DE3330144A1 - Verfahren zum gleichmaessigen erwaermen von heizgut in einem vakuumrezipienten - Google Patents
Verfahren zum gleichmaessigen erwaermen von heizgut in einem vakuumrezipientenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erwärmen von Heizgut
in einem Vakuumrezipienten. Solche Verfahren werden z.B. zum Entgasen, Löten, Sintern, Härten und in Verbindung mit Beschichtungs- oder Ionenbehandlungsverfahren
verwendet. Dabei soll eine möglichst gleichmässige Erwärmung des Heizgutes erzielt werden. In bekannten Vakuum-Wärmebehandlungsöfen
wird das Heizgut z.B. mit Heizflächen umgeben, deren Wärme durch Strahlung oder Wärmeleitung auf das Heizgut übertragen wird. Elektrisch leitendes
Heizgut kann auch durch induzierte Ströme erhitzt werden, und bekannt ist ferner die Verwendung einer Glimmentladung als Wärmequelle, die im
Falle der sogenannten anomalen Entladung die gesamte Kathodenfläche gleichmassig
bedeckt, so dass das als Kathode geschaltete Heizgut gleichmässig erwärmt werden kann.
Es ist weiter bekannt, Heizgut, z.B. zu schmelzende Metalle im Vakuum durch
Elektronenbeschuss zu erhitzen. Dabei muss aber durch eine besondere geometrische
Anordnung der Elektronenquelle dafür gesorgt werden, dass sich die
gewünschte Temperaturverteilung auf dem Heizgut ergibt. Bisher war es nur
mit entsprechend hohem Aufwand möglich, eine gleichmässige Erwärmung zu erzielen.
Normalerweise aber wird der Elektronenbeschuss gerade in entgegengesetztem
Sinn eingesetzt, nämlich zur Erzeugung lokal eng begrenzter heisser Stellen mit grossen Temperaturunterschieden zur Umgebung, wozu sich Elektronenstrahlen
wegen ihrer leichten Fokussierbarkeit besonders eignen.
Eine spezielle Form der Heizung durch Elektronenbeschuss stellt die Beheizung
mittels eines Niedervoltbogens dar; unter einem Niedervoltbogen im Rahmen
dieser Beschreibung ist eine Gasentladung zu verstehen, welche zwischen
einer heissen, durch Glühemission Elektronen emittierenden Kathode einerseits
und einer Anode andererseits brennt (es ist in diesem Zusammenhang unerheblich, ob die Kathode allein durch die Gasentladung auf Emissionstemperatur gehalten wird oder zusätzlich geheizt wird). Meistens wird
in der Nähe der Kathode ein Edelgas eingelassen, z.B. in den Hohlraum einer Hohlkathode oder? in eine besondere Glühkathodenkammer, welche über
eine Oeffnung mit dem Vakuumrezipienten verbunden ist. Es ist üblich, das
aus der Hohlkathode oder aus der Glühkathodenkammer durch die Oeffnung in
den Rezipienten eintretende Plasma mit Hilfe eines Magnetfeldes zu bündeln. Die Elektronen bewegen sich dabei auf engen Schraubenbahnen, deren Mittellinien
weitgehend den Feldlinien des Magnetfeldes entsprechen. Anordnungen dieser Art sind z.B. aus den US-Patentschriften 3 210 454 und 4 197 175
bekannt. Beide beschreiben das Erhitzen eines Schmelzgutes, welches als
Anode geschaltet ist, mittels eines magnetisch gebündelten Niedervoltbogens,
der auf das Schmelzgut gerichtet ist (zielt). Letzteres wird dadurch erreicht, dass die magnetischen Feldlinien - und damit auch die gewendelten
Elektronenbahnen - durch die erwähnte Oeffnung und durch das Schmelzgut
laufen. Der Niedervoltbogen .wird also hiebei zur Erzeugung lokal begrenzter
heisser Stellen mit grossen Temperaturunterschieden zur Umgebung verwendet.
