DE3404880A1 - Verfahren zum herstellen von schichtwerkstoff oder schichtwerkstuecken - Google Patents
Verfahren zum herstellen von schichtwerkstoff oder schichtwerkstueckenInfo
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Description
Dipl.-Hhys. Heinrich tieids - Patentanwalt · Bierstadter Höhe 15 · Postfach 5105 · 6200 Wiesbaden 1 ■ ®" (0 6121) 56 20
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen ο von Schichtwerkstoff oder Schichtwerkstücken durch Aufbringen
OD mindestens einer eine im wesentlichen metallische Matrix ο aufweisenden Schicht auf die vorher gereinigte und aufge-"-^
5 rauhte Oberfläche eines Trägerwerkstücks im Kathodenzerstäubungsverfahren
unter Benutzung mindestens eines Kathodenzerstäubungs-Targets, das die der gewünschten Zusammensetzung
der zu erzeugenden Schicht entsprechenden Stoffe enthält.
Bei den aus DE-PS 28 53 724 und DE-PS 29 14 618 bekannten Schichtwerkstoffen mit in Kathodenzerstäubungsverfahren aufgebrachter
Gleit- oder Reibschicht und bei den hieraus bekannten Verfahren zur Herstellung solcher Schichtwerkstoffe
haben sich erhebliche Schwierigkeiten hinsichtlich der
^5 Erzielung hoher Haftfestigkeit und Bindungsfestigkeit
zwischen der Oberfläche der Trägerschicht und der aufgebrachten Gleit- oder Reibschicht ergeben.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, die aus DE-PS 28 53 und DE-PS 29 14 618.7-14 bekannten Verfahren dahingehend
wesentlich zu verbessern, daß hohe Bindungsfestigkeit zwischen der Oberfläche der Trägerschicht und einer durch
Kathodenzerstäubung aufgebrachten Oberflächenschicht reproduzierbar erreicht wird. Dazu soll auch mindestens ebenso
hohe Bindungsfestigkeit zwischen nacheinander durch Kathodenzerstäubung
aufgebrachten Schichten reproduzierbar erreicht werden. Der Lösung dieser Aufgabe liegt die durch Versuche
gewonnene Erkenntnis zugrunde, daß Unregelmäßigkeiten in der Bindungsfestigkeit zwischen der Oberfläche der Trägerschicht
und der durch Kathodenzerstäubung aufgebrachten Oberflächenschicht einerseits auf den bei Einsetzen der
Beschichtung durch Kathodenzerstäubung vorhandenen Zustand an der Oberfläche der Trägerschicht und zum anderen auf
den bei Einsetzen der Kathodenzerstäubung an den Oberflächen des bzw. der zur Kathodenzerstäubung benutzten
Dipl.-Phys. Heinrich Seids. Patentanwalt · Bierstadter Höhe li>
■ Pos'ttach 5105 · 6200 Wiesbaden 1 ■ 5? (0 61 21) 56 20
Targets herrschenden Zustand zurückzuführen sind. CD
CO
CO
CO Gemäß der Erfindung wird daher zur Lösung der gestellten
O Aufgabe vorgeschlagen, daß
"^t - nach Erzeugen des für die Kathodenzerstäubung vorgesehenen
Vakuums in dem das Target bzw. die Targets und den zu beschichtenden Trägerwerk-stoff bzw. die zu beschichtenden
Trägerwerkstucke enthaltenden Rezipienten zunächst ein Freisputtern des Targetsbzw, der Targets an den abzutragenden
Oberflächen vorgenommen wird, wobei die zu beschichtenden Oberflächen des Trägerwarkstoffs bzw. der
Trägerwerkstücke gegen Aufbringen von Target-Material geschützt werden,
- nach dem Freisputtern der abzutragenden Oberfläche des Targets bzw. der Targets ein Ätzen der zu beschichtenden
Oberflächen des Trägerwerkstoffs bzw. der Trägerwerkstücke
in einer elektrischen Corona-Entladung in Art einer Kathodenzerstäubung vorgenommenwird, bei der die Oberflächen
des Targets bzw. der Targets gegen Aufbringen von Werkstück-Material geschützt werden, und
_ anschließend an das Ätzen das Beschichten der Oberflächen des Trägerwerkstoffs bzw. der Trägerwerkstücke im Kathodenzerstäubungsverfahren
von den freigesputterten Target-Oberflächen her vorgenommenwird.
