DE3243277A1

DE3243277A1 - Verfahren zur erzeugung eines bildes in einem lichtempfindlichen material unter verwendung einer photopolymerisierbaren zusammensetzung und entwicklungsvorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens

Info

Publication number: DE3243277A1
Application number: DE19823243277
Authority: DE
Inventors: Kesanao Kobayashi; Tadao Toyama; Susumu Shizuoka Yoshida
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1981-11-24
Filing date: 1982-11-23
Publication date: 1983-06-09
Also published as: US4573782A; GB2112952B; GB2112952A; JPS5890636A

Description

Verfahren zur Erzeugung eines Bildes in einem lichtempfindlichen Material unter Verwendung einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung und Entwicklungsvorrichtung zur Durchführung diescis Verfahrens

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung eines Bildes in einem lichtempfindlichen Material mit einer photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht sowie eine Entwicklungsvorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens; sie betrifft insbesondere ein Verfahren zur Erzeugung eines Bildes, bei dem zwischen der Belichtungsstufe und der Entwicklungsstufe eine Erhitzungsstufe eingeschoben wird, sowie eine Entwicklung.svort ichhun<"j zur Durchführung diese« Verfahrens.

Es ist bekannt, daß ein lichtempfindliches Material, in dem eine photopolymerLsierbare Zusammensetzung verwendet wird, durch Erhitzen nach seiner Belichtung sensibilisiert wird. Diese Sensibilisierung durch Erhitzen läuft in der Regel in der festen Phase al), wobei die Empfindlichkeit um einigemal bis einige zehnmal des ursprünglichen Wertes ansteigt. Ein

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Vorteil dor Erhöhung dot Empfindlichkeit durch Erhitzen besteht darin, da/3 d Lo HeI Lchtungszeit abgekürzt worden kann, daß der Operationswirkungsgrad verbessert werden kann und gleichzeitig Energie eingespart werden kann* Wenn die Empfindlichkeit des lichtempfindlichen Materials deutlich erhöht wird, kann es einer weiteren Belichtung unterworfen werden und außerdem kann eine Abtastbelichtung unter Verwendung eines Lasers angewendet werden.

IQ Ein anderer Vorteil besteht darin, daß es möglich ist, einen Photopolyiner i sat ions initiator zu verwenden, der eine geringe Empfindlichkeit, und eine gute Stabilität aufweist und billig ist. Dadurch ist es möglich, ein billiges lichtempfindliches Material mit einer guten Stabilität herzustellen.

Andererseits wird durch die Einschaltung einer solchen Erhitzungsstufe in das Plattenherstellungsverfahren die Anzahl der Stufen erhöht und das Verfahren wird kompliziert.

Insbesondere treten Probleme auf bei der Behandlung bzw.

Entwicklung einer großen Anzahl von lichtempfindlichen Materalien.

Es wurde nun gefunden, daß eine festgelegte Zeitspanne

zwischen den Erhitzungs- und Entwicklungsstufen eines 25

lichtempfindlichen Materials wichtig ist. Es wurde ferner gefunden, daß die Empfindlichkeit völlig verschieden ist, wenn das lichtempfindliche Material unmittelbar nach dem Erhitzen entwickelt wird, und wenn eine Reihe von lichtempfind 1 Lehen Material.ton erhitzt und diese erst- nach Ab-30

Schluß dor. Krh LI "Xtitn/ :,,'imt I i ch''t Materialien entwickelt werden.

Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Erzeugung eines Bildes in einem lichtempfindlichen Material mit einer photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht anzugeben, bei dem zwischen der Belichtungsstufe und der Entwicklungsstufe eine Erhitzungsstufe vor-

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gesehen wird, wodurch dip Hot ichf unqszoit: abgekürzt wird. Ein woil.ercfi Ziel, dor Erfindung besieht; darin, ein Verfahren zur Erzeugung einet; Bildes; anzugeben, mit: dessen Hilfe es möglich ist, Änderungen der Empfindlichkeit al.s Folge von Unterschieden hinsichtlich der Bedingungen, unter denen das lichtempfindliche Material bis zur Entwickjung nach dem Erhitzen gelagert wird, zu verhindern und das Problem der Vergrößerung des Arbeitsaufwandes, der mit der Einführung einer ErhitzungsjsLufe verbunden ist, zu überwinden,

Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist gemäß einer Ausführungsform ein Verfahren zur Erzeugung eines Bildes, das darin besteht·, daß man nacheinander eine Reihe von lichtempfindlichen Materialien bildmäßig belichtet, erhitzt und entwickelt, wobei diese? lichtempfindlichen Materialien eine lichtempfindliche Schicht aufweisen, die aus einer photopo1ymerLsierbaren Zusammensetzung besteht, wobei die Zeitspanne zwischen dem Erhitzen und dem Entwickeln bei einem ganz bestimraten Wert gehalten wird.

