DE3442849A1 - Leitende vorrichtung - Google Patents
Leitende vorrichtungInfo
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Description
Beschreibung Leitende Vorrichtung
Die Erfindung bezieht sich allgemein auf stabile, beständige leitende Elemente und insbesondere auf stabile leitende
Elemente , die chemischen Reaktionen standhalten und bei erhöhten Temperaturen gasundurchlässig sind.
Bisher wurden für leitende Elemente, die dazu bestimmt
sind, über einen Temperaturbereich Reaktionsmitteln direkt ausgesetzt zu werden, vielerlei Zusammensetzungen verwendet.
Im allgemeinen wiesen solche Elemente Metalle oder Halbleiter enthaltende Mischungen oder Verbindungen auf,
die entweder eine wesentliche Qualitätsminderung erfahren würden, wenn sie bei hohen Temperaturen Reaktionsgasen
ausgesetzt werden, oder die so porös sind, daß unerwünschte Gase infolge des Durchgangs durch das Heizelement oder
des Einschlusses in dem Heizelement eine Verunreinigung verursachen könnten. Diese leitenden Elemente mußten daher
im allgemeinen von dem Arbeitsraum des Ofens oder der Reaktionskammer durch einen unporösen, nicht reagierenden Überzug
oder durch ein Rohr oder eine anderweitige Umhüllung getrennt werden. Im Zusammenhang mit leitenden Elementen,
die direkt Reaktionsmitteln ausgesetzt werden, besteht ein weiteres Problem darin, daß sie eventuell gereinigt
oder geäzt, zum Beispiel chemisch geäzt,we.rden müssen,
angesammelte Reaktionsprodukte zu beseitigen. Wenn die
um
-2-
leitenden Elemente dem Reinigungsverfahren nicht widerstehen
können, würde dies zu ihrer vorzeitigen Zerstörung führen. Es ist beispielsweise bekannt, HF-beheizte Suszeptoren
oder Empfänger zu verwenden, die aus Graphit hergestellt sind, das sowohl reaktionsfähig als auch durchlässig
ist. Um solch einen Empfänger gegen die Reaktionsumgebung zu isolieren, ist es bekannt, einen Überzug aus
Siliziumkarbid vorzusehen. Solch ein Überzug kann leicht
beschädigt werden und neigt zum Rissigwerden unter thermischen Ausdehnungen. Ferner müssen dort, wo verlangt wird,
daß ein Ofen frei von unerwünschten Reaktionsmitteln ist, die Werkstücke von den Heizelementen , zum Beispiel Widerstandsdrähten
oder Siliziumkarbid-Widerstandselementen, durch Ofenrohre aus Quarz oder Aluminium isoliert
werden, die teuer sind, zum Bruch neigen, schwierig zu reinigen sind und einen unerwünschten Wärmewiderstand
zwischen die Heizelemente und die Werkstücke einführen.
Eh bestand daher ein Bedarf für die Schaffung inerterer,
weniger durchlässiger und besser leitender Elemente, die mit dem Arbeitsraum direkt in Kontakt stehen können. Im
Falle einer Heizkammer bestand ein Bedarf für die Schaffung eines Heizelementes, das gleichzeitig auch dazu
dient, den Arbeitsraum gegen Reaktionsmittel aus der Umgebung zu isolieren.
Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung besteht ein Ziel von dieser darin, ein verbessertes hitzebeständiges,
leitendes Element für Prozesse, die bei erhöhten Temperatüren
stattfinden, zu schaffen.
Ein weiteres Ziel der Erfindugn besteht darin, ein verbessertes hitzebeständiges, leitendes Element zu schaffen,
das dem Arbeitsraum in einer reaktiven Umgebung direkt ausgesetzt werden kann.
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, ein undurchlässiges
, hitzebeständiges, leitendes Element mit einem genügenden elektrischen Widerstand für eine direkte
oder indirekte elektrische Erregung zu schaffen. 5
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, eine Einheit aus einem leitenden Element und einer Kapsel oder
Umschließung zu schaffen, die genügend inert und undurchlässig ist, um Behandlungsverfahren bei hohen Temperaturen
!0 und mit einem hohen Reinheitsgrad zu ermöglichen.
