DE3224644A1 - Kathode fuer gaslaser und verfahren zu deren herstellung - Google Patents
Kathode fuer gaslaser und verfahren zu deren herstellungInfo
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Description
: : *: : : -* ;■·;" ,* ι. Juli 1982
ρ 90 79322A644
- 3 -
BESCHREIBUNG
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Quantenelektronik und betrifft insbesondere Katoden für Gaslaser,
z.B. für GOp-Laser, sowie Verfahren zu deren Herstellung. In der Regel werden in einem Gaslaser, darunter in
einem GOp-Laser, Metallkatoden verwendet, da Metalle (Nickel, Platin uarn.) die Haupteigenschaften der Katoden,
ihre Leitfähigkeit und Fähigkeit zur Elektronenemission gewährleisten
(s.z.3. US-PS Nr. 3.500.242,1970). Jedoch c/,ewährleisten
solche Katoden keine dauerhafte Arbeit der Laser wegen ihrer Zerstäubung unter der Einwirkung des
Ionenbeschusses und der Wechselwirkung mit den Komponenten eines Gas-Arbeitsgemisches.
Es ist eine Katode eines Gaslasers bekannt,die in Form
einer dünnwandigen (ca.0,7 mm) zylinderförmigen Hülse aus
einem elektrisch leitenden emittierenden Stoff, Kovar (eine Legierung lIi-28%, Co - 18V6, Fe - 54%) hergestellt
ist,. s.° z.3. Ilyina O.K. u.a. "CO2-Laser-Serie auf der
Grundlage einer 3asiskonstruktion vom Typ LG-17", "Quantenelektronik", 1971, 6, S. 78.
Diese Katode, wie auch andere Metallkatoden, ist einer Zerstäubung unter der Einwirkung des Ionenbeschusses unterworfen,
das führt zu einer Änderung der Zusammensetzung des Gas-Arbeitsgemisches, zu einer rapiden Senkung der
2'i Strahlungsleistung, wodurch die Lebensdauer des Geräts
beschränkt wird und höchstens 500 Stunden beträgt.
Es sind ausserdem Katoden für Elektronen-Ionengeräte aus Karbiden hochschmelzender Metalle bekannt, die über
Emissionaeigenschaften und eine hohe Leitfähigkeit verfügen
(s. 3akitin^S.P. u.a. "Einige Ergebnisse der Anwendung
von ^Karbiden der Ubergangsmetalle für Katoden der iSlektroneneinrichtungen",
"Funktechnik -und Elektronik", 1964, IX, 5,
S. 9OP-9O4).
Im Vergleich zu Lletallen lassen sich Karbide vieler
hochschinelzender J.'etalle unter den Bedingungen des Ionen-
nur den
beschusses/unbedeutend zerstäubea und wirken mit/ aktiven
Komponenten des Gasgemisches der CO„-Lfiser praktisch nicht
zusammen.
In der Regel werden Erzeugnisse aus Karbiden,darunter
auch Katoden,durch ein Verfahren der Pulvermetallurgie -dan
Pressen und üiatern hergestellt. Die .lerstellun.r re-
copy J
lativ dünnwandiger (0,5-0,8 mm) Katoden für Gaslaser aus
Karbiden mittels eines solchen Verfahrens wird jedoch wegen
der Sprödigkeit der Karbide erschwert (s.Struk L.L*
"HauptbeSonderheiten des Pressens von Karbiden", Sammelbuch
"Hochschmelzende Karbide", Kiev, "Naukowa dumka",
Bs ist ein Verfahren zur Herstellung von Werkstücken bekannt , durch das auoh Katoden aus den Karbiden hochsciimelzender
Metalle hergestellt werden können, welches das Erhitzen eines Graphithalbzeugs in einer Atmosphäre von Tantalbzw.
Niobpentachlorid und Argon umfaßt und auf der Wechselwirkung des Graphits mit einem Metallhalogenid bei einer
hohen Temperatur unterBildung eines Karbidüberzugs beruht (s. Repnikov N.N. u.a. "Physikalisch-chemische Bedingungen
der Abscheidung des Niobkarbids am Graphit", Sammelbuch "Temperaturbeständige Schutzüberzüge", Leningrad, "Nauka",
1968, S. 124). Die Herstellung von Katoden für Gaslaser mittels dieses Verfahrens führt jedoch zu keiner bemerkbaren
Verlängerung der Lebensdauer des Lasers, da die Graphit unterlage mit dem gasförmigen Medium des Lasers aktiv
zusammenwirkt und es nicht gestattet, nützliche Eigenschaften
des Karbids selbst voll zu realisieren.