Gemäß einer anderen Ausführungsform betrifft die vorliegende Erfindung eine Vorrichtung zum Entwickeln von lichtempfindlichen Materialien, die oine licht-empfindliche Schicht aufweisen, dIo aus einer photopol, ymer isierbaron

ng Zusammensetzung bosteht-, die umfaßt" eine Entwicklungseinheit vom Walzentransport typ und eine; an die Entwicklungseinheit angepaßte Erhilzungseinhoit. Die Erhitzungseinheit ist so angeordnet, daß eine boli.chtote lichtempfindliche Schicht erhitzt und dann das lichtempfindliche Material

_on innerhalb einr>r vorgeqobnnen Ικ·..;f immten Zeitspanne in die Entwickiungse Inhei L vom Walzent" ranspor ttyp eingeführt wird.

Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigen:

Fig. 1 ein Diagramm, das die Beziehung zwischen der Empfindlichkeit und der Zeitspanne¹ zwischen der Belichtung und der Entwicklung und -/wisrhon dor Erhitzung und

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der Entwicklung erläutert; und

Fig. 2 ein Beispiel für eine erfindungsgemäßo Vorrichtung.

Erfindungsgomäß wird ein Behandlungs- bzw. Entwicklungssystem verwendet, in dem eine Erhitzungseinheit an einem Punkt vorgesehen ist, bevor die belichteten lichtempfindlichen Materialien in die Entwicklungseinheit vom Walzentransporttyp eines Bilderzeugungs-Behandlungs- bzw. -Ent-Wicklungssystems eingeführt werden. Das heißt, erfindungsgemäß wird die zum Starten der Entwicklung nach dem Erhitzen erforderliche Zeit konstant gehalten, und die Anzahl der Operationen wird durch die Einarbeitung einer Erhitzungseinheit in die automatische Entwicklungsvorrichtung nicht erhöht. Wenn eine automatische Entwicklungsvorrichtung verwendet wird, wird eine Erhitzungseinheit in einen Einführungstisch für 1ichtempfindliche Materialien oder zwischen den Einführungstisch und eine Entwicklungseinheit eingebciut und die lichtempfindlichen Materialien werden _mit der gleichen Geschwindigkeit, wie die Entwicklungsvorrichtung transportiert. Dadurch können die belichteten lichtempfindlichen Materialien auf genau die gleiche Weise wie in konventionellen Systemen in die Entwicklungsvorrichtung eingeführt werden.

Die vorliegende Erfindung ist besonders vorteilhaft für vorsensibilisierto lithographische Platten, die eine photopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht aufweisen. In diesem Falle kann e.s sich bei der verwendeten automatischen Entwicklungsvorrichtung um ein Plattonhorstel lunqssystem handeln, in dem alle Stufen von der Belichtung bis zur Entwicklung und die Aufbringung eines Gummi- bzw. Harzüberzugs vollständig automatisiert sind oder es kann sich um eine Entwicklungsvorrichtung handeln, in der die Entwicklungsstufe und die Stufe der Aufbringung eines Guinmi- oder Harzüberzugs oder nur die Entwicklungsstufe automatisiert ist. In jedem System kann zwischen den jeweiligen Stufen

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eine Waschstufe vorgesehen sein oder nicht. Außerdem kann als eine Endbehandlungsstufe eine Trockungcstufe vorgesehen sein oder nicht. Nach der Entwicklungsstufe können eine oder mehrere spezielle Stuten (z.B. eine Stufe zur Kontrolle der Oberfläche) vorgesehen sein. Wenn vor der Entwicklungsstufe eine oder mehrere Stufen vorgesehen sind, die keinen nachteiligen Einfluß auf die Entwicklung haben, wie z. B. eine Waschstufe, oder welche das Fortschreiten der Entwicklung in vorteilhafter Weise erlauben, ist es ferner möglich,vor diesen Stufen eine Erhitzungseinheit einzuführen. Zwischen die Erhitzungsstufe und die Entwicklungsstufe kann eine Kühlstufe eingeschaltet werden.

In der erfindungsgemäßen Erhitzungseinheit können verschie dene Erhitzungsmethoden angewendet werden, beispielsweise eine Methode, bei der eine Platte direkt erhitzt wird, und eine Methode, bei der die Platte erhitzt wird, in dem durch Bestrahlung mit Elektronenstrahlen, Ilochfrequenzwellen oder anderen elektromagnetischen Wellen Wärme darin erzeugt wird. Die zuerst genannte Methode umfaP-t eine Methode, bei der die Platte erhitzt wird, indem man ihre lichtempfindliche Oberfläche mit einer beheizten Walze in Kontakt bringt, die eine eingebaute Heizeinrichtung enthält, eine Mathode, bei. der die Platte mit einer erhitzten Platte in Kontakt gebracht wird, eine Methode, bei der eine Wärmequelle, wie z. B. eine Banderhitzungseinrichtung, eino Blasenorhitzungseinrichtung und eine Infrarotstrahlungserhitzungseinrichtung, in der Nähe der Oberfläche der transportierten Platte vorgesehen ist, eine Mothoda, bei der erhitzte Luft auf die Platte aufgeblasen wird, und eine Methode:, bei der die-Platte in eine erhitzte Flüssigkeit eingetaucht oder damit in Kontakt gebracht wird. Die firhitzungrjtomperat ur ist wirksam innerhalb des Bereiches von 50 bis 250⁰C und vorzugsweise liegt sie bei 70 bis 180⁰C, insbesondere bei 85 bis 150⁰C. Wenn die Erhitzungstemperatur unter 50⁰C liegt, ist der Effekt der Erhöhung der Empfindlichkeit innerhalb der angewendeter! Bedingungen gering, während dann, wenn sie über 250⁰C liegt,