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, ein elektrisch erregbares,leitdendes Element zu schaffen, das
wiederholten chemischen Reinigungsprozessen unterzogen werden kann, ohne daß seine Qualität wesentlich darunter
leidet.
Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung weist das leitende
Element Alphasiliziumkarbid mit einem kleinen Prozentanteil eines leitenden Materials in einem homogenen
Körper auf, dessen spezifischer elektrischer Widerstand unter einem Ohmzentimeter liegt. Der leitende Zusatz, der
beispielsweise Graphit, Molybden oder Wolfram umfassen kann, senkt den spezifischen Widerstand des Körpers, um
die direkte elektrische Erregung ohne bedeutsame Begünstigung der Gasdurchlässigkeit oder chemischen Reaktionsfähigkeit
des Alphasiliziumkarbids zu ermöglichen. In Form einer Platte kann eine solche Zusammensetzung als
Suszeptor oder Empfänger in einer HF-beheizten Reaktionskammer benützt werden.
Gemäß einer anderen Ausführungsform der Erfindung wird
ein hitzebeständiges Material, das Alphasi,liziumkarbid aufweist, das einen kleinen Prozentanteil eines leitenden
Materials zur Senkung des spezifischen elektrischen Wider-
-4-
Standes auf einen Wert unter einem Ohmzentimeter enthält,
zu einer Einheit aus'einem Heizelement und einer Reaktionskammer
geformt, die für Gase aus der Umgebung im wesentlichen undurchlässig ist und eine hohe Widerstandsfähigkeit
gegen korrosive chemische Reinigung besitzt.
Die vorstehenden und anderweitige Ziele, Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden
detaillierteren Beschreibung von bevorzugten AusführungsjQ
formen der Erfindung im Zusammenhang mit der Zeichnung.
In der Zeichnung zeigt:
Fig. 1 ein erfindungsgemäßes leitendes Element zur Ver-,(-Wendung
in einer Vorrichtung zum chemischen Auf
dampfen, und
Fig. 2 eine teilweise weggebrochene Ansicht einer erfindungsgemäßen
widerstandsbeheizten Kammer.
Gemäß einem bekannten Verfahren können Teilchen von Alphasiliziumkarbid
in einer bei hoher Temperatur stattfindenden Reaktion hergestellt werden. Diese Teilchen haben
eine Größe in einem Bereich von etwa sieben bis etwa zehn
2g Mikron. Aus diesen Teilchen können Festkörper dadurch geformt
werden, daß sie grob in die gewünschte Form gepresst
werden und dann die komprimierte Masse bei etwa 1800 C gesintert wird , wobei die Teilchen durch Sintern im
Festzustand zusammenschmelzen und einen dichten, undurch-QQ
lässigen Körper bildet, der im wesentlichen reines Alphasiliziumkarbid
aufweist. Nach dem Sintern schrumpft das
s.
Material linear um etwa 18° . Der spezifische elektrische
Material linear um etwa 18° . Der spezifische elektrische
Widerstand des gebildeten Gegenstandes ist sowohl hoch als auch variabel. Die hergestellten Gegenstände sind
Q5 somit nicht besonders als leitende Elemente geeignet, da
die Widerstände zu groß sind.
-5-
Es ist auch bekannt^ Siliziumkarbid aufweisende elektrische
Heizelemente dadurch herzustellen, daß Teilchen von Betasiliziumkarbid und Kohlenstoff (z.B. Ruß) kombiniert
werden und die Masse in Gegenwart eines Dampfes einer Reaktionssinterung unterzogen wird, um so ein Material
mit einem relativ kleinen spezifischen elektrischen Widerstand herzustellen. Das Material weist allgemein
einen Überschuß an freiem Silizium zusätzlich zu der Siliziumkarbidverbindung auf. Das freie Silizium, das an
keiner Reaktion teilgenommen hat, ist dort, wo das Element reaktionsfähigen Umgebungen bei hohen Temperaturen/oder
einer korrodierenden chemischen Reinigung bei Raumtemperatur unterzogen werden soll, wegen der Verschlechterung
der mechanischen Eigenschaften des Gegenstandes in hohem Maße unerwünscht.