Im erfindungsgemäßen Verfahren wird sowJil das Reinigen der
abzutragenden Oberflächen des Targets bzw. der Targets als auch das Ätzen,d.h. Reinigen und Aufrauhen der zu beschichtenden
Oberflächen am Trägerwerkstoff bzw. an den Trägerwerkstücken unmittelbar vor dem Beschichten vorgenommen,
und zwar bei im Rezipienten erzeugtem Vakuum. Dabei werden die zum eigentlichen Beschichten dem Kathodenzerstäubungsverfahren
zu unterziehenden Oberflächen während der Vorbehandlung der jeweils anderen Oberflächen gegen
Aufbringen von Fremdmaterial geschützt. Man könnte zunächst annehmen, daß es ausreichend- sei, überhaupt nur die abzu-
Dipl.-Phys. Heinrich Seids . Patentanwalt·- Brerstadter riöhff 15 · Postfach 5105 · 6200 Wiesbaden 1 · SU" (0 61 21) 56 20
tragenden Oberflächen des Targets bzw. der Targets durch
ο Freisputtern und die zu beschichtende Oberfläche des Werk-
oo stoffs bzw. der Werkstücke durch umgekehrtes Freisputtern
Q zu Reinigen, zumal aus ASLE TRANSACTIONS 12, 36-43 (1969), -J" 5 insbesondere Seite 38 bekannt ist, die mittels Kathoden-OO
zerstäubung mit einer MoS„-Schicht zu belegende Oberfläche
einer Trägerschicht durch umgekehrtes Sputtern zu Reinigen. Demgegenüber soll aber gemäß der Erfindung nach dem Freisputtern
der abzutragenden Oberfläche des Targets bzw. der Targets ein Ätzen der zu beschichtenden Oberflächen in
einer elektrischen Corona-Entladung vorgenommen werden, wodurch nicht nur ein Reinigen dieser Oberflächen erfolgt,
sondern auch ein intensives Aufrauhen. Nach diesem Ätzen, d.h. Reinigen und Aufrauhen der zu beschichtenden Oberflächen
ist dann anschließend, d.h. ohne nennenswerte Verzögerung das Beschichten der Oberflächen des Trägerwerkstoffs
bzw. der Trägerwerkstücke im Kathodenzerstäubungsverfahren von den freigesputterten Target-Oberflächen her
vorzunehmen. Selbst wenn alle diese Verfahrensabläufe im
Vakuum, d.h. einer unter für die Aufrechterhaltung der die Kathodenzerstäubung hervorrufenden elektrischen Entladung
geeignetem Unterdruck^jehaltenen gasförmigen Umgebung
erfolgen, wurde im Rahmen der Erfindung gefunden, daß es von erheblicher Wichtigkeit ist, daß Beschichten
der Oberflächen des Trägerwerkstoffs bzw. der Trägerwerkstücke praktisch unmittelbar anschließend an das Ätzen
einsetzen zu lassen. Zwischen dem Freisputtern der abzutragenden Oberflächen des Targets bzw. der Targets und
dem Einsetzen der eigentlichen Kathodenzerstäubung zum Beschichten der Oberflächen des Trägerwerkstoffs bzw.
der Trägerwerkstücke kann erfindungsgemäß ein zeitlicher Zwischenraum gelassen werden, solange nicht das Vakuum
jiii Rezipienten aufgehoben oder wesentlich verschlechtert
wird.