^ßAD

r- g

die Gefahr dor Schaumbildung auf den bildfreien Bereichen der Platte als Folge einer thermischen Polymerisation der lichtempfindlichen Schicht besteht. Die Erhitzungsdauer ist wirksam innerhalb des Bereiches von 1/20 bis 3 0 sek, und vorzugsweise beträgt sie 1/15 bis 15 sek., insbesondere 1/10 bis 10 sek.

Die Erhi t zung.sduuer hängt ab von der Geschwindigkeit, mit der die lichtempfindlichen Materialien von der automatischen Entwicklungsvorrichtung transportiert werden. Wo die lichtempfindlichen Materialien von Walzen festgehalten werden, wird die Kontaktbreite enger gemacht und dadurch wird die direkte Erhitzungsdauer abgekürzt. Wo andererseits Strahlungswärme beispielsweise unter Verwendung einer Infrarotstrahlungserhitzungsoinrichtung angewendet ' wird, kann die Erhifzungsdauor verhältnismäßig lang gemacht werden durch Kontrolle bzw. Steuerung der Anzahl der Erhi tzunqse i ririchl ungen und Verwendung einer Reflexionsplatte.
Die Fig. 2 der beiliegenden Zeichnungen zeigt eine Schnittansicht einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung. Diese Entwicklungsvorrichtung umfaßt einen Beschickungsabschnitt 29 , eine Erhitzungszone 22 , eine Entwicklungszone 1 , eine Waschzone 2 und eine Trocknungszone 3 . Der Beschickungsabschnitt 29 umfaßt einen Einführungsti sch 21 und ein Paar Einführunaswalzen 20 . Ein bildmäßig belichtetes lichtempfindliches Material 27 wird auf den E.inführungstisch 21 gelegt und der vordere Teil des Materials wird in ein Paar der Einfühvungswalzen so eingeführt, daß das Material zwischen

3Q den Walzern eingeklemmt ist. Das auf diese Weise eingeführte lichtempfindliche Material wird durch die Einführungswalzen 20 in eine Erhitzungszone 22 transportiert und dort wärmebehandelt. Die Erhitzungszone 22 ist unterteilt durch eine Basisplatte 23 und Seitenplatten 23' und 23'· aus einem wärmebeständigen Material, wie z. B. Asbest, um zu verhindern, daß Wärme aus der Erhitzungszone austritt. In dieser Unterteilung (Trennwand) befindet sich eine Infrarotstrahlungserhitzungseinrichtung 24

und es ist eine ReFlexionsplatte 25 vorgesehen, um die von der Erhitzungseinrichtung 24 abgegebene infrarotstrahlung wirksam in eine Richtung zu lenken. Außerdem ist in der Erhitzungszone ein Gasabzugsgebläse 26 vorgesehen, um die erhitzte Luft in der Erhitzungszone zwangsweise abzuziehen.

Das in der Erhitzungszone 22 wärmebehandelte lichtempfindliche Material wird anschließend in die Entwicklungszone 1 transportiert, in der die unbelichteten Bereiche in der photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht des lichtempfindlichen Materials 27 aus dem Material entfernt werden. In der Entwicklungszone 1 sind ein Paar Zuführungswalzen 4 und zwei PaareTransportwalzen 5 und 9 vorgesehen. Dazwischen sind Sprührohre 14, 15 und 16 , eine Bürstenwalze 17 , eine Gegenwalze 6 für die Bürstenwalze 17 , eine Bürstenwalze 18 und Gegenwalzen

7 und 8 für die Bürstenwalze 18 vorgesehen. Aus dem Entwicklervorratsbehä]ter (nicht dargesbol.lt) wird eine Entwicklerlösung 2fi unter Vorwendung einer Pumpe ρ eingeführt und die Entwicklerlösung wird unter Druck auf das lichtempfindliche Material 27 aufgesprüht. Die Bürstenwalzen 17 und 18 sind vorgesehen zur Entfernung der bildfreien Bereiche (d. h. der unbelichteten Bereiche) in der lichtempfindl ichoti Schicht dos lichtempfindlichen Materials, das von der Entwicklerlösung schnell und vollständig benetzt wird. Diese Bürstenwalzen drehen sich mit einer äußeren Umfangslineargeschwindigkeit, die von der Transportgeschwindigkeit des lichtempfindlichen Materials verschieden i.sh. liV>nn ein lichtempfindliehee; Material, das nur eine lichtempfindliche Schicht auf einer Seite des Materials aufweist, entwickelt wird, kann eine Entwicklungsvorrichtung verwendet werden, in der keine Sprührohre unterhalb des Transportweges 1 und keine Bürstenwalze 17 und Gegonwalze 6 vorgesehen sind.