Gemäß der Erfindung können die vorstehenden und weitere Nachteile bekannter leitender Elemente für einen direkten
Kontakt mit reaktionsfähigen Umgebungen dadurch überwunden
werden, daß diese Elemente aus einem Material hergestellt werden, das AlphasLlizium karbid aufweist, welches
zur Herabsetzung des spezifischen elektrischen Widerstandes ohne wesentliche Vergrößerung der Gasdurchlässigkeit
(Porosität) oder chemischen Reaktionsfähigkeit des Materials
einen kleinen Bruchteil von homogen verteilten leitenden Teilchen enthält. Alphasilikonkarbidteilchen,
die vorzugsweise eine Größe im Bereich von etwa sieben bis etwa zehn Mikron haben, werden mit kleineren leiten-
den Teilchen gemischt und bei etwa 1800 C gesintert.
Vorzugsweise werden leitende Teilchen mit einer Teilchengröße von weniger als etwa sechs Mikron verwendet. Die
leitenden Teilchen sollten einen hohen Schmelzpunkt,
eine geringe chemische Reaktionsfähigkeit und einen Wärmeausdehnungskoeffizienten,
der von demjenigen des Alphasilikonkarbids
nicht zu sehr verschieden ist, aufweisen.
/ ausgesetzt _5_
Als leitende Teilchen von geringem spezifischem Widerstand geeignete Zuschläge sind vorzugsweise - einzeln oder in
Kombination - Graphit, Wolfram und Molybden.
Z.B. ergab eine fünfprozentige Mischung von Graphit in
Alphasilikonkarbid ein Endmaterial mit einem spezifischen
Widerstand von etwa einem Ohmzentimeter, während zehn Prozent Graphit zu einem spezifischen Widerstand von etwa
0,1 Ohmzentimetern führten. Jegliche Kohleteilchen, die an der Oberfläche des leitenden Endprodukts verbleiben,
können durch Oxydation bei höheren Temperaturen entfernt werden.
Leitende Gegenstände mit vernünftigen Abmessungstoleranzen können dadurch hergestellt werden, daß die Mischung des
Alphasilikonkarbids und der leitenden Teilchen in die gewünschte Form gepresst und eine lineare Schrumpfung von
ungefähr 18% während des Sinterns zugelassen wird. Zur Nacharbeitung oder Feinung der Form kann der gesinterte
Gegenstand einer Bearbeitung mit elektrischer Entladung unterzogen werden.
Die Fig. 1 zeigt als bevorzugte Ausführungsform der Erfindung
ein Beispiel einer leitenden Anordnung. Die dargestellte Vorrichtung ist in einem Apparat zum plasmaverstärkten
chemischen Aufdampfen bei hoher Temperatur verwendbar, der in näheren Einzelheiten beispielsweise in
der US-PS 4, 401,507 vom 30. August 1983 von George M. Engle beschrieben ist. Die Platten 1 sind aus dem oben
beschriebenen Material hergestellt und dienen als leitende Elektroden zur Aufrechterhaltung einer Plasmaentladung
in dem Raum zwischen den Platten. Die Platten 1 sind durch Abstandshalter 3 isoliert, die aus unverfälschtem Alphasilikonkarbid
( einem Dielektrikum) hergestellt und in Ilöcher in den Platten 1 eingepresst sein können. Die
— 7 —
Werkstücke 7 können z.B. mit einem Überzug zu versehende Halbleiterscheiben sein. Die Werkstücke 7 werden durch
kegelige Zapfen 5 an die Bootplatten 1 angedrückt und an diesen festgehalten. Die Zapfen 5 bestehen vorzugsweise
ebenfalls aus dem oben beschriebenen leitenden Siliziumkarbid. Wenn der spezifische Widerstand des Plattenmaterials
weniger als etwa ein Ohmzentimeter beträgt, kann zur Beheizung der Werkstücke beispielsweise im Falle
eines thermisch aktivierten chemischen Aufdampfsystems HF-Energie induktiv eingekoppelt werden. In jedem Falle
ist die Platte oder sind die Platten den reaktionsfähigen Gasen bei höheren Temperaturen ausgesetzt und werden mit
den Niederschlagsprodukten überzogen , die periodisch entfernt, z.B. chemisch weggeäzt , werden müssen. Die aus
der beschriebenen Zusammensetzung hergestellten Gegenstände werden durch dieses Ätzen nicht wesentlich angegriffen,
und das Ätzmittel dringt auch nicht in irgendeinem bedeutendem Ausmaß in sie ein, so daß eine umfangreiche Entgasung
bei hoher Temperatur zur Reinigung der leitenden Gegenstände nicht nötig ist.