Dipl.-Phys. Heinridi Seide · Patentanwalt · Bferctadter ΜδΚέ 15 · Pos"tfach 5105 - 6200 Wiesbaden 1 - & (0 6121) 5620
Sollen zwei oder mehr Schichten auf dem Schichtwerkstoff
O bzw. auf den Schichtwerkstücken im Kathodenzerstäubungs-
oo verfahren übereinander aufgebracht werden, so wird er-"jT
findungsgemäß vorgeschlagen, die für die Erzeugung der
•<t 5 verschiedenen Schichten erforderlichen Targets sämtlich
OO
in den selben Rezipienten einzusetzen und sämtlich vor dem Ätzen der zu beschichtenden Oberflächen des Trägerwerkstoffs
bzw. der Trägerwerkstücke freizusputtern und die
übereinander anzubringenden Schichten durch zeitlich direkt aufeinanderfolgende Kathodenzerstäubung von verschiedenen
Teirgets her, d.h. ohne zwischenzeitliches Freisputtern
und zwischenzeitliches Ätzen vorzunehmen. Das Aufbringen der weiteren Schichten erfolgt somit auf die frische Oberfläche
der jeweils vorher aufgebrachten Schicht. Es wird somit auch zwischen übereinander aufgebrachten Schichten
optimale Flächenbindung erreicht. Während des Freisputterns, also vor dem Ätzen der zu beschichtenden Oberflächen soll
diese Vorbehandlung erfindungsgemäß an sämtlichen zu benutzenden Targets vorgenommen werden, so daß kein zwischenzeitliches
Freisputtern erforderlich wird. In Weiterbildung der Erfindung wird daher vorgeschlagen, daß bei Benutzung
von mehreren Targets, insbesondere von Targets unterschiedlicher Zusammensetzung, das Freisputtern der einzelnen
Targets zeitlich nacheinander vorgenommeryCiird und zumindest
die bereits freigesputterten Targets während des Freisputterns
anderer Targets gegen das Aufbringen von Fremdmaterial geschützt werden. Zur Erreichung eines geeigneten
Schutzes gegen Aufbringen von Fremdmaterial auf die Target-Oberflächen und auf die zu beschichtenden Oberflächen, empfiehlt
es sich im Rahmen der Erfindung, dem Target zum Freisputtern eine Blende gegenüber zu stellen und das Freisputtern
im wesentlichen gegen diese Blende vorzunehmen. In entsprechender Weise kann dem Trägerwerkstoff bzw. den
Trägerwerkstücken beim Ätzen eine Blende gegenüber gestellt werden und das Ätzen als Kathodenzerstäubung von den zu
beschichtenden Oberflächen des Trägerwerkstoffs bzw. der
Dipl.-Phys. Heinrich Seids ■ Patentanwalt Bu.UadfeivMölfL· ;s ■ Posilach 5i:0S ■ 6200 Wiesbaden 1 - © (0 61 21) 56 20
Trägerwerkstücke her im wesentlichen gegen diese Blende
O vorgenommen werden.
-^f Zum fortlaufenden Herstellen von Schichtwerkstoff bzw.
^j- Schichtwerkstücken wird in Weiterbildung der Erfindung
5 empfohlen, den Trägerwerkstoff bzw. die Trägerwerkstücke
innerhalb des unter Vakuum gehaltenen Rezipienten durch zwei oder mehr Stationen zu führen, in welchen das Ätzen
und Beschichten fortlaufend vorgenommen werden, wobei das Freisputtern des bzw. der Targets nur einmal nach Schließen
des Rezipienten und Erzeugen des Vakuums vorgenommen wird, während ggf. der Trägerwerkstoff bzw. die Trägerwerkstücke
durch eine Vakuumschleuse in den Rezipienten eingeführt und der Schichtwerkstoff bzw. die Schichtwerkstücke durch
eine Vakuumschleuse dem Rezipienten entnommen werden kann bzw. können.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig.l ein Draufsichtschema für die Herstellung von
Schichtwerkstücken mit zweifacher Beschichtung; Fig.2 ein Schema für das Freisputtern zweier unterschiedlicher
Targets und
Fig.3 das Schema für das Ätzen der zu beschichtenden
Werkstück-Oberfläche.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Herstellung von Schichtwerkstücken mit einer Trägerschicht, einer dünnen
Sperr- und Verbindungsschicht aus NiSn20 und einer Gleitschicht aus AlSn20 beschrieben.
In einem Rezipienten 10 sind drei Stationen für die Behandlung der zu beschichtenden Werkstücke 11 vorgesehen,
nämlich eine Station A zum Ätzen der zu beschichtenden Werkstück-Oberflächen, eine Station B zum Aufbringen der
ersten Schicht auf die geätzte Werkstück-Oberfläche und
ο eine Station C zum Aufbringen der zweiten Schicht auf die
co erste Oberflächenschicht des Werkstücks.