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Es ist zweckmäßig, dt.·η Anpreßdruck eines Transportwalzenpaares 9 zu erhöhen, um die an dem entwickelten lichtempfindlichen Material haftende Menge der Entwicklerlösung herabzusetzen, um dadurch zu verhindern, daß Entwicklerlösung in die Waschzone 2 gelangt.

Dann wird das entwickelte lichtempfindliche Material in die Waschzone 2 überführt:, in der die auf dem Material verbliebene Entwtcklerlösung vollständig herausgewaschen wird. In der Waschzone 2 sind zwei Paare Transportwalzen 10 und 11 vorgesehen und aus den Sprührohren 19 , die zwischen den Walzen 10 und 11 vorgesehen sind, wird Wasser versprüht.

Nach dem Waschen wird das lichtempfindliche Material 27 in die Trocknungszone 3 eingeführt und getrocknet. In der Trockungszone 3 sind zwei. Paare Transportwalzen 12 und 13 vorgesehen und in dieser Zone wird Heißluft im Kreislauf geführt. Zu diesem Zweck hat die Erhitzungszone die Form eines geschlo'jsonen Raumes mit Ausnahme des Transportweges für das lichtempfindliche Material 27 .

Durch Verwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann das Zeitintervall zwischen der Erhitzungsstufe und der Entwicklungsstufe automatisch bei einem ganz bestimmten Wert gehalten werden, solange eine bestimmte Transportgeschwindigke.it aufrechterhalten wird. Deshalb können stets definierte Entwicklungsergebnisse erzielt werden.

Π0 Nnch^r;tfhf?nd worden nhol opo I yinor U; i orbaro Zusammensetzungen, die ei. t indungsgiMiiuii vui wendel weiden können, näher beschrieben. Diese photopoIymerisirrbaren Zusammensetzungen bestehen aus Ii indemitto I η , add i l ionspolynierl;; ierbaren ungesättigten Monomeren und Photopolymurisattonsinitiatoren.

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Zu Bindemitteln, dip vorwendet werden können, gehören ein Methylacrylat- odor -methacrylat/Acrylsäure oder Methacrylsäure-Copolymeres, ein Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymerhalbcster, ein Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymerhalbamid, ein Benzylacrylat oder -methacrylat/Acrylsäure oder Mothacrylsäure-copolymeres, ein Ben/.ylacrylat oder -methacrylat/I tacon;;äure~Copo1 ymeres , ein Styrol/Itaconsäure-Copolymeres;, fin VinylaceLal/Crotonsäure-Copo.lytnereiJ, ein saures Cellulosephthulat, ein Acryl- oder Methacrylsäure/Styrol/Alkylacrylat oder -methacrylat-Copolymeres und dgl.

Zu geeigneten ungesättigten Monomeren gehören solche Verbindungen, die mindestens eine additionspolymerisierbare ungesättigte Gruppen enthalten. Besonders bevorzugte Monomere sind Äthylerujlykoldi acrylat oder -diinethacrylat., Polyäthylenglykoldiacrylcit oder -diinethacrylat, Trimethyloläthantriacrylat oder -Irrimethacrylat, Trimethylolpropantriacrylat oder -trimoHiacrylnt., Neopentylglykoldiacrylat

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-ρ-

oder -dimethacrylat, Pentaerythrit oder Dipentaerythrittri-, -tetra- oder -hexaacrylat oder -methacrylat, Epoxydiacrylat oder -dimethacrylat, Oligoacrylate, wie in der japanischen Patentpub]. Lkation 7 361/77 beschrieben, Acrylurethanharze oder AcrylurethanoLigomere, wie in der japanischen Patentpublikation 41 708/73 beschrieben, und dgl.

Zu erfindungsgemäß verwendbaren Photopolymerisationsinitiatoren gehören vicinale Polyketaldonylverbindungen, wie

IQ in der US-PS 2 367 660 beschrieben, ^-Carbony!verbindungen, wie in den US-PS 2 367 661 und 2 367 670 beschrieben, Acyloinäther, wie in der US-PS 2 448 828 beschrieben, oC-Kohlenwasserstof f-substituierte aromatische Acy Iodverbindungen, wie in der US-PS 2 722 512 beschrieben, polynukleare Chinonverbindungen, wie in den US-PS 3 04C 127 und 2 951 758 beschrieben, eine Kombination von Triar ylimidazoldimer und p-Aminopheny!keton, wie in der US-PS 3 549 367 beschrieben, Benzothiazolverbindungen, wie in der japanischen Patentpublikation 48 516/76 (entsprechend der US-PS 3 870 524)

„_n beschrieben, Benzothiazolverbindungen/Trihalogenmethyls-triazin-Verbindungen, wie in der japanischen OPI-Patentanmeldung Nr. 74 887/79 beschrieben (die hier verwendete Abkürzung "OPI" steht für eine "publizierte, ungeprüfte japanische Patentanmeldung") (entsprechend der US-PS

__ 4 239 850) und Acrid in- und Phenazin-Verbindungen, wie in der US-PS 3 751 259 beschrieben.

Das Gewichtsverhältnis der Menge eines Bindemittels zu der Menge eines Monomeren beträgt 9:1 bis 3:7, vorzugsweise 3:1 bis 1:1, und dio Menge eines Photopolymerisationsinitiators beträgt 0,5 bis 15 Gew.-%, vorzugsweise 2 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht der Gesamtmenge der Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht.