Als weiteres Beispiel einer bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung zeigt die Fig. 2 eine aus dem vorstehend beschriebenen leitenden, hitzebeständigen Material bestehende
Behandlungskammer. In dieser Figur ist das Element 10 ein Rohr, das aus dem Alphasiliziumkarbid hergestellt
ist, welches einen kleinen Bruchteil an homogen verteilten leitenden Teilchen des oben erläuterten bevorzugten
Typs aufweist. Als Elektroden zum Einführen eines elektrischen Stromes für die Beheizung des mittleren
Teiles des Rohres 10 dienen ringnutförmige, leitende Kontakte 20, von denen nur einer zu sehen ist. Ähnliche
ringförmig abgesetzte Endbereiche 30 bilden Flächen zum Ansetzen einer oder mehrerer , nicht dargestellter Endkappen,
die das Beladen und Abdichten der Behandlungs-
-8-
kammer ermöglichen. Beide Sätze der vorzugsweise eingezogener^
ringförmigen Bereiche 20 und 30 , die zunächst in dieser Form hergestellt werden, werden anschließend stromlos
vernickelt oder verkupfert. Das Ergebnis ist eine einheitliche Behandlungskammer, die sowohl als Heizelement
als auch als hitzebeständige Kapsel oder hitzebeständiges Gehäuse für Hochtemperaturprozesse in reaktionsfähigen
Umgebungen dient. Ein passend abgewandelter Behälter könnte beispielsweise als ciigenbeheizter Tiegel für einen
O Kristallziehapparat z.B. zum Ziehen eines Halbleiterkristalls
aus einer Halbleiterschmelze Verwendung finden.
Claims (1)
- PatentansprücheLeitende Vorrichtung , die durch HF-Energie oder
durch direkten Anschluß an eine elektrische Energiequelle beheizt werden kann, während sie einer reaktionsfähigen Umgebung ausgesetzt ist, d a d ur c h
gekennzeichnet, daß sie aus einem Körper aus Alphasilikonkarbid besteht, der aucheinen kleinen Bruchteil an homogen verteilten leitenden Teilchen zur
Steuerung der spezifischen elektrischen Leitfähigkeit des Körpers ohne wesentliche Vergrößerung von
dessen Porosität aufweist.Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die leitenden Teilchen Graphitteilchen und/oder Molybdenteilchen und/oder Wolframteilchen
sind.Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß der spezifische elektrische Widerstand des Körpers weniger als etwa ein Ohmzentimetor beträgt.Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Körper durch HF-Energie erhitzt
wird.Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn--2-2 3A42849zeichnet, daß der Körper durch direkten Anschluß an eine elektrische Energiequelle erhitzt wird.6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Körper die Form einer Platte zum Aufrechterhalten einer Plasmaentladung in einem Apparat zum chemischen Aufdampfen aufweist.7. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Körper als HF-beheizter Suszeptor zur Verwendung bei einem chemischen Aufdampfprozess ausgeführt ist.8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Körper zu einer im wesentlichen gasundurchlässigen , widerstandsbeheizten Behandlungskammer geformt ist.9. Verfahren zum Herstellen des leitenden Körpers gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch qokonnzoM chnot, daß der kleine Bruchteil an elektrisch leitendem Material in dem Körper von Alphasilikonkarbid homogen verteilt wird, um den spezifischen elektrischen Widerstand des Körpers herabzusetzen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/554,978 US4633051A (en) | 1983-11-23 | 1983-11-23 | Stable conductive elements for direct exposure to reactive environments |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3442849A1 true DE3442849A1 (de) | 1985-08-29 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19843442849 Withdrawn DE3442849A1 (de) | 1983-11-23 | 1984-11-23 | Leitende vorrichtung |