Elektronenstrahlofen oder Lichtbogenöfen für die Wärmebehandlung von Heizgut
zu benutzen, dessen Oberfläche gleichmässig erwärmt werden sollte, erschien, wie gesagt, schwierig, denn eine ausreichend gleichförmige Stromdichteverteilung
auf dem Heizgut konnte man kaum erreichen.
Der vorliegenden Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
zum gleichmässigen Erwärmen von Heizgut unter Vakuum anzugeben, bei dem
nur die zu heizenden Gegenstände und ggf. noch ihre Halterung erwärmt werden müssen und keine Strahlungsheizkörper oder Induktionsheizspulen im
Rezipienten untergebracht werden müssen. Das erfindungsgemässe Verfahren zum gleichmässigen Erwärmen von Heizgut in einem Vakuumrezipienten durch
Beschuss des Heizgutes mit Elektronen aus einer zwischen einer im Rezipienten angeordneten Anode und einer in einer mit dem Rezipienten über
eine Oeffnung in Verbindung stehenden Kathodenkammer befindlichen hei ssen
Kathode aufrechterhaltenen magnetisch gebündelten Niedervoltbogenentladung,
ist dadurch gekennzeichnet, dass während des Heizens ein solches Magnetfeld aufrechterhalten wird, dass diejenigen Magnetfeldlinien, welche durch die
Oeffnung zwischen der Kathodenkammer und Rezipienten hindurchtreten, das
Heizgut nicht durchstossen.
Die betreffenden Magnetfeldlinien zielen also am Heizgut vorbei. Der Umstand,
dass beim erfindungsgemässen Verfahren die Elektronen aus dem durch das Magnetfeld
gebündelten Plasma erst lateral ausgelenkt werden müssen, bevor sie die zu heizenden Flächen erreichen können, bewirkt, dass sie sich wegen ihrer grossen
Beweglichkeit längs der Magnetfeldlinien, aber geringen Beweglichkeit senkrecht
dazu, grossflächig auf das Heizgut verteilen, wodurch eine wesentlich
gleichmässigere Erwärmung erzielt wird als mit einem magnetisch gebündelten
Plasmastrahl, der auf das Heizgut zu gerichtet ist.
Die Erfindung ergibt auch den Verteil, dass Einbauten, wie Heizkörper und
Induktionsspulen eingespart werden können, wodurch Platz gewonnen wird für Vorrichtungen, die evtl. für andere Prozesschritte im selben Rezipienten
dringend benötigt werden; auch die Magnetspulen für die Führung des Plasmas können ausserhalb des Rezipienten angeordnet werden.
Die Erfindung bezieht sich auch auf eine Vorrichtung zur Durchführung des
Verfahrens. Diese Vorrichtung weist eine evakuierbare Heizkammer, eine darin befindliche Haltevorrichtung für ein Heizgut und eine mit einer
eine heisse Kathode enthaltende, über eine Oeffnung für den Durchtritt
des durch die Niedervoltbogenentladung erzeugten Plasmas mit der Heizkammer
in Verbindung stehende Kathodenkammer, sowie eine Einrichtung zur Erzeugung eines Magnetfeldes in der Heizkammer auf, und ist dadurch gekennzeichnet,
dass durch die Oeffnung hindurchtretende magnetische Feldlinien das in der Haltevorrichtung der Arbeitskammer gehalterte Heizgut nicht durchstossen.
Eine bevorzugte Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens
erhält man mit einem zylindrischen Rezipienten, wenn die genannte Oeffnung und die Magnetspule koaxial zum Rezipienten angeordnet werden. Das Heizgut
kann dann um das in der Achse verlaufende Plasmabündel herum angeordnet werden,
wobei das axiale Magnetfeld bewirkt, dass die Elektronen sich in der axialen Richtung leicht bewegen können, in radialer Richtung jedoch nur durch Streuung
in Richtung zur Anode und damit zum Heizgut gelangen können. Diese Anisotropie
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bezüglich aer Bewegungsfreiheit der Elektronen bewirkt eine gleichmässige
Stromdichte-Verteilung in axialer Richtung und damit die gleichmässige
Heizwirkung auf das um die Achse herum angeordnete Heizgut.