Vorzugsweise werden außerdem Wärmepolymerisationsinhibitoren sowie die obengenannten Zusätze zugegeben. Zu geeigneten Beispielen für solche Wärmepolymerisationsinihibitoren gehören Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-tert.-butyl-p-kresol, Pyrogallol, tert.-Butyl-brenzkatechin,

Benzochinon, 4 ,4 ' -Thiobis- (3-met.hyl-6-tert .-butylphenol) , 2,2'-Methylenbis-(4-methyl-6-tert.-butylphenol) und 2-Mercaptoberizoimiduzol. In einigen Fällen können zum Färben der lichtempfind Liehen Schicht Farbstoffe oder Pigmente zugegeben werden und es können pH-Indikatoren und dgl. als Auskopieragentien zugesetzt werden.

Zu geeigneten Beispielen für Träger, die für die Herstellung von -lichtempfindlichen Materialien verwendet werden können, gehören Papier, Kunststoffe (z.B. Polyäthylen,, Polypropylen, Polystyrol, Polyethylenterephthalat, Nylon und Celluloseacetat), Materialien, die aus miteinander verbundenen Kunststoffen und Papier bestehen, Metallplatten (z.B. solche aus Aluminium, Zink und Eisen), Materialien, die aus derartigen Metallplatten und Papier „ Kunststoffen oder dgl., die miteinander verbunden sind, bestehen, und Papier oder Kunststoff Urne, auf die beispielsweise Metalle im Vakuum aufgedampft worden sind. Der Träger wird ausgewählt in Abhängigkeit von dem Verwendungszweck, f^ur den das schließlich erhaltene lichtempfindliche Material vorgesehen ist-. So kann beispielsweise für die Herstellung einer lichtempfindlichen Flachdruckplatte verwendet werden eine Aluminiumplatte, die durch Eintauchen in eine wäßrige Natriumsilikatlösung behandelt worden ist, wie in der US-PS 2 714 066 beschrieben, eine Aluminiumplatte, die nach dem Aufrauhen einer anodischen Oxidation unterworfen worden isL, wie in der US-PS 3 181 461 beschrieben, eine Aluminiumplatte, die mit Wechselstrom in einem Elektrolytbad aus Chlorwasserstoffsäure

oQ elektrolysiert und anschließend einer anodischen Oxidation unterworfen worden ist, wie in der GB-PS 1 2Ο8 224 beschrieben, und dgl.

Zu Beispielen für geeignete Entwickler gehören eine Alkali- _,- silikat enthaltende Lösung, wie in der US-PS 3 θ ί5 480 beschrieben, und ein Entwickler, der enthält oder besteht aus einem Alkali, einem organischen Lösungsmittel und Wasser, wie in der US-PS 3 4 75 171 beschrieben.

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Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutorL, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein. Alle darin genannten %-Angaben beziehen sich, wenn nichts anderes angegeben ist, auf das Gewicht.

Beispiel 1

Eine 0,3 nun dicke 2 S-Aluminiumplatte wurde entfettet, indem man sie 30 Sekunden lang in eine bei 80°C gehaltene 10 %ige wäßrige Natriumtriphosphatlosung eintauchte. Die Oberfläche wurde durch Reiben mit einer Nylonbürste, während eine Bimsstonaufschlämmung über die Aluminiumplatte fließen gelassen wurde, aufgerauht, 10 Sekunden lang mit bei 60°C gehaltenem Natriumaluminat geätzt und anschließend mit einer 3 %igen wäßrigen Natriumhydrogensulfatlösung gewaschen. Diese Aluminiumplatte wurde bei

einer Stromdichte von 2 A/dm 2 Minuten lang in einer 20 %igen Schwefelsäure anodisch oxidiert, 1 Minute lang mit einer bei 70°C gehaltenen 2,5 %igen wäßrigen Natriumtrisilikatlösung behandelt, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Danach wurde eine lichtempfindliche Lösung der nachstehend angegebenen Zusammensetzung unter Verwendung eines On iris in Form oirier Schicht auf die Aluminiumplatte aufgebracht und 2 Minuten lang bei 100°C getrocknet.

Zusammensetzung der lichtempfindlichen Lösung

Methylmethacrylat/Methacrylsäure (Molverhältnis 85/15; Methyläthylketon-Lösung; Grundviskosität bei 30°C 0,166)

Trimethylolpropantriacrylat

3-Methyl-2-benzoylmethylennaphtho-(1 ,2-d) thLazol

Phtr.halocyaniribl.au (CI. Blue Nr. 15) ÄthylendichIorid
MethylcellOsolveacetat

Nach dem Trocknen wurde eine 3 gew.-%ige wäßrige Polyvinylalkohollösung in Form einer Schicht auf die oben hergestellte lichtempfindliche Schicht aufgebracht. Die Trockengewichte der lichtempfindlichen Schicht und der Polyvinyl-

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alkoholschicht betrugen 3 g/m bzw. 1,5 g/m .