Country Status (7)
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---|---|
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Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4816228A (en) * | 1985-03-14 | 1989-03-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Apparatus for melting waste |
JPS62205619A (ja) * | 1986-03-06 | 1987-09-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 半導体の加熱方法及びその方法に使用されるサセプタ |
JPS63138224A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | Kyocera Corp | 温度センサ |
US4749833A (en) * | 1987-08-07 | 1988-06-07 | Tocco, Inc. | Induction heating for adhesive bonding |
US4978567A (en) * | 1988-03-31 | 1990-12-18 | Materials Technology Corporation, Subsidiary Of The Carbon/Graphite Group, Inc. | Wafer holding fixture for chemical reaction processes in rapid thermal processing equipment and method for making same |
US5119540A (en) * | 1990-07-24 | 1992-06-09 | Cree Research, Inc. | Apparatus for eliminating residual nitrogen contamination in epitaxial layers of silicon carbide and resulting product |
US5459546A (en) * | 1992-08-28 | 1995-10-17 | Penn; Randy J. | Method and apparatus for accurate alignment of semiconductor wafers in photo printers |
US5356475A (en) * | 1993-02-22 | 1994-10-18 | Lsi Logic Corporation | Ceramic spacer assembly for ASM PECVD boat |
WO1996017691A1 (en) * | 1994-12-06 | 1996-06-13 | Union Oil Company Of California | Wafer holding fixture |
US6825051B2 (en) * | 2002-05-17 | 2004-11-30 | Asm America, Inc. | Plasma etch resistant coating and process |
US6774073B2 (en) | 2002-07-29 | 2004-08-10 | Coorstek, Inc. | Graphite loaded silicon carbide and methods for making |
US6974781B2 (en) * | 2003-10-20 | 2005-12-13 | Asm International N.V. | Reactor precoating for reduced stress and uniform CVD |
CN101563771A (zh) * | 2006-11-10 | 2009-10-21 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 衬托器和使用该衬托器形成led器件的方法 |
EP2180967B1 (de) | 2007-07-24 | 2013-09-11 | Brinkmann Pumpen K.H. Brinkmann GmbH & Co. KG | Verfahren zur herstellung eines maschinengehäuses mit oberflächengehärteter fluidkammer |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE877931C (de) * | 1942-10-20 | 1953-05-28 | Axel Richard Dr Wejnarth | Verfahren zur Herstellung von bei hohen Temperaturen bestaendigen Widerstandselementen |
DE2656072A1 (de) * | 1975-12-11 | 1977-06-23 | Bulten Kanthal Ab | Siliciumcarbidkoerper und verfahren zur herstellung derselben |
DE2809278A1 (de) * | 1978-03-03 | 1979-09-06 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Dichte polykristalline formkoerper aus alpha-siliciumcarbid und verfahren zu ihrer herstellung durch drucklose sinterung |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1837178A (en) * | 1928-12-07 | 1931-12-15 | Carborundum Co | Electric furnace |
GB815357A (en) * | 1956-06-28 | 1959-06-24 | Carborundum Co | Silicon carbide resistance bodies and methods of making same |
US3129125A (en) * | 1959-07-01 | 1964-04-14 | Westinghouse Electric Corp | Preparation of silicon carbide materials |
