelle verwendet werden. Falls jedoch eine Vorspannung an einen solchen Tunnelübergang angelegt wäre, würden nicht nur die Quasi-Partikel im Supraleiter aus dem Tunnelübergang entkommen, sondern es würde auch ein großer Betrag an Quasi-Partikel-Strom in den Supraleiter fließen. Der Quasi- Partikel-Strom existiert ohne Rücksicht auf die Quasi-Partikel- Injektion von der Elektrode für die Injektion der Quasi-Partikel. Weiters wird in einem Tunnelübergang mit einer hohen Übertragungswahrscheinlichkeit ein äußerst großer Quasi-Partikel- Strom von einer kleinen Spannung erzeugt. In einer Anordnung, welche eine dünne Tunnelschwelle als einen Übergang für einen Ausgang besitzt, kann daher das Ausgangssignal nicht durch das Inputsignal gesteuert werden.
  • Ein anderes Merkmal des Quasi-Partikel-Kollektorübergangs in der vorliegenden Erfindung besteht darin, daß beinahe keine Quasi-Partikel-Injektion vom Kollektorübergang in den Supraleiter unter gewöhnlichen Vorspannungsbedingungen ausgeführt wird. Dieses Merkmal erlaubt dem Quasi-Partikel-Übergang der vorliegenden Erfindung im wesentlichen gleich zu funktionieren wie der Kollektorübergang eines bipolaren Halbleitertransistors. Quasi-Partikel, die aus einem Kontaktteil für Quasi-Partikel- Injektion, hiernach als ein Quasi-Partikel-Emitter bezeichnet, injiziert sind, laufen durch einen Supraleiter, hiernach als eine Basis bezeichnet, und den Quasi-Partikel-Kollektor, und fließen dann zu einer äußeren Elektrode. Diese Operation ist ähnlich jener eines bipolaren Halbleitertransistors. Da die Mobilität der Übertragungswahrscheinlichkeit eines Quasi-Partikel-Kollektors im Supraleiter der vorliegenden Erfindung hoch ist, wird die Betriebszeit der Anordnung nicht von der Rekombinationszeit der Quasi-Partikel limitiert. Der Grund ist, daß beinahe alle der injizierten Quasi-Partikel den Quasi-Partikel-Kollektorübergang nach einer sehr kurzen Zeit erreichen, um zu einer äußeren Elektrode zu fließen. Da sich ein Quasi-Partikel mit einer Geschwindigkeit der Größenordnung einer Fermi-Geschwindigkeit, ungefähr 10&sup6; m/sec, bewegt, werden nur ungefähr 0,1 psec benötigt, um durch die gewöhnliche Basisschicht mit einer Breite von 100 bis 200 nm zu laufen.
  • Das Merkmal der vorliegenden Erfindung beruht darauf, daß ein Halbleiter-Supraleiter-Kontakt mit einer niedrigen Schwellenhöhe, oder mit einem Tunnelübergang mit einer niedrigen Schwellenhöhe, als ein Quasi-Partikel-Kollektorübergang verwendet werden, welcher die Quasi-Partikel mit einer hohen Ausbeute einfängt.
  • Das Operationsprinzip einer Supraleiteranordnung, die einen solchen Quasi-Partikel-Kollektorübergang besitzt, wird nun mit Bezug auf Fig. 1 erklärt.
  • Wie in Fig. 1 gezeigt, ist eine Zone der Anordnung, die auf dem Supraleitermaterial gebildet ist, mit einer anderen Zone der Anordnung, die auf dem Supraleitermaterial gebildet ist, in Kontakt, und eine Energieschwelle mit der Höhe ψ, gemessen vom Fermi-Niveau, wird am Übergang zwischen den zwei Zonen gebildet. In diesem Fall wird eine Energielücke Δ statt ψ zur Einfachheit verwendet.
  • Nun wird eine positive Spannung, verglichen mit der Supraleiterzone, an den Quasi-Partikel-Kollektor, der von der Halbleiterzone gebildet wird, angelegt.
