DE3310764C2 - Verfahren und Gerät zum Reinigen der Oberfläche von Glas- oder Porzellankörpern, insbesondere von Hochspannungsisolatoren - Google Patents
Verfahren und Gerät zum Reinigen der Oberfläche von Glas- oder Porzellankörpern, insbesondere von HochspannungsisolatorenInfo
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- H02G—INSTALLATION OF ELECTRIC CABLES OR LINES, OR OF COMBINED OPTICAL AND ELECTRIC CABLES OR LINES
- H02G1/00—Methods or apparatus specially adapted for installing, maintaining, repairing or dismantling electric cables or lines
- H02G1/02—Methods or apparatus specially adapted for installing, maintaining, repairing or dismantling electric cables or lines for overhead lines or cables
Abstract
Fremdschichten auf Glas- oder Porzellankörpern, insbesondere Hochspannungsisolatoren, werden mit einem Lösungsmittel besprüht, das eine geringere Dehnung besitzt als der Glas- bzw. Porzellankörper. Beim Trocknen des Lösungsmittels wird die Fremdschicht in Schuppen umgewandelt, die durch anschließendes Beblasen leicht abblättern. Auf diese Weise ergibt sich eine intensivere Reinigung bei wesentlich kürzeren Reinigungszeiten.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und ein Gerät zum Reinigen der Oberfläche von Glas- oder
Porzellankörpern, insbesondere von Hochspannungsisolatoren, durch Beblasen mit Gas.
Hochspannungsisolatoren müssen bei besonders ungünstigen Betriebsverhältnissen trotz eines hohen spezifischen
Kriechweges und optimaler Schirmverteilungsverhältnisse gereinigt wenden. Die Reinigung wird
nach Abschalten der Spannung entweder von Hand trocken, feucht, mit oder ohne Putzmittel vorgenommen
oder unter Verwendung stationärer Anlagen durch Abspritzen der Isolatoren mittels Wasser (DE-PS 9 57 050).
Das Auswechseln der mit einer Fremdschicht behafteten Isolatorketten gegen werkstattmäßig gereinigte Isolatorketten
bietet sich als weitere Lösung an. Dies ist jedoch mit einem erheblichen Aufwand verbunden.
Zürn Reinigen von Hochspannungsisolatoren ist es aus der DE-PS 8 97 276 ferner bekannt, stationäre Düsen
vorzusehen, die über Ventile an eine Preßluftleitung angeschlossen sind. Von Zeit zu Zeit werden die Ventile
für kurze Zeit geöffnet, um die Isolatoren zu beblasen
'Und den Staub zu entfernen.
s Aus der DE-OS 21 57 483 ist ein Reinigungsverfahren
für Fahrzeuge bzw. flugtechnische Körper bekannt, bei dem die Schmutzschicht mit einem Reinigungsmittel
versetzt wird, das aus einem flüssigen oder gasförmigen Trägerstoff und einem in Anwesenheit des flüssigen
Trägerstoffes stark quellenden sowie eine kleine Korngröße aufweisenden Material besteht. Als Trägerstoff
kann Wasser und Petroleum und als eine kleine Korngröße aufweisendes Material Holzschliff bzw. Holzmehl
verwendet werden. Dabei soll das Reinigungsmittel ein Verkleben ausschließen. Dieses bekannte Reinigungsmittel
enthält als Hauptanteil Wasser, dem Spiritus oder Petroleum und Holzschliff zugesetzt wird. Ein derartiges
Reinigungsmittel, das Petroleum enthält, ist aber für die Reinigung eines Isolators unbrauchbar, da Petroleum
den Isolator verschmiert und neuer Staub wieder besser haftet Ferner ist ein Reinigungsmittel, das V/asser
enthält, elektrisch leitend.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und ein Gerät anzugeben, das die Reinigung von
Glas- oder Porzellankörpern erheblich vereinfacht und eine gute Reinigung erzielen läßt
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß die Fremdschicht des Schirms mit einem Reinigungsmittel besprüht wird, das aus einem rein organischen,
flüssigen Trägerstoff und einem rein organischen festen Stoff besteht, und daß die Fremdschicht nach dem
Trocknen des Reinigungsmittels und Bilden von Schuppen weggeblasen wird.
Als rein organisches Material kann Polykohlensäureester und als rein organischer, flüssiger Trägerstoff
Methylenchlorid im Mischungsverhältnis von etwa I : 3 dienen. Nach einer ar.deren Lösung ist als Reinigungsmittel
physikalisch trocknender Lack mit Verdünnungsmittel im Mischungsverhältnis von etwa 1 :0,5 bis 1 :10,
insbesondere Zaponlack, verwendet, der bekanntlich aus Aceton und Spiritus als flüssiger Trägerstoff und
Zelluloid als festem organischen Stoff besteht. Wesentlich ist, daß es sich hierbei um einen physikalisch trocknenden
Lack handelt.
Zum Unterschied von dem bekannten Verfahren gemaß der DE-OS 21 57 483 wird also als Trägermaterial
nicht Wasser verwendet, sondern ein rein organischer flüssiger Trägerstoff. Das feste organische Material
(Kunststoff) löst sich in dem flüssigen organischen Triigerstoff. Dabei bleibt nach dem Aufbringen, Eindringen
in die Schmutzschicht und anschließendem Trocknen etwas Trägerstoff im festen Material eingelagert und
bindet dadurch Schmutzpartikel besser, als beim bekannten Verfahren gemäß der DE-OS 21 57 483. Die
Staubpartikel verkleben mit dem Reinigungsmittel und mit zunehmender Verdunstung des Trägerstoffes erhöht
sich die Oberflächenspannung, so daß es zu Schuppenbildung kommt, wobei durch den noch eingelagerten
Trägerstoff die Schuppen eine elastische Restspannung haben, so daß sie sich vom Isolator vollständig
lösen. Dies kann schon bei geringer Luftbewegung bzw. durch einen künstlich erzeugten Luftstrom ermöglicht
werden. Das Reinigungsmittel ist ein Gemisch, das elektrisch schlecht leitend ist, so daß es im Gcgensai/ zu
dem vorgenannten Reinigungsverfahren auch bei unter Spannung stehenden Isolatoren angewendet werden
kann.