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48	g
48	g
5	g
3	g
500	g
500	g

Es wurden lichtempfindliche Flachdruckplatten hergestellt. Jede Platte wurde unter Verwendung ines Nuarc-Druckers (Handelsname für ein Produkt der Firma nuArc Company Cop», Chicago, USA) mit einer 2 kW-Metallhalogenidlampe durch ein Negativdia mit einem Halbtonbild und eine Grauskala (benachbart zu dem Dia angeordnet) einer Belichtung von 30 Einheiten ausgesetzt. Die Dichte in der ersten Stufe der Grauskala (hergestellt von der Fa. Fuji Photo Film Co., Ltd.) betrug 0,10 und die Dichte änderte sich in jeder Stufe um 0,15. Die auf diese Weise belichteten Platten wurden unter Anwendung der nachstehend beschriebenen Verfahren entwikkelt. Bei dieser Entwicklung wurde die gleiche Entwicklungsvorrichtung wie in Fig. 2 dargestellt (die in Beispiel 2 näher beschrieben wird) mit den Zonen 1, 2 und 3 verwendet. 15

Die Entwicklungsgeschwindigkeit betrug 30 Sekunden und es wurde ein Entwickler mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung verwendet.

Zusammensetzung des Entwicklers

Benzylalkohol 1O g

Monoäthanolainin 1g

Triäthanolamin 10 g

Natriumisopropylnaphthalinsulfonat 2 g

reines Wasser 1000 ml

Es wurde eine Erhitzungsvorrichtung mit einer 10 cm χ 50 cm großen folienartigen flexiblen Heizeinrichtung verwendet. Die Platten wurden mit der Heizeinrichtung in Kontakt ge-

3Q bracht und mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit zu der Entwicklungsvorrichtung transportiert. Die lineare Geschwindigkeit der Vorrichtung und der Erhitzungsvorrichtung wurden auf 30 cm/min eingestellt und die Kontaktierzeit der Platten mit der Heizeinrichtung betrug 20 Sekun-

OC den. Die Temperatur der Heizeinrichtung, wenn sie eingeschaltet war, wurde so eingestellt, daß die Temperatur der Kontaktoberfläche der Platte mit der Heizeinrichtung bei 80 C gehalten wurde. Die Zeitspanne zwischen dem Ende

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der Erhitzung und dom Beginn der Entwicklung betrug 10 Sekunden.

Unter Verwendung der vorstehend beschriebenen lleizeinrichtung (die eingeschaltet war) und der vorstehend beschriebenen Entwicklungsvorrichtung wurde eine lichtempfindliche Flachdruckplatte, die belichtet worden war, behandelt bzw. entwickelt.

Nach der Entwicklung betrug die Anzahl der Stufen der Grauskala (in dem Bereich, in dem die Grenzen erkennbar waren) 7.

Dann wurden auf die gleich*» Weise wie vorstehend beschrieben 10 lichtempfindliche Flachdruckplatten behandelt bzw. entwickelt und es wurde dLe gleiche Anzahl von Stufen erhalten.

Die gleichen belichteten Platten wurden auf die gleiche Weise wie vorstehend angegeben behandelt bzw. entwickelt, wobei diesmal jedoch die Heizeinrichtung abgeschaltet war. Die erzielte Anzahl der Stufen der Grauskala betrug 3.

Diese Ergebnisse zeigen, daß die Empfindlichkeit der Druckplatte, die erhitzt worden war, das 4-fache der Empfindlich keit der nicht-erhitzten Druckplatte betrug.

Die Erhitzungsvorrichtung wurde aus der Entwicklungsvor- QQ richtung herausgenommen. Es wurden sechs lichtempfindliche Flachdruckplatten auf die gleiche Weise wie oben angegeben belichtet und erhitzt. Jede Platte wurde nach dem Verstreichen einer vorgegebenen Zeit entwickelt. Dann wurden weitere sechs Platten auf die gleiche Weise wie vorstehend g₅ angegeben belichtet und entwickelt, nachdem sie für vorgegebene Zeitspannen bei Raumtemperatur liegen gelassen worden waren.

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Das Diagramm der Fig. 1 der beiliegenden Zeichnungen zeigt die Ergebnisse, die oben erhalten wurden. In dem Diagramm ist die verstrichene Zeit auf der Abszisse aufgetragen, während die Anzahl der Stufen der Grauskala mit ausgefülltem Schwarz auf der Ordinate aufgetragen ist. Die Kurve

(A) gibt die Ergebnisse des Verfahrens wieder, bei dem das Erhitzen durchgeführt wurde, während die Kurve (B) die Ergebnisse des Verfahrens wiedergibt, bei dem das Erhitzen nicht durchgeführt wurde.