  • Der Prozeß, bei dem ein Elektron, welches in einem Quasi-Partikel-Zustand in der Supraleiterzone aufrechterhalten wird, über den Quasi-Partikel-Kollektorübergang zur Halbleiterzone übertragen wird, wird unten erklärt.
  • Dieses Elektron wird an einem Energieniveau höher als das Fermi-Niveau der Supraleiterzone durch E aufrechterhalten, wobei E die Anregungsenergie des Quasi-Partikels ist, die größer als die Energie Δ ist. Das Elektron fließt daher frei über die Schwelle in die Halbleiterzone. Andererseits wird in der Halbleiterzone ein elektrisches Feld aufrechterhalten, das in eine Richtung gerichtet ist, welche das Elektron aus dem Übergang zieht. Elektronen im Quasi-Partikel-Zustand, die auf den Kollektorübergang einfallen, werden so eingefangen und fließen zur Halbleiterzone hinaus.
  • Der Prozess, bei dem supraleitende Cooper-Paare in der supraleitenden Zone zerfallen, und die erhaltenen Elektronen, die im Quasi-Partikel-Zustand aufrechterhalten werden, in die Halbleiterzone übertragen werden, wird erklärt. Die in die Halbleiterzone übertragenen Elektronen werden durch E an einem Energieniveau gehalten, welches niedriger als die Fermi-Energie ist. Falls dieses Niveau im verbotenen Band liegt, oder falls die Höhe der Schwelle ausreichend größer als das Niveau ist, tritt ein derartiger Elektronenbewegungsprozeß nicht auf. Cooper-Paare, welche als sogenannte Majoritätsträger im Supraleiter existieren, tragen so zum Strom des Quasi-Partikel-Kollektor-übergangs nicht bei. Die Quasi-Partikel, die zum Strom des Quasi-Partikel- Kollektorübergangs beitragen, sind die Quasi-Partikel, die aus einer weiteren Zone, das heißt dem Quasi-Partikel-Emitterübergang, injiziert werden, und Quasi-Partikel, die durch Anregung durch Photonen im Halbleiter oder in der Basiszone der Anordnung erzeugt werden.
  • Das Operationsprinzip einer Halbleiteranordnung, welche einen Quasi-Partikel-Emitterübergang und einen Quasi-Partikel- Kollektorübergang besitzen, werden nun mit Bezug auf die Zeichnungen 2A bis 2D erklärt.
  • Wie in Fig. 2A gezeigt, wird eine dünne, supraleitende Basisschicht B, die zum Beispiel aus Nb besteht, zwischen einen Quasi-Partikel-Kollektorübergang und einen Quasi-Partikel- Emitterübergang eingebaut. Der Emitter, dargestellt mit E, und der Kollektor, dargestellt mit C, sind beide aus InSb gefertigt.
  • Wie in Fig. 2B dargestellt, wird am Quasi-Partikel-Emitter E eine negative Vorspannung VEB von ungefähr 1,5 bis 2 meV an der Seite des Halbleiters angelegt. Eine Kollektor-Basis-Spannung VCB beträgt ungefähr 4 meV. Beinahe alle Elektronen, die in den Quasi-Partikel-Zustand aus dem Quasi-Partikel-Emitter E injiziert werden, fließen in den Quasi-Partikel-Übergang, aber einige rekombinieren, um Cooper-Paare zu bilden, und fließen zur Basiselektrode aus (nicht gezeigt).
  • Falls der Quasi-Partikel-Emitterstrom mit IE ausgedrückt wird, kann daher der Quasi-Partikel-Kollektorstrom IC durch folgenden Ausdruck (1) dargestellt werden.