Das Reinigungsmittel kann auch vorgewärmt auf den Isolator aufgesprüht werden. Dadurch wird eine bessere
Reinigung erzielt.
60- ; In der Zeichnung (Fig. 1 bis 3) ist ein Gerät zur
-Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens an einem Beispiel dargestellt.
In der Figur ist mit 1 ein Mast einer Hochspannungsleitung
bezeichnet, an dessen Traversen 2,3 über Isolatorenketten
4 Leiterseile 5 aufgehängt sind. Zur Reinigung der aus Schirmen 4a zu Isolatorenketten zusammengesetzten
Isolatoren dient ein Gerät mit einem langen Rohr 6 an dessen einem Ende ein offener Tragring 7
fur mit dem Rohr verbundene Düsen 8 angeordnet ist, während das andere Ende des Rohres 6 über einen
Schlauch 9 und eine Pumpe 10 mittels eines Umschalters 11 wahlweise mit einem Behälter 12 für das Reinigungsmittel
4c oder an einen Luftansaugstutzen 13 anschließbar ist
Der Tragring 7 ist als Dreiviertel-Ring oder Halbring
ausgebildet, so daß er über den Isolator geführt werden kann und diesen möglichst weitgehend umfaßt. Die Düsen
8 sind so angeordnet, daß ein Teil senkrecht, ein anderer nach oben und ein weiterer (siehe Fi g. 3) nach
unten sprüht. Dadurch kann die Isolatoroberfläche innerhalb sehr kurzer Zeit besprüht werden.
Zur Reinigung wird der verschmutzte Isolator zunächst allseitig mit dem Reinigungsmittel besprüht Das
Reinigungsmittel verbindet sich mit der Fremdschicht, dringt bis zur Glasur des Isolators vor und setzt die
Haftfähigkeit der Fremdschicht an der Glasur herab. Die Glasur wird dabei nicht angegriffen. Das Reinigungsmittel
hat eine geringere Dehnung als der Isolator. die bei Austrocknung des Reinigungsmittels 4c ein Abblättern
der Fremdschicht Ab (siehe in Fig.2 den Ausschnitt
eines Schirms 4a) bewirkt. Es bildet sich eine schuppenartige Schicht, die nach Umschalten des Gerätes
auf Druckluftbetrieb sehr leicht weggeblasen werden kann.
30
35
40
45
50
55
*5
ι Bezugszeichenliste ! |
Mast |
; I 1 |
Traverse |
\ 2 | Traverse |
1 3 | Isolatorkette |
, 4 | Schirm |
Ϊ 4a | Fremdschicht |
4b | Reinigungsmittel |
i 4c | Leiterseile |
\ 5 | langes Rohr |
? 6 | Tiagring |
I 7 | Düsen |
i 8 | Schlauch |
"i 9 | Pumpe |
I 10 | Umschalter |
■ 11 | Behälter |
; 12 | Luftansaugstutzen |
\ 13 | Hierzu 1 Blatt Zeichnungen |
Claims (5)
1. Verfahren zum Reinigen der Oberfläche von Glas- oder Porzellankörpern, insbesondere von
Hochspannungsisolatoren, durch Beblasen mit Gas, dadurch gekennzeichnet, daß die Fremdschicht
(4b) des Schirms (4a) mit einem Reinigungsmittel besprüht wird, das aus einem rein organischen,
flüssigen Trägerstoff und einem rein organischen festen Stoff besteht, und daß die Fremdschicht
(4b) nach dem Trocknen des Reinigungsmittels (4c) und Bilden von Schuppen weggeblasen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß als Reinigungsmittel eine Mischung aus Polykohlensäureester und Methylenchlorid im
Mischungsverhältnis von etwa 1 :3 dient.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
da2 als Reinigungsmittel physikalischer trocknender Lack mit Verdünnungsmittel im Mischungsverhältnis
von etwa 1 :0,5 bis 1 :10 dient.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Reinigungsmittel
vorgewärmt aufgesprüht wird.
5. Gerät zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß an einem Ende eines langen Rohres (6) ein offener Tragring (7) für mit dem Rohr (6)
verbundenen Düsen (8) angeordnet ist und das andere Ende des Pohres (6) über einen Schlauch (9) und
eine Pumpe (10) mittels eines Umschalters (11) wahlweise mit einem Behälter (12) for das Reinigungsmittel
(4c) oder an einen Luftansaugstutzen (13) anschließbar ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19833310764 DE3310764C2 (de) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | Verfahren und Gerät zum Reinigen der Oberfläche von Glas- oder Porzellankörpern, insbesondere von Hochspannungsisolatoren |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19833310764 DE3310764C2 (de) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | Verfahren und Gerät zum Reinigen der Oberfläche von Glas- oder Porzellankörpern, insbesondere von Hochspannungsisolatoren |
Publications (2)
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DE3310764A1 DE3310764A1 (de) | 1984-10-04 |
DE3310764C2 true DE3310764C2 (de) | 1986-07-10 |
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ID=6194554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19833310764 Expired DE3310764C2 (de) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | Verfahren und Gerät zum Reinigen der Oberfläche von Glas- oder Porzellankörpern, insbesondere von Hochspannungsisolatoren |
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- 1983-03-24 DE DE19833310764 patent/DE3310764C2/de not_active Expired
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