Es ist weiter ein Verfahren zur Herstellung von Werkstücken
(darunter auch Katodeji) aus Karbiden hochschmelzender
Metalle bekannt, welches/Erhitzen eines Metallhalbzeugs in einer Beschickung aus Pulvergraphit in einer Arg oa~
oder auch Tantal- oder Niobatmosphare umfaßt
und auf einem Diffus ions aufkohlen beruht (s. Samsonov G.V.
u.a. "Hochschmelzende Überzüge", M., "Metallurgie" 1973,
/>o S. 135)· Jedoch bietet die Herstellung von Katoden für
Gaslaser mittels dieses Verfahrens wegen der vorhandenen aktiven Metallgrundlage, die auf die Zusammensetzung des
gasförmigen Mediums Einfluß ausübt, ebenfalls keine Perspektiven.
^ Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Konstruktion
einer Katode für Gaslaser zu entwickeln, welche sich durcn hohe elektrisch leitende und Ernies ionseigenscnaften
sowie eine niedrige Zerstäubung unter der Einwirkung
des Ionenbeschussea kennzeichnet, wodurch die Lebensdauer
oes Geräts ernoht wird, sowie ein Verfahren aur Herst eil un&
solcher Katoden anzugeben.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß bei einer Katode für Gaslaser , welche in Form einer Buchse aus einem
elektrisch leitenden emittierenden Stoff hergestellt ist,
erfindungsgemäß, die Buchse dreischichtig aus Karbiden von
Metallen der Neben&ruppe der V.Gruppe des Periodensystems
der Elemente mit Außenschichten einer Zusammensetzung von
MeCn „η r\ qc 1^ m^ einer Innenschicht einer Zusamiaenset-
U , /Ht-Kj j 7p
, j
sung von MeCQ q2_o QS ^395* ^us dem ^SLlt'^a10^13 ^eGQ5 hergestellt
ist.
Diese Aufgabe wird auch dadurch gelöst, daß im Veraas fahren zur Herstellung einer. Katode, welches/ ^rhitzeη eines
Graphithulbzeugs in einer Atmosphäre von Tantal- bzw. Niobpentachlorid
umfaßt, erfindungsgemäß, das Graphithalbueug
der Katode auf eine Temperatur von 2300-250O0C erhitzt und
bei dieser Temperatur 5 bis 8 Stunden gehalten wird.
Diese Aufgabe wird auch dadurch gelöst, daß im Verfahren
zur Herstellung einer Katode, welches/Srhitzen eines
Halbzeugs aus. Tantal bzw. Niob in einerBeschickunf; aus
einer
Pulvergraphit in/Ar gonat πιο Sphäre umfaßt, erf indungs gemäß,
das Halbzeug der Katode auf eine Temperatur von 20lj0-22C0°
c5 erhitzt und bei dieser Temperatur ' 5 bis 10
ütunden gehalten wird.
Dis erfindungsgemäße Katode eines Gaslasers kennzeichnet
sich durch eine geringe Zerstäubung,/Beständigkeit im
gasförmigen Medium,/eine hohe mechanische Festigkeit, eine
hohe Leitfähigkeit und hohe Em iss ions eigenschaft en. Die genannten
Vorteile der erfindungsgemäßen Katode ermöglichen
eine wesentliche (ca. auf das lOfache) Verlängerung der Lebensdauer der Gaslaser.
Die erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung einer
Katode des Gaslasers sind einfach zu realisieren und ermöglichen die Herstellung von dünnwandigen (ca. 05-0,7 \m)
mechanisch festen Konstruktionen der Katoden.
nachstehend wird die Erfindung durch Beschreibung
konkreter Ausführungsbeispiele unter Bezug auf eine Zeichnung
in der die Katode eines Gaslasers im Querschnitt,
dargestellt istT"äher erläutert.