Aus der Fig. 1 ist zu ersehen, daß die Empfindlichkeit variiert in Abhängigkeit von der Zeitspanne zwischen dem Erhitzen und dem Entwickeln (wenn das Erhitzen durchgeführt wird) oder in Abhängigkeit von der Zeitspanne zwischen der Belichtung und dem Entwickeln (wenn das Erhitzen nicht durchgeführt wird). Es ist deshalb erforderlich, das Erhitzen durchzuführen und die Zeitspanne zwischen dem Erhitzen und dem Entwickeln bei einem bestimmten Wert zu hal ten, um eine hohe» Empfindlichkeit und ein definiertes Entwicklungsergebniis zu erzielen.

Beispiel 2

Der Einführungstisch der automatischen Entwicklungsvorrichtung (Modell 4 00S, hergestellt von der Firma Fuji Photo Film Co., Ltd.) wurde wie in Fig. 2 angegeben umgeformt un in diesem Beispiel verwendet.

In dieser Vorrichtung war vor der Einführungswalze 4 an einer Stelle 80 mm oberhalb der Oberfläche der Platte 27 eine 1 kW-Infrarotstrahlungs-Erhitzungseinrichtung 24 vorgesehen und der Einführungstisch 21 und ein weiterer Satz von Zuführungswalzen 20 waren vor der Erhitzungsvorrichtung 22 mit einer Länge (in der Transportrichtung) von 150 mm vorgesehen. Auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 wurde die Anzahl der Stufen der Grauskala bestimmt, wenn die Infrarotstrahlungserhitzungsein-

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richtung abgeschaltet war und auch wenn sie eingeschaltet war. Im ersteren Falle (abgeschaltet) betrug die Anzahl der Stufen 4, im letzteren Falle (eingeschaltet) betrug sie 7.
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Es wurden die gleichen zehn lichtempfindlichen Flachdruckplatten wie oben belichtet und dann erhitzt und unter Verwendung der Vorrichtung gernäß Fig. 2 auf die gleiche Weise wie vorstehend im zuletzt genannten Fall beschrieben entwickelt. In allen Fällen betrug die Anzahl der Stufen der Grauskala dieser behandelten Plattein 7.

Beispiel 3

Eine 0,24 mm dicke Aluminiumplatte wurde in einer 4 00 mesh-Bimssteinaufschlärnmungssuspension unter Verwendung einer Nylonbürste aufgerauht. Die auf diese Weise aufgerauhte Aluminiumplatte wurde 60 sek. lang in eine bei 50⁰C gehaltene 10-%i.ge wäßrige Natriumhydroxidlösung eingetaucht, um Schleifmittel, Aluminiumstaub und dgl., die auf der Aluminiumoberfläche nach der Aufrauhung verblieben waren, zu entfernen, um die Aluminiumoberfläche glatt oder gleichmäßig zu machen. Dann wurde die Platte in fließendem Wasser gewaschen, mit 20 %iger SaI-petersäure neutralisiert und mit Wasser gewaschen. Anschließend wurde die Aluminiumplatte unter Verwendung einer wäßrigen Salpetersäurelösung mit einer Konzentration von 7 g/l als Elektrolyt und unter Verwendung eines wellenförmigen Wechselstromes, wie in Fig. 1 (b) der japanisehen OPI-Patr.entanmeldung Nr. 152 102/77 (entsprechend US-PS 4 087 341) angegeben, einer elektrolytischen Aufrauhungsbehandlung unterworfen. Diese Behandlung wurde 5 sek. lang unter folgenden Bedingungen durchgeführt: Frequenz = 60 Hz, Spannung an der Anode (V_Ä) = 25 Volt, Spannung an der Kathode (V^) = 13 Volt, Strommenge an

S
der Anode (Q ) = 176 Cb/dm und die Strommenge an der Kathode (Q_A> = 125 Cb/dm² (Q_C/Q_A=O,71). Die auf diese

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Weise behandelte Platte wurde dann mit Wasser gewaschen zur Herstellung eines Substrats (Substrat A).

Das Substrat A wurde 5 sek. lang in eine bei 20⁰C gehaltene 10 %ige Natriumhydroxidlösung eingetaucht, um Flekken von ihrer Oberfläche zu entfernen. Zu diesem Zeitpunkt wurde keine Wasserstoffentwicklung beobachtet. Nach dem Waschen wurde das Substrat einer anodischen Oxidation in 20 %iger Schwefelsäure mit einem Gleichstrom unter-

worfen, so daß ein Oxidfilm einer Dicke von 3,0 g/m gebildet wurde.-Dann wurde das Substrat mit Wasser gewaschen und getrocknet. Anschließend wurde auf das Substrat eine lichtempfindliche Schicht mit einer Zusammensetzung, wie sie nachstehend angegeben ist, in einem

2
Trockengewicht von 2,b g/m aufgebracht.

Z u .s amme η s e ί ζ u η g der 1 lichtempfindlichen Schicht

PentaerythrLl tetraacrylat 10 g

Benzy Iac rylat./Methacry !säure (80/20)-Copolymer (Molekulargewicht etwa 50 000)

⁵ 2-BenzoyImethylen-3-methyl-ßnaphthothiazolin

2-(p-Methoxyphenyl)-4,6-bis-(trichlormethyl)-s-triaz in

Oil Blue Nr. 603 (hergestellt von

der Firma Orient: Chemical Industry Ltd.)