Bei dieser bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung, bei der die Haltevorrichtung
für das Heizgut die Achse des Plasmabündels in der Heizkammer mantelförmig umgibt und eine koaxiale Magnetspule zur Erzeugung eines
das Plasma bündelnden Magnetfeldes vorgesehen ist, umfassen die von ihr erzeugten stets in sich geschlossenen magnetischen Feldlinien, soweit sie
durch die die Heizkammer und Kathodenkammer miteinander verbindende Oeffnung hindurchtreten, das Heizgut, ohne diese zu schneiden.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert:
Figur 1 zeigt als erstes Beispiel eine Anordnung mit einem in der Achse
eines zylindrischen Rezipienten verlaufenden Plasmastrahl entsprechend
der vorerwähnten bevorzugten Ausführungsform.
Figur 2 zeigt eine andere Anordnung, bei der der Plasmastrahl senkrecht
zur Rezipientenachse steht.
In Figur 1 bedeutet 1 einen glockenförmigen Vakuumrezipienten, in dem auf
einer Halterung 2 das Heizgut 3 getragen ist. Die Halterung ist mittels einer elektrischen Isolation 4 an der Bodenplatte 5 des Rezipienten befestigt
und wird über eine vakuumdichte Stromdurchführung 6 mit dem positiven Pol
eines Speisegerätes 7 elektrisch verbunden. Am oberen Teil des Rezipienten
ist eine Glühkathodenkammer 8 angebracht und über eine Oeffnung 9 mit dem
Innenraum des Rezipienten 1 verbunden. In dieser Glühkathodenkammer ist,
von einer isolierenden Platte 11 getragen, die Glühkathode 12 untergebracht,
die(wie in der Zeichnung angedeutet, ein durch Stromdurchgang geheizter
Draht sein kann; sie kann aber auch in Form einer geheizten oder sich selbst
aufheizenden Hohlkathode ausgebildet werden. Für das Einlassen von Gasen
in die Glühkathodenkammer ist ein Regelventil 13 vorgesehen. Eine Magnetspule
14 erzeugt ein zum Rezipienten 1 koaxiales Magnetfeld. Folgt man der
zentralen Feldlinie ausgehend von der Oeffnung 9 , so wird das Magnetfeld
stärker und erreicht seine grösste Intensität auf der Mittel ebene der Magnetspule
14. Weiter unten divergieren die Feldlinien, die Feldstärke auf der
Achse wird aber nie schwächer als in der Oeffnung 9 . Um den Heizprozess
durchzuführen, pumpt man mit Hilfe einer Hochvakuumpumpe am Pumpstutzen 15 den Rezipienten und die mit ihm verbundene Glühkathodenkammer 8 luftleer,
bis ein Druck kleiner als etwa 0,01 Pa erreicht ist. Bei laufender Pumpe lässt man dann durch das Ventil 13 so viel Gas, z.B. das Edelgas Argon, einströmen,
dass sich im Rezipienten ein Argondruck zwischen 0,1 Pa und 1 Pa einstellt. Man heizt dann die Glühkathode 12 und schaltet das Speisegerät
ein. Letzteres erzeugt eine elektrische Spannung von z.B. 100 Volt.(Um den
Niedervoltbogen zu zünden, ist es zweckmässig, die isolierte Wand mit der
Oeffnung 9 kurzzeitig auf Anodenpotential zu legen oder über einen Ohmschen Widerstand ständig mit dem Pluspol des Speisegerätes 7 zu verbinden, so dass
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die Zündung selbsttätig erfolgt). Die durch die Oeffnung 9 in den Rezipienten 1
eintretenden Elektronen folgen bei ausreichender Feldstärke (z.B. 0,01 Tesla)
den Feldlinien auf gewendelten Bahnen mit sehr kleinen Radien, so dass entlang
der zentralen Achse eine Plasmasäule entsteht, deren Durchmesser vom Durchmesser
der Oeffnung 9 bestimmt wird. Das Magnetfeld bewirkt, dass sich die
Elektronen parallel zur Achse leichter bewegen können als senkrecht zur Achse. Dadurch wird der Elektronenstrom auf dem ganzen als Anode geschalteten Halter
2 verteilt. Bei einem Bogenstrom von 100 A und einer Bogenspannung von
50 V kann z.B. eine Heizleistung von etwa 3 kW (Wirkungsgrad : 60 %) auf den
Halter · 2 und auf das Heizgut 3 übertragen werden. Die Strom-Spannungs-Charakteristik
der Entladung und der Wirkungsgrad sind von der Magnetfeldstärke und
vom Argon-Gasdruck abhängig.