-<i" Die in Figur 1 schematisch wiedergegebene Vorrichtung sieht
CO
-> eine Drehteller anordnung 12 im Inneren des Rezipienten 10
vor, entsprechend den drei Stationen A, B und C hat diese Drehte11eranordnung drei Werkstückauflagen 13, die entsprechend
den Pfeilen 14 schrittweise durch die drei Stationen A, B und C bewegt werden. Diese Werkstückaufnitien
13 sind entsprechend den vorzunehmenden Behandlungsschritten an elektrische Spannungen anzulegen, wobei bekannte
Schaltungsanordnungen und bekannte elektrische
Bauelemente zu verwenden sind, die der Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt sind. Desgleichen sind die für
das Evakuieren des Rezipienten 10 und die für den Antrieb der Drehtelleranordnung 12 vorgesehenen Einrichtungen der
Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt.
In dem Rezipienten 10 ist eine Ätzblende 15 schwenkbar angebracht, um in Betriebsstellung über die ja/eils in
die Station A eingefahrene Werkstückauflage geschwenkt zu
werden. In dieser Schwenkstellung ist die Ätzblende 15 an positives elektrisches Potential angeschlossen oder anschließbar.
Die Ätzblende 15 kann jedoch auch fest in der Station A montiert und wahlweise an positives elektrisches
Potential anschließbar sein. Die Werkstückauflage 13 ist
in der Station A an negatives elektrisches Potential angeschlossen. Ferner sind im Inneren des Rezipienten zwei
Targetblenden 16 und 18 vorgesehen, die entsprechend den Pfeilen 17 und 19 in den Bereich der Stationen B und C
bewegbar sind und zwar vor das in der Station B in Gegenüberstellung zu der dort eingefahrenen Werkstückauflage
einzusetzende Target 20 und das iryQie Station C in entsprechender
Weise einzusetzende Target 21. Für die Bewegung und Einstellung der Blenden 15, 16 und 18 vorge-
sehenen Vorrichtungen sind der Übersichtlichkeit halber
nicht dargestellt.
^j- . Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit der
° oben beschriebenen Vorrichtung wird wie folgt verfahren: 5 Zunächst werden die zu beschichtenden Werkstücke 11 auf
die Werkstückaufηahme 13 der Drehtelleranordnung 12 gesetzt.
In die Station B wird ein Target 20,aus dem für die Sperr- und Verbindungsschicht vorgesehenen Material,
beispielsweise NiSn20 oder einer entsprechenden nicht ferromagnetischen Orurom-lSIickel-Legierung,eingesetzt. In die Station C
wird ein der gewünschten Zusammensetzung der Gleitschicht entsprechendes Target, beispielsweise aus AlSn20,eingesetzt.
Der Rezipient 10 wird geschlossen und evakuiert. Dabei kann ein Spülen mit für das Kathodenzerstäubungsverfahren gewünschten
Gas oder Gasgemisch vorgenommen werden. Bei diesem Evakuieren wird der für das Zünden und Aufrechterhalten der
die Kathodenzerstäubung bewirkenden elektrischen Gasentladung erforderliche Druck im Inneren des Rezipienten 10
eingestellt und aufrechterhalten. Sobald diese Druckeinstellung erreicht ist, werden die Blenden 16 und 18 vor
die Targets 20 und 21 gebracht, falls dies nicht schon vorher geschehen ist. Es wird dann positives Potential an
die Targetblende 16 und negatives Potential an das Target gelegt, wobei die zwischen beiden Teilen herrschende elektrische
Spannung derart eingestellt wird, daß eine elektrische Entladung gezündet und aufrechterhalten wird. Es erfolgt
dann ein Kathodenzerstäubungsvorgang bei dem die Blende 16 als Anode wirkt, falls nicht eine andere Anode
vorgesehen ist. Jedenfalls wird das bei diesem Kathoden-Zerstäubungsvorgang von der Oberfläche des Targets 20 abgetragene
Material von der Targetblende 16 aufgefangen. Durch diese erste Kathodenzerstäubung wird die abzutragende
Oberfläche des Targets 20 freigesputtert, so daß bei erneutem Zünden einer elektrischen Gasentladung sofort ein
3^ hochwirksames Sputtern mit der gewünschten Materialzusammen-
Dipl.-Phys. Heinrich Seid«; · Patentanwalt ■ Bierstadter Höhe 15 · Postfach 5105 · 6200 Wiesbaden 1 · §3? (0 61 21) 56 20
setzung vom Target 20 ausgeht.