  • IC =αIE + Isat
  • worin α ein Stromtransferkoeffizient ist. Die Zeit, in der injizierte Quasi-Partikel in der Basiszone bleiben, bevor sie vom Quasi-Partikel-Kollektorübergang eingefangen werden, kann durch die Zeit bestimmt werden, in welcher die Quasi-Partikel in der Basiszone laufen. Diese Zeit wird als ungefähr 0,1 psec angenommen, wie oben erwähnt. Die Aufenthaltszeit in der Basiszone wird etwas erhöht durch Zerstreuung der Quasi-Partikel in der Basiszone, oder durch die Übertragungswahrscheinlichkeit des Quasi-Partikel-Kollektorübergangs, wenn dieser Faktor kleiner als 1 ist. Andererseits ist die Rekombinationszeit von Quasi- Partikeln zumindest einige hundert psec bis wenige nsec und damit zwei bis drei Größenordnungen größer als die Aufenthaltszeit in der Basiszone. Daraus folgt, daß angenommen wird, daß beinahe alle Quasi-Partikel in den Quasi-Partikel-Kollektor C ohne Rekombination fließen. Daher wird der Wert α beinahe 1.
  • Der obige Ausdruck (1) bedeutet, daß eine Supraleiteranordnung, die die vorliegende Erfindung verkörpert, ähnlich funktioniert, wie ein bipolarer Halbleitertransistor. Da α beinahe 1 ist, kann ein großer Stromverstärkungsfaktor durch ein Emitter-Masse-Schaltkreissystem erzielt werden.
  • Wie oben erklärt, benötigt eine Supraleiteranordnung, die die vorliegende Erfindung verkörpert, nicht notwendigerweise eine Änderung in der Energielücke für die Operation. Weiters ist die Zeit, in der die Quasi-Partikel in der Basiszone bleiben, sehr kurz, was eine Operation mit hoher Geschwindigkeit ermöglicht. Die Arbeitsspannung beträgt ein paar Millivolt, und die Leistung ist beträchtlich klein.
  • Die Schwellenhöhe ψ wird durch die Energielücke Δ vom Fermi-Niveau zur Einfachheit in den Fig. 1 und 2B gezeigt, aber die tatsächliche Lage der Schwellenhöhe wird in Fig. 2C gezeigt. Die Kurve L&sub1; in Fig. 1 und die Kurve L&sub3; in Fig. 2B entsprechen nämlich eigentlich der Kurve L&sub5; in Fig. 2C. In Fig. 2C ist die Schwellenhöhe definiert als die Höhe vom Fermi-Niveau zum Teil A, dem höchsten Teil der Kurve L&sub5;. Der höchste Teil A ist niedriger als das Niveau der Energielücke Δ . Weiters muß die Breite W zwischen dem Quasi-Partikel-Kollektorübergang und einer vertikalen Linie, auf der der Teil A liegt, kleiner sein, als der mittlere freie Weg im Halbleiter, um wirksam Quasi-Partikel innerhalb der Kollektorzone C einzufangen.
  • Fig. 2D zeigt ein Energiediagramm für die Anordnung in Abwesenheit von Vorspannungen. Wie in Fig. 2D gezeigt, ist das Energieniveau im Emitter E im wesentlichen das gleiche, wie jenes im Kollektor C.
  • Figur 3 ist ein Energiediagramm, das die Struktur einer Anordnung, die die vorliegende Erfindung verkörpert, darstellt, worin die Emitterzone E und die Basiszone B aus Supraleitern sind. In Fig. 3 wird eine Basis-Kollektorvorspannung VE angelegt.
  • Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nun mit Bezug auf die Figuren 4 und 5 beschrieben.