Die Spule 14 in dem Beispiel der Figur 1 erzeugt im wesentlichen ein zur vertikalen
Rezipientenachse paralleles Magnetfeld, und es ist ersichtlich, dass die
in Achsnähe längs durch das Plasmabündel verlaufenden Magnetfeldlinien das
Heizgut nicht schneiden. Im Raum zwischen dem Plasmabündel und den zu erhitzenden
Flächen herscht ein im wesentlichen achsenparalleles Magnetfeld, welches
bewirkt, dass sich die Elektronen in Achsrichtung ziemlich gleichmässig verteilen,
bevor sie auf die zu erhitzenden Flächen auftreffen.
In Figur 2 sind funktionell entsprechende Teile gleich wie in Figur 1 bezeichnet
und zwar bedeutet wiederum 1 den Rezipienten, 2 die Haltevorrichtung für
das Heizgut 3, die von der Bodenplatte 5 der Anlage getragen und dieser gegenüber
durch den Isolator 4/6 elektrisch isoliert ist. An die Heizkammer ist
seitlich die GTühkathodenkammer 8 angeflanscht, deren Aufbau der in Figur 1
gezeigten Glühkathodenkammer entspricht. Ausserdem ist wiederum eine Spule 14
vorgesehen, deren Achse jedoch im Gegensatz zu der Anordnung in Figur 1 nicht mit der Längsachse des beim Betrieb aus der Glühkathodenkammer durch die
Oeffnung in die Heizkammer eintretenden Plasmabündels 16 zusammenfällt sondern
dieser gegenüber mit einem gewissen Abstand parallel versetzt ist. Dies bewirkt,
wie in Figur 2 angedeutet, dass das durch die Oeffnung 9 in die Heizkammer eintretende
Plasmabündel 16 den durch die tiefer!iegende Spule 14 erzeugten magnetischen
Feldlinien folgend,wie aus Figur 2 ersichtlich,nach oben abgelenkt wird,
wobei diejenigen magnetischen Feldlinien, welche in der Durchtrittsöffnung 9
parallel zum Plasmabündel verlaufen, das Heizgut nicht schneiden können. Andere Kraftlinien, die nicht durch die Oeffnung 9 in die Heizkammer eintreten
sondern etwa seitlich derselben durch die Zwischenwand zwischen der Glühkathodenkammer
und der Heizkammer hindurchgehen, können zwar teilweise die zu heizenden Flächen durchstossen, berühren den Plasmastrahl aber nicht. Im
Gegensatz dazu wurde in bekannten Anordnungen das Magnetfeld gerade dazu benutzt,
um das magnetischen Kraftlinien entlanglaufende Plasma auf die zu heizenden
Flächen zu führen, was zu lokal stark ungleichmässiger Erhitzung führte, da der Querschnitt des Plasmabündels eine sehr ungleichmässige Ladungsträgerdichte
besitzt. Gegenüber den bekannten Plasmaheizverfahren mit magnetischer Führung
des Plasmas erbringt das erfindungsgemässe Verfahren eine wesentliche Verbesserung
in der Gleichmässigkeit der Erwärmung. Mit der Vorrichtung gemäss
Figur 1 beispielsweise konnte bei Erhitzung einer Charge von Werkzeugen (Spiralbohrer
aus Stahl) auf eine mittlere Temperatur von 500 C erreicht werden, dass sich zwischen den heissesten und den kältesten Stellen der Charge ein
Temperaturunterschied von nur 30° C einstellte, obwohl die zu erwärmenden Werk-
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zeuge ohne jede Strahlungsabschirmung gegen die auf Zimmertemperatur gehaltenen
Wände des Rezipienten in diesem angeordnet waren. Eine derartige Gleichmässigkeit
kann mit anderen bekannten Heizverfahren nur mit einem wesentlich höheren
Aufwand erkauft werden. Will man bei dem Heizverfahren nach der Erfindung etwa noch vorhandene geringe Temperaturunterschiede ausgleichen, kann man zusätzlich
das Heizgut bewegen, wie dies z.B. durch den in Figur 2 dargestellten Drehtisch ermöglicht wird.