CD
CD
c:o Nachdem das Target 20 an seiner abzutragenden Oberfläche frei-"^
gesputtert ist, erfolgt in entsprechender Weise das Frei-■<f
sputtern an der abzutragenden Oberfläche des Targets 21 mit °° 5 Hilfe der Targetblende 18- Figur 2 zeigt das Stadium in
welchem das Freisputtern an der abzutragenden Oberfläche
des Targets 21 vorgenommen wird, wähend das Freisputtern
des Targets 20 an der abzutragenden Oberfläche bereits erfolgt ist.
welchem das Freisputtern an der abzutragenden Oberfläche
des Targets 21 vorgenommen wird, wähend das Freisputtern
des Targets 20 an der abzutragenden Oberfläche bereits erfolgt ist.
Nach dem Freisputtern der beiden Targets 20 und 21 an ihren abzutragenden Oberflächen wird der Ätzvorgang in der Station A
eingeleitet, falls die Ätzblende 15 nicht bereits vorher in die Station A eingeschwenkt worden ist oder überhaupt in der
Station A fest angebracht ist, wird jetzt dieses Einschwenken der Ätzblende 15 vorgenommen, die dabei über die Werkstückaufnahme
13 und das darauf gelegte Werkstück 11 gelangt. Es wird dann an die Ätzblende 15 positives elektrisches Potential
und an die Werkstückaufnahme 13 und damit an das Werkstück negatives elektrisches Potential angelegt. Die zwischen dem
Werkstück 11 und der Ätzblende 15 herrschende elektrische
Spannung wird so eingestellt, daß eine elektrische Corona-Entladung gezündet und aufrechterhalten wird. In dieser
elektrischen Corona-Entladung wird das Werkstück 11 als
eine Art von Target von dessen Oberflächenmaterial durch
Spannung wird so eingestellt, daß eine elektrische Corona-Entladung gezündet und aufrechterhalten wird. In dieser
elektrischen Corona-Entladung wird das Werkstück 11 als
eine Art von Target von dessen Oberflächenmaterial durch
Kathodenzerstäubung abgetragen und von der Ätzblende 15
aufgefangen . Diese umgekehrte Kathodenzerstäubung wird solange vorgenommen, bis die zu beschichtenden Oberflächen
des Werkstücks 11 nicht nur gereinigt,sondern auch merklich aufgerauht worden sind. Figur 3 zeigt das in der Station A
des Werkstücks 11 nicht nur gereinigt,sondern auch merklich aufgerauht worden sind. Figur 3 zeigt das in der Station A
auf der Werkstückaufnahme Ί3 liegende Werkstück 11 in Gegenüberstellung
zur Ätzblende 15, während der umgekehrten
Kathodenzerstäubung. Sobald das Werkstück an seinen zu
beschichtenden Oberflächen ausreichend aufgerauht ist, wird die umgekehrte Kathodenzerstäubung unterbrochen und das
Kathodenzerstäubung. Sobald das Werkstück an seinen zu
beschichtenden Oberflächen ausreichend aufgerauht ist, wird die umgekehrte Kathodenzerstäubung unterbrochen und das
DipL-Phys. Heinridi Seids · Patentanwalt ■ Bierstadter'Höfie 15 · Postfach 5105 · 6200 Wiesbaden 1 · ®° (0 6121) 56 20
Werkstück 11 durch Drehen der Drehtelleranordnung 12 un-CD
mittelbar aus der Station A in die Station B gebracht. Die
^ Übergangszeit zwischen Station A und Station B soll so
-<f kurz sein, daß keine merkliche Kontamination an der frisch
^j- 5 geätzten Oberfläche des Werkstücks 11 auftreten kann. Sobald
CV) das mit frisch geätzter Oberfläche versehene Werkstück 11
in die Station B gelangt ist, wird das Target 2O an negatives und die das Werkstück 11 tragende Werkstückaufnahme 13
an positives elektrisches Potential gelegt und die Targetblende 16 entfernt (falls dies nicht vorher geschehen ist).
Es setzt sofort eine wirksame Kathodenzerstäubung vom Target 20 auf die frisch geätzte Oberfläche des Werkstücks
ein. Diese Kathodenzerstäubung wird solange weitergeführt, bis die auf der frisch geätzten Werkstückoberfläche gebildete
Sperr- und Verbindungsschicht aus NiSn2O oder einer Chrom-Nickel-Legierung die gewünschte Dicke erreicht hat.