US3923580A (en) * | 1971-04-08 | 1975-12-02 | Heller William C Jun | Fabricating method and article formed thereby |
US3735321A (en) * | 1971-06-18 | 1973-05-22 | Gen Electric | Thermistor |
GB1423037A (en) * | 1972-02-08 | 1976-01-28 | Efimov V M | Silicon carbide |
US3848038A (en) * | 1973-06-04 | 1974-11-12 | Raytheon Co | Drying expanded plastic with microwave energy |
US4035547A (en) * | 1974-02-26 | 1977-07-12 | William C. Heller | Bonding element having separate heating and agitating particles |
JPS5277590A (en) * | 1975-12-24 | 1977-06-30 | Toshiba Corp | Semiconductor producing device |
JPS6016386B2 (ja) * | 1977-06-10 | 1985-04-25 | 財団法人特殊無機材料研究所 | 炭化珪素含有セラミックス成型体の製造法 |
GB2082165B (en) * | 1980-07-17 | 1984-03-28 | Asahi Glass Co Ltd | Silicon carbide ceramic |
US4168998A (en) * | 1978-12-06 | 1979-09-25 | Mitsubishi Monsanto Chemical Co. | Process for manufacturing a vapor phase epitaxial wafer of compound semiconductor without causing breaking of wafer by utilizing a pre-coating of carbonaceous powder |
JPS55167177A (en) * | 1979-06-08 | 1980-12-26 | Ngk Spark Plug Co | Manufacture of silicon carbide heating body |
CA1158259A (en) * | 1980-07-17 | 1983-12-06 | Francis J. Frechette | Composite material of silicon carbide and silicon and methods of producing |
JPS5849665A (ja) * | 1981-09-10 | 1983-03-23 | 京セラ株式会社 | 誘電加熱用セラミック体 |
US4401507A (en) * | 1982-07-14 | 1983-08-30 | Advanced Semiconductor Materials/Am. | Method and apparatus for achieving spatially uniform externally excited non-thermal chemical reactions |
US4424096A (en) * | 1982-12-23 | 1984-01-03 | Western Electric Co., Inc. | R-F Electrode type workholder and methods of supporting workpieces during R-F powered reactive treatment |
-
1983
- 1983-11-23 US US06/554,978 patent/US4633051A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-07-13 GB GB08417942A patent/GB2150126B/en not_active Expired
- 1984-09-12 JP JP59191388A patent/JPS60112671A/ja active Pending
- 1984-11-01 NL NL8403313A patent/NL8403313A/nl not_active Application Discontinuation
- 1984-11-14 FR FR8417690A patent/FR2555351A1/fr active Pending
- 1984-11-19 KR KR1019840007242A patent/KR850003817A/ko not_active Application Discontinuation
- 1984-11-23 DE DE19843442849 patent/DE3442849A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE877931C (de) * | 1942-10-20 | 1953-05-28 | Axel Richard Dr Wejnarth | Verfahren zur Herstellung von bei hohen Temperaturen bestaendigen Widerstandselementen |
DE2656072A1 (de) * | 1975-12-11 | 1977-06-23 | Bulten Kanthal Ab | Siliciumcarbidkoerper und verfahren zur herstellung derselben |
DE2809278A1 (de) * | 1978-03-03 | 1979-09-06 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Dichte polykristalline formkoerper aus alpha-siliciumcarbid und verfahren zu ihrer herstellung durch drucklose sinterung |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
DD-B.: PEZOLD, Armin, Anorganisch-nichtmetallischeWerkstoffe, VEB-Deutscher Verlag für Grundstoffindustrie, Leipzig, 1981, S. 212, 217-220 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2150126B (en) | 1987-08-26 |
GB2150126A (en) | 1985-06-26 |
JPS60112671A (ja) | 1985-06-19 |
GB8417942D0 (en) | 1984-08-15 |
KR850003817A (ko) | 1985-06-26 |
FR2555351A1 (fr) | 1985-05-24 |
NL8403313A (nl) | 1985-06-17 |
US4633051A (en) | 1986-12-30 |
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