Unter Heizgut im Sinne der vorstehenden Beschreibung werden nicht nur Gegenstände
sondern auch Materialien z.B. in Form von Pulvern verstanden.
Ganz besonders vorteilhaft ist das erfindungsgemässe Verfahren, da die hiefür
benötigten Vorrichtungen oft auch für andere Verfahrensschritte eingesetzt werden können, z.B. zum Beschuss des Heizgutes mit positiven Ionen aus der
Niedervoltbogenentladung. Das Heizgut liegt in diesem Falle auf einem im Vergleich zur (separaten) Anode negativen Potential, so dass Gasausbrüche am
Heizgut zu Funkenentladungen führen können, welche schädliche Spuren auf dem
Heizgut hinterlassen. Solche Gasausbrüche können mittels einer vorhergehenden Entgasungsphase durch Erwärmen des zu behandelnden Gutes vermieden werden. Ein Beschuss mit positiven Ionen wird z.B. bei den sogenannten Ion-Plating-Prozessen oder beim Ionitrieren durchgeführt.
Niedervoltbogenentladung. Das Heizgut liegt in diesem Falle auf einem im Vergleich zur (separaten) Anode negativen Potential, so dass Gasausbrüche am
Heizgut zu Funkenentladungen führen können, welche schädliche Spuren auf dem
Heizgut hinterlassen. Solche Gasausbrüche können mittels einer vorhergehenden Entgasungsphase durch Erwärmen des zu behandelnden Gutes vermieden werden. Ein Beschuss mit positiven Ionen wird z.B. bei den sogenannten Ion-Plating-Prozessen oder beim Ionitrieren durchgeführt.
Claims (8)
1./ Verfahren zum gleichmässigen Erwärmen von Heizgut in einem Vakuumrezipienten
durch Beschuss des Heizgutes mit Elektronen aus einer zwischen einer im Rezipienten angeordneten Anode und einer in einer mit dem Rezipienten
über eine Oeffnung in Verbindung stehenden Kathodenkammer befindlichen hei ssen Kathode aufrechterhaltenen magnetisch gebündelten Niedervoltbogenentladung,
dadurch gekennzeichnet, dass während des Heizens ein solches Magnetfeld aufrechterhalten wird, dass
diejenigen Magnetfeldlinien, welche durch die Oeffnung zwischen der Kathodenkammer
und Rezipienten hindurchtreten, das Heizgut nicht durchstossen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass ein Magnetfeld aufrechterhalten wird, bei dem diejenigen Magnetfeldlinien,
welche durch die genannte Oeffnung hindurchtreten, die Anode der Niedervoltbogenentladung nicht durchstossen.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass das Heizgut selbst als Anode der Niedervoltbogenentladung geschaltet
wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass im Bereich zu erhitzender Oberflächen des Heizgutes ein zu diesen paralleles Magnetfeld aufrechterhalten wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass das Heizgut um das Plasmabündel herum angeordnet wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass das Heizgut gleichzeitig bewegt wird.
7. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 mit einer evakuierbaren
Heizkammer, darin befindlicher Haltevorrichtung für ein Heizgut
und mit einer eine heisse Kathode enthaltenden, über eine Oeffnung für den
Durchtritt des durch die Niedervoltbogenentladung erzeugten Plasmas mit der
Heizkammer in Verbindung stehenden Kathodenkammer, sowie mit einer Einrichtung zur Erzeugung eines Magnetfeldes in der Heizkammer, dadurch
gekennzei chnet, dass die Einrichtung zur Erzeugung des Magnetfeldes
derart angeordnet ist, dass durch die Oeffnung hindurchtretende magnetische Feldlinien das in der Haltevorrichtung der Arbeitskammer
gehalterte Heizgut nicht durchstossen.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, bei der die Haltevorrichtung für das Heizgut
die Achse des Plasmabündels in der Heizkammer mantelförmig umgibt und eine
Magnetspule zur Erzeugung eines das Plasma bündelnden Magnetfeldes vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnetspule
derart angeordnet ist, dass die von ihr erzeugten magnetischen Feldlinien, soweit sie durch die die Heizkammer und Kathodenkammer miteinander verbindende
Oeffnung hindurchtreten, das Heizgut umfassen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH5389/82A CH658545A5 (de) | 1982-09-10 | 1982-09-10 | Verfahren zum gleichmaessigen erwaermen von heizgut in einem vakuumrezipienten. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3330144A1 true DE3330144A1 (de) | 1984-03-15 |
DE3330144C2 DE3330144C2 (de) | 1987-02-19 |
Family
ID=4292741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833330144 Granted DE3330144A1 (de) | 1982-09-10 | 1983-08-20 | Verfahren zum gleichmaessigen erwaermen von heizgut in einem vakuumrezipienten |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4555611A (de) |
CH (1) | CH658545A5 (de) |
DE (1) | DE3330144A1 (de) |
FR (1) | FR2533103B1 (de) |
GB (1) | GB2127213B (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7025863B2 (en) | 2000-09-05 | 2006-04-11 | Unaxis Balzers Limited | Vacuum system with separable work piece support |
DE4345602B4 (de) * | 1992-05-26 | 2010-11-25 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Verfahren zum Zünden und Betreiben einer Niederspannungs-Bogenentladung, Vakuumbehandlungsanlage und Kathodenkammer hierfür sowie Verwendung des Verfahrens |
WO2020225385A1 (en) | 2019-05-07 | 2020-11-12 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Movable work piece carrier device for holding work pieces to be treated |
WO2021018835A1 (en) | 2019-07-26 | 2021-02-04 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Fixture to be used in pvd processes for cylindrical, elongated substrates |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3406953C2 (de) * | 1983-04-19 | 1986-03-13 | Balzers Hochvakuum Gmbh, 6200 Wiesbaden | Verfahren zum Erwärmen von Heizgut in einem Vakuumrezipienten |
US5250779A (en) * | 1990-11-05 | 1993-10-05 | Balzers Aktiengesellschaft | Method and apparatus for heating-up a substrate by means of a low voltage arc discharge and variable magnetic field |
DE4035131C2 (de) * | 1990-11-05 | 1995-09-21 | Balzers Hochvakuum | Verfahren und Vorrichtung zum gleichmäßigen Erwärmen von Heizgut, insbes. von zu beschichtenden Substraten, in einer Vakuumkammer |
DE4416525B4 (de) * | 1993-05-27 | 2008-06-05 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung erhöhter Verschleißfestigkeit auf Werkstückoberflächen, und dessen Verwendung |
US5374801A (en) * | 1993-11-15 | 1994-12-20 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Plasma heating for containerless and microgravity materials processing |