Nach Erzeugung der Sperr- und Verbindungsschicht wird das Werkstück 11 durch weiteres Drehen der Drehtelleranordnung
aus der Station B unmittelbar in die Station C gebracht. Dort erfolgt das Aufbringen der Gleitschicht durch Kathodenzerstäubung,
indem das Target 21 an negatives und die Werkstückauflage 13 und damit das Werkstück 11 an positives
elektrisches Potential bzw. an Masse gelegt werden. Die Targetblende 18 wird weggenommen, falls dies nicht geschehen
ist. Die Kathodenzerstäubung wird in der Station C solange fortgesetzt, bis die Gleitschicht die gewünschte
Dicke erreicht hat.
Wurden bei der Vorbereitung des Arbeitsablaufes sämtliche Werkstückaufnahmen 13 der Drehtelleranordnung 12 mit Werkstücken
besetzt, so kann in der Weise verfahren werden, daß immer ein und dieselbe Werkstückaufnahme 13 mit den
darauf angebrachten Werkstücken 11 nacheinander allen drei Arbeitsschritten unterzogen wird. Wenn&ann die auf dieser
einen Werkstückaufnahme 13 angebrachten Werkstücke 11 behandelt sind, kann eine andere Werkstückaufnahme 13 mit den
Dipl.-Phy=,. HeinrlA Seid". · Patentanwalt Biei-stadter" HoKe ii ■ Positach 5105 · 6200 Wiesbaden 1 · ® (0 61 21) 50 20
darauf gesetzten Werkstücken den drei unmittelbar aufein-(—-ι
ander folgenden Arbeitsschritten unterzogen werden. Dies co kann dann solange fortgesetzt werden, bis alle Werkstücke
-<f behandelt sind.
C*~>
5 Wenn sich jedoch die Behandlungsdauer in den drei Stationen A, B und C angleichen oder weitgehend angleichen läßt, kann
auch vorgesehen werden, daß drei Werkstückaufnahmen 13 mit darauf gesetzten Werkstücken 11 gleichzeitig in Behandlung
genommen werden, nämlich eine in der Station A, eine in der Station B und eine in der Station C. Dabei muß jedoch
sichergestellt sein, daß die Überführung der Werkstücke von dem einen Behandlungsschritt zum anderen Behandlungsschritt
innerhalb möglichst kurzer Zeit erfolgt.
Naturgemäß lassen sich auch andere Ausführungsformen von
Behandlungsanlagen und für die Durchführung des Verfahrens einsetzen. Beispielsweise kann vorgesehen sein, daß die
drei Stationen A, B und C hintereinander angeordnet sind, wobei die Werkstücke oder ein Werkstoffband über eine
Vakuumschleuse in das Innere des Rezipienten eingeführt, durch die Behandlungsstationen hindurchgeführt und die
Schichtwerkstücke bzw. das Schichtwerkstoffband nach der Behandlung durch eine Vakuumschleuse aus den Rezipienten
herausgeführt wird.
Anstelle der im obigem Beispiel erläuterten drei Behandlungsstationen
A, B und C könnten auch noch mehr Behandlungsstationen vorgesehen sein, falls mehr als
zwei Schichten auf dem Trägerwerkstoff bzw. den Trägerwerkstücken aufgebracht werden sollen. Andererseits kommt
auch in Betracht, nur zwei Behandlungsstationen vorzu-3Q
s<3hen, wenn nur eine Schicht aufzubringen ist. In jedem
Fall ist aber sicherzustellen, daß das Freisputtern der Targets bzw. des Target nach der Erzeugung des Vakuum
nach dem Schließen des Rezipienten oder nach erneutem
Erzeugen des Vakuum nach evtl. zwischenzeitigem erheblichem <~->
Druckanstieg vorgenommen wird, bevor das Ätzen der z^u be-GO
schichtenden Oberflächen erfolgt. Außerdem ist in jedem ^3 Fall sicherzustellen, daß zwischen dem Ätzen und dem ersten
~<t" 5 Beschichten bzw. zwischen aufeinanderfolgendem Beschichten
OO
möglichst kurze Zeitabstände eingehalten werden, damit keine nennenswerte Kontamination an den frisch geätzten
oder frisch erzeugten Beschichtungsoberflächen eintritt.