Die erfindungsgemäße Katode eines Gaslasers ist in form
einer zylinderförmigen Hülse ausgeführt, deren 7/andungen
eine dreischichtige Struktur aufweisen und die aus Karbiden
von Metallen der liebengruppe der V.Grup^ des Periodensystems
der Elemente gefertigt ist. Dabei haben/Außenschichten 1
eine Zusammensetzung von MeCn ni. n QC-· Die Innenschicht 2
hat eine Zusammensetzung von MeCQ np_n ga bzw· *·ε* aUS üem
Kalbkarbid MeCQr hergestellt. Das Verhältnis der Dicken
der Schichten 1-2-1 liegt im. üereicu von 1:1:1 bis
1:0,25:1· Die genannten Parameter sind durch die Notwendigkeit
bedingt, die Betriebseigenschaften einer Katode (o'eringe
Zerstäubung, Beständigkeit im gasförmigen Medium usw.)
mit ihrer mechanischen Festigkeit als eines konstruktiven Elements des Lasers zu verbinden·.
Es wurde experimentell festgestellt, daß die geforderten
Betriebseigenschaften einer Katode durch eine Zueamuiensetzung
des Monokarbids n n/. *n nt- gewährleistet werden
deshalb darf die Zusammensetzung der Karbidaußenschichten
1 die genannten Grenzen nicht überschreiten.
_...>- Die erforderliche mechanische Festigkeit der Katode
wird durch die Innenschicht 2 mit einer Wabenstruktur aus
Tantal- bzw. Niobmonokarbid entsprechender Zusammensetzung
im Bereich MeCn ΩΟ η η« bzw. aus Tantal- bzw. Niobhalbu ja—v,ja
karbid MeCn ^ (bei einer Zusammensetzung der Aulienschichten
von MeCn 8-0,95 Sewa^leistet, welches über eine größere
Viskosität im Vergleich zu den Monokarbiden verfügt.
Sin Verhältnis der Dicken der Schichten von 1:1:1 bis
1:0,25:1, wie es experimentell festgestellt wurde, gewährleistet die erforderliche mechanische Festigkeit; der Kalode
als eines konstruktiven Elements des Lasers.
Es existieren zwei Ausführungsbeispiele des Verfahrens zur Herstellung einer Katode für Gaslaser .
Gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel des Verfahrens
zur Herstellung der Katode verwendet man als Grundlage ein hohles Graphithalbzeug mit einer Dicke der Wandung,
32246U
weiche etwas geringer als die der fertigen Katode ist. Das
Halbzeug wird in einem Dampfgemisch von Tantal- bzw. Niobpentachiori<3
und Argon (1,5-2 g/l Argon) auf eine Temperatur von 2300-25000C erhitzt und bei dieser Temperatur
im genannten gasförmigen Medium 5-8 Stunden
gehalten. Die Temperatur und Dauer des Prozesses, die Ausgangsdicke
des Halbzeugs sowie die Pentachloridkonzentration
werden so gewählt, daß der Verlauf des Karbidisierungsprozesses
unterBildung einer dreischichtigen Karbid-
^ ..der -. - ·, „ ^ ^j erforderlichen
struktur mit/erforderlichen Zusammensetzung una dem/verhältnis
der Schichtdicken gewährleistet wird.