DE4426780C2 (de) * | 1994-07-28 | 1998-04-09 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Kristallisator für Vakuumschmelzanlagen |
US5478608A (en) * | 1994-11-14 | 1995-12-26 | Gorokhovsky; Vladimir I. | Arc assisted CVD coating method and apparatus |
US5587207A (en) | 1994-11-14 | 1996-12-24 | Gorokhovsky; Vladimir I. | Arc assisted CVD coating and sintering method |
DE19725930C2 (de) * | 1997-06-16 | 2002-07-18 | Eberhard Moll Gmbh Dr | Verfahren und Anlage zum Behandeln von Substraten mittels Ionen aus einer Niedervoltbogenentladung |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3210454A (en) * | 1962-05-17 | 1965-10-05 | Alloyd Electronics Corp | High temperature apparatus |
DE1288708B (de) * | 1965-05-22 | 1969-02-06 | Inst Badan Jadrowych | Ofen zur Erhitzung eines Materials durch einen laminaren Plasmastrom |
US4197175A (en) * | 1977-06-01 | 1980-04-08 | Balzers Aktiengesellschaft | Method and apparatus for evaporating materials in a vacuum coating plant |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1275261A (en) * | 1968-06-04 | 1972-05-24 | Atomic Energy Authority Uk | Improvements in or relating to non thermionic cathode slow discharge devices |
GB1290863A (de) * | 1969-08-05 | 1972-09-27 | ||
US3944412A (en) * | 1974-09-18 | 1976-03-16 | Hsin Liu | Method for recovering metals |
US4181504A (en) * | 1975-12-30 | 1980-01-01 | Technology Application Services Corp. | Method for the gasification of carbonaceous matter by plasma arc pyrolysis |
DE3047602A1 (de) * | 1976-06-26 | 1982-07-22 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Vorrichtung zum aufdampfen insbesondere sublimierbarer stoffe im vakuum mittels einer elektronenstrahlquelle |
US4301352A (en) * | 1979-10-15 | 1981-11-17 | Shipai Andrei K | Device for surface fusion treatment of artificial stone products |
US4471003A (en) * | 1980-11-25 | 1984-09-11 | Cann Gordon L | Magnetoplasmadynamic apparatus and process for the separation and deposition of materials |
EP0054201B1 (de) * | 1980-12-11 | 1986-11-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Apparat zum Trockenätzen und Verfahren |
CH645137A5 (de) * | 1981-03-13 | 1984-09-14 | Balzers Hochvakuum | Verfahren und vorrichtung zum verdampfen von material unter vakuum. |
-
1982
- 1982-09-10 CH CH5389/82A patent/CH658545A5/de not_active IP Right Cessation
-
1983
- 1983-08-20 DE DE19833330144 patent/DE3330144A1/de active Granted
- 1983-08-26 US US06/526,526 patent/US4555611A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-09-02 GB GB08323564A patent/GB2127213B/en not_active Expired
- 1983-09-09 FR FR8314369A patent/FR2533103B1/fr not_active Expired
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3210454A (en) * | 1962-05-17 | 1965-10-05 | Alloyd Electronics Corp | High temperature apparatus |
DE1288708B (de) * | 1965-05-22 | 1969-02-06 | Inst Badan Jadrowych | Ofen zur Erhitzung eines Materials durch einen laminaren Plasmastrom |
US4197175A (en) * | 1977-06-01 | 1980-04-08 | Balzers Aktiengesellschaft | Method and apparatus for evaporating materials in a vacuum coating plant |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4345602B4 (de) * | 1992-05-26 | 2010-11-25 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Verfahren zum Zünden und Betreiben einer Niederspannungs-Bogenentladung, Vakuumbehandlungsanlage und Kathodenkammer hierfür sowie Verwendung des Verfahrens |
US7025863B2 (en) | 2000-09-05 | 2006-04-11 | Unaxis Balzers Limited | Vacuum system with separable work piece support |
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