PATENTANWALT DIPL.-PHYS. HEINRICH SEIDS
6200 Wiesbaden α · Bierstadter Höhe 15 · Postfach 5105 · Telefon (o 6121) 56 20
Postscheck Frankfurt/Main 1810 08 - 602 · Bank Deutsche Bank 306 571 · Nass. Sparkasse 120 040
Wiesbaden, den io. Februar 1984
CD G 560 VNR 10 7565 S/we
Cj Glyco-Metall-Werke
~<r Daelen & Loos GmbH
OO Stielstraße
6200 Wiesbaden-Schierstein
Verfahren zum Herstellen von Schichtwerkstoff oder Schichtwerkstücken
Liste der Bezugszeichen
10 | - Rezxpienten |
11 | Werkstücke |
12 | Drehte Her an Ordnung |
13 | - Werkstückaufnahme |
14 | - Pfeil |
15 | Ätzblende |
16 | - Targetblende |
17 | - Pfeil |
18 | - Targetblende |
19 | - Pfeil |
20 | - Target |
21 | Target |
-A-
- Leerseite -
Claims (6)
- PATENTANWALTDIPL-PHYS. HEINRICH SEIDS6200 Wiesbaden % · Bierstadter Höhe 15 · Postfach 5105 · Telefon (ο 6a 21) 56 20 22 Postscheck Frankfurt/Main 1810 08 - 602 - Bank Deutsche Bank 506 571 · Nass. Sparkasse 120 040 995Wiesbaden, den 10. Februar 1984 G 560 VNR IO 7565 S/we^ Glyco-Metall-Werke^ Daelen & Loos GmbHStielstraße 116200 Wiesbaden-SchiersteinVerfahren zum Herstellen von Schichtwerkstoff oder SchichtwerkstückenPatentansprüche].) Verfahren zum Herstellen von Schichtwerkstoff oderSchichtwerkstücken durch Aufbringen mindestens einer eine im wesentlichen metallische Matrix aufweisenden Schicht auf die vorher gereinigte und aufgerauhte Oberfläche eines Trägerwerkstücks im Kathodenzerstäubungsverfahren unter Benutzung mindestens eines Kathodenzerstäubungs-Targets, das die der gewünschten Zusammensetzung der zu erzeugenden Schicht entsprechenden Stoffe enthält, gekennzeichnet durch die Ver- IQ fahrensschritte, daß- nach Erzeugen des für die Kathodenzerstäubung vorgesehenen Vakuumsin dem das Target bzw. die Targets und den zu beschichtenden Trägerwerkstoff bzw. die zu beschichtenden Trägerwerkstücke enthaltenen Rezipienten zunächst ein Freisputtern des Targets bzw. der Targets an den abzutragenden Oberflächen vorgenommen wird, wobei die zu beschichtendai Ober-i ι flächen des Trägerwerkstoffs bzw. der Trägerwerk- i stücke gegen Aufbringen von Targetmaterial geschützt werden.Dipl.-Phys. Heinrich Seid·; · Patentanwalt- Brf-^tadtet- Höht ia · Posträch 5iO5 · 6200 Wiesbaden 1 · iü" (0 6121) 56 20- nach dem Freisputtern der abzutragenden Oberflächendes Targets bzw. der Targets ein Ätzen der zu be-CD
co schichtenden Oberflächen des Trägerwerkstoffs bzw.^ der Trägerwerkstücke in einer elektrischen Corona-CD 5 Entladung in Art einer Kathodenzerstäubung vorge-(V^ nommen wird, bei der die Oberflächen des Targetsbzw. der Targets gegen Aufbringen von Werkstück-Material geschützt werden, und- anschließend an das Ätzen das Beschichten der Ober-"Lo flächen des Trägerwerkstoffs bzw. der Trägerwerkstücke im Kathodenzerstäubungsverfahren von den freigesputterten Target-Oberflächen her vorgenommen wird. - 2.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung von Schichtwerkstoff bzw. Schichtwerkstücken mit zwei oder mehr im Kathodenzerstäubungsverfahren übereinander aufgebrachten Schichten, die für die Erzeugung der verschiedenen Schichten erforderlichen Targets sämtlich in denselben Rezipienten eingesetzt und sämtlich vor dem Ätzen der zu beschichtenden Oberflächen des Trägerwerkstoffs bzw. der Trägerwerkstücke freigesputtert werden und daß die übereinander anzubringenden Schichten durch zeitlich direkt aufeinanderfolgende Kathodenzerstäubung von verschiedenen Targets her, d.h. ohne zwischenzeitliches Freisputtern und zwischenzeitliches Ätzen vorgenommen wird.