Die dreischichtige Struktur der Katode wird dadurch
den
gesichert, daß bei/gewählten Parametern des Prozesses auf der gesamten Oberfläche des Graphithalbzeugs gleichzeitig eine dichte KarbidschichtCAußenschicht) gebildet wird, wobei das weitere Karbidwachstum lediglich durch Kohlenstoffdiffusion aus der inneren Graphitgrundlage erfolgen kann, welche sich in einem bestimmten Stadium des Prozesses in eine aufgelockerte Struktur verwandelt, in die Pentachlorid durch interkornige Grenzen eindringt und sie in ein Karbid verwandelt, das die Außenschichten armiert. Bei einer Temperatur des Prozesses unter 23000C werden zu - ■"' dichte Außenscaichten gebildet, weshalb sicn der Karbidisierungsprozefl stark verlangsemt, und es ist nicht möglich, das gewünschte Resultat innerhalb einer günstigen Zeit zu er reiches.. Bei einer Temperatur über 25000C werden lockere
gesichert, daß bei/gewählten Parametern des Prozesses auf der gesamten Oberfläche des Graphithalbzeugs gleichzeitig eine dichte KarbidschichtCAußenschicht) gebildet wird, wobei das weitere Karbidwachstum lediglich durch Kohlenstoffdiffusion aus der inneren Graphitgrundlage erfolgen kann, welche sich in einem bestimmten Stadium des Prozesses in eine aufgelockerte Struktur verwandelt, in die Pentachlorid durch interkornige Grenzen eindringt und sie in ein Karbid verwandelt, das die Außenschichten armiert. Bei einer Temperatur des Prozesses unter 23000C werden zu - ■"' dichte Außenscaichten gebildet, weshalb sicn der Karbidisierungsprozefl stark verlangsemt, und es ist nicht möglich, das gewünschte Resultat innerhalb einer günstigen Zeit zu er reiches.. Bei einer Temperatur über 25000C werden lockere
begrenzten Karbid schicht en gebildet, da die -tieaktion in einem /volumen
verläuft. Die Ausgangsdicke de"s Halbzeugs wird durch Berechnung
der Dichte des Tantal- bz®. Niobkarbids und auf Grund
^O experimentelle r Ergebnisse im Sinne einer Präzisierung gewählt.
Da sämtliche Bedingungen der Durchführung des Prozesses der Herstellung von Katoden mit/ erforderlichen Parametern
eng miteinander verbunden sind, wird die Zeit der Karbid is ierurig experimentell anhand-der Ergebnisse einer
metallografischen^Röntgenstrukturanalyse der fertigen
Katoden und der Gewicntsänderung des Graphitrohteils nach
der Karbid isierung. ermittelt. Die genannten Grenzen von 5
bis 8 Stunden gewährleisten eine vollständige Graphitum-
Wandlung in eine Karbidstruktur.
Die konkreten Bedingungen der Verwirklichung des ersten
Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens
sow ie/ Parameter der herzustellenden Katoden sind in der Tabelle I angeführt.
Gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel des Verfahrens
zur Herstellung von Katoden wird ein Metallhalbzeug
(aus Tantal bzw. Niob) mit einer Wandungsdicke, welche
etwas geringer als die der fertigen Katode ist, in einer Beschickung aus pulverförmigen Graphit in einem inerten
Medium auf eine Temperatur von 2000-220O0C erhitzt und bei
dieser Temperatur 5 bis 10 Stunden gehalten.
Die Arbeitsweise und Dicke des Halbzeugs werden so gewählt, daß der Verlauf des Karbidisierungsprozessesunter Bildung
der
IS einer dreischichtigen Karbidstruktur/erforderlichen Zu-
* des
sammensetzung und/erforderlichen Verhältnisses der Dicken
gewährleistet wird.
Eine dreischichtige Struktur der Katode wird in diesem
Pail dadurcn gewährleistet, daß die Karbidisierung von
Metallen der Nebengruppe der V. Gruppe in Übereinstimmung
mit dem Diagramm der Zustände Me-C erfolgt, d.h. in den :
Außenschichten, die mit Kohlenstoff in Kontakt stehen, \
Z-V-? wird Monokarbid MeC gebildet™0**3*·1" χ Werte annehmen kann,
die der oberen Grenze der Homogenität des Karbids nah sind,wo-
^t- bei sich aber die Innenschicht in ein Halbkarbid bei einer \
längeren Haltezeit verwandelt.
Die realen Geschwindigkeiten des Prozesses hängen von
eier
vielen Parametern ab und lassen sich theoretisch mit/erforderlichen
Genauigkeit nicht berechnen. Deshalb ist eine j)0 experimentelle Ausarbeitung der Bedingungen für die Durchführung
des Prozesses sowie der Parameter der herzustellenden Katoden notwendig. Bei einer Temperatur unter 20000C
verlangsamt sich der Karbid is ierungsprozeß stark, was führt
zu einer wesentlichen Verlängerung der Karbid isierungszeit /
zr, Bei einer Temperatur über 22000C wird der Kaxbidisieruncs-
yj unter ' „ " '
prozeß / Entstehung von Defekten in" den wachsenden Karbidschichten
sowie mit. einer JiOr wanderung der Katode aufgrund
der Eigenspannungen und einjr bleibenden Deformation
begleitet . Bei der Herstellung von Katoden aus iiiob-
— 9 —
karbid wird die Temperatur im Bereich von 2000 bis 2100 G
und aus Tantalkarbid im Bereich von 2100 bis 220O0C gehalten.