  • Die Anordnung von Fig. 4 besitzt, gebildet auf einem Halbleitersubstrat 1 aus zum Beispiel GaAs, InP, InAs, oder InSb, eine Zone, die einen dünnen Film 2 aus einem Supraleitermaterial umfaßt, zum Beispiel eine Pb-Legierung, Nb oder NbN. Auf dem dünnen Film 2 aus Supraleiter wird ein Tunneloxidfilm 5 durch ein Fenster gebildet, welches in einer isolierenden Schicht 6 gebildet ist, zum Beispiel ein aufgedampfter SiO-Film, oder ein SiO&sub2;-Film, der durch ein chemisches Aufdampfverfahren (CVD) abgelagert ist, durch ein Sputter-Verfahren oder ähnliches. Der Tonneloxidfilm 5 besitzt eine auf ihm gebildete Elektrode 3 zum Injizieren von Quasi-Partikeln und eine Elektrode 4 für die Basisvorspannung Die Elektrode 3 kann aus Aluminium, Molybdän oder ähnlichem bestehen, welche normal leitende Metalle sind, und die Elektrode 4 kann aus einem Supraleitermaterial gefertigt sein, zum Beispiel eine Pb-Legierung oder Nb. Die Elektrode 3 und der Teil des Tunneloxidfilms 5, auf welchem sie vorgesehen ist, bilden zusammen eine Emitterzone der Anordnung. Das Halbleitersubstrat 1, auf welchem der Supraleiterfilm 2 gebildet ist, bildet eine Kollektorzone der Anordnung. Die Höhe der Energieschwelle, die am Übergang zwischen der Basis- und der Kollektorzone gebildet ist, das heißt die Höhe der Schwelle am Kontaktteil Supraleiter-Halbleiter, ist beträchtlich niedrig.
  • Zwischen dem Supraleiter der Elektrode 4 und dem dünnen Supraleiterfilm 2, welche als eine Basis arbeiten, ist ein Josephson-Übergang gebildet. Kein elektrisches Potential wird durch einen gewöhnlichen Basisstrom erzeugt. Eine Kollektorelektrode 7 ist mit dem Halbleitersubstrat 1 durch einen Ohm'schen Kontakt verbunden.
  • In dieser Ausführungsform wird die Dicke der Basiszone auf einfache Weise verringert. So können eine hohe Stromtransferfunktion und ein kleiner gesättigter Basis-Masse-Strom Isat verwirklicht werden. Umgekehrt, da ein Tunnelübergang zwischen der Basis-Vorspannungselektrode und der Basiszone vorhanden ist, kann der Transfer der Quasi-Partikel aus der Basis-Vorspannungselektrode zur Basiszone verringert sein, wodurch Isat vorteilhafterweise verringert wird. Die Wahrscheinlichkeit für das Einfangen der Quasi-Partikel ist ungefähr 10&supmin;² bei der Ausführungsform von Fig. 4.
  • Figur 5 zeigt eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Wie in Fig. 5 gezeigt, ist ein Supraleiter 12, der als Basiszone wirkt, in einem in einem Halbleitersubstrat 11 gebildeten Kanal begraben, der eine geringe Breite besitzt. Das Halbleitersubstrat 11 besitzt eine Schicht 11(a) mit Isolierungscharakteristiken bei einer Betriebstemperatur von ungefähr 4,2 K und eine aktive Schicht 11(b). Der im Halbleitersubstrat 11 gebildete Kanal isoliert den Emitter- und Kollektorteil der aktiven Schicht 11(b). Ein Supraleiter 14 steht in Kontakt mit dem Supraleiter 12 über einen Tunneloxidfilm 15, wobei ein Josephson-Übergang gebildet wird. Der Supraleiter 14 arbeitet in dieser Anordnung als eine Basiselektrode. Ohm'sche Elektroden 17 und 18 sind als eine Emitterelektrode und eine Kollektorelektrode auf der Oberfläche des Halbleitersubstrates 11 vorgesehen. Die Wahrscheinlichkeit des Einfangens von Quasi-Partikeln ist in der Anordnung von Fig. 5 ungefähr 10&supmin;².
  • In der Ausführungsform von Fig. 5 wird ein Supraleiter- Halbleiter-Kontakt als ein Quasi-Partikel-Emitter verwendet. Da der Supraleiter-Halbleiter-Kontakt eine geringe Kapazität besitzt, sind die Lade- und Entladezeiten des Emitters kurz, wobei sie ermöglichen, daß die Anordnung vorteilhafterweise mit einer hohen Geschwindigkeit betrieben werden kann.