- 3.) Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß bei Benutzung von mehreren Targets, insbesondere von Targets unterschiedlicher Zusammensetzung, das Freisputtern der einzelnen Targets zeitlich nacheinander vorgenommen wird und zumindest die bereits freigesputterten Targets während des Freisputterns anderer Targets gegen das Aufbringen von Fremdmaterial geschützt werden.Dipl.-Phys. Heinrich Seids · Patentanwalt- Bl^-«tadter-Höhe 3.5 · Posifa'di 5105 · 6200 Wiesbaden 1 · & (06121) 56 20
- 4.) Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch CD gekennzeichnet, daß dem Target zum Freisputternο::) eine Blende gegenübergestellt und das Freisputtern"^f" im wesentlichen gegen diese Blende erfolgt.
- 5.) Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß dem Trägerwerkstoff bzw. den Trägerwerkstücken beim Ätzen eine Blende gegenübergestellt wird und das Ätzen als Kathodenzerstäubung von den zu beschichtenden Oberflächen des Trägerwerk-Stoffs bzw. der Trägerwerkstücke her im wesentlichen gegen diese Blende erfolgt.
- 6.) Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß zum fortlaufenden Herstellen von Schichtwerkstoff bzw. Schichtwerkstücken der Trägerwerkstoff bzw. die Trägerwerkstücke innerhalb desunter Vakuum gehaltenen Rezipienten durch zwei oder mehr Stationen geführt werden, in welchen das Ätzen und Beschichten fortlaufend vorgenommen werden, wobei das Freisputtern des bzw. der Targets nur einmal nach Schließen des Rezipienten und Erzeugen des Vakuums vorgenommen wird, während ggf. der Trägerwerkstoff bzw. die Trägerwerkstücke durch eine Vakuumschleuse in den Rezipienten eingeführt und der Schichtwerkstoff bzw. die Schichtwerkstücke durch eine Vakuumschleuse dem Rezipienten entnommen wird bzw. werden.
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ES540255A ES8605589A1 (es) | 1984-02-11 | 1985-02-08 | Procedimiento para fabricar material en capas o piezas en capas |
BR8500587A BR8500587A (pt) | 1984-02-11 | 1985-02-08 | Processo para a producao de material estratificado ou pecas de trabalho estratificadas |
JP60022116A JPS60184676A (ja) | 1984-02-11 | 1985-02-08 | 有被覆基材または有被覆部材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843404880 DE3404880A1 (de) | 1984-02-11 | 1984-02-11 | Verfahren zum herstellen von schichtwerkstoff oder schichtwerkstuecken |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3404880A1 true DE3404880A1 (de) | 1985-08-14 |
Family
ID=6227432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19843404880 Ceased DE3404880A1 (de) | 1984-02-11 | 1984-02-11 | Verfahren zum herstellen von schichtwerkstoff oder schichtwerkstuecken |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60184676A (de) |
AT (1) | AT383145B (de) |
BR (1) | BR8500587A (de) |
CH (1) | CH663220A5 (de) |
DE (1) | DE3404880A1 (de) |
ES (1) | ES8605589A1 (de) |
FR (1) | FR2559507A1 (de) |
GB (1) | GB2154249B (de) |
IT (1) | IT1184136B (de) |
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Also Published As
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---|---|
ES540255A0 (es) | 1986-03-16 |
ES8605589A1 (es) | 1986-03-16 |
IT8519200A0 (it) | 1985-01-23 |
GB8502734D0 (en) | 1985-03-06 |
JPS60184676A (ja) | 1985-09-20 |
CH663220A5 (de) | 1987-11-30 |
AT383145B (de) | 1987-05-25 |
ATA6285A (de) | 1986-10-15 |
BR8500587A (pt) | 1985-09-24 |
GB2154249B (en) | 1988-05-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8131 | Rejection |