Da sämtliche Bedingungen für die Durchführung des Prozesses der Herstellung von Katoden mit/erforderlichen
Parametern eng miteinander verbunden sind, ist die Zeit der
Durchführung des Prozesses ein Summenfaktor und seine Werte werden experimentell anhand einer metallografischen Analyse
ermittelt. Die Zeit der Durchführung des Prozesses nimmt mit der Temperaturerniedrigung und der Verringerung der Dicke
der Innenschicht mit der Zusammensetzung IvIe0 j- zu. Da Tantal-
und ifiobkarbide einen sehr schmalen Bereich der Homogenität und ein hexagonales Gitter besitzen, war es nicht
möglich, anhand der Röntgenangaben die Abänderungen üer Zusammensetzung
des Halbkarbids festzustellen.
Die konkreten Bedingungen für die Durchführung des zweiten
Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens
sowie die Parameter der nerzusteilenden Katoden sind in
Tabelle Il angeführt.
Lfd.ifiaterial d. Parameter des Prozes- Parameter d.herzustel-NS
Halbzeugs 5^ !enden Katoden
Tem- Dauer, Konzen- Verhält- Zusam- Zusam-
pera- h trat ion nis d. men men
tür, d.Penta- Schicht- eetzungset-
Op chloride, dicken d.Au- zung d.
g/l Argon
Iien- Innenecnicht
schicxr
1. Graphil
2500 | 5 |
2500 | a |
2400 | 6 |
2 300 | b |
2 1:0,5:1 TaCQ ?4 TaC
2 1:1:1 TaC TaC
1,5 1:0,5:1 NbC, „4 NbC^
1,5 1:1:1 IibC 0,y2 IibG0,
1. | Niob | 2C00 · | 4 |
2. | Tant al | 2200 | β |
5. | Niob | 2100 | 5 |
4. | Tant al | 2100 | 10 |
1:0,5:1
1:0,25:1 TaC, H TaCn ,
1:0,5:1
1.0.5:1
1:0,5:1 NbCn g 2JbC1-,
COPY
- ίο -
Es wurden abgelötete C02-Laser mit unterschiedlichen
erfindungs^eniäßen Katoden geprüft, deren Parameter in den
Tabellen I und II angeführt sind. Zum Vergleich wurde auch ein abgelöteter COp-Laser mit einer Metallkatode (Kovar)
ähnlicher Form geprüft.
Diese Prüfungen haben gezeigt, daß die Anwendung der erf indunr,sgemäBen Katoden aus Tantal- bzw. Niobkarbid,
die nach / nerfindungsgemäßenVerfahren hergestellt wurden,
die Lebensdauer der abgelöteten COp-Laser von 500 -Stunden
(für eine Kovarkatode) auf 10.000 Stunden und mehr steigert.
Dabei wird gleichzeitig der grüßtmögliche Wert der spezifischen
Strahlungsleistung pro eine Längeneinheit gewährleistet
und dieser Wert wird in der Zeit praktisch gleichbleibend gehalten. Es wurde festgestellt, daß die
Beschränkung der Lebensdauer nicht durch den Einfluß der Katode, sondern duroh andere Faktoren ausgeübt wird, deren
Beseitigung eine weitere Erhöhung der Lebensdauer gewährleisten«
Somit besteht ein Vorteil der erfindungsgemaße Katode
für Gaslaser im Vergleich zu den bekannten in einer
mehrfachen Verlängerung der Lebensdauer der Lasex. Dies bezieht sich nicht nur auf COp-Laser, sondern auch auf
viele andere Gaslaser, in denen die Zerstäubung der Katode eine prinzipielle Rolle spielt, z.B. auf CO-Laser,
£5 He-Ne-Laser usw.