10 Hydrochinon

MethylathyIkeI on

Me t h y Ic e 1 Io s ο 1 ve ac e t a t

Nachdem die lichtempfindliche Schicht getrocknet worden war, wurde eine wäßrige Lösung von Polyvinylalkohol (Ver-

1O g	g	g
0,6	g
0,6	g
0,2
0,01
2OO g
2OO g

seifungsgrad 82 %, Molekulargewicht etwa 500) in einer

Beschicht

gebracht.

2
Beschichtungsmenge von 1,5 g/m in Form einer Schicht auf-

Auf die so hergestellte Platte wurde ein transparenter Negativfilm gelegt und in einem Abst£ind von 50 cm von der Platte wurde einmal mit. photographischem Blitzlicht (Leitzahl 20) belichtet. Anschließend wurde die Platte unter Verwendung der gleichen Entwicklungsvorrichtung (neues Modell 400S), wie es in Beispiel 2 verwendet worden war, behandelt bzw. entwickelt. Als Entwickler wurde eine 3 %ige wäßrige Natriumsilicatlosung verwendet. Es wurden zwei Proben hergestellt: die Probe Nr. 1 wurde durch die Entwicklungsvorrichtung hindurchgeführt, während die Hnfrarotstrahlungslampe eingeschaltet war, und die Probe Nr. 2 wurde hindurchgeführt, während die Infrarotstrahlungslampe ausgeschaltet war. Beide Platten wurden mit einer Transportgeschwindiqkeit von 35 cm/min behandelt bzw. entwickel t:.

Diese beiden entwickelten Platten wurden gleichzeitig auf eine Heidel GTO (Handelsname)-Druckvorrichtung (hergestellt von der Firma Heidelberg Co.) aufgelegt und es wurde ge-

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druckt. Mit der Prob«; Nr. 2 wurden keine schönen Drucknachen erhalten und wenn mehrere hundert" Mut.tor in diesem schlechten Druckzustand bedruckt waren, haftete keine Druckerfarbe mehr daran. Andererseits waren bei der Probe Nr. 1 auch nach 200 000 bedruckten Blättern die Bilder noch scharf.

Die gleichen zehn lichtempfindlichen photographischen Druckplatten wie sie oben verwendet worden waren wurden auf die gleiche Weise wie die Probe Nr. 1 behandelt. Mit jeder Druckplatte wurden 200 000 bedruckte Blätter mit scharfen Bildern erhalten.

Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf spezifische bevorzugte Ausführungsformen näher erläutert, es ist jedoch für den Fachmann selbstverständlich, daß sie darauf keineswegs beschränkt ist, sondern daß diese in vielfacher Hinsicht abgeändert und modifiziert werden können, ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung vorlassen v/ird.

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Claims

Patentansprüche

1. Verfahren zur Erzeugung eines Bildes, dadurch

gekennzeichnet , daß man eine Reihe von lichtempfindlichen Materialien nacheinander bildmäßig belichtet, erhitzt und entwickelt,, wobei man lichtempfindliche Materialien verwendet, die eine lichtempfindliche Schicht, bestehend aus einer photopolymerisierbaren Zu- -^q sammensetzung, aufweisen, wobei man die Zeitspanne zwischen den Erhitzungs- und Entwicklungsstufen bei einem bestimmten Wert hält.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Zusammensetzung enthält oder besteht aus einem additionspolymerisierbaren ungesättigten Monomeren, einem Photopolymerisations initiator und einem Bindemittel.

__ 3. Verfahren nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man das Erhitzen bei einer Temperatur von 50 bis 25O°C durchführt.

4. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis

3. dadurch gekennzeichnet, daß man das Erhitzen 1/2O 25

bis 30 Sekunden lang durchführt.

5. Vorrichtung zum Entwickeln von lichtempfindlichen Materialien, die eine lichtempfindliche Schicht aus einer

photopolymerisierbaren Zusammensetzung aufweisen, gekenn-30

zeichnet durch eine Entwicklungseinheit vom Walzentransporttyp und eine Erhitzungseinheit, die an die Entwicklungseinheit angepaßt ist, wobei die Erhitzungseinheit so angeordnet ist, daß ein belichtetes lichtempfindliches Material erhitzt und dann innerhalb einer vorgegebenen Zeit-

spanne der Entwicklungseinheit vom Walzentransporttyp zugeführt wird.

6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,

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daß die Entwicklurigseinheit eine Einführungseinrichtung für das lichtempfindliche Material aufweist,und daß die Erhitzungseinheit in die Einführungseinrichtung eingebaut ist.

7. Vorrichtung nach Anspruch 5 und/oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklungseinheit eine Einführungseinrichtung für das lichtempfindliche Material aufweist, und daß die Erhitzungseinheit zwischen der Einführungseinrichtung und der Entwicklungseinheit angeordnet ist.

8. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Erhitzungseinheit das lichtempfindliche Material mit der gleichen Geschwindigkeit wie die Entwicklungseinheit transportiert.