  • In der vorliegenden Erfindung kann der als Basiszone verwendete Supraleiter aus supraleitenden Schichten, inklusive Metallschichten, zusammengesetzt sein.

Claims (8)

1. Supraleiteranordnung, umfassend eine Basiszone (2, 12) aus einem Supraleitermaterial, welche sich zwischen und in Kontakt mit einer Emitterzone (3, 5; 11(b), 17) zum Injizieren von Elektronen im Quasi-Partikel-Zustand in die genannte Basiszone (2; 12) und einem Halbleiterteil (1; 11(b)) einer Kollektorzone (1, 7; 11(b), 18) zum Einfangen von Elektronen im Quasi-Partikel-Zustand aus der genannten Basiszone, befindet, wobei die Materialien der genannten Basiszone und des genannten Halbleiterteils der genannten Kollektorzone so beschaffen sind, daß, wenn die Anordnung in Verwendung und die genannte Basiszone im supraleitenden Zustand ist, an einem Übergang zwischen der genannten Basiszone (2; 12) und dem genannten Halbleiterteil der genannten Kollektorzone (1, 7; 11(b), 18) eine Energieschwelle von einer solchen Höhe existiert, daß Elektronen im Quasi-Partikel-Zustand frei über diese Schwelle von der genannten Basiszone (2; 12) zum genannten Halbleiterteil der Kollektorzone (1, 7; 11(b), 18) passieren können, wogegen die Passage von Cooper-Paaren von der Basiszone zum genannten Halbleiterteil der Kollektorzone dadurch im wesentlichen vollständig verhindert wird.
2. Anordnung wie in Anspruch 1 beansprucht, worin zwischen der genannten Emitter- und der Basiszone (3, 5; 2) ein Tunnelübergang an einer Übergangsfläche gebildet ist, durch welche Elektronen im Quasi-Partikel-Zustand in die genannte Basiszone injiziert werden.
3. Anordnung wie in Anspruch 2 beansprucht, worin die genannte Emitterzone (3, 5) einen Elektrodenteil (3) und einen Tunnelteil (5) umfaßt, welcher Tunnelteil (5) sich zwischen und in Kontakt mit dem genannten Elektrodenteil (3) und der genannten Basiszone (2) befindet.
4. Anordnung wie in Anspruch 1 beansprucht, worin die genannte Emitterzone (11(b), 17) einen Halbleiterteil (11(b)) umfaßt, welcher sich in Kontakt mit der genannten Basiszone (12) befindet.
5. Anordnung wie in Anspruch 4 beansprucht, worin die genannte Emitterzone (11(b), 17) weiters einen Elektrodenteil (17) umfaßt, der auf dem genannten Halbleiterteil (11(b)) vorgesehen ist.
6. Anordnung wie in Anspruch 3 oder 5 beansprucht, worin der genannte Elektrodenteil (3; 17) aus einem nicht-supraleitenden Leitermaterial gefertigt ist, und worin an einem Übergang zwischen der genannten Basis- (2; 12) und Emitterzone (3, 5; 11(b) eine Energieschwelle vorhanden ist, deren Höhe in bezug auf das Fermi-Niveau im wesentlichen gleich der Energielücke des genannten Supraleitermaterials ist.
7. Anordnung wie in irgendeinem vorhergehenden Anspruch beansprucht, worin die genannte Kollektorzone (1, 7; 11(b), 18) einen Elektrodenteil (7; 18) umfaßt, der auf dem genannten Halbleiterteil (1; 11(b)) vorgesehen ist.
8. Anordnung wie in Anspruch 7 beansprucht, worin der genannte Elektrodenteil (7; 18) der Kollektorzone aus nicht-supraleitendem Leitermaterial gefertigt ist, und worin an einem Übergang zwischen der genannten Basis- (2; 12) und Kollektorzone (1, 7; 11(b), 18) eine Energieschwelle vorhanden ist, deren Höhe in bezug auf das Fermi-Niveau im wesentlichen gleich der Energielücke des genannten Halbleitermaterials ist.
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