Claims (7)
1. Grigorij A. Matschulka
2. Nikolaj N. Repnikow
3. Swetlana D. Sobolewa
4. Radij K. Tschuschko
5. Pawel G. Zyba
6. Gennadij I. Demitschew
7. Michail A. Fenin
Moskau / Sowjetunion
1. Juli 1982 RZ/fr
P 90 795
OTODS FÜR GAbLASSS UHD VERFAHREN ZU DEREN
HEHSTELItUlTG- *
PATENTANSPRUCHS:
PATENTANSPRUCHS:
ClJ Katode für Gaslaser , welche in 3?orm einer Hülse
aus einem elektrisch leitenden emittierenden Stoff hergestellt
ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Hülse dreischichtig aus Karbiden von Metallen der
"*' Nebengruppe der V. Gruppe des Periodensystems der Elemente
mit Außenschichten einer Zusammensetzung- von
MeCn „.. n Qj- und mit einer Innenschicht einer Zusammen-Setzung
von MeCn Qo n Qa hergestellt ist.
2» Verfahren zur Herstellung einer Katode nach Anspruc
1 durch Erhitzen eines Graphitmerkstücks in einer Atmosphäre
von Tantal- bzw. Niobpentachlorid und Argon,
dadurch gekennzeichnet, daß das Halbzeug auf eine Temperatur von 2300-250O0C erhitzt
und bei dieser Temperatur 5 bis 8 Stunden gehalten wird.
^. KatoUe für Gaslaser ,.welche'in Porm einer Hül-
se aus einem elektrisch leitenden emittierenden Stoff hergestellt
ist, dadurch gekennzeichnet,
daß die Hülse dreischichtig aus Karbiden von Metallen der
Nebengruppe der V.Gruppe des Periodensystems der Elemente mit Außenschichten einer Zusammensetzung von MeC0}8-0,95
32246U
und mit einer Innenschient aus dem Halbkarbid MeCg ^ ausgeführt
ist.
4. Verfahren zur Herstellung einer Katode nach Anspruch
3 durch Erhitzen eines Halbzeuges aus Tantal bzw. Niob
G in er*
in / Beschickung aus Pulvergraphit in einer Argonatmosphäre,
in / Beschickung aus Pulvergraphit in einer Argonatmosphäre,
dadurch gekennzeichnet, daß das Halbzeug auf eine Temperatur von 2000-22000C erhitzt
und bei dieser Temperatur 5 bis 10 Stunden gehalten wird.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823224644 DE3224644A1 (de) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | Kathode fuer gaslaser und verfahren zu deren herstellung |
SE8204124A SE453033B (sv) | 1982-07-01 | 1982-07-02 | Gaslaserkatod och forfarande for framstellning derav |
FR8212007A FR2530088A1 (fr) | 1982-07-01 | 1982-07-08 | Cathode de laser a gaz et procede de fabrication de ladite cathode |
CA000406932A CA1194586A (en) | 1982-07-01 | 1982-07-08 | Gas laser cathode and process for making same |
JP12071982A JPS5914686A (ja) | 1982-07-01 | 1982-07-13 | ガスレ−ザ−陰極および製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3224644A1 true DE3224644A1 (de) | 1984-01-05 |
DE3224644C2 DE3224644C2 (de) | 1989-05-24 |
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---|---|
JP (1) | JPS5914686A (de) |
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DE (1) | DE3224644A1 (de) |
FR (1) | FR2530088A1 (de) |
SE (1) | SE453033B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0270876A2 (de) * | 1986-12-15 | 1988-06-15 | ELTRO GmbH Gesellschaft für Strahlungstechnik | Oberflächen für elektrische Entladungen |
US4890035A (en) * | 1986-11-18 | 1989-12-26 | Eltro Gmbh | Discharge electrode with microstructure surface |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5282332A (en) * | 1991-02-01 | 1994-02-01 | Elizabeth Philips | Stun gun |
WO1999001890A1 (fr) * | 1997-07-03 | 1999-01-14 | Hamamatsu Photonics K.K. | Tube a decharge et procede de calibrage de longueur d'ondes laser en utilisant ce tube |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1229503B (de) * | 1962-02-13 | 1966-12-01 | Union Carbide Corp | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Metallcarbiden |
DE1250796B (de) * | 1963-08-13 | 1967-09-28 | Ciba Aktiengesellschaft, Basel (Schweiz) | Verfahren zur Herstellung von feinteiligen, nicht pyrophoren Carbiden von Metallen oder Metalloiden der III., IV., V. oder VI. Gruppe des Periodischen Systems |
US3399980A (en) * | 1965-12-28 | 1968-09-03 | Union Carbide Corp | Metallic carbides and a process of producing the same |
DE2303358A1 (de) * | 1973-01-24 | 1974-07-25 | Patra Patent Treuhand | Kaltkathodengaslaser |
DE2420621A1 (de) * | 1973-05-02 | 1974-11-28 | Ppg Industries Inc | Verfahren zur herstellung von feinverteilten feuerfesten pulvern |
US4085385A (en) * | 1975-03-21 | 1978-04-18 | Owens-Illinois, Inc. | Gaseous laser device with damage-resistant cathode |
US4101846A (en) * | 1975-02-03 | 1978-07-18 | Owens-Illinois, Inc. | Gas laser |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1396455A (en) * | 1972-05-04 | 1975-06-04 | Toyoda Chuo Kenkyusho Kk | Method of forming a carbide layer |
US4017808A (en) * | 1975-02-10 | 1977-04-12 | Owens-Illinois, Inc. | Gas laser with sputter-resistant cathode |
GB1579249A (en) * | 1977-05-18 | 1980-11-19 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Thermionic cathodes |
-
1982
- 1982-07-01 DE DE19823224644 patent/DE3224644A1/de active Granted
- 1982-07-02 SE SE8204124A patent/SE453033B/sv not_active IP Right Cessation
- 1982-07-08 CA CA000406932A patent/CA1194586A/en not_active Expired
- 1982-07-08 FR FR8212007A patent/FR2530088A1/fr active Granted
- 1982-07-13 JP JP12071982A patent/JPS5914686A/ja active Granted
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1229503B (de) * | 1962-02-13 | 1966-12-01 | Union Carbide Corp | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Metallcarbiden |
DE1250796B (de) * | 1963-08-13 | 1967-09-28 | Ciba Aktiengesellschaft, Basel (Schweiz) | Verfahren zur Herstellung von feinteiligen, nicht pyrophoren Carbiden von Metallen oder Metalloiden der III., IV., V. oder VI. Gruppe des Periodischen Systems |
US3399980A (en) * | 1965-12-28 | 1968-09-03 | Union Carbide Corp | Metallic carbides and a process of producing the same |
DE2303358A1 (de) * | 1973-01-24 | 1974-07-25 | Patra Patent Treuhand | Kaltkathodengaslaser |
DE2420621A1 (de) * | 1973-05-02 | 1974-11-28 | Ppg Industries Inc | Verfahren zur herstellung von feinverteilten feuerfesten pulvern |
US4101846A (en) * | 1975-02-03 | 1978-07-18 | Owens-Illinois, Inc. | Gas laser |
US4085385A (en) * | 1975-03-21 | 1978-04-18 | Owens-Illinois, Inc. | Gaseous laser device with damage-resistant cathode |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
NL-Z: Physics Letters Bd.87A., 1982, S.237-239 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4890035A (en) * | 1986-11-18 | 1989-12-26 | Eltro Gmbh | Discharge electrode with microstructure surface |
EP0270876A2 (de) * | 1986-12-15 | 1988-06-15 | ELTRO GmbH Gesellschaft für Strahlungstechnik | Oberflächen für elektrische Entladungen |
DE3642749A1 (de) * | 1986-12-15 | 1988-06-23 | Eltro Gmbh | Oberflaechen fuer elektrische entladungen |
EP0270876A3 (de) * | 1986-12-15 | 1990-05-02 | ELTRO GmbH Gesellschaft für Strahlungstechnik | Oberflächen für elektrische Entladungen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1194586A (en) | 1985-10-01 |
FR2530088A1 (fr) | 1984-01-13 |
SE453033B (sv) | 1988-01-04 |
JPS5914686A (ja) | 1984-01-25 |
JPS643350B2 (de) | 1989-01-20 |
FR2530088B1 (de) | 1985-02-01 |
DE3224644C2 (de) | 1989-05-24 |
SE8204124L (sv) | 1984-01-03 |
SE8204124D0 (sv) | 1982-07-02 |
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